JP4330980B2 - リードフレームの製造方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法、ならびにリードフレームおよびそれを用いた半導体装置 - Google Patents
リードフレームの製造方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法、ならびにリードフレームおよびそれを用いた半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4330980B2 JP4330980B2 JP2003389771A JP2003389771A JP4330980B2 JP 4330980 B2 JP4330980 B2 JP 4330980B2 JP 2003389771 A JP2003389771 A JP 2003389771A JP 2003389771 A JP2003389771 A JP 2003389771A JP 4330980 B2 JP4330980 B2 JP 4330980B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead
- lead frame
- lead portion
- sealing
- semiconductor chip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 79
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 28
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 83
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 59
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 238000004080 punching Methods 0.000 claims description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16245—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Description
このような断面形状のリード部を形成するために、従来から、エッチングによってリードフレームの加工が行われてきたが、加工に長時間を要するため、最近では、たとえば、特許文献1に開示されているように、精密プレス金型を用いたリードフレームの製造が提案されている。
より具体的には、特許文献1の方法では、リード部の中央部が幅広に形成され、この中央部の側縁部に対して、その下面側からパンチによる押圧加工が施され、これにより、抜け防止のための2段形状が形成されるようになっている。また、下面側からの押圧加工の際にばりが生じることを防ぐ目的で、リード部の中央部と基部との間の側面にくびれを形成するようにしている。
また、フレーム加工の際に発生する金属のばりを防ぐために、中央部と基部との間にくびれを形成する必要があり、打ち抜き加工によって最初に形成されるリード部の形状が複雑である。したがって、打ち抜き加工のための金型(パンチ)には、複雑な加工が施されたものが要求される。
そこで、この発明の目的は、リード部の抜け止め構造を安価に形成することができるリードフレームの製造方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法を提供することである。
上記の目的を達成するための請求項1記載の発明は、半導体チップ(6)を樹脂封止した半導体装置のためのリードフレーム(10)であって、上記半導体チップと封止樹脂(8)内で電気接続されるとともに少なくとも実装面(2b)の一部が上記封止樹脂から露出するように上記封止樹脂内に封止されるリード部(2)を有するリードフレームを製造するための方法であって、上記リード部を形成するリード部形成工程(S1)と、上記リード部の上記実装面とは反対側の面である封止面(2a)側から、このリード部の上記封止面の側縁部に潰し加工を施すことにより、このリード部の側方に突出するとともに、このリード部の上記実装面および封止面の間に抜け止め面を有する抜け止め部(21〜24)を形成する側縁部潰し工程(S4)とを含み、上記リード部形成工程は、上記リード部を長尺形状に形成する工程を含み、上記側縁部潰し工程は、上記抜け止め部を、上記リード部の長手方向に関して間隔を開けて複数箇所に形成する工程を含むことを特徴とするリードフレームの製造方法である。なお、括弧内の英数字は後述の実施形態における対応構成要素等を表す。以下、この項において同じ。
この方法によれば、長尺形状のリード部の両側縁に抜け止め部が形成されるから、リード部の抜けをさらに効果的に防止できる。
この方法により、一連のプレス加工によって、リード部の形成および抜け止め部の形成を行うことができる。
請求項4記載の発明は、請求項1ないし3のいずれかに記載の方法によってリードフレームを製造する工程と、上記リード部の上記封止面と半導体チップとを電気接続する工程と、上記リード部の少なくとも上記実装面の一部が露出するように上記半導体チップとともに上記リードフレームを樹脂封止する工程と、上記リードフレームの不要部分を切除する工程とを含むことを特徴とする半導体装置の製造方法である。この方法により、請求項1ないし3の発明に関連して上述した効果を得ることができる。
請求項6記載の発明は、半導体チップ(6)を樹脂封止した半導体装置のためのリードフレーム(10)であって、上記半導体チップと封止樹脂(8)内で電気接続されるとともに少なくとも実装面(2b)の一部が上記封止樹脂から露出するように上記封止樹脂内に封止されるリード部(2)と、このリード部の側方へと張り出している抜け止め部とを含み、上記リード部は長尺形状に形成されており、上記抜け止め部が、上記リード部の長手方向に関して間隔を開けて複数箇所に形成されていることを特徴とするリードフレームである。
請求項7記載の発明は、半導体チップ(6)を樹脂封止した半導体装置のためのリードフレーム(10)であって、上記半導体チップと封止樹脂(8)内で電気接続されるとともに少なくとも実装面(2b)の一部が上記封止樹脂から露出するように上記封止樹脂内に封止されるリード部(2)と、上記リード部の上記実装面とは反対側の面である封止面(2a)側からの潰し加工によって形成され、このリード部の側方に突出した抜け止め部(21〜24)とを含み、上記リード部は長尺形状に形成されており、上記抜け止め部が、上記リード部の長手方向に関して間隔を開けて複数箇所に形成されていることを特徴とするリードフレームである。
請求項9記載の発明は、請求項6ないし8のいずれかに記載のリードフレーム(10)と、このリードフレームと電気接続された半導体チップ(6)と、この半導体チップと上記リードフレームとを封止する封止樹脂(8)とを含むことを特徴とする半導体装置である。
請求項10記載の発明は、請求項6ないし8のいずれかに記載のリードフレーム(10)と、このリードフレームと電気接続された半導体チップ(6)と、この半導体チップと上記リードフレームとを、上記リード部の実装面が露出するように封止する封止樹脂(8)とを含むことを特徴とする半導体装置である。この構成により、請求項1の発明に関連して説明した上述の効果を得ることができる。
請求項12記載の発明は、上記封止樹脂は、その端面が上記抜け止め部を横切るように形成されていることを特徴とする請求項10または11記載の半導体装置である。
図1は、この発明の一実施形態に係るリードフレームの構成を示す平面図である。図1には、1個の半導体装置に対応する単位部分が示されているが、実際には、複数個の半導体装置に対応する単位部分が図1の左右方向に連設されていて、全体として帯状の連鎖体を成している。
パンチ82のストロークは、このパンチ82の上端が金属板100の板厚の途中部まで移動した後に下降するように定められている。
この実施形態では、打ち抜き加工によって形成されるリード部2の最初の形態は、断面がほぼ矩形で長さ方向に一様な単純な形態を有していて、上述の先行技術のように、途中に幅広部やくびれ部を形成することを要しない。したがって、打ち抜き加工のためのパンチ81やダイ61などの形態が複雑ではなく、これらの製作費があまり高くつかない。そのため、リードフレーム10およびこれを組み込んだ半導体装置の製造コストを低減できる。
また、上述のような単純な形態のリード部2の上面2aの両側縁に対する上方からの潰し加工の際にばりが生じることもなく、上述の先行技術のような特別な対策を要しない。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
2 リード部
2a 上面
2b 下面
4 吊りリード部
5 枠部
6 半導体チップ
7 ボンディングワイヤ
8 封止樹脂
10 リードフレーム
20 本体部
21〜24 抜け止め部
25 先端抜け止め部
29 めっき層
50 封止ライン
51 切断ライン
61〜63 ダイ
71〜73 抑え部材
81〜83 パンチ
100 金属板
S1〜S4 プレスステーション
B バンプ
Claims (12)
- 半導体チップを樹脂封止した半導体装置のためのリードフレームであって、上記半導体チップと封止樹脂内で電気接続されるとともに少なくとも実装面の一部が上記封止樹脂から露出するように上記封止樹脂内に封止されるリード部を有するリードフレームを製造するための方法であって、
上記リード部を形成するリード部形成工程と、
上記リード部の上記実装面とは反対側の面である封止面側から、このリード部の上記封止面の側縁部に潰し加工を施すことにより、このリード部の側方に突出するとともに、このリード部の上記実装面および封止面の間に抜け止め面を有する抜け止め部を形成する側縁部潰し工程とを含み、
上記リード部形成工程は、上記リード部を長尺形状に形成する工程を含み、
上記側縁部潰し工程は、上記抜け止め部を、上記リード部の長手方向に関して間隔を開けて複数箇所に形成する工程を含むことを特徴とするリードフレームの製造方法。 - 上記リード部形成工程は、上記リード部を長尺形状に形成する工程を含み、
上記側縁部潰し工程は、上記抜け止め部を、上記リード部の上記封止面の両側縁部に形成する工程を含むことを特徴とする請求項1記載のリードフレームの製造方法。 - 上記リード部形成工程は、リードフレームの材料である金属板に対する打ち抜き加工工程を含むことを特徴とする請求項1または2記載のリードフレームの製造方法。
- 請求項1ないし3のいずれかに記載の方法によってリードフレームを製造する工程と、
上記リード部の上記封止面と半導体チップとを電気接続する工程と、
上記リード部の少なくとも上記実装面の一部が露出するように上記半導体チップとともに上記リードフレームを樹脂封止する工程と、
上記リードフレームの不要部分を切除する工程とを含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 上記樹脂封止工程は、封止樹脂の端面が上記抜け止め部を横切るように上記封止樹脂で半導体チップおよびリードフレームを封止する工程を含むことを特徴とする請求項4記載の半導体装置の製造方法。
- 半導体チップを樹脂封止した半導体装置のためのリードフレームであって、
上記半導体チップと封止樹脂内で電気接続されるとともに少なくとも実装面の一部が上記封止樹脂から露出するように上記封止樹脂内に封止されるリード部と、
このリード部の側方へと張り出している抜け止め部とを含み、
上記リード部は長尺形状に形成されており、
上記抜け止め部が、上記リード部の長手方向に関して間隔を開けて複数箇所に形成されていることを特徴とするリードフレーム。 - 半導体チップを樹脂封止した半導体装置のためのリードフレームであって、
上記半導体チップと封止樹脂内で電気接続されるとともに少なくとも実装面の一部が上記封止樹脂から露出するように上記封止樹脂内に封止されるリード部と、
上記リード部の上記実装面とは反対側の面である封止面側からの潰し加工によって形成され、このリード部の側方に突出した抜け止め部とを含み、
上記リード部は長尺形状に形成されており、
上記抜け止め部が、上記リード部の長手方向に関して間隔を開けて複数箇所に形成されていることを特徴とするリードフレーム。 - 上記リード部は長尺形状に形成されており、
上記抜け止め部が、上記リード部の上記封止面の両側縁部に形成されていることを特徴とする請求項6または7記載のリードフレーム。 - 請求項6ないし8のいずれかに記載のリードフレームと、
このリードフレームと電気接続された半導体チップと、
この半導体チップと上記リードフレームとを封止する封止樹脂とを含むことを特徴とする半導体装置。 - 請求項6ないし8のいずれかに記載のリードフレームと、
このリードフレームと電気接続された半導体チップと、
この半導体チップと上記リードフレームとを、上記リード部の実装面が露出するように封止する封止樹脂とを含むことを特徴とする半導体装置。 - 上記リードフレームと上記半導体チップとをワイヤレス電気接続するバンプをさらに含むことを特徴とする請求項10記載の半導体装置。
- 上記封止樹脂は、その端面が上記抜け止め部を横切るように形成されていることを特徴とする請求項10または11記載の半導体装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003389771A JP4330980B2 (ja) | 2003-11-19 | 2003-11-19 | リードフレームの製造方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法、ならびにリードフレームおよびそれを用いた半導体装置 |
TW093130835A TWI338358B (en) | 2003-11-19 | 2004-10-12 | Method of fabricating lead frame and method of fabricating semiconductor device using the same, and lead frame and semiconductor device using the same |
US10/988,551 US7224049B2 (en) | 2003-11-19 | 2004-11-16 | Method of fabricating lead frame and method of fabricating semiconductor device using the same, and lead frame and semiconductor device using the same |
KR1020040094715A KR20050048527A (ko) | 2003-11-19 | 2004-11-18 | 리드 프레임의 제조 방법 및 이를 이용한 반도체 장치의제조 방법과, 리드 프레임 및 이를 이용한 반도체 장치 |
CNB2004100949709A CN100446234C (zh) | 2003-11-19 | 2004-11-19 | 引线框的制造方法及使用该方法的半导体装置的制造方法 |
US11/324,330 US7456049B2 (en) | 2003-11-19 | 2006-01-04 | Method of fabricating lead frame and method of fabricating semiconductor device using the same, and lead frame and semiconductor device using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003389771A JP4330980B2 (ja) | 2003-11-19 | 2003-11-19 | リードフレームの製造方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法、ならびにリードフレームおよびそれを用いた半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005150629A JP2005150629A (ja) | 2005-06-09 |
JP4330980B2 true JP4330980B2 (ja) | 2009-09-16 |
Family
ID=34696407
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003389771A Expired - Lifetime JP4330980B2 (ja) | 2003-11-19 | 2003-11-19 | リードフレームの製造方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法、ならびにリードフレームおよびそれを用いた半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4330980B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5259978B2 (ja) * | 2006-10-04 | 2013-08-07 | ローム株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP5702763B2 (ja) * | 2006-10-04 | 2015-04-15 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
JP5649277B2 (ja) | 2008-12-22 | 2015-01-07 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
JP5705625B2 (ja) * | 2011-04-14 | 2015-04-22 | 株式会社三井ハイテック | リードフレームの製造方法、リードフレーム及びこのリードフレームを使用した半導体装置 |
-
2003
- 2003-11-19 JP JP2003389771A patent/JP4330980B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005150629A (ja) | 2005-06-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7456049B2 (en) | Method of fabricating lead frame and method of fabricating semiconductor device using the same, and lead frame and semiconductor device using the same | |
CN102714201B (zh) | 半导体封装和方法 | |
CN100517682C (zh) | 半导体器件及其制造方法 | |
US6611047B2 (en) | Semiconductor package with singulation crease | |
US8174096B2 (en) | Stamped leadframe and method of manufacture thereof | |
JP4095827B2 (ja) | 半導体装置 | |
KR20000028854A (ko) | 플라스틱 집적회로 장치 패키지와 마이크로 리드프레임 및패키지의 제조 방법 | |
US20070001276A1 (en) | Semiconductor device and portable apparatus and electronic apparatus comprising the same | |
US20060088956A1 (en) | Method for fabricating semiconductor package with short-prevented lead frame | |
EP3758060A1 (en) | Multi-row qfn semiconductor package | |
US6780679B2 (en) | Semiconductor device and method of manufacturing the same | |
JP4243270B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP4330980B2 (ja) | リードフレームの製造方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法、ならびにリードフレームおよびそれを用いた半導体装置 | |
JP2011142337A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2008113021A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
US11569152B2 (en) | Electronic device with lead pitch gap | |
JP3805767B2 (ja) | リードフレームの製造方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法 | |
JP2006140522A (ja) | リードフレームの製造方法およびそれを用いた半導体装置の製造方法、ならびにリードフレームおよびそれを用いた半導体装置 | |
JP2006049372A (ja) | リードフレーム及び半導体装置の製造方法 | |
JP4747188B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
US20230411265A1 (en) | Split semiconductor package | |
JP4455166B2 (ja) | リードフレーム | |
JPH0730042A (ja) | 半導体装置用リードフレーム、それを用いた半導体装置及びその製造方法 | |
JP2000150761A (ja) | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 | |
JP3853235B2 (ja) | リードフレーム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060614 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080818 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090319 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090515 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090611 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090617 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4330980 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120626 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130626 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |