JP4302817B2 - 真空処理システム - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，真空処理システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＬＣＤガラス基板等の被処理体処理システムには，被処理体の搬送系をライン状に配設し，かかる搬送系に対し塗布・現像処理装置やエッチング装置といった複数の処理装置を並設するものがある。かかる被処理体処理システムにおける搬送系の一形態として，被処理体が複数枚収容されたカセットと処理装置との間を渡り歩くＡＧＶ（ａｕｔｏｍａｔｉｃ ｇｕｉｄｅｄ ｖｅｈｉｃｌｅ：無人搬送車）が用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
ところで，ＡＧＶによる被処理体の搬送には，複数の被処理体の処理の困難さや発塵性といった問題点が生じる。このため，その解決手段として，コンベアなどの被処理体搬送手段と，コンベアと処理装置との間で被処理体の授受を行う大気ロボットとを配設する搬送系が用いられている。しかしながら，かかる搬送系では，コンベアの他に大気ロボットを配設する必要があるため，設備コスト面やフットプリントの面で好ましくないという別の問題が生じていた。
【０００４】
本発明は，従来の真空処理装置が有する上記問題点及びその他の問題点に鑑みてなされたものであり，本発明の目的は，被処理体を搬送する搬送系の設備コストの削減及びフットプリントの縮小化を図ることの可能な，新規かつ改良された真空処理システムを提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため，被処理体に所定の処理を施す少なくとも一の真空処理室と，前記真空処理室にゲートバルブを介して接続され，前記真空処理室に前記被処理体を搬入／搬出する搬送アームを有する搬送室と，前記搬送室にゲートバルブを介して接続される真空予備室と，複数の被処理体を順次搬送する搬送系とを備えた真空処理システムにおいて，前記搬送系は，所定位置において，前記被処理体を上下方向および／または水平方向に移動させて，前記真空予備室に搬入／搬出する移動機構を備えていることを特徴とする真空処理システムが提供される。
【０００６】
かかる真空処理システムによれば，搬送系に被処理体の移動機構を備えたので，搬送系と被処理体処理装置との間に被処理体授受手段，例えば大気ロボットを配設せずとも，被処理体の搬送系と処理装置との間の被処理体の授受を行うことが可能である。またこの移動手段は，後述するように，構造的に大気ロボットよりも安価に製造することができるため，設備コストの削減に優れた効果を奏する。
【０００７】
上記移動機構の構成の一例としては，搬送系の搬送経路中に設けられるようにしてもよい。かかる構成によれば，移動手段を配設するための空間を必要としないため，フットプリントの縮小化に優れた効果を奏する。
【０００８】
上記移動機構の構成の他の一例としては，搬送系の搬送経路に対して待避位置に設けられているようにしてもよい。かかる構成によれば，被処理体の処理を搬送経路に対して待避した位置で行うことができるので，一の被処理体の処理中であっても，搬送経路における他の被処理体の搬送を妨げることがないという効果を奏する。
【０００９】
さらに移動機構は，真空予備室を真空排気するときに，真空予備室の一部分を構成するようにしてもよい。かかる真空処理システムによれば，システム構成を簡略化することができ，処理時間の短縮化にも優れた効果を奏する。
【００１０】
また被処理体は，載置台に載置された状態で搬送されるとともに，載置台に載置された状態で真空予備室に搬入／搬出されるようにしてもよい。かかる構成によれば，被処理体の搬送及び真空予備室への搬入／搬出を安定した状態で行うことが可能である。さらにこの場合，真空予備室を真空排気するときに載置台が真空予備室の一部を構成するようにすると，システム構成の簡略化や処理時間の短縮にも優れた効果を奏するので好ましい。
【００１１】
さらに移動機構は，載置台を貫通して被処理体を支持する支持ピンを有するようにしてもよい。かかる構成によれば，載置台に載置された被処理体を容易に載置台から取り外すことができ，処理時間の短縮に優れた効果を奏する。
【００１２】
また，載置台は，載置している被処理体に関する情報を識別する情報タグを備えるようにしてもよい。かかる真空処理システムによれば，搬送系の制御を情報タグを用いて容易に行うことができ，処理の効率化を図ることが可能である。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下に添付図面を参照しながら，本発明にかかる真空処理システムの好適な実施の形態について詳細に説明する。なお，本明細書及び図面において，実質的に同一の機能構成を有する構成要素については，同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００１４】
（第１の実施の形態）
本実施の形態にかかる真空処理システム１００の全体構成を，図１を参照しながら説明する。真空処理システム１００は，被処理体の一例としてＬＣＤガラス基板の処理を行うシステムであり，図１に示したように，真空処理装置１１０と，ＬＣＤガラス基板を順次搬送する搬送系１２０とを含んで構成されている。
【００１５】
真空処理装置１１０は，図１に示したように，ＬＣＤガラス基板に所定の処理を施す２つの真空処理室１１２ａ，１１２ｂと，真空処理室１１２ａ，１１２ｂにゲートバルブＧＢを介して接続され，真空処理室１１２ａ，１１２ｂにＬＣＤガラス基板１３０を搬入／搬出する搬送アーム１１４を有する搬送室１１６と，搬送室１１６にゲートバルブＧＢを介して接続される真空予備室１１８とにより主に構成されている。なお，真空処理室の数は２つに限定されるものではなく，処理の種類やシステム規模等に応じて適宜設計することが可能である。また，真空処理装置１１０を支持する支柱には，基板ＩＤ読み込みユニット１１９が備えられているが，これについては後述する。
【００１６】
複数のＬＣＤガラス基板を順次搬送する搬送系１２０は，水平方向にＬＣＤガラス基板１３０を搬送可能な搬送手段の一例たるレール１２２と，レール１２２により搬送されたＬＣＤガラス基板１３０を所定位置において上下方向に移動させる移動手段の一例たる昇降機構１２４とにより主に構成されている。ＬＣＤガラス基板１３０は，レール１２２上を移動するための車輪１２７が設けられたトレイ（載置台）１２６に載置された状態で搬送される。
【００１７】
上述のように，ＬＣＤガラス基板１３０は，レール１２２上を移動するための車輪１２７が設けられたトレイ１２６に載置された状態で搬送される。トレイ１２６は，後述するように，真空予備室１１８を真空排気するときに，昇降機構１２４により挟み込まれることで，真空予備室１１８の一部を構成する。このように，トレイ１２６は，真空予備室１１８と昇降機構１２４とに挟み込まれた状態で真空状態を構成しうるよう所定の大きさ・形状からなる。
【００１８】
トレイ１２６には，載置されたＬＣＤガラス基板１３０を上方に押圧してＬＣＤガラス基板１３０の取り外しを容易にするためのリフタピンＰが貫通される貫通孔１３５が形成されている。ＬＣＤガラス基板１３０のトレイ１２６への載置は，ＬＣＤガラス基板１３０の搬送を安定した状態で行えれば，どのような方法により行ってもよい。例えば，トレイ１２６の表面に，ＬＣＤガラス基板１３０と実質的に同様の形状であって，トレイ１２６の上面より一段低く形成される収納面が設けられ，ＬＣＤガラス基板１３０をこの収納面にはめ込む形で載置するようにしてもよい。
【００１９】
また，トレイ１２６は，載置しているＬＣＤガラス基板１３０に関する情報を識別する情報タグを備えている。情報タグには種々考えられるが，例えば，各ＬＣＤガラス基板ごとに定められる基板ＩＤを付与することができる。そして，真空処理装置１１０を支持する支柱には，かかる基板ＩＤを読み込むための基板ＩＤ読み込みユニット１１９が備えられている。基板ＩＤ読み込みユニット１１９は，レール１２２上を搬送されてくるＬＣＤガラス基板１３０が載置されたトレイ１２２を，真空予備室１１８の直下に到達するまでに認識できるように機能する。
【００２０】
（昇降機構１２４）
真空予備室１１９の直下において，レール１２２の下段に配設される昇降機構１２４は，搬送されたＬＣＤガラス基板１３０を昇降移動させるように構成されている。昇降機構１２４の上部には，処理中に真空予備室１１８の一部分を形成する下蓋１２４ａが設けられている。下蓋１２４ａの上面には，トレイ１２６を貫通して載置されたＬＣＤガラス基板１３０を上方に押圧してＬＣＤガラス基板１３０の取り外しを容易にするためのリフタピンＰと，真空予備室１１８の一部を構成する際に気密性を向上させるためのシール部材（Ｏリング）Ｏとが設けられている。
【００２１】
通常，被処理体搬送系にレールやコンベアを用いた真空処理システムにおいては，被処理体搬送系と真空処理装置との間で被処理体の授受を行うための手段，例えば大気ロボットが必要であるが，本実施の形態にかかる真空処理システム１００は，かかる大気ロボットを必要としない点で従来のシステムと異なる。大気ロボットの代わりに配設される昇降機構１２４は，例えばシリンダにより構成することができ，構造的に大気ロボットよりも安価に製造することができるため，設備コストの削減に優れた効果を奏する。
【００２２】
次いで，上記構成からなる真空処理システム１００の動作を図１，図２を参照しながら説明する。基板ＩＤ読み込みユニット１１９は，レール１２２上を搬送されてくるＬＣＤガラス基板１３０が収納されたトレイ１２６に付与されている基板ＩＤの読み込み動作を行っている。そして，基板ＩＤ読み込みユニット１１９は，処理要求のなされたＬＣＤガラス基板１３０の基板ＩＤを認識すると，図示しない制御部に対しそのＬＣＤガラス基板１３０の存在を伝達する。
【００２３】
基板ＩＤ読み込みユニット１１９により，処理を行うＬＣＤガラス基板１３０の存在が認識されると，以下の工程に従い，昇降機構１２４によるＬＣＤガラス基板１３０の真空処理装置１１０への搬入動作が開始される。以下に，昇降機構１２４によるＬＣＤガラス基板１３０の真空処理装置１１０への搬入／搬出動作について，図２を参照しながら説明する。
【００２４】
（１）処理を行うＬＣＤガラス基板１３０が真空処理装置１１０の昇降機構１２４の直上まで搬送されると，図示しない制御部の制御により，トレイ１２６の車輪１２７が駆動を停止し，トレイ１２６は，真空処理室１１８の直下でかつ昇降機構１２４の直上で停止する。
（２）次いで，処理を行うＬＣＤガラス基板１３０が載置されたトレイ１２６は，昇降機構１２４により上方へ押圧される。これにより，トレイ１２６はＬＣＤガラス基板１３０を載置したまま真空予備室１１８の方向へと上昇する。
（３）さらにトレイ１３０は上昇を続け，昇降機構１２４上部の下蓋１２４ａと真空予備室１１８との間にトレイ１２６を挟み込む形で，気密に一体化する。
（４）ＬＣＤガラス基板１３０が真空予備室１１８に搬入されると，真空予備室１１８内が排気され真空状態となる。
（５）ＬＣＤガラス基板１３０は，リフタピンＰにより上方へと押圧される。上方へ押圧されたＬＣＤガラス基板１３０とトレイ１２６の上面との間に搬送アーム１１４の載置部１１４ａが挿入されることで，ＬＣＤガラス基板１３０はトレイ１２６から取り外される。
（６）次いで，ＬＣＤガラス基板１３０は，搬送アーム１１４により，真空予備室１１８から搬送室１１６へと搬送される。
（７）真空予備室１１８と搬送室１１６とを接続しているゲートバルブＧＶが閉じられると，ＬＣＤガラス基板１３０は，真空系の真空処理室１１２ａ，１１２ｂの中で所定の真空処理が施される。
（８）所定の処理を終えたＬＣＤガラス基板１３０は，搬送アーム１１４により真空予備室１１８内に留置されていたトレイ１２６に載置される。次いで，真空予備室１１８は大気圧に開放される。この際，昇降機構１２４はトレイ１２６を上方へ支持しており，下蓋１２４ａの真空予備室１１８からの落下を防止している。
（９）次いで，昇降機構１２４は，処理済みのＬＣＤガラス基板１３０が載置されたトレイ１２６を下方へ下降させる。これにより，トレイ１２６はレール１２２上に載置される。そして，図示しない制御部の制御によりトレイ１２６の車輪１２７が駆動を再開し，レール１２２上を搬送される。
【００２５】
以上説明したように，本実施の形態によれば，昇降機構１２４によりＬＣＤガラス基板１３０を真空処理装置１１０の真空予備室１１８に搬入／搬出するよう構成したので，大気ロボットを配設せずとも，真空処理装置１１０と搬送系１２０との間のＬＣＤガラス基板１３０の授受を行うことが可能である。またこの昇降機構１２４は，構造的に大気ロボットよりも安価に製造することができ，またレール１２２の下段に配設することができるため，設備コストの削減及びフットプリントの縮小化に優れた効果を奏する。
【００２６】
さらに，昇降機構１２４がＬＣＤガラス基板１３０を真空予備室１１８に搬入したとき，真空予備室１１８と一体となって真空予備室１１８の底面を構成するようにしたので，システム構成を簡略化することができ，処理時間の短縮にも優れた効果を奏する。
【００２７】
さらにまた，ＬＣＤガラス基板１３０は，その種別を認識するための基板ＩＤが付与されたトレイ１２６に載置された状態でレール１２２上を搬送されるようにし，真空処理装置１１０に基板ＩＤ読み込み装置１１９を備えたので，搬送系１２０の制御を容易に行うことができ，処理の効率化を図ることが可能である。
【００２８】
（第２の実施の形態）
本実施の形態にかかる真空処理システム２００の全体構成を，図３を参照しながら説明する。真空処理システム２００は，被処理体の一例としてＬＣＤガラス基板の処理を行うシステムであり，図３に示したように，真空処理装置２１０と，ＬＣＤガラス基板を順次搬送する搬送系２２０とを含んで構成されている。
【００２９】
真空処理装置２１０は，図３に示したように，ＬＣＤガラス基板に所定の処理を施す２つの真空処理室２１２ａ，２１２ｂと，真空処理室２１２ａ，２１２ｂにゲートバルブＧＢを介して接続され，真空処理室２１２ａ，２１２ｂにＬＣＤガラス基板２３０を搬入／搬出する搬送アーム２１４を有する搬送室２１６と，搬送室２１６にゲートバルブＧＢを介して接続される真空予備室２１８とにより主に構成されている。また，真空処理装置２１０を支持する支柱には基板ＩＤ読み込みユニット２１９が備えられている。これら真空処理装置２１０の各構成要素は，上記第１の実施の形態にかかる真空処理装置１１０の構成要素と実質的に同様であるため，その詳細な説明を省略する。
【００３０】
複数のＬＣＤガラス基板２３０を搬送する搬送系２２０は，水平方向にＬＣＤガラス基板２３０を搬送可能な搬送手段の一例たるレール２２２と，レール２２２により搬送されたＬＣＤガラス基板２３０を所定位置において水平方向に移動させる水平移動機構２２５と，水平移動機構２２５により水平方向に移動されたＬＣＤガラス基板２３０を上下方向に移動させる昇降機構２２４とにより主に構成されている。ＬＣＤガラス基板２３０は，レール２２２上を移動するための車輪２２７が設けられたトレイ（載置台）２２６に載置されて搬送される。
【００３１】
真空処理装置２１０の搬送室２１６と真空予備室２１８とは，レール２２２と平行に配されており，処理を行うＬＣＤガラス基板２３０は，水平移動機構２２５によりレール２２２から待避した位置に配設された真空予備室２１８の直下に移動される。すなわち，本実施の形態においては，処理を行うＬＣＤガラス基板２３０が載置されたトレイ２２６は，水平移動機構２２５により水平方向に移動され，レール２２２に対して待避位置において真空予備室２１８に搬入されるという点に特徴がある。
【００３２】
上述のように，ＬＣＤガラス基板２３０は，レール２２２上を移動するための車輪２２７が設けられたトレイ２２６に載置されて搬送される。トレイ２２６は，後述のように，ＬＣＤガラス基板２３０を真空予備室２１８内に搬入したとき，真空予備室２１８の一部分となって気密に接続される。なお，トレイ２２６の構成については，上記第１の実施の形態にかかるトレイ１２６と実質的に同様であるので，その詳細な説明を省略する。
【００３３】
また，トレイ２２６には，載置しているＬＣＤガラス基板２３０に関する情報を識別する情報タグを備えている。情報タグの一例として，上記第１の実施の形態と同様に，各ＬＣＤガラス基板ごとに定められる基板ＩＤが付与されている。そして，真空処理装置２１０を支持する支柱には，かかる基板ＩＤを読み込むための基板ＩＤ読み込みユニット２１９が備えられている。基板ＩＤ読み込みユニット２１９は，レール２２２上を搬送されてくるＬＣＤガラス基板２３０が載置されたトレイ２２６を，水平移動機構２２５の水平位置に到達するまでに認識できるように機能する。
【００３４】
（水平移動機構２２５）
水平移動機構２２５は，搬送されたＬＣＤガラス基板２３０を，水平方向，すなわち，真空予備室２１８の方向に移動させるように構成されている。水平移動機構２２５は，レール２２２上のトレイ２２６を，レール２２２の一部分ごと水平方向へと移動させる。
【００３５】
また，水平移動機構２２５は，レール２２２の一部分が待避位置へ移動した後の当該部分を補うための予備レール２２２’を備えている。レール２２２の一部分が水平方向へ移動した後，代わりに予備レール２２２’が当該部分に組み込まれることにより，一のＬＣＤガラス基板が処理されている間，他のＬＣＤガラス基板はレール上を移動することができる。また，かかる構成によれば，水平移動機構２２５を，ＬＣＤガラス基板を一時的に格納しておくバッファとして用いることができ，ＬＣＤガラス基板間の処理時間のばらつきを軽減させることができる。
【００３６】
（昇降機構２２４）
真空予備室２１８の直下において，レール２２２の下段に配設される昇降機構２２４は，水平移動機構２２５により待避位置に搬送されたＬＣＤガラス基板２３０を昇降移動させるように構成されている。昇降機構２２４の構成は，実質的に上記第１の実施の形態にかかる昇降機構１２４と同様であるため，その詳細な説明を省略する。
【００３７】
このように，上記構成からなる本実施の形態にかかる真空処理システム２００は，通常の真空処理システムにおいて必要とされる大気ロボットを必要としない点で，上記第１の実施の形態にかかる真空処理システム１００と共通している。そしてさらに，本実施の形態にかかる真空処理システム２００は，レール２２２による通常の搬送経路のほかに，待避位置にトレイを搬送しうるよう構成されている点に特徴がある。
【００３８】
次いで，上記構成からなる真空処理システム２００の動作を，図３を参照しながら説明する。基板ＩＤ読み込みユニット２１９は，レール２２２上を搬送されてくるＬＣＤガラス基板２３０が収納されたトレイ２２６に付与されている基板ＩＤの読み込み動作を行っている。そして，処理要求のなされたＬＣＤガラス基板２３０の基板ＩＤを認識すると，図示しない制御部に対しその存在を伝達する。
【００３９】
基板ＩＤ読み込みユニット２１９により，処理を行うＬＣＤガラス基板２３０の存在が認識されると，以下の工程に従い，垂直移動手段２２４によるＬＣＤガラス基板２３０の真空処理装置２１０への搬入動作が開始される。以下に，水平移動機構２２５によるＬＣＤガラス基板２３０の真空処理装置２１０への搬入動作について説明する。
【００４０】
（１）処理を行うＬＣＤガラス基板２３０が水平移動手段２２４の真横まで搬送されると，図示しない制御部の制御により，トレイ２２６の車輪２２７が駆動を停止し，トレイ２２６は，垂直移動手段２２４の真横で停止する。
（２）次いで，処理を行うＬＣＤガラス基板２３０が載置されたトレイ２２６は，水平移動機構２２５により水平方向へ移動される。これにより，トレイ２２６は，ＬＣＤガラス基板２３０を載置したまま真空予備室１１８の方向へと移動する。
（３）さらにトレイ２３０は移動を続け，図３に示したように，真空予備室２１８の直下に搬送される。このとき，水平移動機構２２５により欠落したレールの一部には，予備レール２２２’が連結され，これにより，他のＬＣＤガラス基板は，通常通りに搬送を続けることができる。
（４）真空予備室２１８の直下に搬送されたトレイ２２６は，昇降機構２１５により上方に押圧される。これにより，トレイ２２６はＬＣＤガラス基板を載置したまま真空予備室２１８の方向へと上昇する。
（５）トレイ２２６の真空予備室２１８への搬入，真空処理装置２１０における所定の処理，及び，真空処理装置２１０からのトレイ２２６の搬出は，上記第１の実施の形態の場合と実質的に同様である。
【００４１】
以上説明したように，本実施の形態によれば，水平移動機構２２５及び昇降機構２２４によりＬＣＤガラス基板２３０を真空処理装置２１０の真空予備室２１８に搬入／搬出するよう構成したので，大気ロボットを配設せずとも，真空処理装置２１０と搬送系２２０との間のＬＣＤガラス基板２３０の授受を行うことが可能である。またこの水平移動機構２２５及び昇降機構２２４は，構造的に大気ロボットよりも安価に製造することができるため，設備コストの削減に優れた効果を奏する。
【００４２】
また，ＬＣＤガラス基板２３０の処理をレール２２２に対して待避した位置で行うことができるので，一のＬＣＤガラス基板の処理中であっても，レール２２２における他のＬＣＤガラス基板の搬送を妨げることがないという効果を奏する。
【００４３】
さらに，昇降機構２２４がＬＣＤガラス基板２３０を真空予備室２１８に搬入したとき，真空予備室２１８と一体となって真空予備室２１８の底面を構成するようにしたので，システム構成を簡略化することができ，処理時間の短縮にも優れた効果を奏する。
【００４４】
さらにまた，ＬＣＤガラス基板２３０は，その種別を認識するための基板ＩＤが付与されたトレイ２２６に載置された状態でレール２２２上を搬送されるようにし，真空処理装置２１０に基板ＩＤ読み込み装置２１９を備えたので，搬送系２２０の制御を容易に行うことができ，処理の効率化を図ることが可能である。
【００４５】
以上，添付図面を参照しながら本発明にかかる真空処理システムの好適な実施形態について説明したが，本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００４６】
例えば，上記実施の形態においては，被処理体の搬送手段としてレールを用いた場合の一例について説明したが，本発明はこれに限定されない。例えば，多数の回転ローラが所定間隔で並設され，その回転ローラの回転駆動により，被処理体を下方から支持して水平方向に搬送するよう構成されたコンベアを搬送手段として用いてもよい。
【００４７】
また，上記実施の形態においては，被処理体の種別を認識するための基板ＩＤをトレイに付与した場合の一例につき説明したが，本発明はこれに限定されない。例えば，被処理体自体に種別認識のための所定の処理を施しておくことも可能である。
【００４８】
さらにまた，上記実施の形態においては，被処理体の載置台たるトレイが真空予備室の底面の一部分を構成する場合の一例について説明したが，本発明はこれに限定されない。例えば，トレイが真空処理室の側面の一部分を構成する場合や，側面及び底面の一部分を構成する場合であっても同様に本発明は適用可能である。
【００４９】
【発明の効果】
以上説明したように，本発明によれば，移動手段により被処理体を処理装置の真空予備室に搬入・搬出するよう構成したので，大気ロボット等の被処理体授受手段を配設せずとも，被処理体の搬送手段と処理装置との間の被処理体の授受を行うことが可能である。またこの移動手段は，構造的に安価に製造することができ，また搬送手段と一体に配設することができるため，設備コストの削減及びフットプリントの縮小化に優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】発明の第１の実施の形態にかかる真空処理システムの概略を表す説明図である。
【図２】図１の真空処理システムの動作を説明するための説明図である。
【図３】発明の第２の実施の形態にかかる真空処理システムの概略を表す説明図である。
【符号の説明】
１００，２００ 真空処理システム
１１０，２１０ 真空処理装置
１１２，２１２ 真空処理室
１１４，２１４ 搬送アーム
１１６，２１６ 搬送室
１１８，２１８ 真空予備室
１１９，２１９ 基板ＩＤ読み込みユニット
１２０，２２０ 搬送系
１２２，２２２ レール
１２４，２２４ 昇降機構
１２４ａ 下蓋
１２６，２２６ トレイ
１２７，２２７ 車輪
１３０，２３０ ＬＣＤガラス基板
２２５ 水平移動機構

Claims (3)

1. 被処理体に所定の処理を施す少なくとも一の真空処理室と；
   前記真空処理室にゲートバルブを介して接続され，前記真空処理室に前記被処理体を搬入又は搬出させる搬送アームを有する搬送室と；
   前記搬送室にゲートバルブを介して接続される真空予備室と；
   複数の被処理体を順次搬送する搬送系と；
   を備えた真空処理システムにおいて：
   前記搬送系は，
   トレイに被処理体を載置しながら前記トレイを水平方向に搬送する搬送手段と、
   前記搬送手段により搬送された前記トレイを昇降させることにより、前記トレイに載置された被処理体を前記真空予備室に搬入又は搬出する昇降機構と、を有し、
   前記トレイには、貫通孔が形成され、
   前記昇降機構は、前記搬送系の搬送経路を挟んで前記真空予備室と対向する位置に設けられ、前記トレイに形成された貫通孔を貫通して該トレイ上の被処理体を支持するための支持ピンが設けられた蓋に前記トレイを載置して昇降し、
   前記蓋及び前記トレイは，前記真空予備室を真空排気するときに、前記真空予備室の一部を構成することを特徴とする，真空処理システム。
2. 被処理体に所定の処理を施す少なくとも一の真空処理室と；
   前記真空処理室にゲートバルブを介して接続され，前記真空処理室に前記被処理体を搬入又は搬出させる搬送アームを有する搬送室と；
   前記搬送室にゲートバルブを介して接続される真空予備室と；
   複数の被処理体を順次搬送する搬送系と；
   を備えた真空処理システムにおいて：
   前記搬送系は，
   トレイに被処理体を載置しながら前記トレイを水平方向に搬送する搬送手段と、
   前記搬送手段により搬送された前記トレイを前記搬送手段の搬送経路から待機する位置まで水平方向に搬送する水平移動機構と、
   前記待機位置まで搬送された前記トレイを昇降させることにより、前記トレイに載置された被処理体を前記真空予備室に搬入又は搬出する昇降機構と、を有し、
   前記トレイには、貫通孔が形成され、
   前記昇降機構は、前記待避位置にて前記真空予備室と対向する位置に設けられ、前記トレイに形成された貫通孔を貫通して該トレイ上の被処理体を支持するための支持ピンが設けられた蓋に前記トレイを載置して昇降し、
   前記蓋及び前記トレイは，前記真空予備室を真空排気するときに、前記真空予備室の一部を構成することを特徴とする，真空処理システム。
3. 前記トレイは，載置している被処理体に関する情報を識別する情報タグを備えていることを特徴とする，請求項１又は請求項２のいずれかに記載の真空処理システム。

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