JP4253474B2 - 光学素子とその製造方法及びカラー液晶プロジェクター - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は、カラー液晶プロジェクターに用いるマグネシア製の光学素子に関し、特にマグネシア製の偏光ビームスプリッターや偏光板、位相差板等に関する。この発明はまた、このような光学素子の製造方法や、それを配したカラー液晶プロジェクターに関する。
【0002】
【従来の技術】
カラー液晶プロジェクターでは、その液晶画像形成部に偏光板を使用する為に光が吸収され、また1〜6インチの小面積の画像を数10〜数100インチ程度まで拡大することにより、明るさが低減する。その為光源としては高輝度のものが使用されるが、プロジェクターの明るさを向上するとの要望も根強く、その結果、使用する光源強度は益々高くなってきている。
【0003】
ところで一般に、カラー液晶プロジェクターでは、光源と液晶パネルの間に偏光ビームスプリッターが使用される。偏光ビームスプリッターは、自然光を互いに直交する偏光に分離して、片方の偏光を他方の偏光方向に回転させて明るさを向上させる、光学部品である。偏光ビームスプリッターには、通常の非晶質のガラス、例えばBK−7ガラスや白板ガラス等が硝材として使用されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、最近のカラー液晶プロジェクターの高輝度化、小型・軽量化の要請により、使用する光源強度は益々強くなり、しかも光学部品が小型化されているので、耐久性と投影画像の明るさを兼ね備えた偏光ビームスプリッターや偏光板、およびカラー液晶プロジェクターが望まれている。
【0005】
一般に偏光ビームスプリッターをカラー液晶プロジェクターで使用する場合、まず光源からの光を、インテグレーターレンズで、予め等ピッチで帯状に集光させる。このようにして焦点を結び増幅された光が、偏光ビームスプリッターの帯状パターンに交互に入り、内部で互いに直交する偏光に分離される。ここで、偏光ビームスプリッターの偏光変換効率を上げる為、偏光ビームスプリッターのパターンに交互に、しかも、そのパターンの中心に光を帯状に焦点を結び、集光させる様に光学設計がなされている。この為、偏光ビームスプリッターの面内の照度のムラや温度のムラが大きく、照度や温度の最高部分から劣化が起こる。
【0006】
ガラスに比較して熱伝導率の高い硝材を用いることにより、この種の問題は解決される。熱伝導率の高い硝材として産業応用可能な素材としては、結晶質のサファイアやYAGセラミックス等がある。しかしながら、これらの結晶は非常に硬く、複雑な加工を要する偏光ビームスプリッターの硝材には不向きである。
【0007】
偏光板の場合、サファイヤが硝材(基板)として主に用いられているが、サファイヤでは硬度が高いために研磨が困難で、また軸性結晶(3方晶)なので、結晶軸から少しでも傾いて硝材を切り出すと、画像がぼやける。これに対して、発明者は、マグネシアは結晶が立方晶系なので透光性が高く、またセラミックスなので軸合わせに注意する必要がないことに着目した。さらに、カラー液晶プロジェクターの偏光板での熱負荷を考えると、サファイヤの熱伝導率を1とした場合、YAGセラミックスが0.5、マグネシアで2で、マグネシアの熱伝導率が高いことに着目した。なおサファイヤの熱伝導率は23(W/mK)、YAGセラミックスで12(W/mK)、マグネシアで55(W/mK),光学ガラスで7(W/mK)程度である。
【0008】
カラー液晶プロジェクターには、R,G,Bの3枚の偏光板が必要であるが、青色の偏光板ではサファイヤでも熱負荷の点で限界にきており、今後の高輝度化を考慮すると、透光性が高くかつ耐久性の高い材料が必要とされている。このような事情は1/2波長板や1/4波長板などの位相差板でも同様で、透光性が高く、かつ熱伝導率が高い位相差板が必要とされる。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、上記の問題を解決するため種々検討した結果、ガラスより熱伝導率が高い上、ビッカース硬度が約400とガラスに近い硬度を持つマグネシアを、偏光ビームスプリッターや偏光板、位相差板などの光学素子の硝材に使用することにより、硝材の表面温度を低下させ、且つ面内の温度を均一にさせることができるため長寿命で、しかも安価な光学素子が得られることを見い出し、本発明を完成した。
【0010】
本発明のカラー液晶プロジェクター用の光学素子は、波長600nmでの直線光透過率が4mm厚で78%以上の、透光性マグネシアセラミックスを硝材として用いたものである。本発明の光学素子をカラー液晶プロジェクター用の偏光ビームスプリッターに用いると、例えば1000ANSIルーメン程度の出力のカラー液晶プロジェクターで5000時間程度の耐久性が得られ、直線光透過率が76%と78%とでは、実施例で示すように耐久性に大差がある。ここで波長600nmでの直線光透過率を4mm厚で83%以上とすると、耐久性が更に増すので好ましく、特に好ましくは波長600nmでの直線光透過率を4mm厚で84%以上、最も好ましくは同じ条件で85%以上とする。これらのことは偏光板や位相差板の場合も同様で、直線光透過率は高いほど好ましく、波長600nmでの直線光透過率は4mm厚で少なくとも78%以上、好ましくは83%以上、特に好ましくは84%以上とし、最も好ましくは85%以上とする。サファイヤの直線光透過率の理論値は85.4%なので、マグネシアセラミックスの透過率が84%以上あれば、明るさの点でもサファイヤに匹敵する。マグネシアセラミックスを硝材とすると、これに、低コスト,研磨が容易,軸合わせが不要,熱伝導率が高いなどの利点が加わってくる。以下では透過率は、波長600nmでの4mm厚での直線光透過率を意味する。
【0011】
本発明の前記マグネシアセラミックスは、Al2O3とSiO2を、合計含有量が2000wtppm以下で、Al 2 O 3 濃度の6倍と SiO 2 濃度の和が250 wtppm 以上(好ましくは300wtppm以上)となるように含有させる。Al2O3やSiO2はマグネシアセラミックスの直線光透過率を著しく改善し、低濃度域ではAl2O3はSiO2に比べて6倍程度効果が大きいので、Al 2 O 3 濃度の6倍と SiO 2 濃度の和が250 wtppm 以上(好ましくは300wtppm以上)とする。なおAl2O3の不純物レベルは10wtppm以下、SiO2の不純物レベルは30wtppm以下である。
【0012】
マグネシアセラミックスは、両面ラッピングや両面ポリッシングなどの研磨が容易で、カット時の軸合わせが不要であり、立方晶のためセラミックスとしては光透過率が高く、明るい画像が得られる。そして光透過率が高くかつ熱伝導率が高いため耐熱性も高く、偏光ビームスプリッターや偏光板、位相差板などの光学素子に用いると、光学素子の昇温を防止して、耐久性に富んだ素子が得られ、しかも均一な画像を投影できる(請求項2〜4)。
【0013】
本発明の、偏光ビームスプリッターや偏光板などの光学素子の製造方法では、Al2O3又はSiO2を含有した塩基性炭酸マグネシウムを熱処理したマグネシア原料粉末とバインダーを用いて成形体を作製し、熱処理によりバインダーを除去した後に、水素雰囲気中もしくは真空中で、1250℃以上1500℃以下で焼結し、さらにHIP処理(高温等方圧加圧)することにより、波長600nmでの直線光透過率が4mm厚で78%以上の透光性マグネシアセラミックスを得て、これを硝材とする(請求項5)。
好ましくは、前記マグネシア原料粉末には、Al2O3とSiO2を、合計含有量が2000wtppm以下で、Al 2 O 3 濃度の6倍と SiO 2 濃度の和が250 wtppm 以上となるように含有させる(請求項6)。
【0014】
また本発明は、請求項1〜4のいずれかの光学素子を用いたカラー液晶プロジェクターにある(請求項7)。より好ましくは、請求項2の偏光ビームスプリッターや、請求項3の偏光板、あるいは請求項4の位相差板を用いる。
【0015】
【発明の実施の態様】
マグネシアは電気絶縁性、熱伝導性に優れていることから、電融マグネシアの形でシースヒータの絶縁体として用いられているが、マグネシアの融点は2800℃と高く、電融マグネシアの製造過程でまれに大型の結晶が得られることがある程度であり、現在までのところ産業的に応用できる大型単結晶育成技術は見出されていない。
【0016】
一方、粉体製造技術ならびにセラミックス製造技術の方法については、特開昭50−153798や特開昭51−47911に開示されており、光学応用可能な透光性セラミックスも製造されるようになってきた。本発明で使用するマグネシアセラミックスは、透光性マグネシアセラミックスを板状にしたものである。
【0017】
光学素子に使用するに当たって、透光性マグネシアセラミックスの直線光透過率が重要である。直線光透過率が低い場合には入射した光が散乱され、透過光量の低下や縦偏光ないし横偏光への変換効率の低下などが起こる。更にはセラミックス内部で光吸収が起こり、硝材の表面温度が上昇する。これらの理由から、透光性マグネシアセラミックスの直線光透過率は波長600nmにおいて4mm厚で78%以上とし、好ましくは83%以上とし、特に好ましくは84%以上、最も好ましくは85%以上とする。なお理論透過率は86%である。
【0018】
マグネシア製光学素子で使用する位相差膜には1/2波長膜があげられ、例えばポラテクノ社製のWBR−90PCARやWBR−90PC(CL)ARなどのWBR−90シリーズ(広帯域用1/2波長膜)などがある。なお「WBR−90PCAR」等は商品名で、1/2波長膜などは1/2波長板などと呼ばれることがある。本発明のマグネシア製偏光ビームスプリッターの表面には、AR(反射防止)層を設けても良く、例えば二酸化珪素、酸化チタン等の蒸着膜やスパッタリング膜などを用い、またフッ素系物質を薄く塗布しても形成できる。
【0019】
本発明の光学素子の大きさは所望の大きさで良く、例えば一辺または径が5〜300mm、好ましくは20〜200mm程度であり、その形状は長方形、正方形、円形等、特に制限はないが、通常は長方形とする。その厚さは一般的には0.3〜10mm程度とし、好ましくは0.5〜5mm程度とする。偏光ビームスプリッターの場合は、厚さを例えば0.5〜10mmとし、好ましくは1〜5mm程度とする。
【0020】
本発明の偏光ビームスプリッターにおける一つの態様は、板状の透光性マグネシアセラミックスを研磨したマグネシア基板の片面に、偏光分離膜を蒸着マルチコート加工し、所望の枚数を接着し、正確に45度方向に切り出したものを、硝材として使用し、1/2波長膜を等ピッチで貼付したものである。このようにすることにより、マグネシア基板の熱伝導性の高さの為に、高輝度、高温度または不均一な高温度に暴露されても、温度の均一化が起こり、最高温度部分の著しい温度低下をもたらし、貼付した1/2波長膜の耐久性が向上し、硝材の接合部の黄変や剥離を防止することができる。また、単板光透過率をより向上させるために、マグネシア面または1/2波長膜のピッチ面の一方もしくは双方の面にAR(反射防止)層を設けることが好ましい。
【0021】
本発明の偏光ビームスプリッターを製造するには、例えばまず1/2波長膜などの位相差膜の遅相軸または進相軸を測定し、1つの辺を基準として所望の軸角度と大きさで、短形に切り、硝材として準備した等ピッチで整列したマグネシア基板に透明な接着(粘着)剤を塗布し、ついでこの塗布面に位相差膜を貼付すれば良い。また、位相差膜に透明な接着(粘着)剤を塗布し、ついでこの塗布面にマグネシア基板を貼付しても良い。ここで使用する接着(粘着)剤は、例えばアクリル酸エステル系のものが好ましい。この1/2波長膜の大きさは所望の大きさで良く、例えば一辺が1〜300mm、好ましくは3〜150mm程度であり、その形状は長方形、正方形等、特に制限はないが、通常は長方形が好ましい。その厚さは0.1〜1mm、好ましくは0.1〜0.3mm程度がよい。
【0022】
また、偏光ビームスプリッターに使用する硝材を製造するには、透光性マグネシアセラミックスを板状にしたものから、厚みが均一になるように、正確に表面研磨したマグネシア基板を所望の枚数用意する。この厚みは所望の厚みでよく、例えば0.3〜10mm、好ましくは0.5〜5mm程度がよい。このマグネシア基板の片面に蒸着マルチコート加工により偏光分離膜を形成させて、所望の枚数を重ね合わせて、接着する。ここで使用する接着(粘着)剤としては、例えば紫外線硬化型接着剤や熱硬化型接着剤のいずれも使用できる。
【0023】
この接着したものを、正確に45度方向に切り出し、厚みが均一になるように表面研磨する。この厚みは一般的には、偏光ビームスプリッターのピッチの幅と同一にし、例えば一つのピッチが0.5〜10mm、好ましくは1〜5mm程度がよい。このマグネシアを所望の大きさに切り出して、本発明で使用する硝材を得る。この大きさは所望の大きさで良く、例えば一辺が5〜300mm、好ましくは20〜200mm程度であり、その形状は長方形、正方形等、特に制限はないが、通常は長方形が好ましい。
【0024】
本発明のカラー液晶プロジェクターには、上記のマグネシア製偏光ビームスプリッターを用い、通常は光源と入射側偏光板の間に配置する。また反射型液晶パネルを使用した場合は、各々のシステムによって最適な位置に配置する。
【0025】
本発明のカラー液晶プロジェクターでは、例えば光源の直後に紫外線カットフィルタ、マルチレンズを順に設け、その後に上記のマグネシア製偏光ビームスプリッターを配置する。上記マルチレンズによって、偏光ビームスプリッターのピッチの一つおきに、光は焦点を結ばれ、この部分の光束密度は極めて高く、それにより温度も高くなる。ここに本発明のマグネシア製偏光ビームスプリッターを配置すると、硝材がマグネシアである為に熱伝導率が高く、周囲へ熱を分散させて高温部の温度を下げ、偏光ビームスプリッターの1/2波長膜や接合部への負荷を減らし、耐久性を向上させることができる。
【0026】
好ましくは、偏光板の硝材として請求項3のようにマグネシアセラミックスを用いる。ここで光入射側偏光板は、液晶プロジェクター使用中に強い光にさらされ昇温する。通常の液晶表示素子のように、液晶セルと光入射側偏光板が密着していると、光入射側偏光板の熱が液晶セルに伝達し、液晶セル内の液晶がNI点(液晶相と等方相の相変化温度)を越えて、表示ができなくなってしまう。これを避けるため、好ましくは液晶セルと光入射側偏光板とを離間して配置し、冷却ファン等により空気やガスを循環させ、あるいは水冷などの液冷により液晶セルの過熱を防止する。
【0027】
また位相差板の硝材には、請求項4のように、マグネシアセラミックスを用いることが好ましく、位相差板には1/2波長板や1/4波長板などがある。このようにすると、マグネシアセラミックスの光透過率が高く、しかも熱伝導度が高いため、明るくかつ耐久性の高い位相差板が得られる。
【0028】
また偏光ビームスプリッターも液晶プロジェクター使用中に強い光にさらされ温度が高くなり、偏光ビームスプリッターの劣化が進み、投影画像の明るさの減少や不具合が生じてしまう。これを避けるため、偏光ビームスプリッター周辺部に、冷却ファン等により空気やガスを循環させて、偏光ビームスプリッターの過熱を防止している。また過熱防止の方法としては水冷方式も用いられる。
【0029】
本発明のカラー液晶プロジェクターの1例をあげると、メタルハライドランプ等の光源から放射された光は、紫外線カットフィルタや偏光ビームスプリッターを通過し、ついで3つのダイクロイックミラーでR(赤色)、G(緑色)、B(青色)の3原色の光に分けられ、それぞれ偏光板を通過して液晶表示パネルに照射される。液晶表示パネルを通過した3原色の光は、出射側の偏光板を通過しダイクロイックプリズムにより集光された後、投射レンズにより拡大されてスクリーンに投影される。
【0030】
【実施例】
透光性マグネシアセラミックスの調整
透光性マグネシアセラミックスの調製を次の方法で行った。原料の塩化マグネシウムの純度は99.99%以上である。0.4(mol/l)の塩化マグネシウム水溶液中に、塩化アルミニウム溶液又は珪酸ナトリウム溶液等の形態で、Al元素やSi元素を添加し、これを0.4(mol/l)の炭酸ナトリウム溶液と反応させ、正炭酸マグネシウム(MgCO3・3H2O)を得た。得られた沈殿物をろ過洗浄し、炭酸ガスによりPHを9.7に調製した。さらに沈殿物を35℃で24時間熟成させて、塩基性炭酸マグネシウム(4MgCO3・Mg(OH)2・5H2O)を得た。原料中の不純物や珪酸ナトリウム中のナトリウムなどは、濾過と洗浄の過程で失われ、塩基性炭酸マグネシウム中に残存する不純物の大部分はAl2O3又はSiO2で、これらを意図的に添加しない場合の不純物レベルは各々10wtppm以下及び30wtppm以下であった。
【0031】
得られた塩基性炭酸マグネシウムを110℃で乾燥後、酸素雰囲気中で900℃で18時間熱処理して、透光性マグネシアセラミックスの原料粉末とした。この原料粉末に対して、Al2O3やSiO2の含有量を測定した。得られたマグネシア原料粉末200gに対して、解膠剤(例えば共栄社化学製フローレンG−700を6g、「フローレンG」は商品名)、バインダーとしてメチルセルロースを4g、エタノール120gを加え、ナイロンポット及びナイロンボールを用いて5時間混合し、アルコールスラリーとした。このスラリーを透水性の樹脂型に流し込み、100mm×100mm×7mmの成形体を得た。
【0032】
この成形体を、酸素気流中10℃/hrにて昇温し、1000℃で20時間脱脂を行った。焼結は、水素雰囲気又は真空中(真空度は0.1Pa以下)にて1250℃〜1500℃で行った後(一次焼結)、1300℃〜1550℃で、高純度アルゴンガス雰囲気中108Pa(一般的には3×107Pa以上)の圧力にて、4時間HIP処理を行った。得られた焼結体の両面を、ダイヤモンドスラリーを用いて鏡面研磨を行い、分光光度計にて直線光透過率を測定した。得られた透光性マグネシアセラミックスの直線光透過率(600nmで4mm厚)と製造条件の関係を、試験例1〜9として表1に示す。透光性マグネシアの粒径は10〜20μmで均一な組織構造であり、Al2O3含有量(不純物)は3wtppm、SiO2含有量(珪酸ナトリウムとして添加)は600wtppmであった。
【0033】
【表1】
透光性マグネシアセラミックスの焼結条件
一次焼結温度 一次焼結後の HIP温度(℃) HIP後の
(℃×時間) 成型体密度 (%) 直線光透過率 (%)
試験例1 1250×1 92.5 1350 75.5
試験例2 1300×1 93.8 1400 76.0
試験例3 1350×1 94.9 1450 78.0
試験例4 1400×1 96.3 1500 83.0
試験例5 1450×1 97.8 1550 84.0
試験例6 1475×1 99.0 1550 84.5
試験例7 1475×1 99.0 1600 85.0
試験例8 1500×1 99.1 1600 85.3
試験例9 1500×1 99.1 1625 85.4
【0034】
試験例5の条件で、Al2O3含有量を3wtppmに固定し、SiO2含有量を変化させ、他は試験例5と同様にして、マグネシアセラミックスを調製した。SiO2含有量と波長600nmでの4mm厚での直線光透過率との関係を表2に示す。
【0035】
【表2】
SiO 2 濃度( wtppm ) 100 300 600 2000
直線光透過率(%) 45.0 84.0 84.0 82.0
【0036】
試験例5の条件で、SiO2含有量を30wtppmに固定し、Al2O3含有量を変化させ、他は試験例5と同様にして、マグネシアセラミックスを調製した。Al2O3含有量と波長600nmでの4mm厚での直線光透過率との関係を表3に示す。
【0037】
【表3】
Al 2 O 3 濃度( wtppm ) 10 50 2000
直線光透過率(%) 45.0 84.0 82.0
【0038】
表2,表3から、直線光透過率が78%以上のマグネシアセラミックスを得るには、Al2O3又はSiO2が必要で、低濃度域ではAl2O3はSiO2よりも効果的に光透過率を向上させ、Al2O3の効果はSiO2の効果の約6倍であることが分かる。またAl2O3含有量やSiO2含有量が5000wtppm程度では、固溶できないAl2O3やSiO2が粒界に析出して直線光透過率を著しく低下させ、また硝材として加工するのが困難となる程度に平均粒径が増してセラミックスの強度が低下した。このためAl2O3含有量やSiO2含有量は、合計で2000wtppm以下とする。
【0039】
偏光ビームスプリッターの構造(実施例1)
マグネシア製偏光ビームスプリッター4の例を図1に示す。ここで、図1の接合部41は基板と基板を接着した部分で、貼付部42は基板に1/2波長膜を貼付する部分である。透光性マグネシアセラミックスを板状にしたものから、厚みが2.8mm(=2√2:一つのピッチが4.0mmとなる)になるように、正確に表面研磨したマグネシア基板を所望の枚数、用意した。なお、用いた透光性マグネシアセラミックス基板(試験例7)の直線光透過率は4mm厚で85.0%であった。このマグネシア基板の片面に、蒸着マルチコート加工により偏光分離膜を形成し、17枚を重ね合わせ、紫外線硬化型接着剤により接着した。この接着したものを、正確に45度方向に切り出し、厚みが4mmになるように表面研磨し、縦68.8mm、横66.8mmのサイズに切り出した。また、片面に粘着層を有するポリカーボネート系1/2波長膜WBR−90PC(ポラテクノ社製で「WBR−90PC」は商品名)を、その原反から、縦68.8mm、横4.0mmの大きさに正確に切り出した。切り出した8枚の1/2波長膜の粘着剤面を上記マグネシア硝材の貼付部42と正確にあわせて貼付し、その双方の面にAR加工処理(反射防止加工処理)を施し、マグネシア製偏光ビームスプリッター4を得た。
【0040】
偏光ビームスプリッターの構造(実施例2)
試験例7で調製したマグネシアセラミックスを用い、偏光分離膜の形成と接着後で、1/2波長膜を貼り付ける前の、縦68.8mm、横66.8mm、厚み4mmの透光性マグネシアセラミックス硝材の双方の面に、AR加工処理を施した。また、その片面に粘着層を有するポリカーボネート系1/2波長膜WBR−90PCAR(表面AR加工処理品、ポラテクノ社製で、「WBR−90PCAR」は商品名)をその原反から、縦68.8mm、横4.0mmの大きさに正確に切り出した。切り出した8枚の1/2波長膜の粘着剤面を上記マグネシア硝材の貼付部42と正確にあわせて貼付し、マグネシア製偏光ビームスプリッターを得た。他の点は、実施例1と全く同様である。
【0041】
硝材の変更
透光性マグネシアセラミックスとして、波長600nmでの直線光透過率が4mm厚で76%(試験例2)、78%(試験例3)および84%(試験例5)のものを用いた以外は、実施例1と同様にして、3種の偏光ビームスプリッターを作製した。
【0042】
カラー液晶プロジェクター
実施例1の方法で得られたマグネシア製偏光ビームスプリッターを使用した、カラー液晶プロジェクターを図2に示す。この例では、通常のガラス板に1/2波長膜付き偏光板を貼付したガラス板付き偏光板を入射側偏光板として、偏光板面を液晶側に配置し、サファイア基板付き偏光板は液晶セルの出射側に配置している。光源(メタルハライドランプ)1から出射された可視光線はUV/IRカットフィルタ2を通過し、インテグレーターレンズ3と偏光ビームスプリッター4により大部分の自然光が一定方向の偏光に効率よく変換された後、最初の色分解用ダイクロイックミラー5で赤(R)が分離され、ついで2番目の色分解用ダイクロイックミラー5で緑(G)と青(B)に分解されて3原色を得る。R、G、Bそれぞれの光線は、青用入射側偏光板7B、赤用入射側偏光板7R、緑用入射側偏光板7Gに入射され、一定方向の偏光の光線のみがTFT液晶セル8に入射する。なお6はミラーである。液晶セル8を通過した偏光は青用出射側偏光板9B、赤用出射側偏光板9R、緑用出射側偏光板9Gに入射する。出射側偏光板9B、9Rを通過した偏光は、直接合成用ダイクロイックミラー付きクロスプリズム11へ入射し、また緑用出射側偏光板9Gを通過した光線は、1/2波長膜10を通過して、色合成用ダイクロイックミラー付きクロスプリズム11へ入射する。その後、クロスプリズム11を通過して合成された偏光は、投射レンズ12を介して、スクリーン13に投影される。
【0043】
耐久性
通常のガラスを硝材とした偏光ビームスプリッター、ならびに透光性マグネシアセラミックスを用いた4種(直線光透過率76%,78%,84%,85%)の偏光ビームスプリッターを用いて、図2に示したカラー液晶プロジェクターを作成した。各液晶プロジェクターの出力(明るさ)は、1000ANSIルーメン程度であった。さらにこれら5台のプロジェクターを40℃環境下で同時に5000時間連続運転を行い、偏光ビームスプリッター4の変化を確認した。通常のガラス製偏光ビームスプリッターならびに直線光透過率が76%のマグネシア製偏光ビームスプリッターでは、1/2波長膜に焼けが発生し、接合部も黄変した。これに対して、波長600nmでの直線光透過率が4mm厚で78%以上の、3種のマグネシア製偏光ビームスプリッターでは、何れも変化がなかった。
【0044】
また、同様にして10000時間連続運転を行い、偏光ビームスプリッター4の変化を確認したところ、波長600nmでの直線光透過率が4mm厚で78%のマグネシア製偏光ビームスプリッターでは1/2波長膜に焼けが発生し、接合部も黄変した。これに対して、直線光透過率が84%以上のマグネシア製偏光ビームスプリッターには変化がなかった。以上のように、波長600nmでの直線光透過率が4mm厚で78%以上のマグネシア製偏光ビームスプリッターを使用することにより、連続5000時間運転での1/2波長膜の焼けや接合部の黄変や剥離を防止でき、直線光透過率が84%以上のマグネシア製偏光ビームスプリッターを使用することにより、連続10000時間運転での1/2波長膜の焼けや接合部の黄変や剥離を防止でき、明るく、高コントラストで均一性の優れた画像を長時間安定に表示できる、カラー液晶プロジェクターが得られた。
【0045】
偏光板の調製
表1の試験例7に相当する条件で、直線光透過率(600nmで4mm厚)85%のマグネシアセラミックス板を調製した。Al2O3含有量(不純物レベル)は3wtppm、SiO2含有量は600wtppmであった。このマグネシアセラミックスを縦27mm、横33mm、厚さ0.5mmに切り出し、両面を鏡面研磨した後に、片面をAR(反射防止)加工した。次に有機系偏光フィルム(片面をAR加工しても良い。その場合はAR加工面を接着面としない)を、AR加工していない側のマグネシアセラミックス面に、アクリル酸エステル系接着剤で貼り付ける。
【0046】
図3に、得られた偏光板20の構造を示すと、22は前記のマグネシアセラミックス硝材、23は反射防止コート層、24は偏光フィルムである。このようにして、青用、緑用、赤用の3種類のマグネシア偏光板を得、図2の入射側偏光板7R〜7Bと、出射側偏光板9R〜9Bの双方に用いた。なお1/2波長膜は、ダイクロイックミラー付きクロスプリズム11側に装着した。
【0047】
比較のために、硝材をマグネシアからBK−7ガラスに変更した他は同様の偏光板(比較例1)、硝材をYAGセラミックスとした他は同様の偏光板(比較例2)、硝材をサファイヤとした他は同様の偏光板(比較例3)を調製した。これらを図2の入射側や出射側の偏光板(R,G,Bとも)に用い、4種類のカラー液晶プロジェクターを作成した。各プロジェクターの出力(明るさ)は1000ANSIルーメン程度であった。これらの4台のカラー液晶プロジェクターを、40℃の環境下で10,000時間連続運転した後に、熱負荷の大きい青用と緑用の偏光板について、表面温度を測定した。結果を表4に示す。
【0048】
【表4】
10 , 000時間使用後の偏光板表面温度
試 料 表面温度 (℃)
7B 9B 7G 9G
実施例3(マグネシヤ) 48 55 40 57
比較例1(ガラス) 65 76 56 78
比較例2(YAG) 56 66 47 69
比較例3(サファイヤ) 52 61 44 64
【0049】
以上のように、熱伝導率が高く、透光性が高いために発熱の少ない、マグネシア基板を用いることにより、偏光板の表面温度を低く抑えられ、均一な画像を長時間維持できる偏光板が得られた。なおマグネシアセラミックスの直線光透過率は、波長600nmで4mm厚の条件で、少なくとも78%以上とし、好ましくは83%以上、特に好ましくは84%以上、最も好ましくは85%以上とする。マグネシアセラミックスには、直線光透過率を向上させるため、Al2O3とSiO2を、合計含有量が2000wtppm以下で、Al 2 O 3 濃度の6倍と SiO 2 濃度の和が250 wtppm 以上(好ましくは300wtppm以上)となるように含有させる。
【0050】
偏光板の場合と同様に、1/2波長板や1/4波長板などの位相差板の硝材にも、マグネシアセラミックスを用いることが好ましい。位相差板の場合も、硝材のマグネシアセラミックスの直線光透過率は、波長600nmで4mm厚の条件で、少なくとも78%以上とし、好ましくは83%以上、特に好ましくは84%以上、最も好ましくは85%以上とする。また硝材のマグネシアセラミックスには、直線光透過率を向上させるため、Al2O3とSiO2を、合計含有量が2000wtppm以下で、Al 2 O 3 濃度の6倍と SiO 2 濃度の和が250 wtppm 以上となるように含有させる。
【0051】
位相差板の製造では、マグネシアセラミックスの両面を鏡面研磨し、例えば片面に反射防止コート層を設け、他面に1/2波長膜や1/4波長膜を透明な接着剤で貼り付ける。1/2波長膜や1/4波長膜は例えばポリビニルアルコールやポリカーボネートなどの膜を1軸延伸して異方性を持たせたもので、延伸の程度や添加物などにより赤用、青用、緑用等の種類を設けて、リタデーション値を異ならせたものを用いる。そして1/2波長膜や1/4波長膜は、進相軸や遅相軸が所定の向きを向くように切断し、アクリル酸エステル系やポリビニルアルコール系等の透明接着剤で、マグネシア硝材に貼り付ける。このようにすると、硝材の直線光透過率が高く、熱伝導度が高いため、1/2波長膜や1/4波長膜などに焼けや黄変が生じず、耐久性の高い1/2波長板などが得られ、光源を明るくできるため、高輝度のカラー液晶スプリッターが得られる。また硝材が等軸性のマグネシアセラミックスなので軸合わせの必要がない。
【0052】
【発明の効果】
本発明の光学素子を用いると、明るさと耐久性のいずれもが良好で、優れた画像を長時間安定的に表示できる、カラー液晶プロジェクターが得られる。
本発明の偏光ビームスプリッターを用いると、さらに高コントラストで均一性に優れた画像を長時間安定に表示できる。
本発明の偏光板や位相差板を用いると、セラミックスとしてはサファイヤに匹敵し得るほどに明るく、軸合わせが不要で、昇温が少ないため偏光層や1/2波長膜などの劣化を防止して、高輝度のカラー画像を長時間安定に表示できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施例の偏光ビームスプリッターの構造を示す図である。
【図2】 実施例の偏光ビームスプリッターを用いたカラー液晶プロジェクタの構造を示す図である。
【図3】 実施例の偏光板の断面図である。
【符号の説明】
1 光源(メタルハライドランプ)
2 UV/IRカットフィルタ
3 インテグレーターレンズ
4 偏光ビームスプリッター
41 接合部
42 貼付部
5 色分解用ダイクロイックミラー
6 ミラー
7R 赤用入射側偏光板
7G 緑用入射側偏光板
7B 青用入射側偏光板
8 TFT液晶セル
9R 赤用出射側偏光板
9G 緑用出射側偏光板
9B 青用出射側偏光板
10 1/2波長膜
11 色合成用ダイクロイックミラー付きクロスプリズム
12 投射レンズ
13 スクリーン
20 偏光板
22 マグネシアセラミックス硝材
23 反射防止コート層
24 偏光フィルム
Claims (7)
- Al2O3とSiO2を、合計含有量が2000wtppm以下で、 Al 2 O 3 濃度の6倍と SiO 2 濃度の和が250 wtppm 以上となるように含有し、かつ波長600nmでの直線光透過率が4mm厚で78%以上の透光性マグネシアセラミックスを硝材とした、カラー液晶プロジェクター用の光学素子。
- 前記光学素子が偏光ビームスプリッターであることを特徴とする、請求項1の光学素子。
- 前記光学素子が偏光板であることを特徴とする、請求項1の光学素子。
- 前記光学素子が位相差板であることを特徴とする、請求項1の光学素子。
- Al2O3又はSiO2を含有する塩基性炭酸マグネシウムを熱処理したマグネシア原料粉末と、バインダーとを用いて成形体を作製し、熱処理によりバインダーを除去した後に、水素雰囲気中もしくは真空中で、1250℃以上1500℃以下で焼結し、さらにHIP処理(高温等方圧加圧)することにより得た、波長600nmでの直線光透過率が4mm厚で78%以上の透光性マグネシアセラミックスを硝材とする、カラー液晶プロジェクター用の光学素子の製造方法。
- 前記マグネシア原料粉末には、Al2O3とSiO2を、合計含有量が2000wtppm以下で、Al 2 O 3 濃度の6倍と SiO 2 濃度の和が250 wtppm 以上となるように含有させることを特徴とする、請求項5の光学素子の製造方法。
- 請求項1〜4のいずれかの光学素子を用いたカラー液晶プロジェクター。
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