JP4287412B2 - 発光素子およびその製造方法 - Google Patents
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九州工業大学大学院・生命体工学研究科、岡本清一、「チタニアナノ結晶集合体を電極に用いることによる電気化学発光の増大」、2004年度電気化学会(平成16年3月24日〜)要旨集310頁
前記第1の発光セルに積層して配置され、互いに絶縁された一対の第2の電極と、これらに挟持され下記一般式(A)で表わされる構造を有する溶融塩電解質と前記第1の発光セルにおける前記第1の発光色素と補色の関係にある第2の発光色素とを含有する第2の発光層と、前記第2の発光層内に設けられた第2の多孔質層とを有する第2の発光セルとを具備することを特徴とする。
前記透明な第1の電極の一方の上に、微粒子を含むペーストを塗布し、焼成して多孔質層を形成して、多孔質層を有する両面透明電極基板を得る工程と、
基板上に第2の電極を形成する工程と、
前記第2の電極上に微粒子を含むペーストを塗布し、焼成して多孔質層を形成して、多孔質層を有する片面電極基板を得る工程と、
透明基板上に透明な第1の電極を形成して片面透明電極基板を得る工程と、
片面電極基板上に、両面透明電極基板と片面透明電極基板とを、間隙をもって積層する工程と、
前記両面透明電極基板と片面透明電極基板との間隙に、溶融塩電解質と第1の発光色素とを含有する第1の発光層を形成する工程と、
前記片面電極基板と両面透明電極基板との間隙に、溶融塩電解質と第2の発光色素とを含有する第2の発光層を形成する工程と、
側面に封止剤を配置する工程とを具備することを特徴とする。
第1の多孔質層14を設けることによって、生成した色素の酸化体および還元体は拡散することを抑制されて、この多孔質層の微細孔内にとどまる。こうした効果は、多孔質層の材質の導電性に関らず得られる。通常、発光色素は2つの電極のみとの間で、電子のやり取りが行なわれる。導体あるいは半導体により多孔質層を形成した場合には、発光色素は表面積の大きな多孔質層表面とも電子のやりとりが可能になる。その結果、色素の酸化還元反応が促進されて、輝度が高められる。金属やチタニアなどの半導体を用いた場合、こうした効果は十分に発揮される
第1の多孔質層14は、光が乱反射しにくい材質の粒子を用いて形成することが望まれる。ここで用いられる粒子の粒径は、5nm以上20nm以下の範囲内であることが好ましい。粒子の粒径は、例えば、SEM、TEMによる観測、BET法により測定することができる。5nm未満の場合には、電解質中のイオン拡散が低下して輝度が弱くなるおそれがある。一方、20nmを越えると、多孔質層が光を乱反射させてしまうために、第2の発光層20からの光が透過せず、光の混色が十分に起こらないという問題が生じる。第1の多孔質層14の厚さは、0.5μm以上20μm以下程度が望ましい。この範囲内であれば、第2の発光セルからの光透過性を低下させることなく、多孔質層の効果を十分に得ることができる。
第2の発光セル22においては、一対の電極18および19が離間対向して配置され、この間隙には第2の発光層20が設けられる。第2の発光層20中には、溶融塩電解質と第2の発光色素とが含有され、この発光層20中には多孔質層21が設けられる。
まず、透明基板11aの両面に、例えばCVDによりふっ素化SnO2膜を堆積して透明な第1の電極12aおよび19を形成する。透明な第1の電極12a上には、粒子を含有するペーストを所定の膜厚で塗布し、焼成することによって図2に示すように多孔質層14を形成する。ペーストとしては、例えば、スイスソラロニクスSA社TiNanoxide HTペースト(チタニア粒径約10nm)を用いることができる。この場合の焼成条件は、400〜500℃で10〜60分程度とすることができる。
図示する発光素子は、第2の発光セルにおける一対の電極として、くし型電極28,29を用いた以外は、図1に示したものと同様の構成である。こうした電極は、例えばペースト状の導電性微粒子含有液を塗布する形成することができる。微粒子により形成された電極は、電極中の抵抗、電解液との界面抵抗、および配線上に形成されたポーラス層への電気的コンタクトが良好になる。また、印刷方法により形成できるため、従来のエッチング法を用いる場合よりも安価に発光素子が得られる。
(実施例1)
まず、透明基板としての厚さ1mm厚のガラス基板の両面に、CVDによりふっ素化SnO2膜を10000nmの膜厚で堆積して透明な第1の電極を形成した。一方の透明な第1の電極上には、スイスソラロニクスSA社TiNanoxide HTペースト(チタニア粒径約10nm)を、厚さ50μmのメタルマスクを使用して印刷した。その後、450℃で30分間焼成することによって、第1の多孔質層として酸化チタン層が7μmの厚さで形成された。こうして、多孔質層を有する両面透明電極基板が得られた。
別途、同様のガラス基板に透明な第1の電極を形成して、片面透明電極基板を得、これらを図4に示したように積層した。
第1の多孔質層および第2の多孔質層の構成、および、各発光層原料を次のように変更した以外は、前述の実施例1と同様にして本実施例の発光素子を作製した。
まず、透明基板としての厚さ1mmのガラス基板の片面に、実施例1と同様の手法によりふっ素化SnO2膜を1000nmの膜厚で堆積して透明な第1の電極を形成した。透明電極上には、実施例1と同様にして第1の多孔質層を7μmの厚さで形成して、両面透明電極基板を得た。
第1の発光色素としてのエチルメチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメチルスルフォニル)イミド10mLに、トリス(フェニルピリジル)イリジウムを沈殿が残るまで添加し、過飽和状態の溶液を5時間攪拌した。その後、静置し、沈殿をデカンテーションにより除去し、トリス(フェニルピリジル)イリジウムのエチルメチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメチルスルフォニル)イミド飽和溶液を調製した。この溶液を、第1の発光層材料とした。一方、第2の発光層材料は、エチルメチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメチルスルフォニル)イミド10mLに、トリス(ビピリジル)ピリジウムヘキサフルオロホスフェートを沈殿が残るまで添加し、過飽和状態の溶液を5時間攪拌した。その後、静置し、沈殿をデカンテーションにより除去し、トリス(ビピリジル)ピリジウムヘキサフルオロホスフェートのエチルメチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメチルスルフォニル)イミド飽和溶液を調製した。この溶液を、第2の発光層材料とした。各発光層材料を、所定の間隙に注入して、第1および第2の発光層を形成した。
多孔質層を設けない以外は実施例1と同様の材質、材料を用いて、図8に示すような構造の発光素子を作製した。
得られた発酵素子を3Vで駆動したところ、ほぼ白色の光が5cd/m2の輝度で観測された。
13…第1の発光層; 14…多孔質層; 15…第1の発光セル; 17…基板
18…電極; 19…透明電極; 20…第2の発光層; 21…多孔質層
22…第2の発光セル; 24,25…封止剤; 27…発光素子
28,29…くし型電極; 30…第2の発光セル; 40…発光素子
41…第1の発光セル; 42…第2の発光セル。
Claims (5)
- 前記第1の発光セルにおける前記第1の多孔質層は、0.5μm以上20μm以下の厚さを有し、粒径5nm以上20nm以下の粒子から形成されることを特徴とする請求項1に記載の発光素子。
- 前記第2の発光セルにおける前記第2の多孔質層は、0.5μm以上50μm以下の厚さを有し、粒径5nm以上100nm以下の粒子から形成されることを特徴とする請求項1または2に記載の発光素子。
- 前記第2の発光セルにおける前記一対の第2の電極は、積層方向に離間対向して配置され、これら一対の第2の電極のうち、前記第1の発光セル側は透明電極からなることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の発光素子。
- 透明基板の両面に透明な第1の電極を形成する工程と、
前記透明な第1の電極の一方の上に、微粒子を含むペーストを塗布し、焼成して多孔質層を形成して、多孔質層を有する両面透明電極基板を得る工程と、
基板上に第2の電極を形成する工程と、
前記第2の電極上に微粒子を含むペーストを塗布し、焼成して多孔質層を形成して、多孔質層を有する片面電極基板を得る工程と、
透明基板上に透明な第1の電極を形成して片面透明電極基板を得る工程と、
片面電極基板上に、両面透明電極基板と片面透明電極基板とを、間隙をもって積層する工程と、
前記両面透明電極基板と片面透明電極基板との間隙に、溶融塩電解質と第1の発光色素とを含有する第1の発光層を形成する工程と、
前記片面電極基板と両面透明電極基板との間隙に、溶融塩電解質と第2の発光色素とを含有する第2の発光層を形成する工程と、
側面に封止剤を配置する工程と
を具備することを特徴とする発光素子の製造方法。
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