JP4787289B2 - 放射に関する量を測定するデバイスおよびリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
Claims (12)
- 放射に関する量を測定するデバイスであって、
量を測定するセンサ、
極端紫外線を放出する放射源から放出されて入射するスズを含む粒子から前記センサを保護するスクリーン、および
前記放射源により放出された前記極端紫外線を、前記スクリーンを通り越して前記センサへ向かうよう向け直すミラー
を備え、
前記ミラーは、スズとガリウム、又はスズとガリウムとインジウムを含む合金により形成された液状反射層を備える、
デバイス。 - 前記ミラーは傾斜して配置されており、
前記ミラーの前記液状反射層の一端に、スズとガリウム、又はスズとガリウムとインジウムを含む液状合金を供給する投与システムと、
前記ミラーの前記液状反射層の他端から落ちる液状合金を回収する回収リザーバと、
をさらに有する請求項1記載のデバイス。 - 前記スクリーンを通過した前記極端紫外線の経路に沿って延伸するダクトをさらに有し、
前記極端紫外線の伝播方向とは反対の方向へ前記ダクトを通ってガスが供給される、
請求項1または2に記載のデバイス。 - 前記センサが測定する量はドーズ量またはパルスエネルギーである、請求項1〜3のいずれかに記載のデバイス。
- 極端紫外線を放出する放射源であって、
量を測定するセンサ、
前記極端紫外線を放出する前記放射源から放出されて入射するスズを含む粒子から前記センサを保護するスクリーン、および
前記放射源によって放出される前記極端紫外線を、前記スクリーンを通り越して前記センサへ向かうよう向け直すミラー
を含む、放射に関する量を測定するデバイス
を備え、
前記ミラーは、スズとガリウム、又はスズとガリウムとインジウムを含む合金により形成された液状反射層を備える、
放射源。 - 前記ミラーは傾斜して配置されており、
前記ミラーの前記液状反射層の一端に、スズとガリウム、又はスズとガリウムとインジウムを含む液状合金を供給する投与システムと、
前記ミラーの前記液状反射層の他端から落ちる液状合金を回収する回収リザーバと、
をさらに有する請求項5記載の放射源。 - 前記スクリーンを通過した前記極端紫外線の経路に沿って延伸するダクトをさらに有し、
前記極端紫外線の伝播方向とは反対の方向へ前記ダクトを通ってガスが供給される、
請求項5または6に記載の放射源。 - 前記センサが測定する量はドーズ量またはパルスエネルギーである、請求項5〜7のいずれかに記載の放射源。
- 放射ビームを調節する照明システム、
前記放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するサポート、
基板を保持する基板テーブル、
前記パターン付き放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システム、および
放射に関する量を測定するデバイス
を備えるリソグラフィ装置であって、
前記デバイスは、
量を測定するセンサ、
極端紫外線を放出する放射源から放出されて入射するスズを含む粒子から前記センサを保護するスクリーン、および
前記放射源によって放出される前記極端紫外線を、前記スクリーンを通り越して前記センサへ向かうよう向け直すミラー
を備え、
前記ミラーは、スズとガリウム、又はスズとガリウムとインジウムを含む合金により形成された液状反射層を備える、
リソグラフィ装置。 - 前記ミラーは傾斜して配置されており、
前記ミラーの前記液状反射層の一端に、スズとガリウム、又はスズとガリウムとインジウムを含む液状合金を供給する投与システムと、
前記ミラーの前記液状反射層の他端から落ちる液状合金を回収する回収リザーバと、
をさらに有する請求項9記載のリソグラフィ装置。 - 前記スクリーンを通過した前記極端紫外線の経路に沿って延伸するダクトをさらに有し、
前記極端紫外線の伝播方向とは反対の方向へ前記ダクトを通ってガスが供給される、
請求項9または10に記載のリソグラフィ装置。 - 前記センサが測定する量はドーズ量またはパルスエネルギーである、請求項9〜11のいずれかに記載のリソグラフィ装置。
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