JP4342524B2 - 放射線源によって放出される放射線から粒子をフィルタ除去するためのフィルタ・システム、放射線源とこの放射線源によって放出される放射線から粒子をフィルタ除去するためのフィルタ・システムと放射線を処理するための処理システムとを有する装置、そのような装置を有するリソグラフィ装置、および放射線源から放出されて伝搬している放射線から粒子をフィルタ除去する方法 - Google Patents
放射線源によって放出される放射線から粒子をフィルタ除去するためのフィルタ・システム、放射線源とこの放射線源によって放出される放射線から粒子をフィルタ除去するためのフィルタ・システムと放射線を処理するための処理システムとを有する装置、そのような装置を有するリソグラフィ装置、および放射線源から放出されて伝搬している放射線から粒子をフィルタ除去する方法 Download PDFInfo
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Description
(1)ステップ・モード
ステップ・モードでは、マスク・テーブルMTおよび基板テーブルWTが基本的に静止状態に維持され、放射線ビームに付与されたパターン全体がターゲット部分Cに1回で投影される(すなわち単一静止露光)。次に、基板テーブルWTがXおよび/またはY方向にシフトされ、異なるターゲット部分Cが露光される。ステップ・モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一静止露光で結像されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
(2)走査モード
走査モードでは、放射線ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影されている間に、マスク・テーブルMTおよび基板テーブルWTが同期して走査される(すなわち単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対する基板テーブルWTの速度および方向は、投影システムPSの倍率(縮小率)およびイメージ反転特性によって決まる。走査モードでは、露光視野の最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の幅(非走査方向の幅)が制限され、また、走査運動の長さによってターゲット部分の高さ(走査方向の高さ)が決まる。
(3)その他のモード
その他のモードでは、プログラム可能パターン化デバイスを保持するようにマスク・テーブルMTが基本的に静止状態に維持され、放射線ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影されている間に基板テーブルWTが移動もしくは走査される。このモードでは、通常、パルス放射線源が使用され、走査中、基板テーブルWTが移動する毎に、あるいは連続する放射線パルスと放射線パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターン化デバイスが更新される。この動作モードは、上で言及したタイプのプログラム可能ミラー・アレイなどのプログラム可能パターン化デバイスを利用しているマスクレス・リソグラフィに容易に適用することができる。
B 放射線ビーム
C 基板のターゲット部分
FS、6 フィルタ・システム
IF1、IF2 位置センサ
IL 照明システム(イルミネータ)
MA パターン化デバイス(マスク)
MT サポート(マスク・テーブル)
M1、M2 マスク・アライメント・マーク
PM 第1の位置決めデバイス
PS 投影システム
PW 第2の位置決めデバイス
P1、P2 基板アライメント・マーク
SO、2 放射線源(パルス源)
W 基板
WT 基板テーブル
1 装置
4 処理システム
8 放射線(ビーム)
10 所定の断面
11 トランスポータ
12 搬送部材(コンベヤ・ベルト)
14 ホイル(プレート)
15 ホイルの近自由端
16 ガイド(車輪)
17 ホイルの自由端
18 駆動ユニット
20 ホイルの縁
22 ガイド(ガイド構造)
24 搬送部材
26 セグメント
28 ガイド車輪
30 開口
32 第1の複数のホイルが配置されている第1の領域
34 ホイルが存在しない第2の領域
Claims (24)
- 放射線源によって放出された放射線であって、前記放射線源によって放出される放射線の所定の断面を通して伝搬する放射線から、粒子をフィルタ除去するためのフィルタ・システムにおいて、
複数のホイルと、
前記放射線内を移動する前記粒子を前記ホイルが阻止するように、使用中に前記放射線内に延びる軌道に沿って前記ホイルを搬送するように構成されたトランスポータであって、前記軌道の少なくとも一部に沿った前記ホイルの実質的に並進運動によって前記ホイルを搬送するように構成されたトランスポータと
を有し、
前記放射線内に延びる前記軌道の一部が仮想円の弧と実質的に一致し、かつ前記仮想円の中心と前記放射線源が実質的に一致し、
使用中、少なくとも前記放射線内では、前記ホイルが一方の方向に連続的に搬送される
フィルタ・システム。 - 前記フィルタ・システムは、前記放射線内の前記複数のホイルのうちの少なくとも1つが、前記放射線源と交差する仮想平面内に実質的に延びるように構成されている請求項1に記載のフィルタ・システム。
- 前記ホイルは、使用中、前記放射線内で、該ホイルに直角の方向成分を少なくとも有している方向に搬送される請求項1に記載のフィルタ・システム。
- 前記放射線内で、前記軌道は、前記放射線源と交差する仮想平面内に延びている請求項1に記載のフィルタ・システム。
- 前記トランスポータは、使用中、該トランスポータによる前記放射線の妨害がないように構成されている請求項1に記載のフィルタ・システム。
- 前記ホイルが互いに等間隔で配置された請求項1に記載のフィルタ・システム。
- 前記トランスポータが、前記ホイルを駆動するように構成された駆動ユニットを有している請求項1に記載のフィルタ・システム。
- 前記駆動ユニットが前記トランスポータの搬送部材を駆動すること、および前記ホイルまたはプレートが前記搬送部材の上に配置されていることを特徴とする請求項7に記載のフィルタ・システム。
- 前記搬送部材がコンベヤ・ベルトまたはチェーンを含む請求項8に記載のフィルタ・システム。
- 前記搬送部材が複数のセグメントを含み、前記複数のホイルの各々が前記複数のセグメントのうちの1つのセグメントの上に配置されている請求項8に記載のフィルタ・システム。
- 前記搬送部材が閉ループとして構成されている請求項8に記載のフィルタ・システム。
- 少なくとも前記放射線内では、前記ホイルと前記トランスポータとが直角をなすように構成されている請求項1に記載のフィルタ・システム。
- 少なくとも前記放射線内では、前記ホイルに作用する遠心力によって前記ホイルと前記トランスポータとが実質的に直角を維持している請求項12に記載のフィルタ・システム。
- 使用中、前記搬送部材がその所定の並進位置からスタートして再び前記所定の並進位置へ到達するまでの間に、前記複数のホイルの各々が前記放射線を少なくとも2回通過する請求項11に記載のフィルタ・システム。
- 前記複数のホイルのうちの少なくとも1つが、前記放射線源から遠ざかる方向に前記トランスポータから延びている請求項1に記載のフィルタ・システム。
- 前記トランスポータは、前記粒子が前記フィルタ・システムを横切る場合に前記粒子を阻止するように、且つ前記放射線が前記フィルタ・システムを横切る場合に前記トランスポータによる前記放射線に対する妨害のないように構成されている請求項1に記載のフィルタ・システム。
- 前記トランスポータは、前記粒子を阻止するための第1の複数のホイルが配置された第1の領域と、前記第1の領域に隣接する第2の領域であって、前記放射線に対する妨害を防止するホイルまたはプレートが存在しない第2の領域とを有している請求項16に記載のフィルタ・システム。
- 前記放射線源がEUV放射線を放出するように構成されている請求項1に記載のフィルタ・システム。
- 前記放射線源によって放出される放射線の所定の断面を通して伝搬する放射線から、粒子をフィルタ除去するためのフィルタ・システムであって、
前記放射源と交差する仮想平面内において、閉ループを構成するように配置された搬送部材と、
前記搬送部材に配置され、前記搬送部材の軌道に沿って並進運動する複数のホイルと、
前記搬送部材を駆動する駆動ユニットと
を有し、
前記ホイルの面は、前記放射線源によって放出される放射線の進行方向とは異なる方向に向いており、
前記搬送部材の前記軌道の一部が、前記放射線源を中心とした仮想円の弧と実質的に一致する
フィルタ・システム。 - 前記搬送部材は、前記放射線が前記搬送部材の軌道を2回通過するように、かつ、前記放射線が通過する1つ目の軌道の方向と、2つ目の軌道の方向が異なるように配置されている、
請求項19記載のフィルタ・システム。 - 放射線を生成するように構成された放射線源と、
前記放射線源からの前記放射線を処理するように構成された処理システムと、
請求項1から請求項20までのいずれか一項に記載のフィルタ・システムと
を有する装置であって、
前記フィルタ・システムが、前記放射線源から前記処理システムへ向かって伝搬する前記放射線から粒子をフィルタ除去するように構成されている装置。 - 放射線ビームを条件付けるように構成された放射線システムを有するリソグラフィ装置であって、該放射線システムが、
放射線を生成するように構成された放射線源と、
前記放射線源からの前記放射線を処理するように構成された処理システムと、
請求項1から請求項20までのいずれか一項に記載のフィルタ・システムと
を有し、
前記フィルタ・システムが、前記放射線源から前記処理システムへ向かって伝搬する前記放射線から粒子をフィルタ除去するように構成されているリソグラフィ装置。 - 前記処理システムがイルミネータを有している請求項22に記載のリソグラフィ装置。
- 放射線源から放出された放射線であって、所定の断面を通して伝搬する放射線から、粒子をフィルタ除去する方法において、
請求項1から請求項20までのいずれか一項に記載のフィルタ・システムを用いて、前記放射線内の前記粒子を阻止するステップ
を含む方法。
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