JP4324049B2 - マスクパターンの補正装置及び方法、並びに露光補正装置及び方法 - Google Patents
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Description
1回の単位露光領域(ショット領域)121において、フォトマスクのマスクパターンが露光転写されてなるパターンには、点Aから離れた任意の領域B,Cを透過した露光光のフレアが照射される。フレアの影響が及ぶ距離は、被転写体であるウェーハ上に転写された距離に換算して数mmに及ぶことが知られている。フレアの影響が及ぶ距離が数mmのフレアがロングレンジのフレア、数μm〜数10μmのフレアがミッドレンジのフレア、数μm以下のフレアがショートレンジのフレアとそれぞれ称されている。
従来の手法は、飽くまで1つのショット領域内のみに着目してローカルフレアを見積もる技術である。しかしながら実際の露光においては、ウェーハ表面のレジスト上に複数回の露光を行うのであり、あるショット領域は主に隣接する近傍のショット領域の露光光の影響を受ける。本発明者は、ショット領域内で特に周辺部において補正の精度が低下することから、1つのショット領域のフレアを見積もる際に、当該ショット領域の外側におけるフレアも加味することに想到した。
例えば、チップ領域を算出の対象領域とする場合、上記と同様に、算出対象となる当該チップ領域以外の他のチップ領域からのフレアの影響を考慮する構成や、複数のチップ領域の平均開口率を用いて、当該チップ領域内の設計開口率を修正する構成が適用される。これにより、当該チップ領域の全体に亘って幅寸法変化の極めて小さいリソグラフィープロセスが実現する。
以下、本発明を適用した具体的な諸実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
本実施形態では、ミドル(ショート)レンジのフレアに対応したマスクパターンのデータ補正について説明する。
図1は、第1の実施形態によるマスクパターンのデータ補正装置の概略構成を示すブロック図である。
このデータ補正装置は、所定の試験用フォトマスクを用いてテストパターンの寸法を測定した結果に基づいてフレアの強度分布(点像強度分布)を算出する点像強度分布算出手段1と、開口率を調節したダミーフォトマスクを用いてフレア量(実効的な開口率)と寸法変動量との関係を算出するフレア量−寸法変動量算出手段22と、フレア量と寸法補正量との関係を算出するフレア量−寸法補正量算出手段3と、1つのショット領域毎に、転写パターンに対応するマスクパターンのフレア量を算出するに際して、複数のショット領域の露光レイアウトに基づいて、具体的には当該ショット領域の周辺に位置する複数のショット領域からのフレアを加味して、フレア量を算出する開口率算出手段4と、算出されたフレア量を用いて、所定寸法の転写パターンを得るためのマスクパターンの寸法を算出する寸法算出手段5とを備えて構成されている。
本実施形態によるデータ補正方法は、以下の5段階のステップからなる。
(1)フレア強度分布(点像強度分布)の計算(ステップS1)
(2)フレア量(実効的な開口率)と寸法変動量との関係を示す関数の算出(ステップS 2)
(3)フレア量と寸法補正量との関係を示す関数の算出(ステップS3)
(4)各マスクパターンのフレア量の計算(ステップS4)
(5)各マスクパターンの寸法補正量の計算(ステップS5)
(1)ステップS1
先ず、一点における光のフレア強度分布を求める。
図3はフレアの光強度分布を定量化するための試験用フォトマスクを示す模式図、図4は図3の試験用フォトマスクを使用して投影露光を行い、線幅を測定した結果を示す特性図である。図3では、(a)が試験用フォトマスク11Aを、(b)が試験用フォトマスク11Bを、(c)が試験用フォトマスク11Cをそれぞれ示す。
このように、輪帯パターン22の内径が12μm程度以下ではローカルフレアの影響は大きく、12μm程度を超えると当該影響はほぼ見られなくなることが判る。
先ず、全面が透過部とされたフォトマスクを用いて、(1)式の積分値を求める。この値を100%として規格化し、実効的な開口率として定義する。
実際のフォトマスクにおけるパターンのローカルフレア補正にあたっては、当該パターンの寸法変動にレジストパターンの寸法変動を表す、いわゆるMEEF(Mask Error Enhancement Factor)を考慮する必要がある。単位開口率当たりの補正量Mは、以下の式で求めることができる。
M=各パターンの単位開口率当たりの寸法変動量/MEEF
図9はフォトマスクの1つのショット領域における設計データを示す模式図であり、図10は複数のショット領域の露光レイアウトを示す模式図である。図9において、実線で囲まれた矩形が1つのショット領域31に相当するマスクデータであり、破線で囲まれた矩形がその中心点に関してフレアを考慮するフレア領域32である。また、図10では、被転写体であるウェーハ33に対して露光する際のショット領域の露光レイアウトを示しており、実線で囲まれた1つの矩形がそれぞれ1つのショット領域31となる。斜線を付したショット領域31が有効ショット領域である。
しかる後、寸法算出手段5により、ステップS3で求めた開口率とマスク寸法補正量との関係式に、ステップS4で計算した各パターンの実効的な開口率を入力して、各パターンのマスクパターンにおける寸法補正量を計算し、フォトマスクのマスクパターンのデータを補正する。
ここで、第1の実施形態の変形例1について説明する。この変形例では、算出対象となる当該ショット領域以外の他のショット領域のマスクパターンのデータを用いる替わりに、複数のショット領域の平均開口率を用いる点で第1の実施形態と相違する。
このデータ補正装置は、所定の試験用フォトマスクを用いてテストパターンの寸法を測定した結果に基づいてフレアの強度分布(点像強度分布)を算出する点像強度分布算出手段1と、開口率を調節したダミーフォトマスクを用いてフレア量(実効的な開口率)と寸法変動量との関係を算出するフレア量−寸法変動量算出手段22と、寸法変動量と寸法補正量との関係を算出するフレア量−寸法補正量算出手段3と、1つのショット領域毎に、転写パターンに対応するマスクパターンのフレア量を算出するに際して、ショット領域毎に転写パターンに対応するマスクパターンのフレア量に複数のショット領域の平均開口率を加味してフレア量を算出する開口率算出手段6と、開口率算出手段6により算出されたフレア量を用いて、所定寸法の転写パターンを得るためのマスクパターンの寸法を算出する寸法算出手段5とを備えて構成されている。
先ず、第1の実施形態で説明した図2のステップS1,S2,S3を実行する。
続いて、ステップS11として、開口率算出手段6により、ショット領域31内における実効的な開口率を算出するに際して、複数のショット領域の平均開口率を加味して計算する。ここで、図14に示すように、マスクパターン41の周りにダミーパターン42を配して開口率を調節してなるフォトマスク43のデータを用いて、ショット領域31内における実効的な開口率を修正する。このとき、処理速度の向上を考慮して面積密度法を用いる。
第1の実施形態の変形例2について説明する。この変形例では、算出対象となる当該ショット領域以外の他のショット領域のマスクパターンのデータを用いることに加え、算出対象となる当該チップ領域以外の他のチップ領域のマスクパターンのデータを用いる。
本実施形態では、ロングレンジのフレアに対応した露光補正について説明する。
図16は、第2の実施形態による露光補正装置の概略構成を示すブロック図である。
この露光補正装置は、所定の試験用フォトマスクを用いてテストパターンの寸法を測定した結果に基づいてフレアの強度分布(点像強度分布)を算出する点像強度分布算出手段1と、開口率を調節したダミーフォトマスクを用いてフレア量(実効的な開口率)と寸法変動量との関係を算出するフレア量−寸法変動量算出手段2と、寸法変動量と照射エネルギー(露光量)分布との関係を算出する寸法変動量−露光量算出手段7と、1つのショット領域毎に、転写パターンに対応するマスクパターンのフレア量を算出するに際して、複数のショット領域の露光レイアウトに基づいて、具体的には当該ショット領域の周辺に位置する複数のショット領域からのフレアを加味して、フレア量を算出する開口率算出手段4と、フレア量と照射エネルギー分布との関係を算出するフレア量−露光量算出手段8と、算出された照射エネルギー分布に基づいて、ショット領域内の露光光の照射エネルギー分布を調節する照射エネルギー分布調節手段9とを備えて構成されている。ここで、寸法変動量−露光量算出手段7とフレア量−露光量算出手段8とから、算出されたフレア量を用いて、所定寸法の転写パターンを得るためのショット領域内の露光光の照射エネルギー分布を算出する照射エネルギー分布算出手段が構成される。
先ず、第1の実施形態で説明した図2のステップS1,S2を実行する。
続いて、ステップS12として、寸法変動量−露光量算出手段7により寸法変動量と照射エネルギー(露光量)分布との関係を求める。照射エネルギー分布と寸法変動量との関係は、露光量を変化させて露光した転写パターンの寸法を計測することにより求めることができる。
ここで、第2の実施形態の変形例について説明する。この変形例では、算出対象となる当該ショット領域以外の他のショット領域のマスクパターンのデータを用いる替わりに、複数のショット領域の平均開口率を用いる点で第1の実施形態と相違する。
このデータ補正装置は、所定の試験用フォトマスクを用いてテストパターンの寸法を測定した結果に基づいてフレアの強度分布(点像強度分布)を算出する点像強度分布算出手段1と、開口率を調節したダミーフォトマスクを用いてフレア量(実効的な開口率)と寸法変動量との関係を算出するフレア量−寸法変動量算出手段22と、寸法変動量と照射エネルギー(露光量)分布との関係を算出する寸法変動量−露光量算出手段7と、1つのショット領域毎に、転写パターンに対応するマスクパターンのフレア量を算出するに際して、ショット領域毎に転写パターンに対応するマスクパターンのフレア量に複数のショット領域の平均開口率を加味してフレア量を算出する開口率算出手段6と、フレア量と照射エネルギ分布との関係を算出するフレア量−露光量算出手段8と、算出された照射エネルギー分布に基づいて、ショット領域内の露光光の照射エネルギー分布を調節する照射エネルギー分布調節手段9とを備えて構成されている。
先ず、第2の実施形態で説明した図17のステップS1,S2を実行する。
続いて、ステップS12を実行した後、ステップS11として、開口率算出手段6により、ショット領域31内における実効的な開口率を算出するに際して、複数のショット領域の平均開口率を加味して計算する。ここで、図14に示すように、マスクパターン41の周りにダミーパターン42を配して開口率を調節してなるフォトマスク43のデータを用いて、ショット領域31内における実効的な開口率を修正する。このとき、処理速度の向上を考慮して面積密度法を用いる。
しかる後、ステップS14として、照射エネルギー分布算出手段9により、ステップS13で求めたフレア量と照射エネルギーとの関数を用いて、ステップS11で計算した各パターンの実効的な開口率を照射エネルギー分布に変換し、補正すべき照射エネルギー分布を決定する。
本実施形態では、ロングレンジのフレアに対応した露光補正について説明する。
ロングレンジのフレアは、影響する範囲が数mmと長いため、局所的ではなく緩やかな分布を有する。図20に通常の露光装置を示す。この露光装置では、不図示の光源からの光Lをシャッタ101で絞り込み、光Lは光学レンズ102を通過してウェーハ表面のフォトレジストに感光する。このとき、光Lの一部がフレアとなってショット領域外の部位103に到達する。本実施形態では、このフレアを露光装置に搭載した照度センサで測定する。
この露光補正装置は、ショット領域に露光光を照射するときに、露光光によるショット領域の周辺に発生するフレア量を測定するフレア量測定手段である照度センサ51と、測定されたフレア量に基づいて、所定寸法の転写パターンを得るためのショット領域内の露光光の照射エネルギー分布を算出する照射エネルギー分布算出手段52と、算出された照射エネルギー分布に基づいて、ショット領域内の露光光の照射エネルギー分布を調節する照射エネルギー分布調節手段53とを備えて構成されている。
本実施形態による露光補正方法は、以下の3段階のステップからなる。
(1)ショット領域の周辺に発生するフレア量の測定(ステップS21)
(2)ショット領域内の露光光の照射エネルギー分布の算出(ステップS22)
(3)ショット領域内の露光光の照射エネルギー分布の調節(ステップS23)
(1)ステップS21
照度センサ51によりショット領域の周辺に発生するフレア量を測定する。
図23はショット領域外に照射するフレアを測定する様子を示しており、(a)がフレアの測定箇所であるショット領域を示す模式図、(b)が測定結果を示す特性図である。
図23(b)では、横軸をショット領域の周縁部からの距離、縦軸をフレア量(%)とする。このとき、ショット領域内の光が完全に透過する部分のエネルギー照射量を1で規格化し、ショット領域外のエネルギー照射量をフレア量として定義した。図23(b)では1次元の測定結果を示すが、ショット領域外の全域に亘って同様の測定を行うことにより、露光領域外の全域に亘ってフレアを測定することができる。
例えば、図10に示す複数のショット領域の露光レイアウトを用いて、照射エネルギー分布算出手段52により隣接するショット領域からのフレアを足し合わせ、当該ショット領域領域内の実効的なエネルギー分布を求めることができる。
照射エネルギー分布調節手段53により、算出された実効的なエネルギー分布が均一になるように、露光量分布を調整する。
上述した実施形態によるデータ補正装置及び露光補正装置を構成する各手段等、並びにデータ補正方法及び露光補正方法の各ステップ(図2のステップS1〜S5、図13のステップS1〜S3,S11,S5、図17のステップS1,S2,S12,S4,S13,S14、図19のステップS1,S2,S12,S11,S13,S14、図22のステップS21〜S23等)は、コンピュータのRAMやROMなどに記憶されたプログラムが動作することによって実現できる。このプログラム及び当該プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体は本発明に含まれる。
1つの対象領域毎に、前記転写パターンに対応する前記マスクパターンの開口率を算出するに際して、複数の前記対象領域のレイアウトに基づいて前記開口率を算出する開口率算出手段と、
算出された前記開口率を用いて、所定寸法の転写パターンを得るための前記マスクパターンの寸法を算出する寸法算出手段と
を含むことを特徴とするマスクパターンの補正装置。
1つの対象領域毎に、前記転写パターンに対応する前記マスクパターンの開口率を算出するに際して、複数の前記対象領域のレイアウトに基づいて前記開口率を算出する開口率算出手段と、
算出された前記開口率を用いて、所定寸法の転写パターンを得るための前記対象領域内の露光光の照射エネルギー分布を算出する照射エネルギー分布算出手段と、
算出された前記照射エネルギー分布に基づいて、前記対象領域内の露光光の照射エネルギー分布を調節する照射エネルギー分布調節手段と
を含むことを特徴とする露光補正装置。
1回の露光に対応する単位露光領域に露光光を照射するときに、前記露光光による前記単位露光領域の周辺に発生するフレア量を測定するフレア量測定手段と、
測定された前記フレア量に基づいて、所定寸法の転写パターンを得るための前記単位露光領域内の露光光の照射エネルギー分布を算出する照射エネルギー分布算出手段と、
算出された前記照射エネルギー分布に基づいて、前記単位露光領域内の露光光の照射エネルギー分布を調節する照射エネルギー分布調節手段と
を含むことを特徴とする露光補正装置。
1つの対象領域毎に、前記転写パターンに対応する前記マスクパターンの開口率を算出するに際して、複数の前記対象領域のレイアウトに基づいて前記開口率を算出するステップと、
算出された前記開口率を用いて、所定寸法の転写パターンを得るための前記マスクパターンの寸法を算出するステップと
を含むことを特徴とするマスクパターンの補正方法。
複数の前記対象領域の平均開口率を算出し、前記平均開口率を用いて算出対象となる前記対象領域内の設計開口率を補正し、前記対象領域の実効的な前記開口率を算出することを特徴とする付記16又は17に記載のマスクパターンの補正方法。
1つの対象領域毎に、前記転写パターンに対応する前記マスクパターンの開口率を算出するに際して、複数の前記対象領域のレイアウトに基づいて前記開口率を算出するステップと、
算出された前記開口率を用いて、所定寸法の転写パターンを得るための前記対象領域内の露光光の照射エネルギー分布を算出するステップと、
算出された前記照射エネルギー分布に基づいて、前記対象領域内の露光光の照射エネルギー分布を調節するステップと
を含むことを特徴とする露光補正方法。
1回の露光に対応する単位露光領域に露光光を照射するときに、前記露光光による前記単位露光領域の周辺に発生するフレア量を測定するステップと、
測定された前記フレア量に基づいて、所定寸法の転写パターンを得るための前記単位露光領域内の露光光の照射エネルギー分布を算出するステップと、
算出された前記照射エネルギー分布に基づいて、前記単位露光領域内の露光光の照射エネルギー分布を調節するステップと
を含むことを特徴とする露光補正方法。
2 フレア量−寸法変動量算出手段
3 フレア量−寸法補正量算出手段
4,6 開口率算出手段
5 寸法算出手段
7 寸法変動量−露光量算出手段
8 フレア量−露光量算出手段
9,53 照射エネルギー分布調節手段
11A,11B,11C,25 試験用フォトマスク
21 ラインパターン
22 輪帯パターン
23 測定パターン
24 ダミーパターン
31 ショット領域
32 フレア領域
33 ウェーハ
41 マスクパターン
42 ダミーパターン
43 フォトマスク
51 照度センサ
52 照射エネルギー分布算出手段
101 シャッタ
102 光学レンズ
103 ショット領域外の部位
111 チップ領域
Claims (5)
- フォトマスクのマスクパターンを複数回露光して被転写体上に露光転写する際のマスクパターンの補正装置であって、
1回の露光で露光転写するマスクパターンの領域であるショット領域毎及び前記ショット領域を構成する複数のチップ領域について前記各チップ領域毎に、前記被転写体上に露光転写される転写パターンに対応する前記マスクパターンの開口率を算出するに際して、
所定の前記ショット領域に隣接する前記ショット領域の影響を、複数の前記ショット領域の露光レイアウトに基づいて加味するとともに、所定の前記チップ領域に隣接する前記チップ領域の影響を加味して、前記開口率を算出する開口率算出装置と、
算出された前記開口率を用いて、所定寸法の前記転写パターンを得るための前記マスクパターンの寸法を算出する寸法算出装置と
を含み、
前記開口率算出装置は、複数の前記ショット領域及び前記チップ領域の平均開口率を算出し、前記平均開口率を用いて算出対象となる前記ショット領域及び前記チップ領域内の設計開口率を補正し、前記ショット領域及び前記チップ領域の実効的な前記開口率を算出するものであることを特徴とするマスクパターンの補正装置。 - フォトマスクのマスクパターンを複数回露光して被転写体上に露光転写する際の露光補正装置であって、
1回の露光で露光転写するマスクパターンの領域であるショット領域毎及び前記ショット領域を構成する複数のチップ領域について前記各チップ領域毎に、前記被転写体上に露光転写される転写パターンに対応する前記マスクパターンの開口率を算出するに際して、
所定の前記ショット領域に隣接する前記ショット領域の影響を、複数の前記ショット領域の露光レイアウトに基づいて加味するとともに、所定の前記チップ領域に隣接する前記チップ領域の影響を加味して、前記開口率を算出する開口率算出装置と、
算出された前記開口率を用いて、所定寸法の前記転写パターンを得るための前記ショット領域及び前記チップ領域内の露光光の照射エネルギー分布を算出する照射エネルギー分布算出装置と、
算出された前記照射エネルギー分布に基づいて、前記ショット領域及び前記チップ領域内の露光光の照射エネルギー分布を調節する照射エネルギー分布調節装置と
を含み、
前記開口率算出装置は、複数の前記ショット領域及び前記チップ領域の平均開口率を算出し、前記平均開口率を用いて算出対象となる前記ショット領域及び前記チップ領域内の設計開口率を補正し、前記ショット領域及び前記チップ領域の実効的な前記開口率を算出するものであることを特徴とする露光補正装置。 - フォトマスクのマスクパターンを複数回露光して被転写体上に露光転写する際のマスクパターンの補正方法であって、
1回の露光で露光転写するマスクパターンの領域であるショット領域毎及び前記ショット領域を構成する複数のチップ領域について前記各チップ領域毎に、前記被転写体上に露光転写される転写パターンに対応する前記マスクパターンの開口率を算出するに際して、
所定の前記ショット領域に隣接する前記ショット領域の影響を、複数の前記ショット領域の露光レイアウトに基づいて加味するとともに、所定の前記チップ領域に隣接する前記チップ領域の影響を加味して、前記開口率を算出するステップと、
算出された前記開口率を用いて、所定寸法の前記転写パターンを得るための前記マスクパターンの寸法を算出するステップと
を含み、
前記開口率を算出するステップは、
複数の前記ショット領域及び前記チップ領域の平均開口率を算出し、前記平均開口率を用いて算出対象となる前記ショット領域及び前記チップ領域内の設計開口率を補正し、前記ショット領域及び前記チップ領域の実効的な前記開口率を算出することを特徴とするマスクパターンの補正方法。 - 前記開口率を算出するステップでは、算出対象となる前記ショット領域及び前記チップ領域内における一定領域毎に前記開口率を算出することを特徴とする請求項3に記載のマスクパターンの補正方法。
- フォトマスクのマスクパターンを複数回露光して被転写体上に露光転写する際の露光補正方法であって、
1回の露光で露光転写するマスクパターンの領域であるショット領域毎及び前記ショット領域を構成する複数のチップ領域について前記各チップ領域毎に、前記被転写体上に露光転写される転写パターンに対応する前記マスクパターンの開口率を算出するに際して、
所定の前記ショット領域に隣接する前記ショット領域の影響を、複数の前記ショット領域の露光レイアウトに基づいて加味するとともに、所定の前記チップ領域に隣接する前記チップ領域の影響を加味して、前記開口率を算出するステップと、
算出された前記開口率を用いて、所定寸法の前記転写パターンを得るための前記ショット領域及び前記チップ領域内の露光光の照射エネルギー分布を算出するステップと、
算出された前記照射エネルギー分布に基づいて、前記ショット領域及び前記チップ領域内の露光光の照射エネルギー分布を調節するステップと
を含み、
前記開口率を算出するステップは、
複数の前記ショット領域及び前記チップ領域の平均開口率を算出し、前記平均開口率を用いて算出対象となる前記ショット領域及び前記チップ領域内の設計開口率を補正し、前記ショット領域及び前記チップ領域の実効的な前記開口率を算出することを特徴とする露光補正方法。
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