JP4275243B2 - シアノ基含有安息香酸化合物の製造方法 - Google Patents
シアノ基含有安息香酸化合物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4275243B2 JP4275243B2 JP11362199A JP11362199A JP4275243B2 JP 4275243 B2 JP4275243 B2 JP 4275243B2 JP 11362199 A JP11362199 A JP 11362199A JP 11362199 A JP11362199 A JP 11362199A JP 4275243 B2 JP4275243 B2 JP 4275243B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cyano group
- reaction
- acid
- benzoic acid
- producing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般式（ＩＩ）で示されるシアノ基含有安息香酸化合物の製造方法に関する。シアノ基含有安息香酸化合物は医薬、農薬、液晶、機能性高分子モノマーなどの重要な中間体である。
【０００２】
【従来の技術】
シアノ基含有安息香酸化合物の製法は古くからいくつか知られている。ここでは代表例としてｐ−シアノ安息香酸の製法をあげる。ｐ−シアノ安息香酸は、古典的にはｐ−アミノ安息香酸をジアゾ化した後シアン化銅を反応させるサンドマイヤー反応により合成されている（Ｌｕｃａｓ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，５１（１９２９）２７１８）。また、トルニトリルをクロム酸や過マンガン酸などの強力な試薬酸化剤で酸化し合成する方法が知られている（Ｌｅｖｉｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２４（１９５９）１１５）、（Ｋａｔｔｗｉｎｋｅｌ ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．，３７（１９０４）３２２６）。
【０００３】
最近では、水系の溶媒中一酸化炭素存在下、パラジウム−ホスフィン触媒を用い、ｐ−クロロベンゾニトリルをカルボニル化することにより、ｐ−シアノ基含有安息香酸が合成できることが知られている（特開昭６４−４７号公報）。また、テレフタロニトリルの片側ニトリル基をモノニトリラーゼなどを用いて酵素的に加水分解して、ｐ−シアノ安息香酸を合成できることが報告されている（特開昭６１−８５１９４号公報）。
【０００４】
本発明に関連のある先行技術として、テレフタロニトリルを加圧下アンモニア水でニトリル基を加水分解する方法がある（Ａｒｋｈｉｐｏｖａ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｇｅｎ．Ｃｈｅｍ．ＵＳＳＲ，３３（１９６３）６３１）。著者らによれば、テレフタロニトリルの片側水和で生じるｐ−シアノ基含有ベンズアミドのアミド基が加水分解を受け、ｐ−シアノ安息香酸ができるとしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
サンドマイヤー法は、危険なシアン化銅を必要とし、シアン化水素の遊離する酸性条件下でのｐ−シアノ安息香酸の単離精製は困難である。クロム酸や過マンガン酸などの試薬酸化剤を用いた場合は、有毒な重金属廃棄物が生成し、有毒な重金属を含む廃液が大量にでるので環境に対する影響が大きい。カルボニル化による方法は、高価且つ稀少なパラジウムとホスフィンを用いるため経済的な方法とは言えない。微生物を用いた方法は、片側ニトリル基の加水分解の選択性が十分ではないうえ、反応濃度をあげることができず生産性が低い。また、テレフタロニトリルの加水分解法は、望みのｐ−シアノ安息香酸以外にテレフタラミン酸、テレフタラミド、テレフタル酸などが副生し、副生物との分離が困難である。このように、ｐ−シアノ安息香酸は、従来知られている技術では合成が繁雑で高純度体を得るのが困難であり、また原料の入手も容易ではないという問題があった。
【０００６】
本発明の目的は、一般式（ＩＩ）のシアノ基含有安息香酸化合物を工業的に有利な方法により高収率、高純度に製造することにあり、特に医薬中間体として有用なｍ−またはｐ−シアノ安息香酸を高純度且つ高収率で製造することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、一般式（Ｉ）のシアノ基含有ベンズアミド化合物を出発原料として、ベンゼン環上のシアノ基を損なうことなくアミド基（−ＣＯＮＨ2）をカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）に変換することにより、上記目的を達成することができた。
【０００８】
すなわち、本発明は以下の発明に関する。
［１］一般式（Ｉ）
【化３】
（式中、−ＣＯＮＨ2と−Ｘはベンゼン環上の置換基を表わし、−ＣＯＮＨ2は−ＣＮのｍ位あるいはｐ位であり、Ｘは塩素原子またはフッ素原子を表わし、ｎは０〜４の整数を表わす。ただし、ｎが２以上の場合、Ｘは同一であっても異なっていても良い。）のシアノ基含有ベンズアミド化合物と窒素酸化物を反応させることを特徴とする一般式（ＩＩ）
【化４】
（式中、−ＣＯＯＨと−Ｘはベンゼン環上の置換基を表わし、−ＣＯＯＨは−ＣＮのｍ位あるいはｐ位であり、Ｘは塩素原子またはフッ素原子を表わし、ｎは０〜４の整数を表わす。ただし、ｎが２以上の場合、Ｘは同一であっても異なっていても良い。）のシアノ基含有安息香酸化合物の製造方法。
［２］反応を、有機溶媒中で行わせる［１］記載のシアノ基含有安息香酸化合物の製造方法。
【０００９】
［３］有機溶媒が、極性有機溶媒である［２］記載のシアノ基含有安息香酸化合物の製造方法。
［４］極性有機溶媒がカルボン酸とカルボン酸無水物からなる混合溶媒である［３］記載のシアノ基含有安息香酸化合物の製造方法。
［５］反応を、塩基の存在下でおこなわせる［２］〜［４］記載のシアノ基含有安息香酸化合物の製造方法。
［６］塩基がカルボン酸塩である［５］記載のシアノ基含有安息香酸化合物の製造方法。
［７］反応を酸性水溶液中で行わせる［１］記載のシアノ基含有安息香酸化合物の製造方法。
［８］一般式（Ｉ）のシアノ基含有ベンズアミド化合物がｍ−またはｐ−シアノベンズアミドであり、一般式（ＩＩ）のシアノ基含有安息香酸化合物が対応するｍ−またはｐ−シアノ安息香酸である［１］〜［７］記載のシアノ基含有安息香酸化合物の製造方法。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。本発明における反応方法は、溶媒の存在下、シアノ基含有ベンズアミド化合物を反応容器に仕込み、撹拌下に窒素酸化物（気体）を導入し、所定の温度で所定の時間まで攪拌することにより行われる。
反応原材料の仕込みおよび反応は、特に制限はないが一般に大気圧下で行うことができる。用いる反応器としては、ガラス、耐食金属容器が適する。
【００１１】
本反応で用いられるシアノ基含有ベンズアミド化合物について説明する。無置換のシアノ基含有ベンズアミド化合物はｐ−シアノベンズアミド、ｍ−シアノベンズアミドなどであり、それぞれテレフタロニトリルおよびイソフタロニトリルの片側ニトリル基の水和反応（Ｂｅｒｔｈｅｒ ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．，９２（１９５９）２６１６）で容易かつ大量に合成できる。次にハロゲンで置換されたシアノ基含有ベンズアミド化合物について説明する。４−シアノ−２，３，５，６−テトラクロロベンズアミド、３−シアノ−２，４，５，６−テトラクロロベンズアミドなどの塩素化シアノ基含有ベンズアミド化合物はテレフタロニトリルおよびイソフタロニトリルの塩素化により得られるテトラクロロテレフタロニトリルなどの塩素化テレフタロニトリル化合物およびテトラクロロイソフタロニトリルなどの塩素化イソフタロニトリル化合物の片側ニトリル基の水和反応で容易かつ大量に合成できる。
【００１２】
４−シアノ−２，３，５，６−テトラフルオロベンズアミド、３−シアノ−２，４，５，６−テトラフルオロベンズアミドなどのフッ素化シアノ基含有ベンズアミド化合物はテトラクロロテレフタロニトリルなどの塩素化テレフタロニトリル化合物およびテトラクロロイソフタロニトリルなどの塩素化イソフタロニトリル化合物のフッ素化反応で得られるテトラフルオロテレフタロニトリルなどのフッ素テレフタロニトリル化合物およびテトラフルオロイソフタロニトリルなどのフッ素化イソフタロニトリル化合物の片側ニトリル基の水和反応で容易かつ大量に合成できる。
【００１３】
本反応で用いられる窒素酸化物について説明する。本発明でいうところの窒素酸化物とは窒素と酸素のみからなる化合物である。主な窒素酸化物としては、一酸化窒素、三酸化二窒素、二酸化窒素、四酸化二窒素、五酸化二窒素である。また、一酸化二窒素と二酸化窒素の混合物などのようにこれら窒素酸化物の混合物を用いることができる。また、ナイロン工業においてシクロヘキサンを硝酸で酸化する際に生じる膨大な窒素酸化物を含有する排ガスなども本発明では用いることができ、経済的に有利なプロセスを組み立てることができる。
本発明で使用する窒素酸化物の量は、シアノ基含有ベンズアミド化合物に対してモル比で少なくとも１以上必要である。
【００１４】
本反応で用いられる溶媒系としては、有機溶媒や水が使用可能である。有機溶媒を用いる方が、原料であるシアノ基含有ベンズアミド化合物の溶解性などの観点から好ましい。用いることができる有機溶媒としては、ホルムアミド、ジメチルホルムアミドなどの極性アミド系、ジメチルスルホキシド、スルホランなどの含イオウ系、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジオンなどのイミダゾリドン系、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライムなどのエーテル系、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン系、無水酢酸、無水プロピオン酸などの酸無水物系、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸などの有機カルボン酸系などが用いられる。有機溶媒は単独で用いてもよいし、混合して使用してもよい。有機カルボン酸系、酸無水物系、極性アミド系または含イオウ系などの極性有機溶媒が好ましく用いられる。酢酸−無水酢酸の混合溶媒がとくに好適である。
【００１５】
水を溶媒とする場合には、プロトン酸を共存させると反応を促進することができ、硫酸、硝酸、塩酸、リン酸などを含有した酸性水溶液を溶媒として用いることができる。好適には硫酸水溶液が用いられる。５０重量％以上の硫酸水溶液が特に好適である。
【００１６】
有機溶媒中で本反応をおこなうとき、塩基を共存させると反応が効率よく進行する。本反応では、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムなどのカルボン酸塩、メタンスルホン酸ナトリウム、ｐ−トルエンスルホン酸ナトリウムなどのスルホン酸塩を用いることができる。また、塩基存在下有機溶媒中で反応させる場合は、酢酸−無水酢酸−酢酸ナトリウムの反応溶媒系がとくに好適である。
【００１７】
本反応の有機溶媒量は、シアノ基含有ベンズアミド化合物の重量の５〜１００倍が好適である。反応温度は、有機溶媒を用いた場合には、−８０℃〜１００℃が好ましく、さらに好ましくは−１０℃〜５０℃である。本反応の反応時間は、溶媒の組成によるが、１０分〜１０時間が好適である。
【００１８】
溶媒に酸性水溶液を用いる場合には、反応温度が低すぎると原料のシアノ基含有ベンズアミド化合物の溶解度が低く反応速度が遅くなり、高すぎると原料のシアノ基含有ベンズアミド化合物および生成物のシアノ基含有安息香酸化合物のニトリル基が水和、加水分解をうけて収率が低くなるため、０℃〜６０℃が好ましく、さらに好ましくは５℃〜３０℃である。
【００１９】
シアノ基含有安息香酸化合物の単離精製について説明する。有機溶媒を用いた場合は、用いた溶媒の種類によりシアノ基含有安息香酸化合物は析出したり、溶解したままでいる。析出している場合は、ろ過し、水洗し、乾燥するだけで単離精製できる。シアノ基含有安息香酸化合物が溶解している場合は、低温、真空で溶媒を留去し、残査に水を加え、シアノ基含有安息香酸を析出させ、濾過、水洗、乾燥し単離精製できる。用いたシアノ基含有ベンズアミド化合物の純度を反映した純度のシアノ基含有安息香酸化合物が得られる。
【００２０】
溶媒に酸性水溶液を用いた場合には、シアノ基含有安息香酸化合物は酸性水溶液に対する溶解度が極めて低いので、反応終了後、シアノ基含有安息香酸化合物は、析出している。従って、単にろ過し、水洗乾燥するだけで、用いたシアノ基含有ベンズアミド化合物の純度を反映した純度のシアノ基含有安息香酸化合物が得られる。
【００２１】
【実施例】
以下に実施例を用いてさらに詳しく本発明を説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００２２】
【００２３】
実施例１
酢酸３０ｍｌ、無水酢酸７０ｍｌ、ｐ−シアノベンズアミド５ｇを氷冷下混合攪拌した。三酸化二窒素ガスを１９０Ｎｍｌ／ｈｒで６時間導入しながら反応させた。溶媒を真空下留去し、残査に水を加え、析出した結晶をろ取し、水洗後乾燥してｐ−シアノ安息香酸４．７３ｇ（ｐ−シアノベンズアミド基準収率９４％）を得た。高速液体クロマトグラフの分析により得られたｐ−シアノ安息香酸の純度は９９％以上であった。
【００２４】
参考例１
７０％重量濃度の硫酸水溶液１００ｍｌにｍ−シアノベンズアミド２．９２ｇを加え氷冷下混合攪拌した。三酸化二窒素ガスを３３６Ｎｍｌ／ｈｒで２時間導入しながら反応させた。析出した結晶をろ取し、水洗後乾燥してｍ−シアノ安息香酸２．６８ｇ（ｍ−シアノベンズアミド基準収率９２％）を得た。純度は９９％以上であった。
【００２５】
実施例３
酢酸３０ｍｌ、無水酢酸７０ｍｌ、酢酸ナトリウム６．２ｇ、ｐ−シアノベンズアミド５．０ｇを氷冷下混合攪拌した。四酸化二窒素ガスを３８１Ｎｍｌ／ｍｉｎで３時間導入しながら反応させた。溶媒を真空下留去し、残査に水を加え、析出した結晶をろ取し、水洗後乾燥してｐ−シアノ安息香酸４．８３ｇ（ｐ−シアノベンズアミド基準収率９６％）を得た。純度は９７％であった。
【００２６】
実施例４
酢酸３０ｍｌ、無水酢酸７０ｍｌ、酢酸ナトリウム６．２ｇ、ｍ−シアノベンズアミド５．０ｇを氷冷下混合攪拌した。一酸化窒素と二酸化窒素（体積比１：１）の混合ガスを２８６Ｎｍｌ／ｍｉｎで４時間導入しながら反応させた。溶媒を真空下留去し、残査に水を加え、析出した結晶をろ取し、水洗後乾燥してｍ−シアノ安息香酸４．７８ｇ（ｍ−シアノベンズアミド基準収率９４％）を得た。純度は９８％であった。
【００２７】
【発明の効果】
本発明により、フタロニトリル化合物から容易に得られるシアノ基含有ベンズアミド化合物と窒素酸化物ガスを反応させることによりシアノ基含有安息香酸化合物を収率、純度よく製造することができる。
【発明の属する技術分野】
本発明は、一般式（ＩＩ）で示されるシアノ基含有安息香酸化合物の製造方法に関する。シアノ基含有安息香酸化合物は医薬、農薬、液晶、機能性高分子モノマーなどの重要な中間体である。
【０００２】
【従来の技術】
シアノ基含有安息香酸化合物の製法は古くからいくつか知られている。ここでは代表例としてｐ−シアノ安息香酸の製法をあげる。ｐ−シアノ安息香酸は、古典的にはｐ−アミノ安息香酸をジアゾ化した後シアン化銅を反応させるサンドマイヤー反応により合成されている（Ｌｕｃａｓ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，５１（１９２９）２７１８）。また、トルニトリルをクロム酸や過マンガン酸などの強力な試薬酸化剤で酸化し合成する方法が知られている（Ｌｅｖｉｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，２４（１９５９）１１５）、（Ｋａｔｔｗｉｎｋｅｌ ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．，３７（１９０４）３２２６）。
【０００３】
最近では、水系の溶媒中一酸化炭素存在下、パラジウム−ホスフィン触媒を用い、ｐ−クロロベンゾニトリルをカルボニル化することにより、ｐ−シアノ基含有安息香酸が合成できることが知られている（特開昭６４−４７号公報）。また、テレフタロニトリルの片側ニトリル基をモノニトリラーゼなどを用いて酵素的に加水分解して、ｐ−シアノ安息香酸を合成できることが報告されている（特開昭６１−８５１９４号公報）。
【０００４】
本発明に関連のある先行技術として、テレフタロニトリルを加圧下アンモニア水でニトリル基を加水分解する方法がある（Ａｒｋｈｉｐｏｖａ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ｇｅｎ．Ｃｈｅｍ．ＵＳＳＲ，３３（１９６３）６３１）。著者らによれば、テレフタロニトリルの片側水和で生じるｐ−シアノ基含有ベンズアミドのアミド基が加水分解を受け、ｐ−シアノ安息香酸ができるとしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
サンドマイヤー法は、危険なシアン化銅を必要とし、シアン化水素の遊離する酸性条件下でのｐ−シアノ安息香酸の単離精製は困難である。クロム酸や過マンガン酸などの試薬酸化剤を用いた場合は、有毒な重金属廃棄物が生成し、有毒な重金属を含む廃液が大量にでるので環境に対する影響が大きい。カルボニル化による方法は、高価且つ稀少なパラジウムとホスフィンを用いるため経済的な方法とは言えない。微生物を用いた方法は、片側ニトリル基の加水分解の選択性が十分ではないうえ、反応濃度をあげることができず生産性が低い。また、テレフタロニトリルの加水分解法は、望みのｐ−シアノ安息香酸以外にテレフタラミン酸、テレフタラミド、テレフタル酸などが副生し、副生物との分離が困難である。このように、ｐ−シアノ安息香酸は、従来知られている技術では合成が繁雑で高純度体を得るのが困難であり、また原料の入手も容易ではないという問題があった。
【０００６】
本発明の目的は、一般式（ＩＩ）のシアノ基含有安息香酸化合物を工業的に有利な方法により高収率、高純度に製造することにあり、特に医薬中間体として有用なｍ−またはｐ−シアノ安息香酸を高純度且つ高収率で製造することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、一般式（Ｉ）のシアノ基含有ベンズアミド化合物を出発原料として、ベンゼン環上のシアノ基を損なうことなくアミド基（−ＣＯＮＨ2）をカルボキシル基（−ＣＯＯＨ）に変換することにより、上記目的を達成することができた。
【０００８】
すなわち、本発明は以下の発明に関する。
［１］一般式（Ｉ）
【化３】
【化４】
［２］反応を、有機溶媒中で行わせる［１］記載のシアノ基含有安息香酸化合物の製造方法。
【０００９】
［３］有機溶媒が、極性有機溶媒である［２］記載のシアノ基含有安息香酸化合物の製造方法。
［４］極性有機溶媒がカルボン酸とカルボン酸無水物からなる混合溶媒である［３］記載のシアノ基含有安息香酸化合物の製造方法。
［５］反応を、塩基の存在下でおこなわせる［２］〜［４］記載のシアノ基含有安息香酸化合物の製造方法。
［６］塩基がカルボン酸塩である［５］記載のシアノ基含有安息香酸化合物の製造方法。
［７］反応を酸性水溶液中で行わせる［１］記載のシアノ基含有安息香酸化合物の製造方法。
［８］一般式（Ｉ）のシアノ基含有ベンズアミド化合物がｍ−またはｐ−シアノベンズアミドであり、一般式（ＩＩ）のシアノ基含有安息香酸化合物が対応するｍ−またはｐ−シアノ安息香酸である［１］〜［７］記載のシアノ基含有安息香酸化合物の製造方法。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。本発明における反応方法は、溶媒の存在下、シアノ基含有ベンズアミド化合物を反応容器に仕込み、撹拌下に窒素酸化物（気体）を導入し、所定の温度で所定の時間まで攪拌することにより行われる。
反応原材料の仕込みおよび反応は、特に制限はないが一般に大気圧下で行うことができる。用いる反応器としては、ガラス、耐食金属容器が適する。
【００１１】
本反応で用いられるシアノ基含有ベンズアミド化合物について説明する。無置換のシアノ基含有ベンズアミド化合物はｐ−シアノベンズアミド、ｍ−シアノベンズアミドなどであり、それぞれテレフタロニトリルおよびイソフタロニトリルの片側ニトリル基の水和反応（Ｂｅｒｔｈｅｒ ｅｔ ａｌ．，Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．，９２（１９５９）２６１６）で容易かつ大量に合成できる。次にハロゲンで置換されたシアノ基含有ベンズアミド化合物について説明する。４−シアノ−２，３，５，６−テトラクロロベンズアミド、３−シアノ−２，４，５，６−テトラクロロベンズアミドなどの塩素化シアノ基含有ベンズアミド化合物はテレフタロニトリルおよびイソフタロニトリルの塩素化により得られるテトラクロロテレフタロニトリルなどの塩素化テレフタロニトリル化合物およびテトラクロロイソフタロニトリルなどの塩素化イソフタロニトリル化合物の片側ニトリル基の水和反応で容易かつ大量に合成できる。
【００１２】
４−シアノ−２，３，５，６−テトラフルオロベンズアミド、３−シアノ−２，４，５，６−テトラフルオロベンズアミドなどのフッ素化シアノ基含有ベンズアミド化合物はテトラクロロテレフタロニトリルなどの塩素化テレフタロニトリル化合物およびテトラクロロイソフタロニトリルなどの塩素化イソフタロニトリル化合物のフッ素化反応で得られるテトラフルオロテレフタロニトリルなどのフッ素テレフタロニトリル化合物およびテトラフルオロイソフタロニトリルなどのフッ素化イソフタロニトリル化合物の片側ニトリル基の水和反応で容易かつ大量に合成できる。
【００１３】
本反応で用いられる窒素酸化物について説明する。本発明でいうところの窒素酸化物とは窒素と酸素のみからなる化合物である。主な窒素酸化物としては、一酸化窒素、三酸化二窒素、二酸化窒素、四酸化二窒素、五酸化二窒素である。また、一酸化二窒素と二酸化窒素の混合物などのようにこれら窒素酸化物の混合物を用いることができる。また、ナイロン工業においてシクロヘキサンを硝酸で酸化する際に生じる膨大な窒素酸化物を含有する排ガスなども本発明では用いることができ、経済的に有利なプロセスを組み立てることができる。
本発明で使用する窒素酸化物の量は、シアノ基含有ベンズアミド化合物に対してモル比で少なくとも１以上必要である。
【００１４】
本反応で用いられる溶媒系としては、有機溶媒や水が使用可能である。有機溶媒を用いる方が、原料であるシアノ基含有ベンズアミド化合物の溶解性などの観点から好ましい。用いることができる有機溶媒としては、ホルムアミド、ジメチルホルムアミドなどの極性アミド系、ジメチルスルホキシド、スルホランなどの含イオウ系、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジオンなどのイミダゾリドン系、ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライムなどのエーテル系、ジクロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン系、無水酢酸、無水プロピオン酸などの酸無水物系、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸などの有機カルボン酸系などが用いられる。有機溶媒は単独で用いてもよいし、混合して使用してもよい。有機カルボン酸系、酸無水物系、極性アミド系または含イオウ系などの極性有機溶媒が好ましく用いられる。酢酸−無水酢酸の混合溶媒がとくに好適である。
【００１５】
水を溶媒とする場合には、プロトン酸を共存させると反応を促進することができ、硫酸、硝酸、塩酸、リン酸などを含有した酸性水溶液を溶媒として用いることができる。好適には硫酸水溶液が用いられる。５０重量％以上の硫酸水溶液が特に好適である。
【００１６】
有機溶媒中で本反応をおこなうとき、塩基を共存させると反応が効率よく進行する。本反応では、酢酸ナトリウム、酢酸カリウムなどのカルボン酸塩、メタンスルホン酸ナトリウム、ｐ−トルエンスルホン酸ナトリウムなどのスルホン酸塩を用いることができる。また、塩基存在下有機溶媒中で反応させる場合は、酢酸−無水酢酸−酢酸ナトリウムの反応溶媒系がとくに好適である。
【００１７】
本反応の有機溶媒量は、シアノ基含有ベンズアミド化合物の重量の５〜１００倍が好適である。反応温度は、有機溶媒を用いた場合には、−８０℃〜１００℃が好ましく、さらに好ましくは−１０℃〜５０℃である。本反応の反応時間は、溶媒の組成によるが、１０分〜１０時間が好適である。
【００１８】
溶媒に酸性水溶液を用いる場合には、反応温度が低すぎると原料のシアノ基含有ベンズアミド化合物の溶解度が低く反応速度が遅くなり、高すぎると原料のシアノ基含有ベンズアミド化合物および生成物のシアノ基含有安息香酸化合物のニトリル基が水和、加水分解をうけて収率が低くなるため、０℃〜６０℃が好ましく、さらに好ましくは５℃〜３０℃である。
【００１９】
シアノ基含有安息香酸化合物の単離精製について説明する。有機溶媒を用いた場合は、用いた溶媒の種類によりシアノ基含有安息香酸化合物は析出したり、溶解したままでいる。析出している場合は、ろ過し、水洗し、乾燥するだけで単離精製できる。シアノ基含有安息香酸化合物が溶解している場合は、低温、真空で溶媒を留去し、残査に水を加え、シアノ基含有安息香酸を析出させ、濾過、水洗、乾燥し単離精製できる。用いたシアノ基含有ベンズアミド化合物の純度を反映した純度のシアノ基含有安息香酸化合物が得られる。
【００２０】
溶媒に酸性水溶液を用いた場合には、シアノ基含有安息香酸化合物は酸性水溶液に対する溶解度が極めて低いので、反応終了後、シアノ基含有安息香酸化合物は、析出している。従って、単にろ過し、水洗乾燥するだけで、用いたシアノ基含有ベンズアミド化合物の純度を反映した純度のシアノ基含有安息香酸化合物が得られる。
【００２１】
【実施例】
以下に実施例を用いてさらに詳しく本発明を説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００２２】
実施例１
酢酸３０ｍｌ、無水酢酸７０ｍｌ、ｐ−シアノベンズアミド５ｇを氷冷下混合攪拌した。三酸化二窒素ガスを１９０Ｎｍｌ／ｈｒで６時間導入しながら反応させた。溶媒を真空下留去し、残査に水を加え、析出した結晶をろ取し、水洗後乾燥してｐ−シアノ安息香酸４．７３ｇ（ｐ−シアノベンズアミド基準収率９４％）を得た。高速液体クロマトグラフの分析により得られたｐ−シアノ安息香酸の純度は９９％以上であった。
【００２４】
参考例１
７０％重量濃度の硫酸水溶液１００ｍｌにｍ−シアノベンズアミド２．９２ｇを加え氷冷下混合攪拌した。三酸化二窒素ガスを３３６Ｎｍｌ／ｈｒで２時間導入しながら反応させた。析出した結晶をろ取し、水洗後乾燥してｍ−シアノ安息香酸２．６８ｇ（ｍ−シアノベンズアミド基準収率９２％）を得た。純度は９９％以上であった。
【００２５】
実施例３
酢酸３０ｍｌ、無水酢酸７０ｍｌ、酢酸ナトリウム６．２ｇ、ｐ−シアノベンズアミド５．０ｇを氷冷下混合攪拌した。四酸化二窒素ガスを３８１Ｎｍｌ／ｍｉｎで３時間導入しながら反応させた。溶媒を真空下留去し、残査に水を加え、析出した結晶をろ取し、水洗後乾燥してｐ−シアノ安息香酸４．８３ｇ（ｐ−シアノベンズアミド基準収率９６％）を得た。純度は９７％であった。
【００２６】
実施例４
酢酸３０ｍｌ、無水酢酸７０ｍｌ、酢酸ナトリウム６．２ｇ、ｍ−シアノベンズアミド５．０ｇを氷冷下混合攪拌した。一酸化窒素と二酸化窒素（体積比１：１）の混合ガスを２８６Ｎｍｌ／ｍｉｎで４時間導入しながら反応させた。溶媒を真空下留去し、残査に水を加え、析出した結晶をろ取し、水洗後乾燥してｍ−シアノ安息香酸４．７８ｇ（ｍ−シアノベンズアミド基準収率９４％）を得た。純度は９８％であった。
【００２７】
【発明の効果】
本発明により、フタロニトリル化合物から容易に得られるシアノ基含有ベンズアミド化合物と窒素酸化物ガスを反応させることによりシアノ基含有安息香酸化合物を収率、純度よく製造することができる。
Claims (5)
- ｍ−またはｐ−シアノベンズアミドと、一酸化窒素、二酸化窒素、三酸化二窒素、四酸化二窒素、五酸二化窒素から選ばれる少なくとも一つの窒素酸化物を有機溶媒中で反応させることを特徴とするｍ−またはｐ−シアノ安息香酸の製造方法。
- 有機溶媒が、極性有機溶媒である請求項１記載のｍ−またはｐ−シアノ安息香酸の製造方法。
- 極性有機溶媒がカルボン酸とカルボン酸無水物からなる混合溶媒である請求項２記載のｍ−またはｐ−シアノ安息香酸の製造方法。
- 反応を、塩基の存在下でおこなわせる請求項１乃至３のいずれかに記載のｍ−またはｐ−シアノ安息香酸の製造方法。
- 塩基がカルボン酸塩である請求項４記載のｍ−またはｐ−シアノ安息香酸の製造方法。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11362199A JP4275243B2 (ja) | 1999-04-21 | 1999-04-21 | シアノ基含有安息香酸化合物の製造方法 |
| EP04022599A EP1514866B1 (en) | 1998-09-24 | 1999-09-23 | Process for producing cyanobenzoic acid derivatives |
| AT04022599T ATE345325T1 (de) | 1998-09-24 | 1999-09-23 | Verfahren zur herstellung von derivaten der cyanobenzoesäure |
| AT04022598T ATE345324T1 (de) | 1998-09-24 | 1999-09-23 | Verfahren zur herstellung von derivaten der cyanobenzoesäure |
| DE69934034T DE69934034T2 (de) | 1998-09-24 | 1999-09-23 | Verfahren zur Herstellung von Derivaten der Cyanobenzoesäure |
| EP04022598A EP1508567B1 (en) | 1998-09-24 | 1999-09-23 | Process for producing cyanobenzoic acid derivatives |
| DE69934033T DE69934033T2 (de) | 1998-09-24 | 1999-09-23 | Verfahren zur Herstellung von Derivaten der Cyanbenzoesäure |
| EP99118800A EP0989115A3 (en) | 1998-09-24 | 1999-09-23 | Process for producing cyanobenzoic acid derivatives |
| US09/404,362 US6433211B1 (en) | 1998-09-24 | 1999-09-24 | Process for producing cyanobenzoic acid derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11362199A JP4275243B2 (ja) | 1999-04-21 | 1999-04-21 | シアノ基含有安息香酸化合物の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000302741A JP2000302741A (ja) | 2000-10-31 |
| JP4275243B2 true JP4275243B2 (ja) | 2009-06-10 |
Family
ID=14616866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11362199A Expired - Fee Related JP4275243B2 (ja) | 1998-09-24 | 1999-04-21 | シアノ基含有安息香酸化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4275243B2 (ja) |
-
1999
- 1999-04-21 JP JP11362199A patent/JP4275243B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000302741A (ja) | 2000-10-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4012568B2 (ja) | ハロ置換芳香族酸の製造方法 | |
| KR100965633B1 (ko) | 물에서 ｐ-크실렌의 액상 산화에 의한 ｐ-톨루엔산의제조방법 | |
| JP4275243B2 (ja) | シアノ基含有安息香酸化合物の製造方法 | |
| JP3930647B2 (ja) | シアノ安息香酸の製造法 | |
| EP1514866A1 (en) | Process for producing cyanobenzoic acid derivatives | |
| US6433211B1 (en) | Process for producing cyanobenzoic acid derivatives | |
| US6307091B1 (en) | Trifluoro-substituted benzoic acid, esters thereof and processes for preparing the same | |
| JP2002179608A (ja) | フタルアルデヒドの製造方法 | |
| JP2003146964A (ja) | ジアリールスルホンポリカルボン酸類又はその無水物の製造方法 | |
| JP4402186B2 (ja) | シアノ安息香酸化合物の製造方法 | |
| US6187945B1 (en) | Process for producing cyanobenzyl compounds | |
| JPH11322701A (ja) | ニトリルの製造方法 | |
| JP4275242B2 (ja) | シアノ基含有安息香酸化合物の製造方法 | |
| JP4376387B2 (ja) | シアノベンジル化合物の製造方法 | |
| JP4482165B2 (ja) | シアノベンズアルデヒド化合物の製造法 | |
| JP4383604B2 (ja) | 芳香族シアノ安息香酸化合物の製造方法 | |
| JP3637924B2 (ja) | Ｎ−クロル芳香族カルボン酸アミドの製造法 | |
| JPH0725820A (ja) | アセチルビフェニルカルボン酸の製造方法 | |
| JP4239251B2 (ja) | シアノ安息香酸アルキルエステルの製造方法 | |
| JP2000143605A (ja) | シアノ安息香酸クロライド化合物の製造方法 | |
| JPS6245859B2 (ja) | ||
| JP2000154171A (ja) | シアノ安息香酸化合物の製造法 | |
| SU586161A1 (ru) | Способ получени дифенилпропановых поликарбоновых кислот | |
| CN116283637A (zh) | 一种合成对苯二甲酰胺的新方法 | |
| JP2000086610A (ja) | シアノ安息香酸アミドの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051108 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081127 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081209 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090123 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20090123 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090224 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090304 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120313 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120313 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150313 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |