JP4247937B2 - 半導体発光装置の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体発光装置に関し、特にページプリンタ用感光ドラムの露光用光源などに用いられる半導体発光装置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
従来の半導体発光装置を図4ないし図5に示す。図4は断面図、図5は平面図である。図4および図5において、21は半導体基板、22は一導電型半導体層、23は逆導電型半導体層、24は個別電極、25は共通電極である。
【0003】
半導体基板21上に、一導電型半導体層22と逆導電型半導体層23を設けると共に、この一導電型半導体層22の露出部に共通電極25(25a、25b)を接続して設け、逆導電型半導体層23に個別電極24を接続して設けている。なお、図4において、26および27は窒化シリコン膜などから成る保護膜である。また、図5に示すように、共通電極25(25a、25b)は隣接する島状半導体層22、23ごとに異なる群に属するように二群に分けて接続して設けられ、隣接する島状半導体層22、23が同じ個別電極24に接続されている。
【0004】
このような発光ダイオードアレイでは、個別電極24と共通電極25(25a、25b)の組み合わせを選択して電流を流すことによって、各発光ダイオードを選択的に発光させることができる。
【0005】
ところが、この従来の半導体発光装置では逆導電型半導体層23と個別電極24とのオーミックコンタクトを取るため、逆導電型半導体層23の上層のオーミックコンタクト層23cの膜厚を0.2μm程度に厚くする必要があった。つまり、オーミックコンタクト層23が薄いと、オーミック抵抗が増え、駆動電圧Vfを低く抑えることができないからである。この場合オーミックコンタクト層23cの膜厚に応じて発光の吸収が増大し、発光効率の低下をまねくという問題があった。
【0006】
これを回避するために、図4に示すように、オーミックコンタクト層23cの個別電極24との接触部分のみが残るように、オーミックコンタクト層23cの他の部分をエッチング除去して発光効率の低下を防止する方法もあるが、パターニングのためのフォトリソ工程が増え工程が煩雑となる。
【0007】
また、別の回避手段として、オーミックコンタクト層23cを薄くする方法もあるが、オーミックコンタクト層23cの下に半導体不純物を高濃度に含有するAlx Ga1-x Asからなるキャップ層などを設けたりする必要があり、成膜が煩雑になるという問題があった。
【0008】
本発明はこのような従来方法の問題点に鑑みてなされたものであり、オーミックコンタクト層で発光が吸収されることによる発光効率の低下の問題を解消した半導体発光装置の製造方法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明に係る半導体発光装置の製造方法では、最上部にオーミックコンタクト層を有する半導体層を基板上に形成して島状にパターニングした後に、前記半導体層をコンタクトホールを有する第1の絶縁膜で被覆し、前記オーミックコンタクト層に前記コンタクトホールを介して電極を接続して形成する半導体発光装置の製造方法において、前記オーミックコンタクト層の一部が前記コンタクトホールから露出するように前記電極を形成すると共に、前記電極及び前記第1の絶縁膜をマスクとして、露出した前記オーミックコンタクト層の一部をエッチング除去し、しかる後前記コンタクトホールを第2の絶縁膜で被覆する。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を添付図面に基づき詳細に説明する。
図1および図2は本発明に係る半導体発光装置の製造方法の一実施形態を示す断面図、図3は平面図である。図1は図3中のA−A’線断面図、図2は図3中のB−B’線断面図である。
【0011】
図1および図2において、1は基板、2は一導電型半導体層、3は逆導電型半導体層、4は個別電極、5は共通電極、6および7は絶縁膜である。
【0012】
基板1はシリコン(Si)やガリウム砒素(GaAs)などの単結晶半導体基板やサファイア(Al2 O3 )などの単結晶絶縁基板から成る。単結晶半導体基板の場合、(100)面を<011>方向に2〜7°オフさせた基板などが好適に用いられる。サファイアの場合、C面基板が好適に用いられる。
【0013】
まず、単結晶基板1上に、一導電型半導体層2、逆導電型半導体層3をMOCVD法などで順次積層して形成する。
【0014】
これらの半導体層2、3を形成する場合、基板温度をまず400〜500℃に設定して200〜2000Åの厚みにアモルファス状のガリウム砒素膜を形成した後、基板温度を700〜900℃に上げて所望厚みの半導体層2、3を形成する。
【0015】
この場合、原料ガスとしてはTMG((CH3 )3 Ga)、TEG((C2 H5 )3 Ga)、アルシン(AsH3 )、TMA((CH3 )3 Al)、TEA((C2 H5 )3 Al)などが用いられ、導電型を制御するためのガスとしては、シラン(SiH4 )、セレン化水素(H2 Se)、TMZ((CH3 )3 Zn)などが用いられ、キャリアガスとしては、H2 などが用いられる。
【0016】
一導電型半導体層2は、バッファ層2a、オーミックコンタクト層2b、電子の注入層2cで構成される。バッファ層2aは2〜4μm程度の厚みに形成され、オーミックコンタクト層2bは0.1〜1.0μm程度の厚みに形成され、電子の注入層2cは0.2〜0.4μm程度の厚みに形成される。バッファ層2aとオーミックコンタクト層2bはガリウム砒素(GaAs)などで形成され、電子の注入層2cはアルミニウムガリウム砒素(Alx Ga1-x As)などで形成される。オーミックコンタクト層2bはシリコンなどの一導電型半導体不純物を1×1016〜1017atoms/cm3 程度含有し、電子の注入層2cはシリコンなどの一導電型半導体不純物を1×1016〜1019atoms/cm3 程度含有する。また、この時電子注入層2cのAlの組成はx=0.24〜0.5程度に形成する。バッファ層2aは基板1と半導体層2、3との格子定数の不整合に基づくミスフィット転位を防止するために設けるものであり、半導体不純物を含有させる必要はない。
【0017】
逆導電型半導体層3は、発光層3a、第2のクラッド層3b、および第2のオーミックコンタクト層3cで構成される。発光層3aと第2のクラッド層3bは0.2〜0.4μm程度の厚みに形成され、オーミックコンタクト層3cは0.01〜0.2μm程度の厚みに形成される。第2のオーミックコンタクト層3cはガリウム砒素などから成る。
【0018】
発光層3aと第2のクラッド層3bは、電子の閉じ込め効果と光の取り出し効果を考慮してアルミニウム砒素(AlAs)とガリウム砒素(GaAs)との混晶比を異ならしめる。発光層3aと第2のクラッド層3bは亜鉛(Zn)などの逆導電型半導体不純物を1×1016〜1018atoms/cm3 程度含有し、第2のオーミックコンタクト層3cは亜鉛などの逆導電型半導体不純物を1×1019〜1020atoms/cm3 程度含有する。
【0019】
基板1上の全面もしくは一部に、一導電型半導体層2と逆導電型半導体層3を積層して形成した後に、一導電型半導体層2と逆導電型半導体層3を島状にエッチングする。このエッチングは、硫酸過酸化水素系のエッチング液を用いたウエットエッチングやCCl2 F2 ガスを用いたドライエッチングなどで行われる。
【0020】
次に、一導電型半導体層2(2a、2b)の一端部側の一部を露出させるためにエッチングする。このエッチングも硫酸過酸化水素系のエッチング液を用いたウェットエッチングやCCl2 F2 ガスを用いたドライエッチングなどで行なわれる。
【0021】
次に、シランガス(SiH4 )とアンモニアガス(NH3 )を用いたプラズマCVD法で窒化シリコンから成る絶縁膜6を厚み3000〜5000Å程度に形成し、パターニングを行ってコンタクトホールC1 、C2 を形成する。
【0022】
次に、クロムや金を蒸着法やスパッタリング法で成膜し、パターニングして個別電極4と共通電極5を形成する。このときコンタクトホールC1 は個別電極4よりも大きくなるように形成し、オーミックコンタクト層3cの一部がコンタクトホールC1 部分で露出するように形成する。
【0023】
次に、個別電極4をマスクパターンとしてコンタクトホールC1 で露出しているオーミックコンタクト層3cをエッチングで除去する。このエッチングは硫酸過酸化水素系のエッチング液を用いたウエットエッチングやCCl2 F2 ガスを用いたドライエッチングなどで行われる。この場合、窒化シリコン膜から成る絶縁膜6は、エッチングの選択性があることから、オーミックコンタクト層3cの露出部をエッチングしても、絶縁膜6がエッチングされることはない。
【0024】
さらに、このコンタクトホールC1 部分に、シランガス(SiH4 )とアンモニアガス(NH3 )を用いたプラズマCVD法でもう一度窒化シリコンから成る第2の絶縁膜7を形成して完成する。
【0025】
【発明の効果】
以上のように、本発明に係る半導体発光装置の製造方法によれば、コンタクトホール部の電極をコンタクトホールよりも小面積に形成するとと共に、この電極をマスクとしてコンタクトホール部のオーミックコタクト層をエッチング除去することから、フォトリソ工程を増やすことなく光の吸収する領域を減少させることができ、半導体発光装置の発光効率が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る半導体発光装置の製造方法の一実施形態を示す断面図であり、図3中のA−A' 線断面図である。
【図2】本発明に係る半導体発光装置の製造方法の一実施形態を示す断面図であり、図3中のB−B' 線断面図である。
【図3】本発明に係る半導体発光装置の製造方法の一実施形態を示す平面図である。
【図4】従来の半導体発光装置を示す断面図であり、図5中のA−A' 線断面図である。
【図5】従来の半導体発光装置を示す平面図である。
【符号の説明】
1………基板、2………一導電型半導体層、3………逆導電型半導体層、4………個別電極、5………共通電極、6………絶縁膜、7………第2の絶縁膜
Claims (1)
- 最上部にオーミックコンタクト層を有する半導体層を基板上に形成して島状にパターニングした後に、前記半導体層をコンタクトホールを有する第1の絶縁膜で被覆し、前記オーミックコンタクト層に前記コンタクトホールを介して電極を接続して形成する半導体発光装置の製造方法において、
前記オーミックコンタクト層の一部が前記コンタクトホールから露出するように前記電極を形成すると共に、前記電極及び前記第1の絶縁膜をマスクとして、露出した前記オーミックコンタクト層の一部をエッチング除去し、しかる後前記コンタクトホールを第2の絶縁膜で被覆することを特徴とする、半導体発光装置の製造方法。
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