JPH11130255A - 基板搬送移載装置 - Google Patents
基板搬送移載装置Info
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- JPH11130255A JPH11130255A JP29211797A JP29211797A JPH11130255A JP H11130255 A JPH11130255 A JP H11130255A JP 29211797 A JP29211797 A JP 29211797A JP 29211797 A JP29211797 A JP 29211797A JP H11130255 A JPH11130255 A JP H11130255A
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Abstract
複数台に対して基板カセットのピッチと異なるピッチで
複数の基板を同時に搬入、搬出でき、搬送効率のよい基
板搬送移載装置を提供する。 【解決手段】 複数の基板4を搭載できる搬送台車1
は、軌道2上を自由に往復することができ、該軌道2に
対して垂直に複数台の真空処理装置8と基板バッファが
設置される。搬送台車1に搭載されている基板ローダの
基板を支持するピッチと、真空処理装置8内の基板のピ
ッチと基板バッファの基板ピッチは同じピッチになって
おり、同時に複数の基板4を受け渡しすることができ
る。また基板カセット3と搬送台車1間の基板4の搬送
は基板移載ロボット5によって行われ、搬送台車1は軌
道2上を移動し、各真空処理装置8に対して、複数の処
理済み基板を同時に搬出し、複数の未処理基板を同時に
搬出を同時に行うことができる。
Description
の製造工程間において、基板を収納している基板カセッ
トのピッチより大きいピッチで複数の基板を同時に基板
処理装置に搬入、搬出する基板搬送移載装置に関するも
のである。
て、基板表面に薄膜を形成するためのスパッタ、CV
D、ドライエッチングなどの真空処理装置が用いられて
いる。これらの真空処理装置において、個々に独立した
排気系を有する真空処理室を複数個備えた枚葉式マルチ
チャンバ真空処理装置が実用化されている。
例を図13に示す。図13は、装置の平面図を示してい
る。中央に位置する搬送室110の周りに複数のプロセ
スチャンバ109とロードロック室107が配置されて
いる。各プロセスチャンバ109と搬送室110間と、
搬送室110とロードロック室107間にはゲートバル
ブV105、ロードロック室107と大気との間にはゲ
ートバルブA106が設けられ、各プロセスチャンバ1
09、搬送室110とロードロック室107のそれぞれ
を独立して排気を行う真空ポンプとで構成されている。
送するための真空搬送ロボット108が備えられ、紙面
に対し鉛直方向の回転動作と水平面内での伸縮動作によ
り、ロードロック室107内の基板102を各プロセス
チャンバ109への搬入と各プロセスチャンバ109か
らロードロック室107への搬出を行う。真空搬送ロボ
ット108は基板102を1枚毎に搬送を行う。
3が設置されており、複数の基板102が収納された基
板カセット104をロードロック室106へ搬送する。
た基板カセット104を大気搬送ロボット103は、ゲ
ートバルブA106からロードロック室106に搬入す
る。そしてゲートバルブA106が閉じられ、ロードロ
ック室106内が真空ポンプによって真空引きされる。
ロードロック室106内が所定の真空度になるとゲート
バルブV105が開られ、搬送室110内の真空搬送ロ
ボット108が基板カセット104から基板102を1
枚取り出し、プロセスチャンバ109内に搬送する。ま
た、プロセスチャンバ109で処理の済んだ基板102
は真空搬送ロボット108により、カセット104に戻
される。これを繰り返し、基板カセット104内すべて
が処理の済んだ基板102で一杯になるとゲートバルブ
V105が閉じられ、ロードロック室106内が大気に
解放され、ゲートバルブA106が開られて基板カセッ
ト104がロードロック室106から取り出される。
処理時間は短縮される方向にある。また、基板サイズの
大型化に伴い真空搬送系の搬送時間および搬送機構が大
きくなりつつある。このような条件が重なり、従来の処
理装置において、処理が終了した基板が直ちに搬出され
ないという問題が発生する。
げる方法として1つのプロセスチャンバ内に複数のプロ
セスボックスを設け、同時に多数の基板に処理を行うバ
ッチ式の真空処理装置がある。
概略を示す。真空処理装置の平面図と側面図をそれぞれ
図14、15に示している。図13と略同一のものには
同一符号を付し説明を省略する。
15から放射状にロードロック室111を有するプロセ
スチャンバ112を配置する。プロセスチャンバ112
内には複数のプロセスボックス112aが設けられてお
り、同時に複数の基板102の処理が行える。大気搬送
ロボット115は昇降部115a、搬送部115b、基
板ローダ部115cからなり、大気中に配置する。各ロ
ードロック室111の大気搬送ロボット115側には、
ゲートバルブA113を配置し、各ロードロック室11
1のプロセスチャンバ112側には、ゲートバルブV1
14を配置する。ロードロック室111はゲートバルブ
A113を介して大気部分と接触する。ロードロック室
111の内部には、各プロセスボックス112aへ基板
102を1枚ずつ搬入する複数の基板支持部材を持つ一
方向のみ移動可能な真空搬送台116を配置する。
室111内部の真空搬送台116と連動しており、真空
吸着等により基板102を高速搬送可能な機構を有して
いる。さらに、大気搬送ロボット115は、基板102
を直接基板カセット104に出し入れ可能な機構を有し
ている。
搬送ロボット115によって、大気中に置かれた基板カ
セット104から基板102を取出す。次に、ロードロ
ック室111のゲートバルブA113が開き、ロードロ
ック室111内の真空搬送台116の基板支持部材上へ
搬送する。真空搬送台116の基板支持部材の数分この
作業が繰り返される。次に、ゲートバルブA113が閉
じられ、ロードロック室111が真空引きされる。その
後、ゲートバルブV14が開き、真空搬送台116によ
りプロセスチャンバ112内のプロセスボックス112
aへ基板102が複数枚同時に搬送される。ゲートバル
ブV114が閉じ、プロセスチャンバ112で、基板1
02が処理される。処理後、プロセスチャンバ112か
ら基板102を取り出し、逆の動作で基板102を基板
カセット104に収納する。このような手順で処理が完
了する。
従来の構成では、以下のような問題点がある。
ンバでの処理時間は短縮される方向にある。また、基板
サイズの大型化に伴い真空搬送系の搬送時間が大きくな
りつつある。
このような条件が重なり、従来の処理装置において、処
理が終了した基板が直ちに搬出されないという問題が発
生する。また、真空搬送ロボットの稼働率、搬送速度が
上がり、関節部への負担が大きくなり、関節部の部品の
短命化、故障率のアップにつながる。特に、真空中での
搬送において、搬送速度が上がり、搬送物の重量が大き
くなると、この現象が顕著に表れる。
チ式の真空処理装置では、そのスループットは大気搬送
ロボットの搬送時間に拘束されてしまう。また、搬入す
る基板のピッチと装置間の基板の搬送に用いる基板収納
用カセットのピッチは異なるため、基板をそれらの処理
装置に搬入する際、基板のピッチを変換する必要があ
る。
に多数の基板を処理できる基板処理装置複数台に対して
基板カセットのピッチと異なるピッチで複数の基板を同
時に搬入、搬出でき、搬送効率のよい基板搬送移載装置
を提供することを目的とする。
に本発明の基板搬送移載装置は以下の構成を有してい
る。
置間の基板の搬送を行う基板搬送移載装置において、複
数の基板を保持する基板保持手段と、複数の基板を同時
に受け渡しできる基板受け渡し手段と、前記基板保持手
段と前記基板受け渡し手段を搭載し、所定の軌道上を走
行する移動手段とを具備し、前記基板保持手段として、
複数の基板を保持する基板支持部材をもつ基板ローダを
有し、該基板ローダの基板保持ピッチが該基板ローダと
基板の受け渡しを行う基板受け渡し装置の基板保持ピッ
チと同じであることを特徴としている。
求項1記載の搬送装置において、前記基板ローダを搬入
用と搬出用の2つ有し、該基板ローダのそれぞれに前記
基板受け渡し手段を具備したことを特徴としている。
求項1記載の搬送装置において、前記基板保持手段とし
て基板の受け渡しを行う基板枚数の2倍の基板支持部材
をもつ基板ローダを有し、該基板ローダの奇数番目の基
板支持部材のピッチと偶数番目の基板支持部材のピッチ
が基板の受け渡しを行う装置側の基板ピッチと同じであ
ることを特徴としている。
求項1または請求項3記載の搬送装置において、前記基
板ローダの基板支持部材の下部に搬送する基板と同等か
わずかに大きい平板を基板支持部材と平行に設けたこと
を特徴としている。
求項1から請求項4記載の搬送装置において、前記基板
ローダの基板支持部材の基板と当接する部分を弾性体に
より構成したことを特徴としている。
求項1から請求項5記載の搬送装置において、前記基板
ローダの基板支持部材の基板と当接する部分の周囲に凹
部を設けたことを特徴としている。
求項1から請求項6記載の搬送装置において、前記基板
ローダの基板支持部材を磁性体で構成し、該基板支持部
材の基板と当接する部分の周囲に磁石を設けたことを特
徴としている。
求項1から請求項7記載の搬送装置において、前記基板
ローダ部を覆うカバーを設け、該カバーの内壁に基板を
支持する基板支持棚を設け、搬送台車が移動中は該棚部
により基板を支持することを特徴としている。
求項8記載の搬送装置において、前記カバーの内壁の基
板支持棚の基板と当接する部分を弾性体により構成した
ことを特徴としている。
請求項1から請求項9記載の基板搬送移載装置と、複数
の基板を同時に処理する複数台の基板処理装置とを具備
し、前記基板処理装置を前記軌道に対して垂直に複数台
を平行に並べ、該軌道上を往復する前記搬送台車と該基
板処理装置との間で複数枚の基板を同時に受け渡しする
ことを特徴としている。
請求項10記載の基板搬送移載装置と、複数の基板を収
納する基板カセットと、前記基板受け渡し装置の基板保
持ピッチと同じピッチで複数の基板を収納する基板バッ
ファと、前記基板カセットと前記基板バッファ間の移載
を行う基板移載ロボットを具備し、該軌道上を往復する
前記搬送台車と前記基板バッファとの間で複数枚の基板
を同時に受け渡し可能なように前記基板バッファを前記
軌道に並べて設置したことを特徴としている。
ば、複数の基板を保持可能な基板ローダを搭載した台車
が所定の軌道上を基板受け渡し装置の前まで移動し、基
板受け渡し装置と基板ローダの間で複数の基板を同時に
受け渡しすることができる。
項1記載の搬送装置において、搬入用と搬出用の2つの
基板ローダにより、基板受け渡し装置との間で基板の搬
入と搬出が1台の台車で1度にできる。
項1記載の搬送装置において、基板ローダに基板受け渡
し装置が同時に扱える基板枚数の2倍の基板支持部材を
備え、奇数番目の基板支持部材のピッチと偶数番目の基
板支持部材のピッチがそれぞれ基板受け渡し装置の基板
ピッチと同じであることにより、1つの基板ローダによ
り、基板受け渡し装置との間で基板の搬入と搬出が1台
の台車で1度にできる。
項1または請求項3記載の搬送装置において、基板ロー
ダの基板支持部材の下部に平板を設けることで、上部で
発生したパーティクルが基板につかないようにカバーす
ることができる。
項1から請求項4記載の搬送装置において、基板ローダ
の基板支持部材の基板と当接する部分を弾性体にするこ
とにより、基板と基板支持部材との接触でパーティクル
が発生しにくくできる。
項1から請求項5記載の搬送装置において、基板ローダ
の基板支持部材の基板と当接する部分の周囲に凹部を設
けたことで基板と基板支持部材との接触で発生したパー
ティクルが凹部にたまる。
項1から請求項6記載の搬送装置において、基板ローダ
の基板支持部材を磁性体で構成し、基板と当接する部分
の周囲に磁石を設けることで、基板と基板支持部材との
接触で発生したパーティクルが磁石に吸着する。
項1から請求項7記載の搬送装置において、基板ローダ
部を覆うカバーを設け、該カバーの内壁に基板を支持す
る基板支持棚を設け、搬送台車が移動中は該棚部により
基板を支持することで、台車の移動時により基板を安定
させることができる。
項8記載の搬送装置において、前記カバーの内壁の基板
支持棚の基板と当接する部分を弾性体にすることによ
り、基板と棚部との接触でパーティクルが発生しにくく
できる。
求項1から請求項9載の搬送装置において、複数の基板
を同時に処理する基板処理装置を複数台に対して、台車
が移動し複数の基板を同時に搬入、搬出できる。
板カセットと基板受け渡し装置と同じ基板保持ピッチの
基板バッファとの間の移載を行う基板移載ロボットによ
り行い、基板バッファと搬送台車の間で複数の基板を同
時に搬入、搬出できる。
て、図面を参照して説明する。
発明の第1の実施の形態を説明する。
た真空処理システムの構成、図2に本発明の搬送台車の
構成とロードロック6との位置関係の概略、図3に基板
受け渡し時の説明図を示す。
た真空処理システムの構成を示す。本発明の基板搬送移
載装置は、複数の基板を同時に処理できる基板処理装置
8複数台に対して、複数の基板4を同時に搬入、搬出す
る。
道2上を自由に往復することができる。基板カセット3
内の基板4の搬送台車1への搭載と、搬送台車1から基
板4を基板カセット3への収納は基板移載ロボット5に
よって行われる。
置8が設置される。各真空処理装置8はロードロック6
とプロセスチャンバ7からなり、1台で同時に複数の基
板4の処理が行える。そして、大気とロードロック6
間、ロードロック6とプロセスチャンバ7間にはそれぞ
れゲートバルブ9a、9bがあり、基板4の搬入、搬出
時にゲートバルブ9a、9bが同時に開かないことで、
プロセスチャンバ7内は常に真空状態に保たれている。
との位置関係の概略を示す。搬送台車1は、軌道2上の
移動を行う台車部13と、基板ローダ10と、搬送部1
2と、基板ローダ10のカバー14からなる。台車部1
3は軌道2上を自由に往復でき、基板移載ロボット5の
前と各真空処理装置8前の所定の位置に搬送台車1全体
を移動させる。搬送部12は基板ローダ10を上下方向
と、真空処理装置8側への移動を行う。
持ち、基板支持爪11上に複数の基板4を保持し、ロー
ドロック6内の真空搬送系6aと基板4の受け渡しを行
う。また、基板ローダ10はロードロック6とほぼ同じ
高さにあり、ロードロック6側へ平行移動し、ゲートバ
ルブA9aからロードロック6内に侵入することで、ロ
ードロック6内の真空搬送系6aと基板4の受け渡しが
行える。
搬送台車1が軌道2上を移動中に基板4にゴミ、チリが
付着するのを防止する。基板4の搬入、搬出時はカバー
開閉部14aを開けて行う。
ッチはロードロック6内の真空搬送系6aの基板支持部
のピッチと同じになっており、同時に複数の基板4が受
け渡しできる。
明する。
に位置決めして止まり、開閉カバー14aが開けられ
る。基板移載ロボット5は基板カセット3から基板4を
取り出し、基板ローダ10の基板支持爪11上に基板を
搭載する。このとき、基板移載ロボット5は許される時
間内で搭載が完了するように1枚ずつ、または複数枚ず
つ搬送台車1に搭載する。すべての基板支持爪11に基
板が搭載されると、開閉カバー14aが閉じられる。そ
して、搬送台車1は軌道2上を移動し、基板4を搬入す
べき真空処理装置8のロードロック6前に止まる。搬送
台車1が停止すると、開閉カバー14aとロードロック
6のゲートバルブA9aが開けられ、基板ローダ10は
ロードロック6内に複数の基板4を同時に搬入する。
置が真空搬送系6aの基板支持位置より高い位置から平
行にロードロック6側に移動する。ゲートバルブA9a
を通過して、ロードロック6内の所定の位置まで入り、
そこから下降する。その動作で、基板4の支持は基板ロ
ーダ10から真空搬送系6aに移る。その後、基板ロー
ダ10は搬送台車1側に後退し、開閉カバー14aとロ
ードロック6のゲートバルブA9aが閉じられ、基板4
の受け渡しが完了する。
れ、所定の真空度に達するとゲートバルブV9bが開け
られ、真空搬送系6aにより基板4がプロセスチャンバ
7内に搬入される。そして、搬入された基板4対して所
定の処理が行われる。処理が完了すると基板4は真空搬
送系6aによりプロセスチャンバ7からロードロック6
へ取り出される。そして、ロードロック6内が大気に戻
され、真空処理装置8のロードロック6前に待機してい
る空の搬送台車1は、ロードロック6内の処理が完了し
た基板4を上述と逆の手順で取り出す。処理済みの基板
4の取り出し完了後、搬送台車1は基板移載ロボット5
前に戻り、基板移載ロボット5により搬送台車1中の処
理済み基板4を取り出し、基板カセット3に収納する。
台用意すると、真空装置8から処理済み基板4を取り出
し、未処理基板を搬入するまでの時間が短縮できる。
間に基板バッファを設けることで、基板移載ロボット5
の負担を軽減することができる。これを図4を用いて説
明する。図4に示すように、基板バッファ15を基板移
載ロボット5と搬送台車1の間に設ける。そして、基板
移載ロボット5は基板カセット3と基板バッファ15の
間の基板4の搬送を行う。また、搬送台車1は基板バッ
ファ15と真空処理装置8の間の基板4の搬送を行う。
ッファ15と基板カセット3の間の基板4の搬送を行え
る状態になる。真空装置8に対して基板4の搬入、搬出
を行うために搬送台車1が基板移載ロボット5前を離れ
ていても、基板移載ロボット5は搬送を行える。搬送台
車1に対して基板4の搬送を行う場合は、搬送台車1が
基板移載ロボット5前にあるときのみ稼働し、搬送時間
を短縮するため高速で駆動される。しかし、搬送台車1
が基板移載ロボット5前にないときは稼働しない。
合は、基板移載ロボット5は常に搬送作業を行うが低速
で行え、基板移載ロボット5の負担を軽減することがで
きる。負担の軽減による基板移載ロボット5の長寿命
化、低速なので低コスト化にもつながる。
て基板カセットのピッチと異なるピッチで複数の基板を
同時に搬入、搬出でき、搬送効率のよい基板搬送移載装
置を実現することができる。
2の実施の形態を説明する。第1の実施の形態と異なる
のは基板ローダの部分のみであり、図1から図4と略同
一のものには同一符号を付し説明を省略する。
基板ローダ21とそれらを駆動する搬送部をそれぞれ2
つ設けてある。搬入用基板ローダ20、搬出用基板ロー
ダ21にはそれぞれ搬入基板支持爪22、搬出基板支持
爪23が設けられている。搬入基板支持爪22、搬出基
板支持爪23のピッチはロードロック6内の真空搬送系
6aの基板支持ピッチDと同じであり、2つの基板ロー
ダ20、21間はピッチdとなっている。搬出用基板ロ
ーダ21によるロードロック6からの処理済み基板4b
の搬出と、搬入用基板ローダ20によるロードロック6
への未処理基板4aの搬入がそれぞれ独立に行われ、互
いに干渉しないように作業を行う。
より基板カセットから未処理基板4aが搬入用基板ロー
ダ20の搬入基板支持爪22上に搭載された後、搬送台
車は基板の搬入、搬出を行うロードロック6の前に移動
する。まず、搬出用基板ローダ21がロードロック6内
の真空搬送系6aが保持している処理済み基板4bを搬
出し、搬出基板支持爪23上に保持する。そして、搬入
用基板ローダ20が搬入基板支持爪22上に保持してい
る未処理基板4aをロードロック6内に搬入し、真空搬
送系6aに渡す。未処理基板4aの搬入が済むと搬送台
車は基板移載ロボット前に戻り、基板移載ロボットによ
り処理済み基板4bを基板カセットに収納する。
ローダを設けることで、1台の台車で処理済み基板の搬
出と未処理基板の搬入が連続して行え、1台の基板処理
装置に対して基板の搬入、搬出が1回の移動完了する。
また複数の基板処理装置に対して基板カセットのピッチ
と異なるピッチで複数の基板を同時に搬入、搬出でき、
搬送効率のよい基板搬送移載装置を実現することができ
る。
明の第3の実施の形態を説明する。
ローダの部分のみであり、図1から図5と略同一のもの
には同一符号を付し説明を省略する。
基板処理装置で同時に処理できる基板枚数分の搬入用基
板支持爪31と搬出用基板支持爪32が2組ピッチDで
設けられており、搬入用基板支持爪31と搬出用基板支
持爪32の間隔はdとなっている。ピッチDは、ロード
ロック6内の真空搬送系6aの基板支持ピッチDと同じ
である。
搬入及びロードロック6からの基板4の搬出方法を説明
する。まず、図7(a)に示すように、基板ローダ30
の搬入基板支持爪31には基板移載ロボットにより未処
理基板4aが支持されており、ロードロック6内の真空
搬送系6aには処理済み基板4bが保持されている。基
板ローダ30は、搬出基板支持爪32がロードロック6
内の処理済み基板4bのわずかに下方になるよう位置決
めされ、ロードロック6内に挿入される。
基板ローダ30を上昇させることにより、処理済み基板
4bが搬出基板支持爪32に受け渡される。そして、基
板ローダ30が後退し、ロードロック6から搬送台車内
に戻る。そして、図7(c)に示すように、基板ローダ
30は未処理基板4bがロードロック6内の真空搬送系
6aの基板支持部の高さよりわずか上方まで上昇する。
さらに、図7(d)に示すように、基板ローダ30が再
びロードロック6内に挿入され、下降することで、搬入
基板支持爪31上の未処理基板4aは真空搬送系6aへ
受け渡しされる。最後に、図7(e)に示すように、基
板ローダ30が後退し、ロードロック6から搬送台車内
に戻る。以上により基板4の受け渡しが完了する。
ダ30で基板4の搬入と搬出が可能である。第2の実施
の形態より機構部が少なくでき、装置の信頼性が高く、
パーティクルの発生が少ない。また基板処理装置が同時
に処理できる基板枚数の2倍の基板支持爪を基板ローダ
に設けたが、基板処理装置への基板の搬入、および基板
の搬出において干渉等の問題がなければ、さらに基板支
持爪の数を増やすことにより、複数台の基板処理装置に
対して基板の搬入搬出が可能となり、搬送台車が基板移
載ロボットの前に戻る回数を減らすことができる。
て基板カセットのピッチと異なるピッチで複数の基板を
同時に搬入、搬出でき、搬送効率のよい基板搬送移載装
置を実現することができる。
本発明の第4の実施の形態を説明する。
バーと基板支持爪の部分のみであり、図1から図7と略
同一のものには同一符号を付し説明を省略する。
いるカバー14の内壁に棚部14bを設ける。棚部14
bのピッチはロードロック内の真空搬送系の基板支持ピ
ッチDと同じである。基板4は基板支持爪11で保持さ
れ基板ローダ10によって受け渡しが行われる。基板ロ
ーダ10が搬送台車1内に戻ると、基板ローダは下降し
基板4はカバー14の内壁の棚部14bに保持される。
この方が基板支持爪11で保持するより、安定して基板
が保持できる。
4が当接する部分を弾性体33とすることにより、弾性
体33により基板10の振動が吸収され、基板の破損、
当接部からのパーティクルの発生を低減することができ
る。
34の基板支持凸部34aの周囲に凹部34bを設け
る。図10(a)には基板支持爪34の斜視図、図10
(b)には基板支持爪34の断面図を示している。図に
示すように基板支持凸部34aが基板4と当接する。基
板搬送中の振動、摺動等により基板支持凸部34aと基
板4の当接部からパーティクルが発生する。発生したパ
ーティクルは基板支持凸部34aの周囲に設けた凹部3
4b付近に落ちてくる。そして形状が凹であるため、パ
ーティクルは凹部34bから出にくく、凹部34bにた
まる。また、図10(c)に示すように凹部34bに磁
石35を設け、基板支持爪34を磁性体で構成すること
により、発生したパーティクルを磁石で吸着し、散乱さ
せなくできる。
て基板カセットのピッチと異なるピッチで複数の基板を
同時に搬入、搬出でき、パーティクルの発生が少なく、
搬送効率のよい基板搬送移載装置を実現することができ
る。
本発明の第5の実施の形態を説明する。
板ローダの部分のみであり、図1から図10と略同一の
ものには同一符号を付し説明を省略する。
部に基板4とほぼ同じか大きい平板からなるパーティク
ルよけ36を設ける。パーティクルよけ36により基板
4の受け渡し時等に発生するパーティクルが上部から落
ちて、下部の基板4上に付着するのを防ぐ。また、図1
2に示すように基板搬送爪37の基板支持凸部38を弾
性体とすることにより、基板の振動が吸収され、基板の
破損、当接部からのパーティクルの発生を低減すること
ができる。
て基板カセットのピッチと異なるピッチで複数の基板を
同時に搬入、搬出でき、パーティクルの発生が少なく、
搬送効率のよい基板搬送移載装置を実現することができ
る。
板処理装置に対して、複数の基板を保持可能な基板ロー
ダを搭載した搬送台車が所定の軌道上を移動し、複数の
基板を同時に搬入、搬出できる。そして、搬送台車の移
動時には、カバー内壁に設けた棚部により基板を安定に
保持できる。また、基板を保持するときに基板と当接す
る部分を弾性体にすることにより、パーティクルが発生
しにくくし、パーティクルよけ等により発生したパーテ
ィクルが基板に付着するのを防ぐことができる。さら
に、基板バッファを設けることで、基板移載ロボットの
負担を軽減できる。
によれば、複数の基板処理装置に対して基板カセットの
ピッチと異なるピッチで複数の基板を同時に搬入、搬出
でき、パーティクルの発生が少なく、搬送効率のよい基
板の搬送および移載を実現することができる。
成を示す平面図である。
造を示す側面図である。
である。
成図である。
成図である。
造図である。
である。
造図である。
造図である。
構造図である。
構造図である。
構造図である。
る。
る。
る。
Claims (11)
- 【請求項1】 装置間の基板の搬送および移載を行う基
板搬送移載装置において、 複数の基板を保持する基板保持手段と、 複数の基板を同時に受け渡しできる基板受け渡し手段
と、 前記基板保持手段と前記基板受け渡し手段を搭載し、所
定の軌道上を走行する移動手段とを具備し、 前記基板保持手段として、複数の基板を保持する基板支
持部材をもつ基板ローダを有し、 該基板ローダの基板保持ピッチが該基板ローダと基板の
受け渡しを行う基板受け渡し装置の基板保持ピッチと同
じであることを特徴とする基板搬送移載装置。 - 【請求項2】 請求項1記載の基板搬送移載装置におい
て、 前記基板ローダは搬入用基板ローダと搬出用基板ローダ
の2つを有し、 該基板ローダのそれぞれに前記基板受け渡し手段を具備
したことを特徴とする基板搬送移載装置。 - 【請求項3】 請求項1記載の基板搬送移載装置におい
て、 前記基板保持手段として基板の受け渡しを行う基板枚数
の2倍の基板支持部材をもつ基板ローダを有し、 該基板ローダの奇数番目の基板支持部材のピッチと偶数
番目の基板支持部材のピッチが基板の受け渡しを行う装
置側の基板ピッチと同じであることを特徴とする基板搬
送移載装置。 - 【請求項4】 請求項1または請求項3記載の基板搬送
移載装置において、 前記基板ローダの基板支持部材の下部に搬送する基板と
同等かわずかに大きい平板を基板支持部材と平行に設け
たことを特徴とする基板搬送移載装置。 - 【請求項5】 請求項1から請求項4記載の基板搬送移
載装置において、 前記基板ローダの基板支持部材の基板と当接する部分を
弾性体により構成したことを特徴とする基板搬送移載装
置。 - 【請求項6】 請求項1から請求項5記載の基板搬送移
載装置において、 前記基板ローダの基板支持部材の基板と当接する部分の
周囲に凹部を設けたことを特徴とする基板搬送移載装
置。 - 【請求項7】 請求項1から請求項6記載の基板搬送移
載装置において、 前記基板ローダの基板支持部材を磁性体で構成し、該基
板支持部材の基板と当接する部分の周囲に磁石を設けた
ことを特徴とする基板搬送移載装置。 - 【請求項8】 請求項1から請求項7記載の基板搬送移
載装置において、 前記基板ローダ部を覆うカバーを設け、該カバーの内壁
に基板を支持する基板支持棚を設け、搬送台車が移動中
は該棚部により基板を支持することを特徴とする基板搬
送移載装置。 - 【請求項9】 請求項8記載の基板搬送移載装置におい
て、 前記カバーの内壁の基板支持棚の基板と当接する部分を
弾性体により構成したことを特徴とする基板搬送移載装
置。 - 【請求項10】 請求項1から請求項9記載の基板搬送
移載装置と、 複数の基板を同時に処理する複数台の基板処理装置とを
具備し、 前記基板処理装置を前記軌道に対して垂直に複数台を平
行に並べ、 該軌道上を往復する前記搬送台車と該基板処理装置との
間で複数枚の基板を同時に受け渡しすることを特徴とす
る基板搬送移載装置。 - 【請求項11】 請求項10記載の基板搬送移載装置
と、 複数の基板を収納する基板カセットと、 前記基板受け渡し装置の基板保持ピッチと同じピッチで
複数の基板を収納する基板バッファと、 前記基板カセットと前記基板バッファ間の移載を行う基
板移載ロボットを具備し、 該軌道上を往復する前記搬送台車と前記基板バッファと
の間で複数枚の基板を同時に受け渡し可能なように前記
基板バッファを前記軌道に並べて設置したことを特徴と
する基板搬送移載装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29211797A JP3632812B2 (ja) | 1997-10-24 | 1997-10-24 | 基板搬送移載装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29211797A JP3632812B2 (ja) | 1997-10-24 | 1997-10-24 | 基板搬送移載装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11130255A true JPH11130255A (ja) | 1999-05-18 |
JP3632812B2 JP3632812B2 (ja) | 2005-03-23 |
Family
ID=17777773
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29211797A Expired - Fee Related JP3632812B2 (ja) | 1997-10-24 | 1997-10-24 | 基板搬送移載装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3632812B2 (ja) |
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---|---|
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
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|
A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
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