JP4322621B2 - 4’−シアノ−3−[(4−フルオロフェニル)スルホニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリドの製造方法 - Google Patents

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Description

本発明は、4’−シアノ−3−[(4−フルオロフェニル)スルホニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリドの製造方法に関する。
4’−シアノ−3−[(4−フルオロフェニル)スルホニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリドは、制癌剤として有用な医薬品である。
概して医薬品は人体に投与されることが多く、一般に、その中に含まれる不純物の量は厳しく管理されている。例えば、投与される医薬品中に不純物が0.10%以上含まれる場合、通常、その不純物の構造を調べ、0.15%以上の場合はその毒性を調べ、安全上問題がないことを検討および確認する必要がある。
下記のスキーム1に示すように、4’−シアノ−3−[(4−フルオロフェニル)スルホニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリド[以下、化合物(I)と略記する]の製造方法としては、4’−シアノ−3−(4−フルオロフェニルチオ)−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリド[以下、化合物(II)と略記する]の酸化が一般的である(例えば、特許文献1、2、3および4ならびに非特許文献1参照。)。しかし、酸化の間に4’−シアノ−3−[(4−フルオロフェニル)スルホニル]−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリド[以下、デオキシスルホニル体と略記する]が不純物として副生することが明らかとなった。また、酸化反応後、化合物(I)からデオキシスルホニル体を分離・除去することが困難であることも明らかとなった。さらに、本発明者らは、不純物であるデオキシスルホニル体の混入が、化合物(II)の製造の間に副生する4’−シアノ−3−(4−フルオロフェニルチオ)−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリド[以下、デオキシスルフィド体と略記する]に起因することを見出した。
国際公開第01/00608号パンフレット 国際公開第01/28990号パンフレット 国際公開第02/24638号パンフレット 国際公開第03/053920号パンフレット Howard Tucker et al, J. Med. Chem., Vol. 31, 954−959 (1988)
本発明の目的は、化合物(II)の精製(すなわち、デオキシスルフィド体の除去)工程を含む、化合物(I)の製造方法の提供である。
本発明者らは、上記問題点に鑑み、鋭意検討した結果、化合物(II)にデオキシスルフィド体が、化合物(II)に対して0.061%(LC面百値)を超過して含まれる場合には、晶析によって化合物(II)を精製し、得られた結晶を酸化反応に付すことにより、化合物(I)中のデオキシスルホニル体の含量を化合物(I)に対して0.10%(LC面百値)未満にすることができることを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本願発明は、以下に示す通りである。
[1] 4’−シアノ−3−(4−フルオロフェニルチオ)−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリドの精製工程を含む、4’−シアノ−3−[(4−フルオロフェニル)スルホニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリドの製造方法。
[2] 晶析による精製工程を特徴とする[1]記載の製造方法。
[3] 晶析溶媒としてトルエンを用いることを特徴とする[2]記載の製造方法。
[4] 種結晶を添加することを特徴とする[2]記載の製造方法。
[5] 熟成工程および冷却工程を含む晶析を特徴とする[2]記載の製造方法。
[6] 55℃付近での熟成を特徴とする[5]記載の製造方法。
[7] 熟成時間が1〜2時間である[5]記載の製造方法。
[8] 50℃付近から10℃付近への冷却を特徴とする[5]記載の製造方法。
[9] 10℃/時間の速度での冷却を特徴とする[5]記載の製造方法。
[10] 晶析による4’−シアノ−3−(4−フルオロフェニルチオ)−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリドの精製方法。
[11] 晶析溶媒としてトルエンを用いることを特徴とする[10]記載の精製方法。
[12] 種結晶を添加することを特徴とする[10]記載の精製方法。
[13] 熟成工程および冷却工程を含む晶析を特徴とする[10]記載の精製方法。
[14] 55℃付近での熟成を特徴とする[13]記載の精製方法。
[15] 熟成時間が1〜2時間である[13]記載の精製方法。
[16] 50℃付近から10℃付近への冷却を特徴とする[13]記載の精製方法。
[17] 10℃/時間の速度での冷却を特徴とする[13]記載の精製方法。
本願発明を以下のスキーム1を参照しながら詳細に説明する。
Figure 0004322621
化合物(III)、(IV)および(V)は、市販品を使用してもよいし、当該分野で公知の方法(例えば、国際公開第03/053920号パンフレット等)またはそれに準じた方法に従って合成してもよい。
上記スキーム1の各酸化工程では、当該分野で公知の方法(例えば、国際公開第03/053920号パンフレット等)またはそれに準じた方法を利用することができる。
化合物(II)の合成の際、未反応の化合物(V)と、化合物(III)とが反応することによってデオキシスルフィド体が副生することがわかった。これは本願発明者らが初めて明らかにしたことである。
また、化合物(II)からデオキシスルホニル体が誘導され得ることもわかった。
従って、化合物(V)から化合物(II)を合成し、得られた化合物(II)にデオキシスルフィド体が含まれていない場合であっても、酸化後、化合物(I)中にデオキシスルホニル体が不純物として含まれることもある。
さらに、デオキシスルホニル体の性質が化合物(I)の性質と酷似しているため、従来の方法で化合物(I)を単離し、デオキシスルホニル体を除去することは困難である。従って、本願発明では、化合物(II)の合成後に化合物(II)を精製(すなわち、デオキシスルフィド体を除去)する。
化合物(II)の精製は、晶析によって行うことが望ましい。
晶析に用いる溶媒(以下、晶析溶媒)としては、トルエン、クロロベンゼン等が挙げられ、なかでも経済性の観点から、トルエンが好ましい。
晶析溶媒の使用量は、化合物(II)1gに対して、4ml〜7ml、好ましくは5ml〜6mlである。
化合物(II)を上記晶析溶媒に加熱溶解する。加熱溶解温度は、65℃〜80℃、好ましくは65℃〜75℃である。
望ましくは、晶析工程において種結晶(すなわち、化合物(II)の結晶)を添加する。
種結晶を添加すると、急激な晶析による結晶の器壁への付着および不均一な結晶形態を防止することが可能となり、その後の濾過、洗浄および乾燥が容易となる。
種結晶の添加量は、化合物(II)に対して、0.010重量%〜0.020重量%、好ましくは0.010重量%〜0.015重量%である。
種結晶の添加量が上記範囲内であると、確実に結晶が生成し、安定した品質で確実に化合物(II)が得られるなどの利点がある。
種結晶を添加するときの溶液の温度は、50℃〜60℃、好ましくは53℃〜57℃である。
種結晶の添加後、品質を安定させるという観点から、必要に応じて、熟成および冷却を行う。
本願発明において熟成とは、以下に規定する温度範囲で化合物(II)を含む溶液を攪拌し、結晶の成長を促すことを意味する。
熟成工程では、55℃付近、すなわち55±5℃、好ましくは55±2℃で熟成を行う。
熟成工程において55℃付近の温度で熟成を行うと、品質が安定するなどの利点がある。
熟成時間は、1時間〜3時間、好ましくは1時間〜2時間、より好ましくは1時間である。
熟成時間が上記範囲内であると、結晶が均一に晶析し、濾過、洗浄および乾燥が容易になる。
冷却工程において、溶液を50℃付近、すなわち50±5℃、好ましくは50±2℃から、10℃付近、すなわち10±5℃、好ましくは10±2℃へと冷却する。
冷却工程において、冷却速度は、10℃/時間〜15℃/時間、好ましくは10℃/時間〜12℃/時間、より好ましくは10℃/時間である。
冷却速度が上記範囲内であると、安定した収率で化合物(II)が得られるなどの利点がある。
収率向上の観点から、上記冷却後の温度で溶液を1時間〜3時間、好ましくは1時間〜2時間攪拌することが望ましい。
また、得られた結晶の濾過の際、5℃〜12℃、好ましくは8℃〜12℃の上記晶析溶媒と同一の溶媒(好ましくは、トルエン)で結晶を洗浄することが望ましい。
洗浄の際に使用する溶媒の量は、化合物(II)1gに対して、1.5ml〜3.5ml、好ましくは2.0ml〜3.0mlである。
上記精製工程で得られた化合物(II)を当該分野で公知の方法(例えば、国際公開第03/053920号パンフレットに記載の方法等)またはそれに準じた方法に従って酸化し、化合物(I)を得る。化合物(I)は公知の方法(例えば、国際公開第03/053920号パンフレットに記載の方法等)またはそれに準じた方法によって精製してもよい。
上記化合物(II)の精製工程は、デオキシスルフィド体が化合物(II)に対して0.061%(LC面百値)を超過して含まれる場合に有効である。
化合物(II)に含まれるデオキシスルフィド体の量が化合物(II)に対して0.061%(LC面百値)以下であると、後の酸化によって生成する化合物(I)の収率が著しく向上し、なおかつ不純物であるデオキシスルホニル体が化合物(I)に対して0.10%(LC面百値)未満となる。このような効果は本願発明者らが初めて明らかとしたものであり、デオキシスルホニル体の含有量が0.10%(LC面百値)未満である化合物(I)は医薬品として適切である。
本願明細書中、LC面百値(%)とは、LC(液体クロマトグラフィー、好ましくはHPLC(高速液体クロマトグラフィー))分析から得られるクロマトグラムにおいて、化合物(II)に対するデオキシスルフィド体、または化合物(I)に対するデオキシスルホニル体のピーク面積値をそれぞれ百分率で表したものを意味する。
LC条件:スミパックODS、A−212:アセトニトリル/0.1% 酢酸水溶液
本発明によると、化合物(II)の精製工程を含む、化合物(I)の製造方法を提供することが可能となり、制癌剤として有用な医薬品である化合物(I)を不純物0.10%未満で提供することができる。
[実施例1]
デオキシスルフィド体(0.19%(LC面百値))を含む4’−シアノ−3−(4−フルオロフェニルチオ)−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリド 湿結晶(83.8g;乾燥重量75.4g)をトルエン(377.1ml)に加えて加熱溶解した。55℃まで冷却し、4’−シアノ−3−(4−フルオロフェニルチオ)−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリドの種結晶(10mg)を加え、50℃まで1時間かけて冷却した。その後、10℃/時間の速度で10℃まで4時間かけて冷却した。10℃で2時間攪拌し、濾過、10℃に冷却したトルエン(226ml)で洗浄した。47℃〜48℃、2.4〜2.7kPaで乾燥し、精製4’−シアノ−3−(4−フルオロフェニルチオ)−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリドを得た。デオキシスルフィド体は(0.052%(LC面百値))であった。HPLC条件(スミパックODS、A−212:アセトニトリル/0.1% 酢酸水溶液)。
[実施例2]
上記実施例1と同様にして得た4’−シアノ−3−(4−フルオロフェニルチオ)−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリド(10.0g、25.1mmol)(デオキシスルフィド体0.061%(LC面百値))、無水フタル酸(18.64g、125.6mol)、酢酸エチル(30ml)を仕込み、50℃に加熱した。過酸化水素(5.4g、55.6mol)を8時間で滴下し、2時間熟成した。酢酸エチル(90ml)を加え、5℃に冷却した。NaSO(0.71g)を脱イオン水(6.1ml)に溶解し、滴下した。過酸が存在しないことを確認後、15℃に昇温し、20% KCO水溶液を滴下し、pH=7.07とした。NaCl(6.0g)、脱イオン水(60ml)、KCO(0.17g)から調製した液で洗浄後(pH=7.58)、酸洗浄[35% HCl(1.5g)、脱イオン水(50ml)]した(pH=0.60)。有機層に酢酸エチル(60ml×2)を加え、減圧濃縮し、水分測定した結果、0.77%であった。活性炭(0.51g)、酢酸エチル(4.2ml)を加え、70℃に昇温し、濾過した。種結晶(10mg)を添加し、50℃で1時間撹拌した。有機層を減圧濃縮した後に、n−ヘプタン(40ml)を滴下した。7℃まで冷却後、2時間静置、濾過して4’−シアノ−3−[(4−フルオロフェニル)スルホニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリド(9.69g、89.7%)を得た。デオキシスルホニル体は0.094%(LC面百値)であった。HPLC条件(スミパックODS、A−212:アセトニトリル/0.1% 酢酸水溶液)。
デオキシスルフィド体を各種の割合(LC面百値(%))で含む4’−シアノ−3−(4−フルオロフェニルチオ)−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリドから上記実施例と同様にして得られた結果を以下の表に示す。
Figure 0004322621
[参考例]
化合物(I)からデオキシスルホニル体の除去が困難である例を以下に示す。
4’−シアノ−3−[(4−フルオロフェニル)スルホニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリド(4.80g)(デオキシスルホニル体 0.118%(LC面百値))を酢酸エチル(78ml)に加え、75℃に加熱し、溶解した。活性炭(白鷺 A1)(0.23g)、酢酸エチル(2ml)を加え、30分間、70〜75℃で撹拌、濾過した。50℃まで徐冷後、種結晶(10mg)を添加し、50℃で1時間撹拌した。有機層を減圧濃縮で約30g留去し、n−ヘプタン(20ml)を滴下した。7℃まで冷却後、2時間攪拌し、濾過して4’−シアノ−3−[(4−フルオロフェニル)スルホニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリド(4.08g、収率85%、デオキシスルホニル体 0.102%(LC面百値))を得た。
本発明によれば、化合物(II)の精製工程を含む、化合物(I)の製造方法を提供し、制癌剤として有用な医薬品である化合物(I)を不純物0.10%未満で提供することができる。

Claims (7)

  1. 4’−シアノ−3−(4−フルオロフェニルチオ)−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリドを、晶析によりデオキシスルフィド体の含有量が0.061%(LC面百値)以下になるまで精製し、これを酸化することを特徴とする、デオキシスルホニル体の含有量が0.10%(LC面百値)未満である、4’−シアノ−3−[(4−フルオロフェニル)スルホニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリドの製造方法。
  2. 晶析溶媒としてトルエンを用い、種結晶を添加して、55±5℃で1〜2時間熟成して晶析を行うことを特徴とする請求項記載の製造方法。
  3. 熟成後、10±5まで冷却することを特徴とする請求項記載の製造方法。
  4. 4’−シアノ−3−(4−フルオロフェニルチオ)−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリドを、晶析溶媒としてトルエンを用い、種結晶を添加して、55±5℃で1〜2時間熟成し、50±5℃から10±5℃へ10℃/時間の速度で冷却して晶析させ、デオキシスルフィド体の含有量が0.061%(LC面百値)以下になるまで精製し、これを酸化することを特徴とする、デオキシスルホニル体の含有量が0.10%(LC面百値)未満である、請求項1記載の製造方法。
  5. 晶析溶媒としてトルエンを用い、種結晶を添加して、55±5℃で1〜2時間熟成して晶析を行うことによりデオキシスルフィド体の含有量が0.061%(LC面百値)以下になるまで精製することを特徴とする4’−シアノ−3−(4−フルオロフェニルチオ)−2−ヒドロキシ−2−メチル−3’−トリフルオロメチルプロピオンアニリドの精製方法。
  6. 熟成後、10±5まで冷却することを特徴とする請求項記載の精製方法。
  7. 晶析溶媒としてトルエンを用い、種結晶を添加して、55±5℃で1〜2時間熟成し、50±5℃から10±5℃へ10℃/時間の速度で冷却して晶析させることを特徴とする、請求項5記載の精製方法。
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