JP4328049B2 - 2−ピリドン骨格を部分構造として有する4−オキソキノリジン抗菌剤 - Google Patents
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Description
本発明は、グラム陽性菌、グラム陰性菌又は嫌気性菌に対して強力な抗菌作用を発揮する、新規な合成抗菌剤に関する。
背景技術
従来、キノロン系合成抗菌剤は、臨床の場で優れた抗菌作用を有する薬剤として、広く用いられているが、セファロスポリン、ペニシリン系のβ―ラクタム抗生物質と比較して、中枢系副作用発現が多いことや、痙攣誘発等の重篤な副作用を引き起こしたり、また急速に耐性菌が分離されている等問題となっていた。そのため、耐性菌に対しても有効で、副作用の少ない広範な抗菌スペクトルを有する合成抗菌剤の開発が望まれている。
近年、6位にフッ素を含有するキノロン系化合物であるノルフロキサシンが開発されて以来、キノロン系抗菌剤に対する研究が広範囲になされてきた。
しかしながら、2−ピリドン骨格を部分構造として有する4−オキソキノリジン抗菌剤に関する研究は非常に少ないのが現状である。
従って、本発明は、グラム陽性菌、グラム陰性菌又は嫌気性菌に対して強力な抗菌活性を有する新規構造を有する、4−オキソキノリジン抗菌剤を提供することを目的とするものである。
発明の開示
本発明者らは、優れた抗菌剤を提供すべく鋭意検討を行った結果、以下の式(I)で表される化合物が、痙攣誘発等の副作用が少なく、しかも、強い抗菌活性を示すことを見出し、本発明に到達したものである。
即ち、本発明は、式(I):
(式中、
R1は、水素原子又はカルボキシル保護基を示し、
R2は、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、又はヒドロキシル基を示し、
R3は、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、又はアミノ基を示し、
R4は、水素原子、アミノ保護基、アルキル基、又はシクロアルキル基を示し、
R5は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシル基、イミノ基、又はアミノ基を示す。)
で表される化合物又はその薬理学的に許容し得る塩に関するものである。
発明を実施するための態様
以下、本発明について詳述する。
本明細書において特にことわらない限り、以下の用語は以下の意味を有する。
アルキル基は、通常、1〜20個、好ましくは、1〜15個、更に好ましくは、1〜10個の炭素数を有する飽和アルキル基であり、直鎖状又は分岐鎖状であってもよい。具体的には、アルキル基としては、低級アルキル基及び高級アルキル基が含まれる。低級アルキル基としては、アルキル基において、炭素数が例えば1〜8個、好ましくは、1〜5個程度のアルキル基が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、メチル基や、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基又はペンチル基等の低級アルキル基の他に、デシル基や、ドデシル基、トリデシル基、ウンデシル基等のアルキル基が含まれる。
アルケニル基は、対応するアルキル基において、1個の二重結合を有するものである。アルケニル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のアルケニル基が含まれる。
アルケニル基としては、例えば、ビニル基や、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、イソペンテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基等の直鎖状又は分岐鎖状アルケニル基が挙げられる。
シクロアルキル基は、環状アルキル基であり、例えば、シクロプロピル基や、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等が挙げられる。
アリール基としては、フェニル基や、アントラセン基等が挙げられる。
アルキル基や、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基等は、必要に応じて、置換基を有してもよい。このような置換基としては、ハロゲン原子や、水酸基、アミノ基、シアノ基、イソシアネート基、エポキシ基、カルボキシル基、スルホニル基等が挙げられる。
ハロゲン原子には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子が含まれる。
アミノ基及びイミノ基では、必要に応じて、窒素原子に結合した水素原子が、置換されていてもよい。置換基としては、例えば、アルキル基が好適に挙げられる。このようなアルキル基としては、直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が含まれ、上記アルキル基と同様なものが適宜使用することができる。
置換アミノ基としては、モノアルキルアミノ基や、ジアルキルアミノ基が挙げられる。このようなモノアルキルアミノ基としては、例えば、メチルアミノ基や、エチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、sec−ブチルアミノ基、tert−ブチルアミノ基等が挙げられる。このアルキルアミノ基を構成するアルキル基は、必要に応じて、上記ような置換基を有してもよい。
ジアルキルアミノ基としては、2つのアルキル基がそれぞれ異なるジアルキルアミノ基であってもよい。このようなアルキル基としては、上記アルキル基が挙げられる。ジアルキルアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジエチルアミノ等が挙げられる。なお、このジアルキルアミノ基を構成するアルキル基は、必要に応じて、上記ような置換基を有してもよい。
同様に、アルキルイミノ基としては、例えば、メチルイミノ基や、エチルイミノ基、n−プロピルイミノ基、イソプロピルイミノ基、n−ブチルイミノ基、イソブチルイミノ基、sec−ブチルイミノ基、tert−ブチルイミノ基等が挙げられる。
アルコキシ基は、アルキル基と結合した酸素原子からなるアルコキシ基である。アルコキシ基を構成するアルキル基としては、上記アルキル基が挙げられる。低級アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基又はペンチルオキシ基等の直鎖状又は分岐鎖状の低級アルコキシ基が挙げられる。なお、アルコキシ基を構成するアルキル基は、必要に応じて、上記のような置換基を有してもよい。
アルキルチオ基は、アルコキシ基に対応するアルキルチオ基である。アルキルチオ基を構成するアルキル基としては、上記アルキル基が挙げられる。低級アルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、n−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、n−ブチルチオ基、イソブチルチオ基、sec−ブチルチオ基、tert−ブチルチオ基又はペンチルチオ基等の直鎖状又は分岐鎖状の低級アルキルチオ基が挙げられる。なお、アルキルチオ基を構成するアルキル基は、必要に応じて、上記のような置換基を有してもよい。
アミノ基や水酸基は、保護基によって保護されていていもよい。これらの保護基としては、例えば、t−ブトキシカルボニル基(Boc)、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル基等の(置換)アルコキシカルボニル基等;ベンジルオキシカルボニル基、パラメトキシベンジルオキシカルボニル基、パラニトロベンジルオキシカルボニル基等の(置換)アラルキルオキシカルボニル基等;アセチル基、メトキシアセチル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセチル基、ピバロイル基、ホルミル基、ベンゾイル基等の(置換)アシル基等;t−ブチル基、ベンジル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、トリフェニルメチル基等の(置換)アルキル基等、又は(置換)アラルキル基等;メトキシメチル基、t−ブトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、2,2,2−トリクロロエトキシメチル基等の(置換)エーテル等;トリメチルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、トリベンジルシリル基、t−ブチルジフェニルシリル基等の(アルキル及び/又はアラルキル)置換シリル基等を挙げることができる。ここで『(置換)』とは、置換基を有していてもよいとの意味である。
カルボキシル基の保護基(カルボキシル保護基)としては、例えば、メチル基や、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基等が挙げられる。
特に、式(I)において、R2としては、例えば、メチル基やエチル基等や、そのハロゲン置換メチル基又はエチル基等の低級アルキル基や、メトキシ基やエトキシ基等や、そのハロゲン置換メトキシ基又はエトキシ基等の低級アルコキシ基が好適である。
また、R3としては、例えば、水素原子、フッ素原子等のハロゲン原子又はメトキシ基やエトキシ基等や、そのハロゲン置換メトキシ基又はエトキシ基等の低級アルコキシ基であることが適当である。
更に、R5としては、例えば、水素原子又はメチル基やエチル基等や、そのハロゲン置換メチル基又はエチル基等の低級アルキル基であることが適当である。
上記式(I)で示される化合物の塩としては、例えば、塩酸や、硫酸、リン酸などの無機酸との塩、酒石酸や、ギ酸、酢酸、クエン酸、フマル酸、乳酸等の有機カルボン酸との塩、メタンスルホン酸や、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸等のスルホン酸との塩、ナトリウムや、カリウムなどのアルカリ金属との塩、カルシウムや、マグネシウムなどのアルカリ土類金属との塩、更には、アンモニウム塩などの含窒素有機塩基との塩等を挙げることができる。
また、式(I)の化合物及びその塩には、溶媒和物や、水和物及び種々の形状の結晶が包含される。
更に、式(I)の化合物には、異性体が含まれる。異性体としては、光学異性体や、立体異性体、幾何異性体等が含まれる。
次に、上記式(I)で示される化合物(以下、「本発明化合物」という)の合成方法について説明する。
本発明化合物は、公知の方法に従って合成することができる。例えば、具体例を挙げて説明すると、本発明化合物は、図1に示す反応図式1に記載された合成ルートに従って合成することができる。
具体的に説明すると、反応図式1において、式(VI)の化合物は、例えば、市場において入手可能な化合物(II)(2,3−ジメチルピリジン)及び化合物(V)(4−クロロ−3−メトキシ−2−メチルピリジン)を出発原料にして合成することができる。
具体的には、化合物(II)を、酢酸に溶解し、酸化剤として、例えば、過酸化水素を加え、例えば、70〜100℃で、5〜24時間加熱すれば、化合物(III)が得られる。
次いで、化合物(III)を、ニトロ化することにより、化合物(IV)が得られる。ここで用いられるニトロ化剤としては、例えば、濃硝酸や、硝酸と硫酸との混液、硫酸と硝酸塩(硝酸カリウム、硝酸ナトリウム等)、無水硝酸等が挙げられる。
次いで、化合物(IV)を、濃塩酸に溶解し、封管中、例えば、120〜160℃で、5〜12時間加熱すれば、化合物(VI、R2=メチル基)が得られる。
また、化合物(V)を、酢酸に溶解し、前述と同様に過酸化水素で酸化すれば、化合物(VI、R2=メトキシ基)が得られる。
化合物(VI)において、R2として、ジフルオロメチル基を有する化合物は、例えば、反応図式1に記載されているように、化合物(XVI)から始まり、化合物(XVII)及び化合物(XVIII)を経由する方法が挙げられる。これらの各反応自体は公知であり、当業者には、容易に理解されるところである。なお、化合物(XVI)は、例えば、市場において容易に入手可能な2−メチルピリジン−3−カルバルデヒドをフッ素化試薬(例えば、ジエチルアミノ硫黄トリフルオリド等)でジフルオロメチル化することによって当業者には容易に製造することができる(参考例50〜52を参照されたい)。また、化合物(VI)において、R2として、ジフルオロメトキシ基を有する化合物は、同様に、例えば、反応図式1に記載されているように、化合物(XIX)を例えば、3−クロロ過安息香酸で処理することによって製造することができる(参考例30〜37)。この方法自体も、当業者には公知である。また、化合物(XIX)自体は、例えば、マルトールの3位ヒドロキシル基をクロロジフルオロメタンでジフルオロメトキシ化し、次いでアンモニア処理により、4−オキソピリジン骨格への変換し、次いで、塩化ホスホリルを用いた塩素化を行うことによって当業者には容易に製造することができる。
化合物(VI)は、無水酢酸に溶解し、例えば、70〜110℃で、0.5〜5時間加熱した後、得られた残渣に塩基を加え、例えば、50〜90℃で、1〜5時間反応させ、化合物(VII)が得られる。ここで用いられる塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等が挙げられる。
次いで、化合物(VII)の酸化反応を行ない、化合物(VIII)が得られる。ここで用いられる酸化剤としては、例えば、二クロム酸−硫酸や、酸化クロム(VI)−ピリジン錯体、また、ジメチルスルホキシド−オキサリルクロリド、ジメチルスルホキシド−無水トリフルオロ酢酸等が挙げられる。
次いで、化合物(VIII)を臭化シクロプロピルとマグネシウムから調製したグリニャール試薬と反応させて、化合物(IX)が得られる。反応は例えば、0〜50℃で1〜15時間行なえばよい。
次いで、化合物(IX)を前述と同様の酸化反応を行ない、化合物(X)が得られる。
次いで、化合物(X)を、塩化(メトキシメチル)トリフェニルホスホニウムと塩基から調製したウィッティヒ試薬と反応させると、化合物(XI)が得られる。
ここで用いられる塩基としては、例えば、フェニルリチウム、n−ブチルリチウム、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド等が挙げられる。反応は例えば、0〜50℃で、例えば、1〜5時間行なえばよい。
化合物(XI)を、酸の存在下、加水分解すると、化合物(XII)が得られる。ここで用いられる酸としては、例えば、塩酸や、臭化水素酸、硫酸、酢酸等を挙げることができる。反応時間は、例えば、40〜80℃で、反応時間は、例えば、2〜5時間行なえばよい。
次いで、化合物(XII)を、触媒としてアミン存在下、マロン酸ジエチルとのクネベナゲル縮合反応を行ない、中間体として不飽和カルボン酸ジエステルが得られる。ここで用いられるアミンとしては、例えば、ピペリジンや、ピリジン、ジエチルアミン等を挙げることができる。反応時間は、例えば、50〜100℃で、反応時間は、例えば、2〜5時間行なえばよい。この中間体は精製することなく、高沸点溶媒、例えば、ジフェニルエーテルや、ダウサーム(Dowtherm)A(ジフェニルエーテルとビフェニルの混合物)に溶解し、例えば、200〜250℃で0.5〜2時間加熱を行なえば、化合物(XIII)が得られる(参考例1〜10)。
次いで、化合物(XIII)を、トルエン等の溶媒中において、例えば、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド等の触媒存在下、化合物(3)と反応させることによって、本発明化合物(XIV)が得られる(実施例1)。
次いで、この化合物(XIV)を常法に従って、加水分解することにより、本発明化合物(XV)が得られる(実施例2)。
出発物質として使用した式(II)の化合物は、J.Med.Chem.,38,4906(1995)、J.Pharm.Sci.,69,1074(1980)、J.Org.Chem.,29,776(1964)記載の方法あるいはこれに準じた方法で合成できる。
また、上記式(I)の化合物は、図2に示す反応図式2に従っても合成できる。
ここで、反応図式2中、R1〜R5は、上記で定義した通りであり、L1は、スズ(アルキル基)3又はホウ素(低級アルコキシ基)2を示し、また、Xは、ハロゲン原子を示す。
反応図式2において、化合物(1)は、例えば、触媒としてパラジウム錯体の存在下において、有機スズ化合物(3)とカップリング反応させるか、又は有機スズ化合物(2)を、化合物(4)とカップリング反応に付すことによって得ることができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、例えば、ベンゼンや、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;ジオキサンや、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジメチルセロソルブなどのエーテル類;アセトニトリルなどのニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミドや、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類;並びにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられる。これらの溶媒は、一種又は二種類以上の混合物として使用してもよい。
この反応で用いられるパラジウム錯体触媒としては、例えば、PdCl2(PPh3)2や、Pd(PPh3)4、PdCl2(P(O−toryl)3)2、PdCl2+2P(OEt)3及びPdCl2(PhCN)2[但し、Phは、フェニル基、Etは、エチル基を示す]などが挙げられる。
有機スズ化合物(3)の使用量は、化合物(1)に対して、等モル以上、好ましくは、1.0〜2.0倍モルである。
このカップリング反応は、通常、不活性気体(例えば、アルゴンや、窒素)の雰囲気下、例えば、50〜170℃で、例えば、1分〜24時間実施すればよい。
別法として、塩基の存在下又は不存在下、前述と同様のパラジウム錯体触媒を用いて、化合物(1)と、有機ホウ素化合物(3)をカップリング反応に付すことによっても得ることができる。
この反応で使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさないものであれば特に限定されないが、例えば、水;メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール類;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類;ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジメチルセロソルブなどのエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類;アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類;アセトニトリルなどのニトリル類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類;並びにジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられる。これらの溶媒は、一種又は二種類以上の混合物として使用してもよい。
この反応で用いられる塩基としては、例えば、炭酸水素ナトリウムや、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、トリエチルアミンなどが挙げられる。
有機ホウ素化合物(3)の使用量は、化合物(1)に対し、等モル以上、好ましいは、1.0〜1.5倍モルである。
このカップリング反応は、通常、不活性気体(例えば、アルゴンや、窒素)の雰囲気下、50〜170℃で、1分〜24時間実施すればよい。
また、化合物(3)及び(4)の合成は、例えば、WO9729102記載の方法で合成することができる。
具体的には、図3で示される反応図式3に従って合成することができる(参考例19〜29)。
例えば、まず、化合物(3−1)を、塩基に溶解し、還元剤を加え、例えば、0〜60℃で、1〜60時間撹拌した後、塩酸等で酸性とすると、化合物(3−2)が得られる。ここで用いられる塩基としては、例えば、水酸化ナトリウムや、水酸化カリウム、水酸化リチウム等が挙げられる。また、還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウムや、水素化ホウ素カリウム等が挙げられる。
次いで、化合物(3−2)を、ニトロ化することにより、化合物(3−3)が得られる。ここで用いられるニトロ化剤としては、例えば、濃硝酸や、硝酸と硫酸との混液、硫酸と硝酸塩(硝酸カリウム、硝酸ナトリウム等)、無水硝酸等が挙げられる。
次いで、化合物(3−3)を、例えば、エタノール等に溶解し、触媒を加え、水素雰囲気下、還元することによって、化合物(3−4)が得られる。ここで用いられる触媒としては、例えば、パラジウム炭素や、ラネーニッケル等が挙げられる。水素圧は常圧でも良いが、加圧しても良い。反応温度は、例えば−5〜50℃で、反応時間は、例えば、1〜30時間である。また、塩酸存在下、スズや、鉄などの金属による還元によっても行うことができる。
次いで、化合物(3−4)を、ハロゲン化することによって、化合物(3−5)が得られる。ハロゲン化の方法としては、例えば、対応するジアゾニウム塩を臭化銅で臭素化するサンドマイヤー反応等で行うことができる。
次いで、化合物(3−5)を、例えば、無水THF中で、還元剤を加え、例えば、−78〜0℃で、1〜12時間還元することによって、化合物(3−6)が得られる。ここで用いられる還元剤としては、例えば、水素化リチウムアルミニウムや、水素化ジイソブチルアルミニウム、ボラン等が挙げられる。
次いで、化合物(3−6)を、ハロゲン化することによって、化合物(3−7)が得られる。ここで用いられるハロゲン化剤としては、例えば、三臭化リンや、臭化水素酸、オキシ塩化リン、塩化チオニル等が挙げられる。反応温度は、例えば、−5〜50℃で、反応時間は、例えば、1〜30時間である。
次いで、化合物(3−7)を、例えば、無水DMF等に溶解し、塩基の存在下、例えば、p−トルエンスルホンアミド等を反応させることにより、化合物(3−8)が得られる。ここで用いられる塩基としては、例えば、水素化ナトリウムや、ナトリウムエトキシド、n−ブチルリチウム等が挙げられる。反応温度は、例えば、−30〜100℃、反応時間は、例えば、0.5〜12時間である。
次いで、化合物(3−8)を、鉱酸及び有機酸の存在下、例えば、30〜180℃で、例えば、1〜12時間反応させ、更に、N−Z−L−フェニルアラニンと、例えば、0〜80℃で、1〜30時間反応させ、化合物(3−9)が得られる。ここで用いられる鉱酸としては、例えば、塩酸、臭化水素酸、硫酸等を挙げることができ、また、有機酸としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、p−トルエンスルホン酸、フェノール等を挙げることができる。N−Z−L−フェニルアラニン(Zは、ベンジルオキシカルボニル基である。)との縮合においては、適当な活性エステル化剤、及び、縮合剤を用いることができ、活性エステル化剤としては、例えば、N−ヒドロキシスクシンイミド、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール等を挙げることができ、また、縮合剤としては、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド、N,N’−ジイソプロピルカルボジイミド等が挙げられる。
次いで、化合物(3−9)を、無機酸又は有機酸の存在下、例えば、50〜180℃で、例えば、1〜80時間反応させ、更に、トリチルクロリドと、塩基の存在下、例えば、0〜50℃で、例えば、1〜30時間反応させ、化合物(4)が得られる。ここで用いられる無機酸としては、例えば、塩酸や、臭化水素酸、硫酸等を挙げることができ、また、有機酸としては、例えば、酢酸や、フェノール等を挙げることができる。また、塩基としては、例えば、炭酸カリウムや、水酸化ナトリウム、アンモニア、トリエチルアミン等を挙げることができる。
次いで、化合物(4)を、例えば、無水THF等に溶解し、アルゴン等の不活性雰囲気下、また、塩基の存在下、例えば、ホウ酸トリアルキルを反応させることにより、化合物(3)が得られる。ここで用いられる塩基としては、例えば、n−ブチルリチウムや、フェニルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド等が挙げることができる。また、ホウ酸トリアルキルとしては、ホウ酸トリメチル、ホウ酸トリエチル、ホウ酸トリイソプロピル等を挙げることができる。反応温度は、例えば、−100〜−15℃で、反応時間は、例えば、2〜30時間である。
また、R3として、フッ素原子を有する化合物(3)は、例えば、反応図式4で示されるようにして、合成することができる。具体的な合成経路については、例えば、参考例38〜44を参照されたい。
また、R3として、メトキシ基を有する化合物(3)は、例えば、反応図式5で示されるようにして、合成することができる。具体的な合成経路については、例えば、参考例45〜49を参照されたい。
上記のように、各種の置換基は、反応図表2における化合物(1)又は(2)のR2として導入するか、又は化合物(3)又は(4)におけるR3として導入することができる。その他、本発明の開示に基づいて、当業者には、各種の変更態様を理解することが可能である。
本発明の化合物は、グラム陽性菌、グラム陰性菌又は嫌気性菌等によってひきおこされる人間や動物の局所性感染症や、全身性感染症を治療するのに有用な抗菌剤である。
本発明の化合物は、単独で、もしくは医薬上許容され得る補助剤や、希釈剤、結合剤等とともに、例えば、錠剤や、糖衣錠、カプセル剤、注射剤、クリーム、軟膏剤、液剤、パウダー剤等のような一般的な医薬組成物の形で使用することができる。本発明の化合物は、単独で、あるいは複数の異なる化合物の混合物としても使用可能である。
経口剤及び坐剤にあっては、賦形剤(例えば、乳糖、D−マンニトール、トウモロコシデンプン、結晶セルロース等)、崩壊剤(例えば、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロースカルシウム等)、結合剤(例えば、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン等)、滑沢剤(例えば、ステアリン酸マグネシウム、タルク等)、コーティング剤(例えば、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、白糖、酸化チタン等)、可塑剤(例えば、ポリエチレングリコール等)、基剤(例えば、ポリエチレングリコール、ハードファット等)等の製剤用成分が、注射剤あるいは点眼、点耳剤にあっては水性あるいは用時溶解型剤型を構成しうる溶解剤ないし溶解補助剤(例えば、注射用蒸留水、生理食塩水、プロピレングリコール等)、pH調節剤(例えば、無機又は有機の酸あるいは塩基)、等張化剤(例えば、食塩、ブドウ糖、グリセリン等)、安定化剤等の製剤成分が、又、眼軟膏剤、外皮用剤にあっては、軟膏剤、クリーム剤、貼付剤として適切な製剤成分(例えば、白色ワセリン、マクロゴール、グリセリン、流動パラフィン、綿布等)が使用される。
本発明化合物の投与量は、症状や、年齢、体重等によって異なるが、全身的投与の場合には、通常成人1日当たり、体重1kgにつき、0.05〜100mg、好ましくは、0.1〜50mgを投与することができ、局所的治療における有効成分の濃度は、例えば、0.01〜5%、好ましくは、0.1〜3%が最適である。
実施例
次に本発明について、実施例及び参考例により、更に詳細に説明するが、本発明の範囲は、これらの実施例及び参考例によって何ら限定されるものではない。
参考例1(反応図式1参照)
2,3−ジメチルピリジン(II)71.79gを酢酸240mlに溶かし、30%過酸化水素水40mlを加え、95℃で3時間加熱した。更に、30%過酸化水素水18mlを加えて、95℃で13時間加熱した後、水700mlを加え、炭酸ナトリウムで中和した後、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をジイソプロピルエーテルから再結晶化を行ない、2,3−ジメチルピリジンN−オキサイド(III)71.34gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.35(3H,s),2.51(3H,s),6.95−7.10(2H,m),8.10−8.17(1H,m)
参考例2
2,3−ジメチルピリジンN−オキサイド(III)4.40gを濃硫酸9mlに溶かし、濃硫酸13mlと65%硝酸15mlとの混液を加えて、95℃で11時間加熱した。反応液を氷水中に注ぎ、8N水酸化ナトリウムで中和した後、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:メタノール=20:1)で精製して、2,3−ジメチルピリジン−4−ニトロ−N−オキサイド(IV)3.71gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.57(3H,s),2.59(3H,s),7.72(1H,d,J=7.1Hz),8.21(1H,d,J=7.1Hz)
参考例3
2,3−ジメチルピリジン−4−ニトロ−N−オキサイド(IV)5.19gを濃塩酸50mlに溶かし、封管中、160℃で9時間加熱した。溶媒を減圧下留去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:メタノール=20:1)で精製して、4−クロロ−2,3−ジメチルピリジン−N−オキサイド(VI)4.40gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.40(3H,s),2.57(3H,s),7.14(1H,d,J=6.8Hz),8.09(1H,d,J=6.8Hz)
EI−MS m/z:157(M+)
参考例4
4−クロロ−2,3−ジメチルピリジン−N−オキサイド(VI)5.63gに無水酢酸50mlを加え、110℃で1時間加熱した。溶媒を減圧下留去した後、水を加え、エーテルで抽出した。得られた有機層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣を90%エタノールに溶かし、水酸化ナトリウム2.10gを加えて、80℃で3時間加熱した。溶媒を減圧下留去後、水を加えクロロホルムで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム)で精製して、4−クロロ−2−ヒドロキシメチル−3−メチルピリジン(VII)1.69gを得た。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:2.36(3H,s),4.62(2H,d,J=5.6Hz),5.20(1H,t,J=5.6Hz),7.44(1H,d,J=5.1Hz),8.30(1H,d,J=5.1Hz)
EI−MS m/z:157(M+)
参考例5
オキサリルクロリド17.2mlを無水ジクロロメタン350mlに溶かし、−78℃で冷却下、無水ジメチルスルホキシド15.1mlの無水ジクロロメタン溶液150mlを滴下した。−78℃で40分撹拌した後、4−クロロ−2−ヒドロキシメチル−3−メチルピリジン(VII)23.92gの無水ジクロロメタン溶液300mlを滴下した。−78℃で30分撹拌後、反応温度を−45℃まで昇温させ、同温度で1時間撹拌後、トリエチルアミン105.8mlを滴下し、室温まで昇温させた。水を加え、クロロホルムで抽出し、得られた有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム)で精製して、(4−クロロ−3−メチルピリジン)−2−カルバルデヒド(VIII)19.31gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.73(3H,s),7.50(1H,d,J=5.1Hz),8.55(1H,d,J=5.1Hz),10.17(1H,s)
参考例6
臭化シクロプロピル14.9mlとマグネシウム4.53gから調製した臭化シクロプロピルマグネシウムのTHF溶液180mlに、(4−クロロ−3−メチルピリジン)−2−カルバルデヒド(VIII)19.30gのTHF溶液150mlを滴下した。室温で12時間撹拌後、飽和塩化アンモニウム溶液中に注ぎ、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=3:1)で精製して、(4−クロロ−3−メチル−2−ピリジル)シクロプロピルメタン−1−オール(IX)19.58gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.30−0.61(4H,m),1.10−1.20(1H,m),2.40(3H,s),4.50(1H,d,J=7.8Hz),4.78−4.80(1H,m),7.25(1H,d,J=5.4Hz),8.27(1H,d,J=5.4Hz)
参考例7
オキサリルクロリド11.22mlを無水ジクロロメタン300mlに溶かし、−78℃で冷却下、無水ジメチルスルホキシド9.83mlの無水ジクロロメタン溶液100mlを滴下した。−78℃で40分撹拌後、(4−クロロ−3−メチル−2−ピリジル)シクロプロピルメタン−1−オール(IX)19.55gの無水ジクロロメタン溶液200mlを滴下した。−78℃で30分撹拌後、反応温度を−45℃まで昇温させ、同温度で1時間撹拌後、トリエチルアミン68.93mlを滴下し、室温まで昇温させた。水を加えクロロホルムで抽出し、得られた有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=19:1)で精製して、(4−クロロ−3−メチル−2−ピリジル)シクロプロピルケトン(X)17.89gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:1.10−1.20(2H,m),1.25−1.30(2H,m),2.53(3H,s),2.95−3.10(1H,m),7.43(1H,d,J=5.1Hz),8.41(1H,d,J=5.1Hz)
参考例8
塩化(メトキシメチル)トリフェニルホスホニウム5.54gを無水エーテル53mlに懸濁し、フェニルリチウム(0.88M)18.4mlを滴下し、室温で15分撹拌した。(4−クロロ−3−メチル−2−ピリジル)シクロプロピルケトン(X)3.01gのエーテル溶液35mlを滴下し、室温で2時間撹拌した。生じた沈殿は濾別し、エーテルで洗浄した後、エーテル濾液と洗液を合わせて水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製して、2−(4−クロロ−3−メチル−2−ピリジル)−2−シクロプロピル−1−メトキシエテン(XI)1.66gを得た。
1H−NMR(CDCl3)
δ1:0.25−0.30(2H,m),0.70−0.74(2H,m),1.90−2.00(1H,m),2.39(3H,s),3.71(3H,s),6.15(1H,d,J=1.0Hz),7.16(1H,d,J=5.6Hz),8.24(1H,d,J=5.6Hz)
δ2:0.30−0.40(2H,m),0.60−0.65(2H,m),1.60−1.70(1H,m),2.29(3H,s),3.56(3H,s),6.11(1H,d,J=1.2Hz),7.16(1H,d,J=5.6Hz),8.33(1H,d,J=5.6Hz)
参考例9
2−(4−クロロ−3−メチル−2−ピリジル)−2−シクロプロピル−1−メトキシエテン(XI)1.66gをTHF16mlに溶かし、希硫酸16mlを加え、50℃で減圧濃縮した。水に注ぎ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した後、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製して、2−(4−クロロ−3−メチル−2−ピリジル)−2−シクロプロピルエタナール(XII)1.31gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.23−0.78(4H,m),1.50−1.60(1H,m),2.36(3H,s),3.20−3.30(1H,m),7.24(1H,d,J=5.1Hz),8.35(1H,d,J=5.1Hz),9.87(1H,d,J=2.7Hz)
参考例10
2−(4−クロロ−3−メチル−2−ピリジル)−2−シクロプロピルエタナール(XII)1.31gを無水エタノール45mlに溶かし、ピペリジン1.48ml、酢酸1.48ml、マロン酸ジエチル4.75mlを加え、100℃で5時間加熱した。溶媒を減圧下留去後、エーテルで希釈し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣にDowtherm A30mlを加え、240℃で30分加熱した。反応液を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン→ヘキサン:酢酸エチル=1:1)で精製して、8−クロロ−1−シクロプロピル−9−メチル−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(XIII)1.45gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.70−0.75(2H,m),1.00−1.10(2H,m)1.42(3H,t,J=7.1Hz),2.25−2.30(1H,m),3.00(3H,s),4.42(2H,q,J=7.1Hz),7.11(1H,d,J=7.8Hz),8.39(1H,s),9.31(1H,d,J=7.8Hz)
実施例1(反応図式1参照)
8−クロロ−1−シクロプロピル−9−メチル−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(XIII)226.8mgをトルエン3mlに懸濁し、これにエタノール1.6ml、2M炭酸ナトリウム水溶液0.82ml、(+)−1−メチル−2−トリチルイソインドリン−5−ボロン酸(3)311.1mg及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド23.2mgを加えた後、アルゴン雰囲気下で、4時間加熱還流した。反応液に酢酸エチルを加え、有機層を分取し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=1:1)で精製して、1−シクロプロピル−9−メチル−8−(1−メチルイソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(XIV)335.9mgを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.70−0.76(2H,m),0.95−1.05(2H,m),1.43(3H,t,J=7.1Hz),1.49(3H,d,J=6.6Hz),2.30−2.40(1H,m),2.62(3H,s),4.10−4.61(5H,m),6.60−7.58(19H,m),8.31(1H,s),9.39(1H,d,J=7.6Hz)
実施例2(反応図式1参照)
1−シクロプロピル−9−メチル−8−(1−メチルイソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(XIV)312.5mgにエタノール7.6ml、THF2.5ml、1N塩酸1.3mlを加え、室温で30分撹拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣に水を加え、酢酸エチルで洗浄した後、得られた水層を減圧下濃縮した。残渣に水10ml、エタノール5ml、1N水酸化ナトリウム3mlを加え、50℃で3時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、水4mlに溶かし、1N塩酸で中和した。析出した結晶を濾取して、1−シクロプロピル−9−メチル−8−(1−メチルイソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸(XV)139.1mgを得た。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:0.75−0.80(2H,m),1.00−1.10(2H,m),1.38(3H,d,J=6.4Hz),2.40−2.55(1H,m),2.86(3H,s),4.09−4.44(3H,m),7.30−7.50(3H,m),7.54(1H,d,J=7.6Hz),8.26(1H,s),9.31(1H,d,J=7.6Hz)
FAB−MS m/z:375(M+H)+
参考例11(反応図式1参照)
4−クロロ−3−メトキシ−2−メチルピリジン(V)36.98gを酢酸685mlに溶かし、30%過酸化水素水92mlを加え、90℃で24時間加熱後、反応液を減圧下留去した。残渣をクロロホルムに溶かし飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し4−クロロ−3−メトキシ−2−メチルピリジンN−オキサイド(VI)37.64gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.52(3H,s),3.88(3H,s),7.13(1H,d,J=7.1Hz),8.05(1H,d,J=7.1Hz)
参考例12
4−クロロ−3−メトキシ−2−メチルピリジン−N−オキサイド(VI)37.64gに無水酢酸175mlを加え、110℃で1時間加熱した。溶媒を減圧下留去後、3N水酸化ナトリウム溶液を加え、pHを11とし、80℃で4時間加熱した。クロロホルムで抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=5:1)で精製して、4−クロロ−2−ヒドロキシメチル−3−メトキシピリジン(VII)24.10gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:3.91(3H,s),4.18(1H,brs),4.81(2H,s),7.28(1H,d,J=5.1Hz),8.22(1H,d,J=5.1Hz)
参考例13
オキサリルクロリド15.5mlを無水ジクロロメタン300mlに溶かし、−78℃冷却下、無水ジメチルスルホキシド13.5mlの無水ジクロロメタン溶液150mlを滴下した。−78℃で40分撹拌後、4−クロロ−2−ヒドロキシメチル−3−メトキシピリジン(VII)23.66gの無水ジクロロメタン溶液300mlを滴下した。−78℃で30分撹拌後、反応温度を−45℃まで昇温させ、同温度で1時間撹拌後、トリエチルアミン95.0mlを滴下し、室温まで昇温させた。水を加えクロロホルムで抽出し、得られた有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=5:1)で精製して、(4−クロロ−3−メトキシピリジン)−2−カルバルデヒド(VIII)20.60gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:4.03(3H,s),7.57(1H,d,J=4.9Hz),8.47(1H,d,J=4.9Hz),10.24(1H,s)
参考例14
臭化シクロプロピル2.42mlとマグネシウム0.73gから調製した臭化シクロプロピルマグネシウムのTHF溶液35mlに(4−クロロ−3−メトキシピリジン)−2−カルバルデヒド(VIII)3.45gのTHF溶液25mlを滴下した。室温で12時間撹拌後、飽和塩化アンモニウム溶液中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム)で精製して、(4−クロロ−3−メトキシ−2−ピリジル)シクロプロピルメタン−1−オール(IX)3.26gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.40−0.61(4H,m),1.10−1.27(1H,m),3.93(3H,s),4.20(1H,brs),4.62(1H,brs),7.28(1H,d,J=5.1Hz),8.23(1H,d,J=5.1Hz)
参考例15
オキサリルクロリド10.22mlを無水ジクロロメタン300mlに溶かし、−78℃冷却下、無水ジメチルスルホキシド8.95mlの無水ジクロロメタン溶液100mlを滴下した。−78℃で40分撹拌後、(4−クロロ−3−メトキシ−2−ピリジル)シクロプロピルメタン−1−オール(IX)19.25gの無水ジクロロメタン溶液200mlを滴下した。−78℃で30分撹拌後、反応温度を−45℃まで昇温させ、同温度で1時間撹拌後、トリエチルアミン62.79mlを滴下し、室温まで昇温させた。水を加えクロロホルムで抽出し、得られた有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=20:1)で精製して、(4−クロロ−3−メトキシ−2−ピリジル)シクロプロピルケトン(X)17.27gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:1.09−1.30(4H,m),2.90−2.97(1H,m),3.95(3H,s),7.48(1H,d,J=5.1Hz),8.33(1H,d,J=5.1Hz)
参考例16
塩化(メトキシメチル)トリフェニルホスホニウム30.78gを無水エーテル300mlに懸濁し、フェニルリチウム(0.88M)102mlを滴下し、室温で15分撹拌した。(4−クロロ−3−メトキシ−2−ピリジル)シクロプロピルケトン(X)18.10gのエーテル溶液210mlを滴下し、室温で12時間撹拌した。生じた沈殿は濾別しエーテルで洗浄後、エーテル濾液と洗液は合わせて水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製して、2−(4−クロロ−3−メトキシ−2−ピリジル)−2−シクロプロピル−1−メトキシエテン(XI)8.94gを得た。
1H−NMR(CDCl3)
δ1:0.47−0.51(2H,m),0.71−0.75(2H,m),1.83−1.91(1H,m),3.76(3H,s),3.82(3H,s),6.57(1H,d,J=1.2Hz),7.16(1H,d,J=5.1Hz),8.15(1H,d,J=5.1Hz)
δ2:0.41−0.45(2H,m),0.57−0.62(2H,m),1.63−1.70(1H,m),3.58(3H,s),3.85(3H,s),6.20(1H,d,J=1.2Hz),7.22(1H,d,J=5.1Hz),8.26(1H,d,J=5.1Hz)
参考例17
2−(4−クロロ−3−メトキシ−2−ピリジル)−2−シクロプロピル−1−メトキシエテン(XI)1.02gをTHF10mlに溶かし、希硫酸10mlを加え、50℃で減圧濃縮した。水に注ぎ飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和後、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製して、2−(4−クロロ−3−メトキシ−2−ピリジル)−2−シクロプロピルエタナール(XII)0.81gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.23−0.82(4H,m),1.50−1.59(1H,m),3.23−3.26(1H,m),3.86(3H,s),7.27(1H,d,J=5.1Hz),8.27(1H,d,J=5.1Hz),9.92(1H,d,J=2.7Hz)
参考例18
2−(4−クロロ−3−メトキシ−2−ピリジル)−2−シクロプロピルエタナール(XII)0.85gを無水エタノール27mlに溶かし、ピペリジン0.89ml、酢酸0.89ml、マロン酸ジエチル2.85mlを加え、100℃で5.5時間加熱した。溶媒を減圧下留去後、エーテルで希釈し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣にDowtherm A20mlを加え、240℃で30分加熱した。反応液を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン→ヘキサン:酢酸エチル=1:1)で精製して、8−クロロ−1−シクロプロピル−9−メトキシ−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(XIII)0.67gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.74−0.75(2H,m),0.95−1.02(2H,m),1.42(3H,t,J=7.3Hz),2.45−2.55(1H,m),3.97(3H,s),4.42(2H,q,J=7.3Hz),7.10(1H,d,J=7.8Hz),8.26(1H,s),9.26(1H,d,J=7.8Hz)
実施例3(反応図式1参照)
8−クロロ−1−シクロプロピル−9−メトキシ−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(XIII)153.5mgをトルエン2.0mlに懸濁し、これにエタノール1.0ml、2M炭酸ナトリウム水溶液0.5ml、(+)−1−メチル−2−トリチルイソインドリン−5−ボロン酸(3)200.0mg及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド15.0mgを加えた後、アルゴン雰囲気下で、4時間加熱還流した。反応液に酢酸エチルを加え、有機層を分取し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=5:1)で精製して、1−シクロプロピル−9−メトキシ−8−(1−メチル−2−トリチルイソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(XIV)248.2mgを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.73−0.78(2H,m),0.90−0.98(2H,m),1.42(3H,t,J=7.1Hz),1.48(3H,d,J=6.6Hz),2.49−2.58(1H,m),3.28(3H,s),4.15−4.63(5H,m),6.88−7.59(19H,m),8.23(1H,s),9.31(1H,d,J=7.6Hz)
実施例4
1−シクロプロピル−9−メトキシ−8−(1−メチル−2−トリチルイソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(XIV)248.0mgにエタノール6.0ml、THF2.0ml、1N塩酸1.0mlを加え、室温で30分撹拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣に水を加え、酢酸エチルで洗浄後、得られた水層を減圧下濃縮した。残渣に水10ml、エタノール5ml、1N水酸化ナトリウム3mlを加え、50℃で3時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、水4mlに溶かし、1N塩酸で中和した。析出した結晶を濾取し1−シクロプロピル−9−メトキシ−8−(1−メチルイソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸(XV)99.1mgを得た。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:0.75−0.76(2H,m),0.95−1.05(2H,m),1.37(3H,d,J=6.4Hz),2.60−2.70(1H,m),3.48(3H,s),4.10−4.42(3H,m),7.43−7.73(4H,m),8.14(1H,s),9.25(1H,d,J=7.6Hz)
FAB−MS m/z:391(M+H)+
実施例5(反応図式2参照)
8−クロロ−1−シクロプロピル−9−メチル−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(1)216.5mgをトルエン2.2mlに懸濁し、これにエタノール1.1ml、2M炭酸ナトリウム水溶液0.55ml、2−トリチルイソインドリン−5−ボロン酸(3)287.0mg及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド15.0mgを加えた後、アルゴン雰囲気下で、4.5時間加熱還流した。反応液に酢酸エチルを加え、有機層を分取し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=6:1)で精製して、1−シクロプロピル−9−メチル−8−(2−トリチルイソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(I)324.3mgを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.75(2H,m),1.00(2H,m),1.43(3H,t,J=7.1Hz),2.3(1H,m),2.78(3H,s),4.02(4H,s),4.42(2H,q,J=7.1Hz),7.02−7.63(19H,m),8.40(1H,s),9.43(1H,d,J=7.6Hz)
実施例6
1−シクロプロピル−9−メチル−8−(2−トリチルイソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(I)275.4mgにエタノール8.3ml、THF2.8ml、1N塩酸1.5mlを加え、50℃で2時間撹拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣に水を加え、酢酸エチルで洗浄した後、得られた水層を減圧下濃縮した。残渣に水30ml、メタノール10ml、1N水酸化ナトリウム5mlを加え、50℃で3.5時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、水4mlに溶かし、1N塩酸で中和した。析出した結晶を濾取して、1−シクロプロピル−9−メチル−8−(イソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸120.0mgを得た。
1H−NMR(DMSO−d6)δ:0.75−0.80(2H,m),1.05−1.15(2H,m),2.40−2.55(1H,m),2.86(3H,s),4.17(4H,s),7.36−7.55(4H,m),8.26(1H,s),9.31(1H,d,J=7.6Hz)
FAB−MS m/z:361(M+H)+
参考例19(反応図式3参照)
水酸化カリウム41.37gの水溶液500mlに2−アセチル安息香酸(3−1)100.96gを溶かし、これに室温で水素化ホウ素ナトリウム20.35gを少しずつ加えた。室温で2日間撹拌した後、濃塩酸でpH1とし、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去し、得られた残渣を減圧蒸留(117−121℃/3−5mmHg)にて精製して、3−メチルフタリド(3−2)86.45gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:1.64(3H,dd,J=1.2Hz,6.6Hz),5.58(1H,q,J=6.6Hz),7.45−7.90(4H,m)
参考例20
3−メチルフタリド(3−2)66.40gを発煙硝酸250mlに溶かし、氷冷下で濃硫酸250mlを滴下した後、室温で15時間撹拌した。反応液を水に注ぎ、析出した結晶を濾取し、3−メチル−6−ニトロフタリド(3−3)73.91gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:1.72(3H,d,J=6.8Hz),5.70(1H,q,J=6.8Hz),7.67(1H,d,J=8.5Hz),8.57(1H,dd,J=2.0Hz,8.5Hz),8.73(1H,d,J=2.0Hz)
参考例21
3−メチル−6−ニトロフタリド(3−3)78.00gをエタノール1.21に溶かし、5%パラジウム炭素4.0gを加え、水素雰囲気下、室温で5時間撹拌した。触媒を濾別した後、濾液を減圧下濃縮し、得られた結晶を再結晶(エタノール:水)にて精製し、6−アミノ−3−メチルフタリド(3−4)58.21gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:1.58(3H,d,J=6.6Hz),3.95(2H,brs),5.47(1H,q,J=6.6Hz),6.97(1H,dd,J=2.2Hz,8.1Hz),7.10(1H,d,J=2.2Hz),7.18(1H,d,J=8.1Hz)
参考例22
6−アミノ−3−メチルフタリド(3−4)58.25gを4.7%臭化水素酸1.51に溶かし、臭化銅(II)405.60gを加え、氷冷下、亜硝酸ナトリウム41.92gの水溶液400mlを滴下した。同温度で2時間撹拌し、更に、室温で15時間撹拌した後、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=3:1)にて精製して、6−ブロモ−3−メチルフタリド(3−5)71.56gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:1.64(3H,d,J=6.6Hz),5.54(1H,q,J=6.6Hz),7.33(1H,d,J=8.1Hz),7.80(1H,dd,J=1.7Hz,8.1Hz),8.02(1H,d,J=1.7Hz)
参考例23
THF1.01に水素化リチウムアルミニウム18.30gを懸濁し、これに−30℃で6−ブロモ−3−メチルフタリド(3−5)36.44gのTHF溶液300mlを滴下し、同温度で2時間撹拌した。反応終了後、水76ml、15%水酸化ナトリウム水溶液19mlを加え、析出した沈殿物を濾別し、濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣に酢酸エチルを加え、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去して、1−ブロモ−4−(1−ヒドロキシエチル)−3−ヒドロキシメチルベンゼン(3−6)36.84gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:1.48(3H,d,J=6.3Hz),3.52−3.61(2H,m),4.48−5.02(3H,m),7.27−7.44(3H,m)
参考例24
1−ブロモ−4−(1−ヒドロキシエチル)−3−ヒドロキシメチルベンゼン(3−6)36.84gをジエチルエーテル500mlに溶かし、氷冷下で三臭化リン71.06mlを滴下した後、室温で24時間撹拌した。反応液を氷水に注ぎ、炭酸水素ナトリウムで中和した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去して1−ブロモ−4−(1−ブロモエチル)−3−ブロモメチルベンゼン(3−7)50.52gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.07(3H,d,J=6.8Hz),4.39(1H,d,J=10.7Hz),4.70(1H,d,J=10.7Hz),5.51(1H,q,J=6.8Hz),7.45−7.49(3H,m)
参考例25
約60%水素化ナトリウム3.97gをDMF70mlに懸濁し、p−トルエンスルホンアミド8.49gのDMF溶液50mlを加え、60℃で1時間撹拌した。これに1−ブロモ−4−(1−ブロモエチル)−3−ブロモメチルベンゼン(3−7)17.70gのDMF溶液50mlを滴下し、同温度で2時間撹拌した。反応液を氷水に注ぎ、クロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:クロロホルム=1:1)にて精製して、5−ブロモ−1−メチル−2−(p−トルエンスルホニル)イソインドリン(3−8)14.13gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:1.64(3H,d,J=6.3Hz),2.39(3H,s),4.51−4.89(3H,m),6.96−7.75(7H,m)
参考例26
5−ブロモ−1−メチル−2−(p−トルエンスルホニル)イソインドリン(3−8)67.46gを47%臭化水素酸325mlに懸濁し、フェノール48ml、プロピオン酸197mlを加え、4時間加熱還流した。反応終了後、8N水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ性とし、クロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:メタノール=19:1)にて精製して、5−ブロモ−1−メチルイソインドリン35.03gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:1.42(3H,d,J=6.6Hz),3.07(1H,brs),4.13(1H,d,J=14.4Hz),4.22(1H,d,J=14.4Hz),4.39(1H,q,J=6.6Hz),7.03−7.36(3H,m)
参考例27
5−ブロモ−1−メチルイソインドリン20.00gをTHF100mlに溶かし、(N−ベンジルオキシカルボニル)−(L)−フェニルアラニン38.80g、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール一水和物28.90g、N,N’−ジイソプロピルカルボジイミド29.5mlを加え、室温で15時間撹拌した。反応液を氷水に注ぎ、濃塩酸でpH1とした後、ジエチルエーテルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカグルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:ジエチルエーテル=3:2)にて精製して、2−[(N−ベンジルオキシカルボニル)−(L)−フェニルアラニン]−5−ブロモ−1−メチルイソインドリン(3−9)17.42gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:1.33(3H,d,J=6.4Hz),2.96−3.13(2H,m),3.84−3.88(1H,m),4.54−5.68(6H,m),7.01−7.38(13H,m)
参考例28
2−[(N−ベンジルオキシカルボニル)−(L)−フェニルアラニン]−5−ブロモ−1−メチルイソインドリン(3−9)2.00gを47%臭化水素酸50mlに懸濁し、封管中、120℃で60時間撹拌した。反応終了後、減圧下濃縮し、8N水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ性とし、クロロホルムで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して得られた残渣をジクロロメタン2.0mlに溶かし、トリエチルアミン351mgを加え、これにトリチルクロリド920mgのジクロロメタン溶液2.8mlを滴下し、室温で16時間撹拌した。反応終了後、水を加え、有機層を分取し、更に水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣を活性アルミナカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=19:1)にて精製して、(+)−5−ブロモ−1−メチル−2−トリチルイソインドリン(4)1.16gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:1.37(3H,d,J=6.6Hz),3.98−4.48(3H,m),6.56−7.53(18H,m)
[α]D 20=78°(c=1.0 CHCl3)
参考例29
(+)−5−ブロモ−1−メチル−2−トリチルイソインドリン(4)335mgをTHF3.0mlに溶かし、アルゴン雰囲気下、−78℃でn−ブチルリチウム(n−ヘキサン溶液;1.53mol/l)0.53mlを滴下し、同温度で1時間撹拌した。これにホウ酸トリイソプロピル0.21mlを滴下し、更に同温度で2時間撹拌した。反応液を氷水に注ぎ、1N塩酸で中和した後、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=3:1)にて精製して、(+)−1−メチル−2−トリチルイソインドリン−5−ボロン酸(3)152mgを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:1.40(3H,d,J=6.6Hz),3.99−4.58(3H,m),6.74−7.66(18H,m)
実施例7(反応図式2参照)
8−クロロ−1−シクロプロピル−9−メトキシ−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(XIII)798.8mgをトルエン8mlに懸濁し、これにエタノール4ml、2M炭酸ナトリウム水溶液2ml、2−トリチルイソインドリン−5−ボロン酸1.06g及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド80mgを加えた後、アルゴン雰囲気下で、4.5時間加熱還流した。反応液に酢酸エチルを加え、有機層を分取し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=5:1)で精製して、1−シクロプロピル−9−メトキシ−8−(2−トリチルイソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(I)1.21gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.72−0.76(2H,m),0.95−0.97(2H,m),1.43(3H,t,J=7.1Hz),2.51−2.56(1H,m),3.45(3H,s),4.02(4H,s),4.40(2H,q,J=7.1Hz),7.12−7.62(19H,m),8.24(1H,s),9.35(1H,d,J=7.6Hz)
実施例8
1−シクロプロピル−9−メトキシ−8−(2−トリチルイソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(I)1.21gにTHF12ml、エタノール36ml、1N塩酸6mlを加え、50℃で1.5時間撹拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣に水を加え、酢酸エチルで洗浄後、得られた水層を減圧下濃縮した。残渣にエタノール20ml、1N水酸化ナトリウム6mlを加え、50℃で2時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、水10mlに溶かし、1N塩酸で中和した。析出した結晶を濾取して、1−シクロプロピル−9−メトキシ−8−(イソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸(I)515mgを得た。
1H−NMR(CF3COOD)δ:1.15−1.16(2H,m),1.46−1.48(2H,m),3.10−3.11(1H,m),3.84(3H,s),5.16−5.17(4H,m),7.84(1H,d,J=8.0Hz),8.06−8.10(2H,m),8.16(1H,d,J=7.3Hz),8.47(1H,brs),8.71(1H,s),9.50(1H,d,J=7.3Hz)
FAB−MS m/z:377(M+H)+
参考例30(反応図式1参照)
4−クロロ−3−ジフルオロメトキシ−2−メチルピリジン(XIX)76.38gを無水ジクロロメタン2500mlに溶かし、氷冷下、3−クロロ過安息香酸93.62gを加え5℃で12時間撹拌した。有機層を5%炭酸ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去して、4−クロロ−3−ジフルオロメトキシ−2−メチルピリジンN−オキサイド(VI)77.97gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.55(3H,s),6.59(1H,t,J=73.0Hz),7.23(1H,d,J=7.1Hz),8.17(1H,d,J=7.1Hz)
参考例31
4−クロロ−3−ジフルオロメトキシ−2−メチルピリジンN−オキサイド(VI)77.97gに無水酢酸744mlを加え、100℃で4時間加熱した。溶媒を減圧下留去後、2N水酸化ナトリウムを加えpHを11とし、100℃で1時間加熱した。クロロホルムで抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=5:1)で精製して、4−クロロ−3−ジフルオロメトキシ−2−ヒドロキシメチルピリジン23.11g(VII)を得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:3.94(1H,t,J=5.1Hz),4.84(2H,d,J=5.1Hz),6.60(1H,t,J=73.5Hz),7.38(1H,d,J=5.4Hz),8.40(1H,d,J=5.4Hz)
参考例32
オキサリルクロリド12.5mlを無水ジクロロメタン262mlに溶かし、−78℃冷却下、無水ジメチルスルホキシド10.9mlの無水ジクロロメタン溶液131mlを滴下した。−78℃で40分撹拌後、4−クロロ−3−ジフルオロメトキシ−2−ヒドロキシメチルピリジン(VII)23.11gの無水ジクロロメタン溶液306mlを滴下した。−78℃で30分撹拌後、反応温度を−45℃まで昇温させ、同温度で1時間撹拌後、トリエチルアミン76.9mlを滴下し、室温まで昇温させた。水を加えクロロホルムで抽出し、得られた有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=5:1)で精製して、(4−クロロ−3−ジフルオロメトキシピリジン)−2−カルバルデヒド(VIII)18.79gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:6.77(1H,t,J=74.2Hz),7.67(1H,d,J=5.1Hz),8.62(1H,d,J=5.1Hz),10.18(1H,s)
参考例33
臭化シクロプロピル10.9mlとマグネシウム3.30gから調製した臭化シクロプロピルマグネシウムのTHF溶液144mlに(4−クロロ−3−ジフルオロメトキシピリジン)−2−カルバルデヒド(VIII)18.79gのTHF溶液120mlを滴下した。室温で12時間撹拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=10:1)で精製して、(4−クロロ−3−ジフルオロメトキシ−2−ピリジル)シクロプロピルメタン−1−オール(IX)12.38gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.44−0.62(4H,m),1.18−1.26(1H,m),3.79(1H,d,J=8.1Hz),4.70(1H,m),6.61(1H,dd,J=75.7,71.5Hz),7.37(1H,d,J=5.1Hz),8.39(1H,d,J=5.1Hz)
参考例34
オキサリルクロリド6.44mlを無水ジクロロメタン150mlに溶かし、−78℃冷却下、無水ジメチルスルホキシド5.64mlの無水ジクロロメタン溶液75mlを滴下した。−78℃で40分撹拌後、(4−クロロ−3−ジフルオロメトキシ−2−ピリジル)シクロプロピルメタン−1−オール(IX)14.17gの無水ジクロロメタン溶液150mlを滴下した。−78℃で30分撹拌後、反応温度を−45℃まで昇温させ、同温度で1時間撹拌後、トリエチルアミン39.56mlを滴下し、室温まで昇温させた。水を加えクロロホルムで抽出し、得られた有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=125:1)で精製して、(4−クロロ−3−ジフルオロメトキシ−2−ピリジル)シクロプロピルケトン(X)12.57gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:1.12−1.32(4H,m),2.98−3.04(1H,m),6.76(1H,t,J=75.0Hz),7.59(1H,d,J=5.1Hz),8.49(1H,d,J=5.1Hz)
参考例35
塩化(メトキシメチル)トリフェニルホスホニウム18.27gを無水エーテル200mlに懸濁し、フェニルリチウム(1.04M)51.3mlを滴下し室温で15分撹拌する。(4−クロロ−3−ジフルオロメトキシ−2−ピリジル)シクロプロピルケトン(X)12.57gのエーテル溶液145mlを滴下し、室温で12時間撹拌した。生じた沈殿は濾別しエーテルで洗浄後、エーテル濾液と洗液は合わせて水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製して、2−(4−クロロ−3−ジフルオロメトキシ−2−ピリジル)−2−シクロプロピル−1−メトキシエテン(XI)1.66gを得た。
1H−NMR(CDCl3)
δ1:0.43−0.47(2H,m),0.73−0.78(2H,m),1.77−1.84(1H,m),3.78(3H,s),6.49(1H,t,J=77.5Hz),6.61(1H,d,J=1.2Hz),7.23(1H,d,J=5.1Hz),8.29(1H,d,J=5.1Hz)
δ2:0.43−0.46(2H,m),0.60−0.64(2H,m),1.61−1.68(1H,m),3.60(3H,s),6.22(1H,d,J=1.0Hz),6.43(1H,t,J=74.2Hz),7.30(1H,d,J=4.9Hz),8.40(1H,d,J=4.9Hz)
参考例36
2−(4−クロロ−3−ジフルオロメトキシ−2−ピリジル)−2−シクロプロピル−1−メトキシエテン(XI)6.00gをTHF60mlに溶かし、希硫酸40mlを加え50℃で減圧濃縮した。水に注ぎ飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和後、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製して、2−(4−クロロ−3−ジフルオロメトキシ−2−ピリジル)−2−シクロプロピルエタナール(XII)4.51gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.27−0.86(4H,m),1.50−1.59(1H,m),3.37−3.40(1H,m),6.53(1H,t,J=73.0Hz),7.36(1H,d,J=5.1Hz),8.45(1H,d,J=5.1Hz),9.98(1H,d,J=1.7Hz)
参考例37
2−(4−クロロ−3−ジフルオロメトキシ−2−ピリジル)−2−シクロプロピルエタナール(XII)4.30gを無水エタノール120mlに溶かし、ピペリジン4.0ml、酢酸4.0ml、マロン酸ジエチル12.5mlを加え100℃で5時間加熱した。溶媒を減圧下留去後、エーテルで希釈し有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣にDowtherm A110mlを加え、240℃で30分加熱した。反応液を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン→ヘキサン:酢酸エチル=1:1)で精製して、8−クロロ−1−シクロプロピル−9−ジフルオロメトキシ−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(XIII)3.48gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.67−0.71(2H,m),1.01−1.06(2H,m),1.42(3H,t,J=7.3Hz),2.35−2.42(1H,m),4.42(2H,q,J=7.3Hz),6.69(1H,t,J=74.2Hz),7.09(1H,d,J=7.8Hz),8.35(1H,s),9.30(1H,d,J=7.8Hz)
実施例9(反応図式1参照)
8−クロロ−1−シクロプロピル−9−ジフルオロメトキシ−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル1.50g(XIII)をトルエン20.96mlに懸濁し、これにエタノール10.48ml、2M炭酸ナトリウム水溶液5.24ml、(+)−1−メチル−2−トリチルイソインドリン−5−ボロン酸(3)2.11g及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド147mgを加えた後、アルゴン雰囲気下で、1時間加熱還流した。反応液にクロロホルムを加え、有機層を分取し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=9:1)で精製して、1−シクロプロピル−9−ジフルオロメトキシ−8−((+)−1−メチル−2−トリチルイソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(I)2.27gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.68−0.73(2H,m),0.99−1.05(2H,m),1.42(3H,t,J=7.1Hz),1.48(3H,d,J=6.6Hz),2.41(1H,m),4.10−4.66(5H,m),5.65(1H,dd,J=74.0,78.1Hz),6.92−7.58(19H,m),8.35(1H,s),9.36(1H,d,J=7.6Hz)
実施例10
1−シクロプロピル−9−ジフルオロメトキシ−8−((+)−1−メチル−2−トリチルイソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(I)2.26gにエタノール68ml、THF23ml、1N塩酸11mlを加え、50℃で1時間撹拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣に水を加え、酢酸エチルで洗浄後、得られた水層を減圧下濃縮した。残渣に水30ml、エタノール30ml、1N水酸化ナトリウム30mlを加え、50℃で1時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、水200mlに溶かし、1N塩酸で中和した。析出した結晶を濾取して、1−シクロプロピル−9−ジフルオロメトキシ−8−((+)−1−メチルイソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸(I)899mgを得た。
1H−NMR(CF3COOD)δ:1.10−1.14(2H,m),1.47−1.52(2H,m),2.04(3H,d,J=6.8Hz),2.90−2.97(1H,m),5.05−5.52(3H,m),6.46(1H,t,J=71.8Hz),7.77−8.19(4H,m),8.83(1H,s),9.61−9.63(1H,m)
FAB−MS m/z:427(M+H)+
実施例11(反応図式2参照)
8−クロロ−1−シクロプロピル−9−ジフルオロメトキシ−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(XIII)787mgをトルエン8mlに懸濁し、これにエタノール4ml、2M炭酸ナトリウム水溶液2ml、2−トリチルイソインドリン−5−ボロン酸1.07g及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド80mgを加えた後、アルゴン雰囲気下で、4時間加熱還流した。反応液に酢酸エチルを加え、有機層を分取し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=4:1)で精製して、1−シクロプロピル−9−ジフルオロメトキシ−8−(2−トリチルイソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(I)1.07gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.70−0.74(2H,m),0.95−1.05(2H,m),1.43(3H,t,J=7.1Hz),2.41−2.48(1H,m),4.04(4H,s),4.42(2H,q,J=7.1Hz),6.00(1H,t,J=75Hz),7.10−7.62(19H,m),8.36(1H,s),9.40(1H,d,J=7.6Hz)
実施例12
1−シクロプロピル−9−ジフルオロメトキシ−8−(2−トリチルイソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(I)930mgにTHF7.6ml、エタノール2.5ml、1N塩酸1.3mlを加え、室温で90分撹拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣に水を加え、酢酸エチルで洗浄後、得られた水層を減圧下濃縮した。残渣にメタノール10ml、1N水酸化ナトリウム5mlを加え、50℃で2時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、水10mlに溶かし、1N塩酸で中和した。析出した結晶を濾取して、1−シクロプロピル−9−ジフルオロメトキシ−8−(イソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸(I)388mgを得た。
1H−NMR(CF3COOD)δ:1.25−1.27(2H,m),1.62−1.66(2H,m),3.07−3.10(1H,m),5.29−5.31(4H,m),6.60(1H,t,J=72Hz),7.97(1H,d,J=8.0Hz),8.15−8.19(2H,m),8.33(1H,dd,J=7.6Hz),8.98(1H,s),9.76(1H,d,J=7.6Hz)
FAB−MS m/z:413(M+H)+
参考例38(反応図式4参照)
2,3−ジメチルニトロベンゼン(3−10)90.60g、鉄粉1.20gの混合物を75℃に加熱し、撹拌しながら臭素115.00gを滴下し、さらに同温度で4時間撹拌した。反応液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣にメタノール400ml、濃塩酸400mlを加え、さらに鉄粉100gを分割添付した後、70℃で30分撹拌した。反応液を氷水に注ぎ、炭酸水素ナトリウムでアルカリ性とした後、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=9:1)で精製して、5−ブロモ−2,3−ジメチルアニリン(3−11)48.82gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.00(3H,s),2.22(3H,s),3.61(2H,bs),6.69(1H,d,J=2.0Hz),6.75(1H,d,J=2.0Hz)
参考例39
5−ブロモ−2,3−ジメチルアニリン(3−11)4.00gをフッ化水素−ピリジン50mlに溶かし、氷冷下で亜硝酸ナトリウム2.10gの水溶液5.00mlを滴下した。同温度で30分間撹拌し、さらに室温で1時間撹拌した後、85℃で1時間撹拌した。反応液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=10:1)で精製して、5−ブロモ−1−フルオロ−2,3−ジメチルベンゼン(3−12)2.92gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.11(3H,d,J=2.2Hz),2.50(3H,s),7.02−7.08(2H,m)
参考例40
5−ブロモ−1−フルオロ−2,3−ジメチルベンゼン(3−12)2.92gを四塩化炭素30mlに溶かし、N−ブロモスクシンイミド5.63g、α,α’−アゾビス(イソブチロニトリル)0.12gを加え、水素雰囲気下、3時間加熱還流した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=14:1)で精製して、5−ブロモ−1,2−ビス(ブロモメチル)−3−フルオロベンゼン(3−13)5.02gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:4.54(2H,s),4.61(2H,s),7.22−7.34(2H,m)
参考例41
約60%水素化ナトリウム1.17gをDMF30mlに懸濁し、p−トルエンスルホンアミド2.50gのDMF溶液15mlを加え、60℃で1時間撹拌した。これに5−ブロモ−1,2−ビス(ブロモメチル)−3−フルオロベンゼン(3−13)5.02gのDMF溶液15mlを滴下し、同温度で1時間撹拌した。反応液を氷水に注ぎ、析出した結晶を濾取して、6−ブロモ−4−フルオロ−2−(p−トルエンスルホニル)イソインドリン(3−14)5.10gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.42(3H,s),4.59−4.61(4H,m),7.09−7.77(6H,m)
参考例42
6−ブロモ−4−フルオロ−2−(p−トルエンスルホニル)イソインドリン(3−14)5.10gを47%臭化水素酸50mlに懸濁し、フェノール3.89g、酢酸12.41gを加え、4時間加熱還流した。反応終了後、減圧下濃縮し、水を加え、酢酸エチルで洗浄した後、水層を分取して減圧下濃縮、乾燥して、6−ブロモ−4−フルオロイソインドリン臭化水素酸塩(3−15)2.38gを得た。
1H−NMR(CD3OD)δ:4.66−4.69(4H,m),7.39−7.49(2H,m)
参考例43
6−ブロモ−4−フルオロイソインドリン臭化水素酸塩(3−15)2.38gをジクロロメタン50mlに溶かし、トリエチルアミン2.43gを加え、これにトリチルクロリド2.68gのジクロロメタン溶液50mlを滴下し、室温で2時間撹拌した。反応終了後、水を加え、有機層を分取し、さらに水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣を活性アルミナカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン)で精製して、6−ブロモ−4−フルオロ−2−トリチルイソインドリン(3−16)2.13gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:3.89−4.01(4H,m),6.95−7.57(17H,m)
参考例44
6−ブロモ−4−フルオロ−2−トリチルイソインドリン(3−16)2.13gをTHF50mlに溶かし、アルゴン雰囲気下、−78℃でn−ブチルリチウム(n−ヘキサン溶液;1.50mol/l)3.87mlを滴下し、同温度で30分間撹拌した。これにホウ酸トリイソプロピル1.18mlを滴下し、さらに同温度で1時間撹拌した。反応液を氷水に注ぎ、飽和塩化アンモニウム水溶液で中和した後、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=4:1)で精製して、4−フルオロ−2−トリチルイソインドリン−6−ボロン酸(3)307mgを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:3.69−4.15(4H,m),7.10−7.61(17H,m)
実施例13(反応図式2参照)
8−クロロ−1−シクロプロピル−9−メチル−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(XIII)108mgをトルエン1.48mlに懸濁し、これにエタノール0.74ml、2M炭酸ナトリウム水溶液0.37ml、4−フルオロ−2−トリチルイソインドリン−6−ボロン酸(3)150mg及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド12mgを加えた後、アルゴン雰囲気下で、1時間加熱還流した。反応液にクロロホルムを加え、有機層を分取し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=9:1)で精製して、1−シクロプロピル−9−メチル−8−(4−フルオロ−2−トリチルイソインドリン−6−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(I)150mgを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.74−0.78(2H,m),1.00−1.04(2H,m),1.40−1.44(3H,m),2.30−2.39(1H,m),2.77−2.89(3H,m),4.08−4.45(4H,m),6.56−7.62(20H,m),8.40−8.41(1H,m),9.41−9.45(1H,m)
実施例14
1−シクロプロピル−9−メチル−8−(4−フルオロ−2−トリチルイソインドリン−6−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(I)150mgにエタノール4.5ml、THF1.5ml、1N塩酸0.75mlを加え、50℃で2時間撹拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣に水を加え、酢酸エチルで洗浄後、得られた水層を減圧下濃縮した。残渣に水5ml、メタノール5ml、1N水酸化ナトリウム5mlを加え、50℃で1時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、水2mlに溶かし、1N塩酸で中和した。析出した結晶を濾取して、1−シクロプロピル−8−(4−フルオロイソインドリン−6−イル)−9−メチル−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸(I)28.4mgを得た。
1H−NMR(CF3COOD)δ:1.16−1.17(2H,m),1.51−1.53(2H,m),2.74−2.83(1H,m),3.26(3H,s),5.14−5.22(4H,m),7.41−7.43(1H,m),7.49(1H,s),7.99(1H,d,J=7.3Hz),8.87(1H,s),9.57(1H,d,J=7.3Hz)
FAB−MS m/z:379(M+H)+
参考例45(反応図式5参照)
5−ブロモ−2,3−ジメチルアニリン(3−11)10.00gを25%硫酸50ml、トルエン50mlの混合溶液に溶かし、氷冷下で亜硝酸ナトリウム3.80gの水溶液20mlを滴下した。同温度で1時間撹拌し、さらに100℃で1時間撹拌した後、反応液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=9:1)で精製して、5−ブロモ−2,3−ジメチルフェノール(3−17)5.49gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.09(3H,s),2.23(3H,s),4.77(1H,s),6.79(1H,d,J=1.7Hz),6.90(1H,d,J=1.7Hz)
参考例46
5−ブロモ−2,3−ジメチルフェノール(3−17)5.49gをDMF100mlに溶かし、ヨウ化メチル6.80g、炭酸カリウム11.32gを加え、90℃で2時間撹拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=9:1)で精製して、5−ブロモ−1−メトキシ−2,3−ジメチルベンゼン(3−18)5.35gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.07(3H,s),2.23(3H,s),3.79(3H,s),6.83(1H,s),6.93(1H,s)
参考例47
5−ブロモ−1−メトキシ−2,3−ジメチルベンゼン(3−18)2.80gを四塩化炭素30mlに溶かし、N−ブロモスクシンイミド5.10g、α,α’−アゾビス(イソブチロニトリル)107mgを加え、3時間加熱還流した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=6:1)で精製して、5−ブロモ−1,2−ビス(ブロモメチル)−3−メトキシベンゼン(3−19)4.77gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:3.89(3H,s),4.53(2H,s),4.69(2H,s),7.00(1H,d,J=1.7Hz),7.13(1H,d,J=1.7Hz)
参考例48
5−ブロモ−1,2−ビス(ブロモメチル)−3−メトキシベンゼン(3−19)4.95gを無水DMF150mlに溶かし、炭酸カリウム5.50g、トリチルアミン4.30gを加え、アルゴン雰囲気下、90℃で8時間撹拌した。反応液を水に注ぎ、クロロホルムで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去した後、得られた残渣を2−プロパノールにて再結晶して、6−ブロモ−4−メトキシ−2−トリチルイソインドリン(3−20)3.35gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:3.73(3H,s),3.88−3.93(4H,m),6.75(1H,s),6.83(1H,s),7.13−7.57(15H,m)
参考例49
6−ブロモ−4−メトキシ−2−トリチルイソインドリン(3−20)1.02gをTHF5mlに溶かし、アルゴン雰囲気下、−78℃でn−ブチルリチウム(n−ヘキサン溶液;1.50mol/l)1.59mlを滴下し、同温度で30分間撹拌した。これにホウ酸トリイソプロピル0.6mlを滴下し、さらに同温度で1時間撹拌した。反応液を氷水に注ぎ、酢酸で中和した後、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=4:1)で精製して、4−メトキシ−2−トリチル−イソインドリン−6−ボロン酸(3)380mgを得た。
実施例15(反応図式2参照)
8−クロロ−1−シクロプロピル−9−メトキシ−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(XIII)152.2mgをトルエン1.5mlに懸濁し、これにエタノール0.8ml、2M炭酸ナトリウム水溶液0.4ml、4−メトキシ−2−トリチルイソインドリン−6−ボロン酸247.1mg及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド15mgを加えた後、アルゴン雰囲気下で、4時間加熱還流した。反応液に酢酸エチルを加え、有機層を分取し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=6:1)で精製して、1−シクロプロピル−9−メトキシ−8−(4−メトキシ−2−トリチルイソインドリン−6−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(I)120mgを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.74−0.75(2H,m),0.95−0.98(2H,m),1.43(3H,t,J=7.1Hz),2.57(1H,m),3.47(3H,s),3.81(3H,s),4.04(4H,m),4.42(2H,q,J=7.1Hz),6.98−7.63(18H,m),8.24(1H,s),9.34(1H,d,J=7.3Hz)
実施例16
1−シクロプロピル−9−メトキシ−8−(4−メトキシ−2−トリチルイソインドリン−6−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(I)120mにTHF3.6ml、エタノール1.2ml、1N塩酸0.6mlを加え、50℃で2時間撹拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣に水を加え、酢酸エチルで洗浄後、得られた水層を減圧下濃縮した。残渣にメタノール2ml、1N水酸化ナトリウム0.5mlを加え、50℃で2時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、水10mlに溶かし、1N塩酸で中和した。析出した結晶を濾取して、1−シクロプロピル−9−メトキシ−8−(4−メトキシイソインドリン−6−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸(I)16.7mgを得た。
1H−NMR(CF3COOD)δ:1.13−1.17(2H,m),1.43−1.48(2H,m),3.10(1H,m),3.88(3H,s),4.16(3H,s),5.10−5.15(4H,m),7.56(1H,s),7.59(1H,s),8.16(1H,d,J=7.3Hz),8.39(1H,brs),8.71(1H,s),9.48(1H,d,J=7.3Hz)
FAB−MS m/z:407(M+H)+
実施例17
8−クロロ−1−シクロプロピル−9−メチル−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(XIII)80.1mgをトルエン0.8mlに懸濁し、これにエタノール0.4ml、2M炭酸ナトリウム水溶液0.2ml、4−メトキシ−2−トリチルイソインドリン−6−ボロン酸130mg及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド8mgを加えた後、アルゴン雰囲気下で、4時間加熱還流した。反応液に酢酸エチルを加え、有機層を分取し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=6:1)で精製して、1−シクロプロピル−9−メチル−8−(4−メトキシ−2−トリチルイソインドリン−6−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(I)71.7mgを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.75−0.79(2H,m),0.99−1.04(2H,m),1.43(3H,t,J=7.1Hz),2.34(1H,m),3.79(3H,s),4.04(3H,s),4.42(4H,q,J=7.1Hz),6.57(1H,s),6.69(1H,s),7.02(1H,d,J=7.6Hz),7.15−7.62(15H,m),8.39(1H,s),9.43(1H,d,J=7.6Hz)
実施例18
1−シクロプロピル−9−メチル−8−(4−メトキシ−2−トリチルイソインドリン−6−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(I)71.7mにTHF2ml、エタノール0.7ml、1N塩酸0.35mlを加え、50℃で2時間撹拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣に水を加え、酢酸エチルで洗浄後、得られた水層を減圧下濃縮した。残渣にメタノール2ml、1N水酸化ナトリウム0.5mlを加え、50℃で2時間撹拌した。反応液を減圧濃縮後、水10mlに溶かし、1N塩酸で中和した。析出した結晶を濾取して、1−シクロプロピル−9−メチル−8−(4−メトキシ−イソインドリン−6−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸(I)25mgを得た。
1H−NMR(CF3COOD)δ:1.16−1.17(2H,m),1.50−1.52(2H,m),2.78(1H,m),3.26(3H,s),4.10(3H,s),5.07(4H,m),7.14(1H,s),7.21(1H,s),8.02(1H,d,J=6.3Hz),8.37(1H,brs),8.83(1H,s),9.55(1H,d,J=7.6Hz)
FAB−MS m/z:391(H+H)+
参考例50(反応図式1参照)
3−ジフルオロメチル−2−メチルピリジン(XVI)27.26gを無水ジクロロメタン700mlに溶かし、氷冷下、3−クロロ過安息香酸45.19gを加え5℃で12時間撹拌した。有機層を5%炭酸ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:メタノール=9:1)で精製して、3−ジフルオロメチル−2−メチルピリジンN−オキサイド(XVII)29.82gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.60(3H,s),6.77(1H,t,J=54.7Hz),7.25(1H,t,J=7.1Hz),7.42(1H,d,J=8.1Hz),8.37(1H,d,J=6.6Hz)
参考例51
3−ジフルオロメチル−2−メチルピリジンN−オキサイド(XVII)31.38gを濃硫酸64mlに溶かし、濃硫酸93mlと65%硝酸107mlの混液を加え95℃で20時間加熱した。反応液を氷水中に注ぎ、析出した結晶を濾取して、3−ジフルオロメチル−2−メチル−4−ニトロピリジンN−オキサイド(XVIII)17.79gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.73(3H,s),7.35(1H,t,J=52.5Hz),7.82(1H,d,J=7.3Hz),8.38(1H,d,J=7.3Hz)
EI−MS m/z:204(M+)
参考例52
3−ジフルオロメチル−2−メチル−4−ニトロピリジンN−オキサイド(XVIII)0.52gを濃塩酸10mlに溶かし、封管中、160℃で9時間加熱した。溶媒を減圧下留去後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:メタノール=19:1)で精製して、4−クロロ−3−ジフルオロメチル−2−メチルピリジンN−オキサイド(VI)0.36gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:2.70(3H,s),7.16(1H,t,J=53.7Hz),7.22(1H,d,J=7.1Hz),8.26(1H,d,J=7.1Hz)
参考例53
4−クロロ−3−ジフルオロメチル−2−メチルピリジンN−オキサイド(VI)7.61gに無水酢酸70mlを加え、110℃1時間加熱した。溶媒を減圧下留去後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えエーテルで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣を90%エタノールに溶かし水酸化ナトリウム2.36gを加え80℃で2時間加熱した。溶媒を減圧下留去後、水を加えクロロホルムで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム)で精製して、4−クロロ−3−ジフルオロメチル−2−ヒドロキシメチルピリジン(VII)1.55gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:4.48(1H,brs),4.98(2H,s),7.19(1H,t,J=53.2Hz),7.33(1H,d,J=5.4Hz),8.54(1H,d,J=5.4Hz)
参考例54
オキサリルクロリド0.91mlを無水ジクロロメタン20mlに溶かし、−78℃冷却下、無水ジメチルスルホキシド0.80mlの無水ジクロロメタン溶液8mlを滴下した。−78℃で40分撹拌後、4−クロロ−3−ジフルオロメチル−2−ヒドロキシメチルピリジン(VII)1.55gの無水ジクロロメタン溶液20mlを滴下した。−78℃で30分撹拌後、反応温度を−45℃まで昇温させ、同温度で1時間撹拌後、トリエチルアミン5.60mlを滴下し、室温まで昇温させた。水を加えクロロホルムで抽出し、得られた有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム)で精製して、(4−クロロ−3−ジフルオロメチルピリジン)−2−カルバルデヒド(VIII)1.36gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:7.63(1H,d,J=5.4Hz),7.76(1H,t,J=53.0Hz),8.77(1H,d,J=5.4Hz),10.19(1H,s)
参考例55
臭化シクロプロピル0.85mlとマグネシウム0.26gから調製した臭化シクロプロピルマグネシウムのTHF溶液13mlに(4−クロロ−3−ジフルオロメチルピリジン)−2−カルバルデヒド(VIII)1.36gのTHF溶液10mlを滴下した。室温で2時間撹拌後、飽和塩化アンモニウム水溶液中に注ぎクロロホルムで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=60:1)で精製して、(4−クロロ−3−ジフルオロメチル−2−ピリジル)シクロプロピルメタン−1−オール(IX)0.48gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.43−0.60(4H,m),1.20−1.28(1H,m),3.75(1H,m),4.91(1H,brs)7.24(1H,t,J=53.2Hz),7.34(1H,d,J=5.1Hz),8.55(1H,d,J=5.1Hz)
参考例56
オキサリルクロリド0.30mlを無水ジクロロメタン10mlに溶かし、−78℃冷却下、無水ジメチルスルホキシド0.27mlの無水ジクロロメタン溶液3mlを滴下した。−78℃で40分撹拌後、(4−クロロ−3−ジフルオロメチル−2−ピリジル)シクロプロピルメタン−1−オール(IX)0.62gの無水ジクロロメタン溶液7mlを滴下した。−78℃で30分撹拌後、反応温度を−45℃まで昇温させ、同温度で1時間撹拌後、トリエチルアミン1.86mlを滴下し、室温まで昇温させた。水を加えクロロホルムで抽出し、得られた有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=19:1)で精製して、(4−クロロ−3−ジフルオロメチル−2−ピリジル)シクロプロピルケトン(X)0.53gを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:1.16−1.35(4H,m),2.91−2.98(1H,m),7.25(1H,t,J=53.2Hz),7.54(1H,d,J=5.1Hz),8.63(1H,d,J=5.1Hz)
参考例57
塩化(メトキシメチル)トリフェニルホスホニウム0.82gを無水エーテル8mlに懸濁し、フェニルリチウム(0.88M)2.71mlを滴下し室温で15分撹拌した。(4−クロロ−3−ジフルオロメチル−2−ピリジル)シクロプロピルケトン(X)0.53gのエーテル溶液6mlを滴下し、室温で2時間撹拌した。生じた沈殿は濾別しエーテルで洗浄した後、エーテル濾液と洗液を合わせて水洗した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製して、2−(4−クロロ−3−ジフルオロメチル−2−ピリジル)−2−シクロプロピル−1−メトキシエテン(XI)0.11gを得た。
1H−NMR(CDCl3)
δ1:0.36−0.41(2H,m),0.70−0.77(2H,m),1.95−2.02(1H,m),3.74(3H,s),6.13(1H,d,J=0.7Hz),6.97(1H,t,J=53.2Hz),7.30(1H,d,J=5.4Hz),8.50(1H,d,J=5.4Hz)
δ2:0.37−0.41(2H,m),0.61−0.66(2H,m),1.64−1.71(1H,m),3.57(3H,s),6.23(1H,d,J=1.2Hz),6.74(1H,t,J=53.2Hz),7.30(1H,d,J=5.4Hz),8.57(1H,d,J=5.4Hz)
参考例58
2−(4−クロロ−3−ジフルオロメチル−2−ピリジル)−2−シクロプロピル−1−メトキシエテン(XI)130mgをTHF10mlに溶かし、希硫酸3mlを加え50℃で減圧濃縮した。水に注ぎ飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和後、クロロホルムで抽出した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン:酢酸エチル=4:1)で精製して、2−(4−クロロ−3−ジフルオロメチル−2−ピリジル)−2−シクロプロピルエタナール(XII)70mgを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.31−0.38(1H,m),0.47−0.56(2H,m),0.76−0.83(1H,m),1.59−1.68(1H,m),3.45(1H,d,J=9.8Hz),7.26(1H,t,J=53.2Hz),7.31(1H,d,J=5.1Hz),8.62(1H,d,J=5.1Hz),9.89(1H,d,J=1.7Hz)
参考例59
2−(4−クロロ−3−ジフルオロメチル−2−ピリジル)−2−シクロプロピルエタナール(XII)71.6mgを無水エタノール3mlに溶かし、ピペリジン80μl、酢酸80μl、マロン酸ジエチル220μlを加え100℃で5時間加熱した。溶媒を減圧下留去後、エーテルで希釈し有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣にDowtherm A2mlを加え、240℃で30分加熱した。反応液を直接シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;ヘキサン→ヘキサン:酢酸エチル=1:1)で精製して、8−クロロ−1−シクロプロピル−9−ジフルオロメチル−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(XIII)51.3mgを得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.68−0.72(2H,m),1.13−1.18(2H,m),1.42(3H,t,J=7.1Hz),2.10−2.20(1H,m),4.42(2H,q,J=7.1Hz),7.10(1H,d,J=7.8Hz),7.92(1H,t,J=52.2Hz)8.43(1H,s),9.38(1H,d,J=7.8Hz)
EI−MS m/z:341(M+)
実施例19(反応図式2参照)
8−クロロ−1−シクロプロピル−9−ジフルオロメチル−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(XIII)51mgをトルエン0.5mlに懸濁し、これにエタノール0.25ml、2M炭酸ナトリウム水溶液0.12ml、2−トリチルイソインドリン−5−ボロン酸84mg及びビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)クロリド5mgを加えた後、アルゴン雰囲気下で、1.5時間加熱還流した。反応液に酢酸エチルを加え、有機層を分取し、水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;クロロホルム:酢酸エチル=8:1)で精製して、1−シクロプロピル−9−ジフルオロメチル−8−(2−トリチルイソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(I)を定量的に得た。
1H−NMR(CDCl3)δ:0.70−0.74(2H,m),1.09−1.13(2H,m),1.43(3H,t,J=7.1Hz),2.35(1H,m),4.03(3H,s),4.43(4H,q,J=7.1Hz),7.00−7.62(20H,m),8.38(1H,s),9.48(1H,d,J=7.6Hz)
実施例20
1−シクロプロピル−9−ジフルオロメチル−8−(2−トリチルイソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(I)99mgにTHF3ml、エタノール1ml、1N塩酸0.5mlを加え、50℃で2時間撹拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣に水を加え、酢酸エチルで洗浄後、得られた水層を減圧下濃縮して、1−シクロプロピル−9−ジフルオロメチル−8−(イソインドリン−5−イル)−4−オキソ−4H−キノリジン−3−カルボン酸エチル(I)を定量的に得た。
FAB−MS m/z:425(M+H)+
次に処方例を示すが、本発明の範囲は、この処方例によって何ら限定されるものではない。
処方例1
次の成分を含有する錠剤を常法により作った。
本発明により提供される化合物(実施例2、4、6、8、10、12、14、16及び18)のインビトロの抗菌活性は、CHEMOTHERAPY Vol.29,76−79,1981記載の寒天平板希釈法を用いる日本化学療法学会標準法及び嫌気性菌についてはCHEMOTHERAPY Vol.27,559−590,1979記載の方法により試験し、菌の発育が阻止された最小濃度をもってMIC(μg/ml)とした。その結果を表1及び2に示す。
本発明によれば、グラム陽性菌又はグラム陰性菌に対して強力な抗菌作用をする新規4−オキソキノリジン抗菌剤が提供される。
【図面の簡単な説明】
図1は、反応図式1を示す。
図2は、反応図式2を示す。
図3は、反応図式3を示す。
図4は、反応図式4を示す。
図5は、反応図式5を示す。
Claims (14)
- 式(I):
(式中、
R1は、水素原子又は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基及びtert-ブチル基からなる群から選択されるカルボキシル保護基を示し、
R2は、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、又はヒドロキシル基を示し、
R3は、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、又はアミノ基を示し、
R4は、水素原子、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アシル基、t-ブチル基、ベンジル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、トリフェニルメチル基、メトキシメチル基、t-ブトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、2,2,2-トリクロロエトキシメチル基、トリメチルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、t-ブチルジメチルシリル基、トリベンジルシリル基、t-ブチルジフェニルシリル基からなる群から選択されるアミノ保護基、アルキル基、又はシクロアルキル基を示し、
R5は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシル基、イミノ基、又はアミノ基を示す。)
で表される化合物又はその薬理学的に許容し得る塩。 - 式(I)において、R2が、低級アルキル基又は低級アルコキシ基である請求項1に記載の化合物又はその薬理学的に許容し得る塩。
- 式(I)において、R3が、水素原子又は低級アルコキシ基である請求項1に記載の化合物又はその薬理学的に許容し得る塩。
- 式(I)において、R5が、水素原子又は低級アルキル基である請求項1に記載の化合物又はその薬理学的に許容し得る塩。
- R1が、水素原子である請求項1に記載の化合物又はその薬理学的に許容し得る塩。
- 請求項1に記載の化合物又はその薬理学的に許容し得る塩を有効成分として含有することを特徴とする抗菌剤。
- グラム陽性菌にする請求項6に記載の抗菌剤。
- 前記グラム陽性菌が、ストレプトコッカス・オウレウス又はストレプトコッカス・ニューモーニアからなる群から選択される請求項7に記載の抗菌剤。
- グラム陰性菌にする請求項6に記載の抗菌剤。
- 前記グラム陰性菌が、エスチェリキア・コリー又はシュードモナス・アエルギノーザからなる群から選択される請求項9に記載の抗菌剤。
- 嫌気性菌に対する請求項6に記載の抗菌剤。
- 前記嫌気性菌が、バクテロイデス・フラジリスである請求項11に記載の抗菌剤。
- 請求項1に記載の化合物を調製する方法であって、次式(1):
(式中、
R1は、水素原子又は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基及びtert-ブチル基からなる群から選択されるカルボキシル保護基を示し、
R2は、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、又はヒドロキシル基を示し、そして、
Xは、ハロゲン原子を示す。)
で示される化合物を、次式(3):
(式中、
R3は、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、又はアミノ基を示し、
R4は、水素原子、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アシル基、t-ブチル基、ベンジル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、トリフェニルメチル基、メトキシメチル基、t-ブトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、2,2,2-トリクロロエトキシメチル基、トリメチルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、t-ブチルジメチルシリル基、トリベンジルシリル基、t-ブチルジフェニルシリル基からなる群から選択されるアミノ保護基、アルキル基、又はシクロアルキル基を示し、
R5は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシル基、イミノ基、又はアミノ基を示し、そして
L1は、スズ(アルキル基)3又はホウ素(低級アルコキシ基)2を示す。)
で表される化合物と反応させることを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の化合物を調製する方法であって、次式(2):
(式中、
R1は、水素原子又は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基及びtert-ブチル基からなる群から選択されるカルボキシル保護基を示し、
R2は、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、又はヒドロキシル基を示し、そして、
L1は、スズ(アルキル基)3又はホウ素(低級アルコキシ基)2を示す。)
で示される化合物を、次式(4):
(式中、
R3は、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシル基、又はアミノ基を示し、
R4は、水素原子、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アシル基、t-ブチル基、ベンジル基、パラニトロベンジル基、パラメトキシベンジル基、トリフェニルメチル基、メトキシメチル基、t-ブトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、2,2,2-トリクロロエトキシメチル基、トリメチルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、t-ブチルジメチルシリル基、トリベンジルシリル基、t-ブチルジフェニルシリル基からなる群から選択されるアミノ保護基、アルキル基、又はシクロアルキル基を示し、
R5は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシル基、イミノ基、又はアミノ基を示し、そして
Xは、ハロゲン原子を示す。)
で表される化合物と反応させることを特徴とする方法。
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