JP4340121B2 - 積層体及びその製造方法、並びに装身具 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 25
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 132
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 104
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 77
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 77
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 77
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 70
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 70
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 66
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 60
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 51
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 38
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 32
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 32
- 229910000927 Ge alloy Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 19
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 17
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 12
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229920001709 polysilazane Polymers 0.000 claims description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 claims description 5
- 230000035876 healing Effects 0.000 description 18
- 230000036541 health Effects 0.000 description 18
- 229910000676 Si alloy Inorganic materials 0.000 description 13
- LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N [Si].[Ge] Chemical compound [Si].[Ge] LEVVHYCKPQWKOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 12
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 8
- 230000001225 therapeutic effect Effects 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 4
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 4
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 4
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 4
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000846 In alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 3
- SAZXSKLZZOUTCH-UHFFFAOYSA-N germanium indium Chemical compound [Ge].[In] SAZXSKLZZOUTCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 3
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 3
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 229910001566 austenite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 229910000734 martensite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000807 Ga alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003796 beauty Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229910001256 stainless steel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 239000010938 white gold Substances 0.000 description 1
- 229910000832 white gold Inorganic materials 0.000 description 1
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- Adornments (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
(第1実施形態)
図2は、第2実施形態に係る積層体を示す断面図である。本実施形態に係る積層体20は、図1に示した第1実施形態に係る積層体10において、ロジウム貴金属層4と最外層6との間に、ロジウムを除く貴金属層8が更に配置された構成を有している。
ネックレスの形状に成形されたAg925からなる基材(Ag:92,5質量%、Cu:7.5質量%)を用いて、この基材表面に厚さ10nmのロジウム貴金属層を電気メッキにより形成した。次いで、このロジウム貴金属層の表面に、厚さ100nmの金からなる貴金属層(ロジウムを除く貴金属層)を電気メッキにより形成した。次いで、この金からなる貴金属層の表面にゲルマニウム微粒子を含有するポリシラザン(シリカ前駆体)を塗布した。ゲルマニウム微粒子としては、平均粒径が5μm以下になるように1,000Kgf/cm2の加圧下でゲルマニウムを微粉末化したものを用いた。また、ゲルマニウム微粒子の添加量は、シリカ薄膜が形成されたときの全質量を基準として2〜3質量%とした。そして、150℃の温度で3時間ポリシラザンを加熱してシリカに変化させて、金からなる貴金属層の表面に厚さ0.2μmのシリカ薄膜を形成した。このようにして図4に示す積層体構造を有するネックレスを作製した。図5は、得られたネックレスの外観を示す図である。このネックレスの外観を目視にて観察したところ、金本来の光沢や黄金色を有していた。
基材上にロジウム貴金属層を形成しなかったこと以外は、実施例1と同様の方法によりネックレスを作製した。図6は、得られたネックレスの外観を示す図である。このネックレスの外観を目視にて観察したところ、金からなる貴金属層の色が褐色に変色して、金本来の光沢が失われていた。本発明者は、金属層が変色した要因が925Agに含まれるCuが基材表面への析出であることを確認した。
Claims (13)
- 合金からなる基材と、
ゲルマニウム微粒子及びゲルマニウム合金微粒子からなる群より選ばれる少なくとも1種のゲルマニウム含有微粒子が分散されたシリカ薄膜からなる最外層と、
前記基材と前記最外層との間に配置されたロジウム貴金属層と、
を備えることを特徴とする積層体。 - 前記ロジウム貴金属層と前記最外層との間に配置された、ロジウムを除く貴金属層を更に備えることを特徴とする請求項1記載の積層体。
- 基材を構成する前記合金が銀を主成分とする合金であることを特徴とする請求項1又は2記載の積層体。
- ロジウムを除く前記貴金属層が金からなることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の積層体。
- 前記ゲルマニウム含有微粒子が加圧下でゲルマニウム及び/又はゲルマニウム合金を微粉末化したものであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の積層体。
- 合金からなる基材上にロジウム貴金属層を形成する工程と、
ゲルマニウム微粒子及びゲルマニウム合金微粒子からなる群より選ばれる少なくとも1種のゲルマニウム含有微粒子を含有するシリカ前駆体を前記ロジウム貴金属層上に塗布する工程と、
前記ロジウム貴金属層上に塗布された前記シリカ前駆体をシリカに変化させて、前記ロジウム貴金属層上にシリカ薄膜からなる最外層を形成する工程と、
を備えることを特徴とする積層体の製造方法。 - 合金からなる基材上にロジウム貴金属層を形成する工程と、
前記ロジウム貴金属層上にロジウムを除く貴金属層を形成する工程と、
ゲルマニウム微粒子及びゲルマニウム合金微粒子からなる群より選ばれる少なくとも1種のゲルマニウム含有微粒子を含有するシリカ前駆体を、ロジウムを除く前記貴金属層上に塗布する工程と、
ロジウムを除く前記貴金属層上に塗布された前記シリカ前駆体をシリカに変化させて、ロジウムを除く前記貴金属層上にシリカ薄膜からなる最外層を形成する工程と、
を備えることを特徴とする積層体の製造方法。 - 基材を構成する前記合金は、銀を主成分とする合金であることを特徴とする請求項6又は7記載の積層体の製造方法。
- ロジウムを除く前記貴金属層は、金からなることを特徴とする請求項7又は8記載の積層体の製造方法。
- 前記ゲルマニウム含有微粒子は、加圧下でゲルマニウム及び/又はゲルマニウム合金を微粉末化したものであることを特徴とする請求項6〜9のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
- 前記シリカ前駆体は、ポリシラザンであることを特徴とする請求項6〜10のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
- 請求項6〜11のいずれか一項に記載の製造方法により得られる積層体。
- 請求項1〜5、12のいずれか一項に記載の積層体を備えることを特徴とする装身具。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003355289A JP4340121B2 (ja) | 2003-10-15 | 2003-10-15 | 積層体及びその製造方法、並びに装身具 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003355289A JP4340121B2 (ja) | 2003-10-15 | 2003-10-15 | 積層体及びその製造方法、並びに装身具 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005119084A JP2005119084A (ja) | 2005-05-12 |
JP4340121B2 true JP4340121B2 (ja) | 2009-10-07 |
Family
ID=34612937
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003355289A Expired - Lifetime JP4340121B2 (ja) | 2003-10-15 | 2003-10-15 | 積層体及びその製造方法、並びに装身具 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4340121B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1396670B1 (it) * | 2009-03-02 | 2012-12-14 | Aura S R L L | Dispositivo per migliorare le prestazioni fisiche e la capacità di mantenere l equilibrio di un individuo, e un relativo metodo di fabbricazione |
KR100929983B1 (ko) | 2009-06-26 | 2009-12-04 | 정은자 | 유해파 차단(중화), 뇌파안정 및 생체리듬 활성화 증강 장신구 내장재 제품 |
IT201800005493A1 (it) * | 2018-05-18 | 2019-11-18 | Dispositivo perfezionato con finalita' terapeutiche e/o per migliorare la prestazione fisica ed il benessere individuale |
-
2003
- 2003-10-15 JP JP2003355289A patent/JP4340121B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005119084A (ja) | 2005-05-12 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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