JP4361433B2 - 感熱転写記録方法 - Google Patents
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Description
1.支持体上に下記一般式(I)で表される色素を少なくとも1種含有する色素供与層を有する感熱転写記録材料に、受像材料を重ね、該感熱転写記録材料を画像情報に応じて加熱し、該受像材料に画像を形成することを特徴とする感熱転写記録方法。
(1)下記一般式(II)で表される色素を少なくとも1種含有することを特徴とする感熱転写記録材料。
(7)下記一般式(I)で表される色素を少なくとも1種含有することを特徴とする感熱転写記録材料。
は互いに結合し環を形成していてもよく、R 7 〜R 12 は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表す。)を表す。)
(8)前記一般式(I)におけるR 2 がアルキル基であることを特徴とする前記(7)に記載の感熱転写記録材料。
(9)前記一般式(I)におけるR 1 がアルキル基であることを特徴とする前記(7)又は(8)に記載の感熱転写記録材料。
(10)前記一般式(I)におけるR 1 が分岐アルキル基であることを特徴とする前記(7)〜(9)のいずれかに記載の感熱転写記録材料。
(11)前記一般式(I)におけるXが−O−であることを特徴とする前記(7)〜(10)のいずれかに記載の感熱転写記録材料。
一般式(I)中、R1は、トリフルオロメチル基、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基を表す。
しかるに、本発明において、R 1 は、メチル基、イソプロピル基又はtert−ブチル基である。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、アシル基としては、例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等が挙げられ、アルコキシカルボニル基としては、例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。
の場合、色素は溶剤溶解性に優れ、またグラムεも高くなる。
しかるに、本発明において、R 2 は、メチル基又はイソブチルカルボニル基である。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基等が挙げられ、アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
しかるに、本発明において、R 3 は、メチル基である。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくは、フッ素原子、塩素原子である。置換基としては、置換基としてはアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アルケニル基(例えば、ビニル基、アリル基等)、アルキニル基(例えば、エチニル基、プロパルギル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基等)、ヘテロアリール基(例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等)、ヘテロ環基(例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等)、シクロアルコキシ基(例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等)、シクロアルキルチオ基(例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等)、スルファモイル基(例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、2−ピリジルアミノスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等)、アシルオキシ基(例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等)、アミド基(例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、2−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等)、ウレイド基(例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、2−ピリジルアミノウレイド基等)、スルフィニル基(例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、2−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、2−ピリジルスルフィニル基等)、アルキルスルホニル基(例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、2−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等)、アリールスルホニル基(フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、2−ピリジルスルホニル基等)、アミノ基(例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、2−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、2−ピリジルアミノ基等)、シアノ基、 ニトロ基、などが挙げられる。
置換基としては上記R4、R5の例として挙げたものと同様の置換基が挙げられる。
そして、Yは、本発明においては5員環を形成するのに必要な原子群であり、−CR7=CR8−、−CR9R10−CR11R12−に限定される。R7とR8、もしくは、R9とR11は互いに結合し環を形成していても良く、R7〜R12は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を表す。
一般式(II)中、R1´はアルキル基を表す。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられる。
分岐アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、tert−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、neo−ペンチル基、tert−アミル基などが挙げられるが、最も好ましくは、イソプロピル基、tert−ブチル基である。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、アシル基としては、例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等が挙げられる。
アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、 アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基等が挙げられ、 アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
一般式(III)中、R1´はアルキル基を表す。
分岐アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、tert−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、neo−ペンチル基、tert−アミル基などが挙げられるが、最も好ましくは、イソプロピル基、tert−ブチル基である。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、アシル基としては、例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等が挙げられる。
アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、 アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基等が挙げられ、 アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
好ましくは、フッ素原子、塩素原子である。
好ましくは、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、アミノ基、シアノ基、ニトロ基であり、より好ましくは、アルキル基である。アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。
lが2以上の場合、R13は同じであっても異なっていても良い。
一般式(IV)中、R1´´はトリフルオロメチル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、シアノ基を表す。
アルコキシカルボニル基の中でも好ましくは、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基である。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、アシル基としては、例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等が挙げられる。
アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、 アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基等が挙げられ、 アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
mが2以上の場合、R14は同じであっても異なっていても良い。
一般式(V)中、R1´はアルキル基を表す。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられる。
分岐アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、tert−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、neo−ペンチル基、tert−アミル基などが挙げられるが、最も好ましくは、イソプロピル基、tert−ブチル基である。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、アシル基としては、例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、2−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等が挙げられ、カルバモイル基としては、例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、2−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、2−ピリジルアミノカルボニル基等が挙げられる。
アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基であるが、最も好ましくは、メチル基である。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基等が挙げられ、 アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基等が挙げられ、 アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
R15は一般式(III)中のR13と同義であるが、好ましくは、水素原子、アルキル基を表し、アルキル基の中でも好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基であるが、最も好ましくは、メチル基、エチル基である。
nが2以上の場合、R15は同じであっても異なっていても良い。
また、隣り合う炭素原子上に置換しているR15は互いに結合し環を形成していても良い。
合成例1
本発明の感熱転写記録材料に用いられる支持体は、従来の熱転写シートに使用されているものと同じ支持体を特別の制限なく用いることが出来、特に限定されるものではない。好ましい支持体の具体例としては、グラシン紙、コンデンサー紙、パラフィン紙等の薄紙、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンテレナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルサルフォン等の耐熱性の高いポリエステル、ポリプロピレン、ポリカーボネイト、酢酸セルロース、ポリエチレン誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリメチルペンテン、アイオノマー等のプラスチックの延伸或いは未延伸フィルムや、これらの材料を積層したものなどが挙げられる。
本発明において、支持体の一方の面に設けるインク層に含有させる熱拡散性インクとしては、本発明の一般式(1)〜(V)で表される色素を少なくとも1種用いる。
インク層に用いられるバインダー樹脂は、セルロース系、ポリアクリル酸系、ポリビニルアルコール系、ポリビニルピロリドン系等の水溶性ポリマー、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネイト、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、エチルセルロース、ニトロセルロース等の有機溶媒に可溶のポリマーが有る。これらの樹脂の中でも、保存性の優れたポリビニルブチラール、ポリビニルアセタールあるいはセルロース系樹脂が好ましい。有機溶剤に可溶のポリマーを用いる場合、1種又は2種以上を有機溶媒に溶解して用いるだけでなく、ラテックス分散の形で使用してもよい。バインダー樹脂の使用量としては、支持体1m2あたり0.1g〜50gが好ましい。
支持体の、インク層を設けた面とは反対側の面に、耐熱性や熱転写シートの安定した走行性を付与するためのBC層を設けることが好ましい。BC層に使用されるバインダー樹脂としては、ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリルアミド、アクリロニトリルースチレン共重合体等のアクリル系樹脂、エチルセルロース、ヒドロキシセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、酢酸セルロース、酢酪酸セルロース、ニトロセルロース等のセルロース系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルピロリドン等のビニル系樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニルトルエン樹脂、クマロンインデン樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン変性又はフッ素変性ウレタン等が挙げられる。
本発明に用いられる熱転写記録においては、色素(染料)転写後の転写された表面と、非転写性樹脂層(以下、非転写性離型層ともいう。)の表面を対面させ、非転写性樹脂層とは反対の側より熱を与えることで後加熱処理を行う。
本発明に用いられる熱転写性の保護層(以下、保護転写層ということもある。)は、受像シート上に熱転写して形成された画像の表面を覆う保護層となる透明な樹脂層からなる。
熱転写性保護層として電離放射線硬化性樹脂を用いることができる。熱転写性保護層に含有することにより、耐可塑剤性や耐擦過性が特に優れている。電離放射線硬化性樹脂としては公知のものを特別の制限なく使用することができ、例えば、ラジカル重合性のポリマー又はオリゴマーを電離放射線照射により架橋、硬化させ、必要に応じて光重合開始剤を添加し、電子線や紫外線によって重合架橋させたものを使用することができる。
熱転写性保護層として紫外線遮断性樹脂を含有する保護層を用いることができる。この紫外線遮断性樹脂を含有する保護層は、印画物に耐光性を付与することを主目的とする。紫外線遮断性樹脂としては、例えば、反応性紫外線吸収剤を熱可塑性樹脂又は上記の電離放射線硬化性樹脂に反応、結合させて得た樹脂を使用することができる。より具体的には、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系のような従来公知の非反応性の有機系紫外線吸収剤に、付加重合性二重結合(例えばビニル基、アクリロイル基、メタアクリロイル基等)、アルコール性水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エポキシ基、イソシアネート基のような反応性基を導入したものを例示することができる。
熱転写性保護層(熱転写性保護層が複数層から成るときは、その少なくとも1層)に、紫外線吸収剤が含有されていることが好ましいが、透明樹脂層に含有させた場合、保護層転写後は透明樹脂層が印画物の最表面に存在するため、長期間の間に環境などの影響を受け経時的にその効果が低下することから、特に好ましくは、感熱接着剤層に含有させる。
受像シートの基材(以下、支持体ともいう。)は、色素受像層を保持するという役割を有するとともに、熱転写時には熱が加えられるため、過熱された状態でも取り扱い上支障のない程度の機械的強度を有することが好ましい。
色素像層と受像シート基材との間には、少なくとも1層以上の中間層を設けても良い。中間層は、接着層(プライマー層)、バリアー層、紫外線吸収層、発泡層、帯電防止層等、受像層と基材の間に設ける層すべてを意味し、公知のものは、必要に応じていずれも使用できる。さらに、基材のギラツキ感やムラを隠蔽するために、中間層に酸化チタン等の白色顔料を添加すると、基材選択の自由度が広がるので好ましい。中間層樹脂と白色顔料との含有量は、樹脂固形分100質量部に対し、白色顔料固形分30〜300質量部が好ましいが、隠蔽性を高めるには100〜300質量部の範囲で用いることがさらに好ましい。
色素受像層は基材の一方の面に、バインダー樹脂と、必要に応じて離型剤等の各種添加剤及び金属イオン含有化合物から構成されている。金属イオン含有化合物を添加する場合その添加量は、通常、受像層固形分に対し10〜60質量%が好ましく、20〜50質量%がより好ましい。
以上の色素受像層は、基材上に、水又は有機溶剤などの溶媒に溶解又は分散させた塗布液を、バーコーター、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、ロールコーティング法、グラビア版を用いたリバースロールコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方法、エクストルージョンコート法などの通常の方法で塗布し、乾燥して形成することができる。バリアー層、中間層、裏面層の形成手段も、上記の受像層の場合と同様の方法で行われる。又、受像層は、上記のように基材上に直接塗布液を塗布し、乾燥して形成するだけでなく、別の支持体に受像層を予め形成してあるものから、基材上に受像層を転写形成してもよい。また、各層を2層以上同時塗布法によって塗設することもでき、特に全ての層を1回の塗布で済ます同時塗布を行うこともできる。
本発明で用いられる受像シートは、プリンターに枚葉で供給されてもロール形態で供給されても良い。枚葉供給とは、例えば、受像シートを一定サイズにカットし、50枚程度を1セットとしてカセットに入れ、プリンターに装着して使用される形態を指す。又、ロール形態とは、その形でプリンタに受像シートを供給し、印画後所望のサイズに切断して使用する形態のことである。特に後者は、2枚差し等の給紙不良や排出不良等の搬送系のトラブルが解消される他、印画可能枚数の大容量化にも対応することが出来るため好ましい。
《熱転写シートの作製》
[熱転写シート1の作製]
(バックコート層付の支持体Aの作製)
厚さ4.5μmの易接層付きポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ社製ルミラー)の一方の面に、下記の組成かならるバックコート層塗布液1を、グラビア塗布方式で塗布、乾燥した後、加熱硬化処理を行い、乾燥膜厚1.0μmのバックコート層を有する支持体Aを作製した。
ポリビニルブチラール樹脂(積水化学工業社製エスレックBX−1) 3.5質量部
リン酸エステル系界面活性剤(第一工業製薬社製 プライサーフA208S)
3.0質量部
リン酸エステル系界面活性剤(東邦化学社製 フォスファノールRD720)
0.3質量部
ポリイソシアネート(大日本インキ化学工業社製、バーノックD750−45)
19.0質量部
タルク(日本タルク社製 Y/X=0.03) 0.2質量部
メチルエチルケトン 35.0質量部
トルエン 35.0質量部
バックコート層付の支持体Aのバックコート面とは反対側の面に、下記組成からなるイエロー染料塗布液1を用いて形成したインク層(乾燥膜厚が1μm)と、多層構成保護転写層(非転写性離型層/保護転写層/接着層の3層構成)とをグラビア法により面順次に設けて、熱転写シート1を作製した。
〈イエロー染料塗布液1〉
色素(例示化合物13) 4.5質量部
ポリビニルアセトアセタール樹脂(積水化学社製、エスレックKS−5) 5.0質量部
ウレタン変性シリコーン樹脂(大日精化社製、ダイアロマーSP−2105)
0.5質量部
メチルエチルケトン 45.0質量部
トルエン 45.0質量部
(非転写性離型層)
下記の組成からなる非転写性離型層塗布液1をグラビアコート法により、乾燥後固形分量が0.5g/m2となるように塗布、乾燥して、非転写性離型層を形成した。
コロイダルシリカ(日産化学社製スノーテックス50) 1.5質量部
ポリビニルアルコール 4.0質量部
イオン交換水 3.0質量部
変性エタノール 10質量部
上記形成した非転写性離型層上に、下記の組成からなる保護転写層塗布液1をグラビアコート法により、乾燥後固形分量が2.0g/m2となるように塗布、乾燥して、保護転写層を形成した。
アクリル樹脂 15質量部
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 5質量部
反応性紫外線吸収剤を反応結合した共重合樹脂(BASFジャパン社製UVA−635L)
40質量部
ポリエチレンワックス 0.3質量部
ポリエステル樹脂 0.1質量部
メチルエチルケトン 40質量部
トルエン 40質量部
アンチモン酸亜鉛(日産化学社製セルナックス) 20質量部
上記形成した保護転写層上に、下記の組成からなる接着層塗布液1を、グラビアコート法により、乾燥後固形分量が2.0g/m2となるように塗布、乾燥して、接着層を形成した。
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 20質量部
メチルエチルケトン 100質量部
トルエン 100質量部
上記熱転写シート1の作製において、イエロー染料層塗布液1に代えて、下記の組成からなるイエロー染料層塗布液2〜7を用いた以外は同様にして、熱転写シート2〜7を作製した。
前記イエロー染料層塗布液1において、色素(例示化合物13)に代えて、下記表1に示すイエロー分散染料を用いた以外は同様にして、イエロー染料層塗布液2〜7を調製した。
〔熱転写受像シート1の作製〕
下記の内容に従って、熱転写受像シート1を作製した。
受像シートの支持体として、コート紙(米坪量157g/m2 OKトップコートS王子製紙社製)を用い、その一方の面にコロナ放電処理を施した後、その面に裏面樹脂層として、エチレン−αオレフィン共重合体(タフマーA−4085三井石油化学工業社製)を15質量%ブレンドした高密度ポリエチレン(ジェイレックスLZ0139−2、密度0.952、日本ポリオレフィン社製 以下、これをHDPEと略す。)と、ポリプロピレン(ジェイアロマーLR711−5、密度0.905、日本ポリオレフィン社製 以下、これをPPと略す。)とを公知の多層Tダイによる共押し出しコート法でHDPE側がコート紙に接するように2層共押し出しして積層した。また、外側になるPP面には、コロナ放電処理を施した後、下記の組成からなる裏面層塗布液1を、乾燥固形分量が1.5g/m2となるように塗布、乾燥して、支持体Bを作製した。なお、裏面樹脂層の厚さは、エチレン−αオレフィン共重合体ブレンドのHDPE層が14μm、PP層が19μm、合計33μmとなるように加工した。
アクリル樹脂(三菱レイヨン社製BR−85) 19.8質量部
ナイロンフィラー(神東塗料社製MW−330) 0.6質量部
メチルエチルケトン 39.8質量部
トルエン 39.8質量部
一方、微細空隙樹脂層として、厚さ35μmの発泡ポリプロピレンシート(35MW846 Mobil Plastics Europe社製)を用い、その一方の面に、下記の組成からなる中間層用塗布液と色素(染料)受像層用塗布液とを、グラビアリバースコート法により、各々乾燥時の塗布膜厚が1μmと3μmとになるように、順次塗布、乾燥して、中間層と染料受像層とが積層された発泡ポリプロピレンシートを作製した。
ウレタン系樹脂(ニッポラン5199、日本ポリウレタン社製) 5.7質量部
酸化チタン(TCA888、トーケム・プロダクツ社製) 11.4質量部
蛍光増白剤(ユビテックスOB、日本チバガイギー社製) 0.2質量部
イソシアネート(タケネートA−14、武田薬品工業社製) 2.0質量部
メチルエチルケトン 15.5質量部
トルエン 15.5質量部
イソプロピルアルコール 7.7質量部
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体(デンカビニル#1000A 電気化学工業社製)
7.2質量部
塩化ビニル−スチレン−アクリル共重合体(デンカラック#400 電気化学工業社製)
1.6質量部
ポリエステル(バイロン600 東洋紡績社製) 11.2質量部
金属イオン含有化合物(MS−1 *1) 8.0質量部
ビニル変性シリコーン(X−62−1212 信越化学工業社製) 2.0質量部
触媒:CAT PLR−5(信越化学工業社製) 1.0質量部
触媒:CAT PL−50T(信越化学工業社製) 1.2質量部
溶剤:メチルエチルケトン 39.0質量部
溶剤:トルエン 39.0質量部
*1)MS−1:Ni2+[C6H5OC4H8COC(COOC4H9)=C(CH3)O‐]2
上記熱転写受像シート1の作製において、前記染料受像層塗布液から金属イオン含有化合物(MS−1)を除いた以外は同様にして、熱転写受像シート2を作製した。
上記作製した熱転写シート1〜7及び熱転写受像シート1〜2を使用し、昇華熱転写プリンター(コニカミノルタフォトイメージング社製 RC−602型)を用いて、15階調ごと順次増加される階調値にてステップパターンを転写させて、引き続いて、画像上に透明保護層を転写させて印画試料1〜8を作製した。
印画試料8(比較例)の画像濃度が1.0となる時の印加エネルギーを1とした時の各材料の相対的な印加エネルギーを求めた。数字が小さいほど感度が高いことを示す。結果を表2に示す。
得られた画像に対してキセノンフェードメーターで5日間光照射を行い耐光性を評価した。
光照射後の化合物残存率の結果を表2に示す。
尚、化合物残存率は光照射前の濃度をD0、光照射後の濃度をDとしてD/D0×100で表す。
得られた画像の色調を目視で評価した。10人のモニターによる目視評価により
鮮やかな色・・・○
くすんだ色・・・△
汚い色・・・・・×
の3段階で評価を行った。
結果を表2に示す。
Claims (2)
- 支持体上に下記一般式(I)で表される色素を少なくとも1種含有する色素供与層を有する感熱転写記録材料に、受像材料を重ね、該感熱転写記録材料を画像情報に応じて加熱し、該受像材料に画像を形成することを特徴とする感熱転写記録方法。
- 支持体上に前記一般式(I)で表される色素の少なくとも1種を含有する色素供与層を有する感熱転写記録材料に、支持体上に金属イオン含有化合物を含む色素受像層を有する受像材料を重ね、該感熱転写記録材料を画像情報に応じて加熱し、金属キレート色素画像を該受像材料に形成することを特徴とする感熱転写記録方法。
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