JP2006191086A - リソグラフィ装置、素子製造方法、及び光学構成部品 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】この光学構成部品は、電磁放射を反射させるための光学表面、及び光学表面を被覆する保護ゾーンを有する光学要素を含む。この保護ゾーンは、光学構成部品が使用されるとき、光学表面をスパッタリングから実質的に保護する材料を含む。この材料は、光学表面が露出される電磁放射の少なくとも1つの所定の波長に対し1にほぼ等しい屈折率を有する。
【選択図】図2
Description
IL 照明システム
MA パターニング装置
PM 第1の位置決め器
MT 支持構造体
PW 第2の位置決め器
WT 基板テーブル
W 基板
C 目標部分
PS 投影システム
R 放射ビーム
SO 放射源
IF1、IF2 位置決めセンサ
M1、M2 マスク整列マーク
OC 光学構成部品
MI ミラー
S 光学表面
ZO 保護ゾーン
SiS、Si−OP、Si−Sp シリコン層
RR 反射放射
PA 微粒子(図2)、部品(図4a、4b)
BA バー
PT 微粒子
Claims (33)
- 電磁放射を反射させるための光学表面を有する光学要素と、
前記光学表面を被覆する保護ゾーンであって、光学構成部品が使用されるとき前記光学表面をスパッタリングから実質的に保護する材料を装備する保護ゾーンとを備え、
前記材料が、光学表面が露出される電磁放射の少なくとも1つの所定の波長に対し1にほぼ等しい屈折率を有する、リソグラフィ装置に使用するための光学構成部品。 - 前記材料が前記光学表面に取り付けられる、請求項1に記載の光学構成部品。
- 前記材料が前記光学表面に平行に延びる層を形成する、請求項1に記載の光学構成部品。
- 前記層が、前記光学表面を酸化に対して保護するのに必要な厚さより厚い厚みを有する、請求項3に記載の光学構成部品。
- 前記材料がその上に、前記光学表面に対し所定の角度を画成する方向で前記光学表面に接近する微粒子に対して、前記光学表面が部品によって実質的に保護されるように、前記光学表面に沿った方向に間隔を開けて配置され、且つ、寸法設定される多数の前記部品が分布される、請求項1に記載の光学構成部品。
- 前記部品が前記光学表面に沿って延びるバーの形状を有する、請求項5に記載の光学構成部品。
- 前記バーが実質的に平行である、請求項6に記載の光学構成部品。
- 前記バーの長手方向が、前記微粒子が前記光学表面に接近する方向に対し垂直である、請求項6に記載の光学構成部品。
- 前記バー間の距離があらかじめ定められている、請求項8に記載の光学構成部品。
- 前記バーの少なくとも1つの断面があらかじめ定められている、請求項8に記載の光学構成部品。
- 前記所定の波長が前記紫外線範囲にある、請求項1に記載の光学構成部品。
- 前記所定の波長が前記超紫外線範囲にある、請求項11に記載の光学構成部品。
- 前記材料がシリコンを含む、請求項1に記載の光学構成部品。
- 相当な数の前記部品が、全ての方向でほぼ同じ程度の大きさの寸法を有する、請求項5に記載の光学構成部品。
- 前記部品が前記光学表面に沿って実質的に一様に分布する、請求項14に記載の光学構成部品。
- 放射ビームを調整するように構成される照明システムと、
その断面にパターン化された放射ビームを形成するためのパターンを、放射ビームに付与することができる、パターニング装置を支持するように構築された支持体と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記基板の目標部分上に前記パターン化された放射ビームを投影するように構成される投影システムと、
前記照明システム又は前記投影システムの光学構成部品であって、
電磁放射を反射させるための光学表面を有する光学要素と、
使用では、前記光学表面がスパッタリングに対して実質的に保護されるように寸法設定された材料を装備する、前記光学表面を被覆する保護ゾーンとを備える光学構成部品とを備え、
前記材料が、前記光学表面が露出される電磁放射の少なくとも1つの所定の波長に対し1にほぼ等しい屈折率を有する、リソグラフィ装置。 - 前記材料が前記光学表面に取り付けられる、請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- 前記材料が前記光学表面に平行に延びる層を形成する、請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- 前記層が前記光学表面を酸化に対して保護するより厚い厚みを有する、請求項18に記載のリソグラフィ装置。
- 前記材料がその上に、前記光学表面と所定の角度を画成する方向で前記光学表面に接近する微粒子に対して、前記光学表面が部品によって実質的に保護されるように、前記光学表面に沿った方向に間隔を開け配置され、且つ、寸法設定される多数の前記部品が分布される、請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- 前記部品が前記光学表面に沿って延びるバーの形状を有する、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記バーが互いに実質的に平行である、請求項21に記載のリソグラフィ装置。
- 前記バーの長手方向が、前記微粒子が前記光学表面に接近する方向に対し垂直である、請求項21に記載のリソグラフィ装置。
- 前記バー間の距離があらかじめ定められている、請求項23に記載のリソグラフィ装置。
- 前記バーの少なくとも1つの断面があらかじめ定められている、請求項23に記載のリソグラフィ装置。
- 前記所定の波長が前記紫外線範囲にある、請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- 前記所定の波長が前記超紫外線範囲にある、請求項26に記載のリソグラフィ装置。
- 前記材料がシリコンを含む、請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- 相当な数の前記部品が、全ての方向で同じ程度の大きさ内の寸法を有する、請求項20に記載のリソグラフィ装置。
- 前記部品が前記光学表面に沿って実質的に一様に分布する、請求項29に記載のリソグラフィ装置。
- 前記光学構成部品が前記照明システムに存在する、請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- 前記光学構成部品が前記投影システムに存在する、請求項16に記載のリソグラフィ装置。
- 放射ビームを照明システムによって調整するステップと、
前記放射ビームをパターニング装置によってパターン化するステップと、
前記パターン化された放射ビームを基板上に投影するステップとを含み、
前記照明システムが前記放射ビームの前記調整に使用される光学構成部品を備え、前記光学構成部品が、
電磁放射を反射させるための前記光学表面を有する光学要素と、
前記調整中、前記光学表面をスパッタリングから実質的に保護する材料を装備する、前記光学表面を被覆する保護ゾーンとを備え、
前記材料が、前記調整中、前記光学表面が露出される電磁放射の少なくとも1つの所定の波長に対し1にほぼ等しい屈折率を有する、素子製造方法。
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