JP4232464B2 - 立方晶系錫−タンタル複合酸化物とその製造方法 - Google Patents

立方晶系錫−タンタル複合酸化物とその製造方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、化学式SnTaO4+x(但し、−0.25≦x≦0.5)で表される新規化合物の立方晶系錫−タンタル複合酸化物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
【0003】
【非特許文献1】
S.O-Y-Matsuo,et al,J.Solid state chem.,138,47(1998)
【非特許文献2】
T.Omata, et al,J.Solid state chem.,147,573(1999)
【0004】
図5(a)に示されるパイロクロア型構造のCe2Zr27+yを、酸素雰囲気中において600℃で5時間酸化させると、図5(b)に示される準安定相のκ−CeZrO4が出現することが非特許文献1に報告されている。
【0005】
また、κ−CeZrO4は、パイロクロア型構造における陽イオンの規則配列を保ち、酸素の欠損部分に酸素が導入されたものであることが非特許文献2に示されている。そして、Ce3+→Ce4+のように陽イオンがより高い価数をとることができ、酸素が入ることのできるサイトがあれば他の系においても新規化合物を合成できる可能性が指摘されていた。
【0006】
そこで、本発明者らは上記非特許文献2に示された技術的手法に従い、産業上利用することが可能な新規化合物の発見を目指して鋭意努力した。
【0007】
その結果、ある特定の系について、その前駆体を酸素ガス中若しくは酸素ガスと不活性ガスの混合雰囲気中で酸化処理した場合に上記前駆体とは異なる新規な化合物が得られることを発見し、かつ、この化合物は産業上利用できる用途を有するものであった。
【0008】
具体的には、パイロクロア型構造の複合酸化物Sn2Ta27を前駆体とし、酸素ガス中若しくは酸素ガスと不活性ガスの混合雰囲気中で酸化処理した場合、蛍石型構造からみて酸素イオン欠損が規則的に存在しかつ陽イオンが規則配列したパイロクロア型構造の酸素欠損位置に酸素が充填されたパイロクロア関連構造を有する錫−タンタル複合酸化物が得られることを見出すに至った。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明の課題とするところは、上記技術的手法に従い、産業上利用できるこの新規な化合物とその製造方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
すなわち、請求項1に係る発明は、
新規化合物としての立方晶系錫−タンタル複合酸化物を前提とし、
化学式SnTaO4+x(但し、−0.25≦x≦0.5)で表されると共に、蛍石型構造からみて酸素イオン欠損が規則的に存在しかつ陽イオンが規則配列したパイロクロア型構造の酸素欠損位置に酸素が充填されたパイロクロア関連構造を有しており、粉末のX線回折データ(ターゲットCuKα線,波長0.154056nm)並びに格子定数が、
【0012】
【表2】
Figure 0004232464
格子定数 a=1.0171±0.006nm
であることを特徴とする。
【0013】
次に、請求項2に係る発明は、
請求項1記載の立方晶系錫−タンタル複合酸化物の製造方法を前提とし、
パイロクロア型構造の複合酸化物Sn2Ta27を前駆体とし、この前駆体を酸素ガス中若しくは酸素ガスと不活性ガスの混合雰囲気中、250℃〜700℃で2〜120時間酸化処理することを特徴とする。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【0015】
まず、本発明の新規化合物に係る立方晶系錫−タンタル複合酸化物は、上述したように化学式SnTaO4+x(但し、−0.25≦x≦0.5)で表されると共に、蛍石型構造からみて酸素イオン欠損が規則的に存在しかつ陽イオンが規則配列したパイロクロア型構造の酸素欠損位置に酸素が充填されたパイロクロア関連構造を有していることを特徴とするものである。
【0016】
そして、上記新規化合物の前駆体であるパイロクロア型構造の複合酸化物は、通常の固相法、すなわち原料となる各金属成分の酸化物または炭酸塩や硝酸塩等の塩類を目的組成比で混合し焼成することで合成される。但し、これ以外の湿式法あるいは気相法で合成しても当然のことながらよい。具体的には、パイロクロア型構造の上記複合酸化物Sn2Ta27は以下のように製造される。
【0017】
まず、SnO(3Nすなわち純度99.9%)とTa25を原料とし、モル比で2:1に秤量し、めのう乳鉢、ボールミル等で混合し、100MPa程度の圧力で5〜20mmφ程度の円盤状に圧粉成形する。
【0018】
その後、この成形体をガラスアンプルに投入し、1×10-4Pa以下に真空引きして封入し、かつ、約900〜1000℃、5時間で焼成した後、室温まで冷却してパイロクロア型構造の複合酸化物が得られる。尚、焼成物中にはパイロクロア型構造の複合酸化物と共に微量のSn金属が含まれている場合があり、この金属Snを除去するため、硝酸で洗浄を行うことが好ましい。
【0019】
次に、前駆体であるパイロクロア型構造の複合酸化物をアルミナるつぼに投入し、シリカガラス管内に置くと共に加熱炉内に配置する。このとき、炉温度上昇中は酸化防止のため真空ポンプにより真空引きを行う。そして、炉温が250℃〜700℃に到達したとき、真空引きを止め、酸素ガス中若しくは酸素ガスと不活性ガスの混合雰囲気中、2〜120時間かけて酸化する。
【0020】
この処理により、蛍石型構造からみて酸素イオン欠損が規則的に存在しかつ陽イオンが規則配列したパイロクロア型構造の酸素欠損位置に酸素が充填されたパイロクロア関連構造を有することを特徴とする立方晶系錫−タンタル複合酸化物を得ることができる。
【0021】
尚、本発明に係る立方晶系錫−タンタル複合酸化物の粉末X線回折は、MACサイエンス社X線回折装置(グラファイトKβ線フィルターカバーを用いたCuKα線を使用)を用いて行われている。
【0022】
そして、上記パイロクロア型構造の複合酸化物を前駆体として合成された本発明に係る立方晶系錫−タンタル複合酸化物においては、挿入される酸素イオンは動きやすく活性で、かつ、挿入する酸素イオン量を変化させることによりエネルギーバンドギャップと欠陥準位を変化させて光吸収特性を制御することができるため、光触媒材料への適用が可能となる。
【0023】
【実施例】
次に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。但し、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
【0024】
試料調製
(原料)
SnO粉末(高純度科学研究所株式会社製、純度99.9%):3.0489g、Ta25粉末(高純度科学研究所株式会社製、純度99.9%、ig.-loss0.0258%):5.0020g
尚、上記「ig.-loss」は、水分、吸収物等によるロスを示している。
【0025】
(混合・圧粉成形処理)
1:秤量後の各粉末試料をジルコニア製乳鉢を用い、エタノールを加え1.5時間混合した。
【0026】
2:混合後の試料を乾燥後、ジルコニア製ポットに入れ、遊星回転ボールミルを用いて40分間粉砕した。
【0027】
3:その後、5〜20mmφ程度の円盤状に100MPa程度の圧力で圧粉成形した。
【0028】
(乾燥処理)
圧粉成形後の試料を恒温槽で120℃で30分以上乾燥させた。
【0029】
(焼成処理)
その後、上記成形体をガラスアンプルに入れ、1×10-4Pa以下に真空引きして封入し、かつ、約900〜1000℃で5時間焼成した後、室温まで冷却してパイロクロア型構造の複合酸化物が得られた。
【0030】
(洗浄処理)
次に、上記パイロクロア型構造の複合酸化物を水中に投入し、0.1N硝酸溶液を滴下しながら撹拌し、固液分離し、酸化物を乾燥した。
【0031】
(酸化処理)
次に、前駆体である上記パイロクロア型構造の複合酸化物をアルミナるつぼに投入し、かつ、これをシリカガラス管内に置くと共に加熱炉内に配置した。このとき、炉温度上昇中は酸化防止のため真空ポンプにより真空引きを行った。
【0032】
次に、炉温が400℃に到達したとき、真空引きを止め、酸素雰囲気中、5時間かけて酸化した。
【0033】
そして、この処理により、蛍石型構造からみて酸素イオン欠損が規則的に存在しかつ陽イオンが規則配列したパイロクロア型構造の酸素欠損位置に酸素が充填されたパイロクロア関連構造を有することを特徴とする立方晶系錫−タンタル複合酸化物を得ることができた。
【0034】
[結晶構造の確認]
次に、得られたこの錫−タンタル複合酸化物における結晶構造の確認は、MACサイエンス社X線回折装置(グラファイトKβ線フィルターカバーを用いたCuKα線を使用)を用いて行った。
【0035】
すなわち、硝酸洗浄後におけるパイロクロア型構造の複合酸化物(前駆体)のX線回折測定結果に係るグラフ図を図1(a)に、また、この前駆体を酸化して得られたパイロクロア関連構造の立方晶系錫−タンタル複合酸化物のX線回折測定結果に係るグラフ図を図1(b)に示す。
【0036】
一方、立方晶κ−CeZrO4型構造(空間群P213)の結晶構造から計算で求めたX線回折強度パターンのグラフ図を図2(a)に、また、パイロクロア関連構造(空間群Fd3m)の結晶構造から計算で求めたX線回折強度パターンのグラフ図を図2(b)に示す。
【0037】
そして、図1(b)に示した実施例に係る立方晶系錫−タンタル複合酸化物のX線回折強度パターン(測定パターン)と、図2(a)および図2(b)に示されたX線回折強度パターン(計算値パターン)との比較から、実施例に係る立方晶系錫−タンタル複合酸化物の結晶構造は、図2(a)に示された立方晶κ−CeZrO4型構造(空間群P213)の結晶構造とは異なり、図2(b)に示されたパイロクロア関連構造(空間群Fd3m)の結晶構造であることが確認された。
【0038】
[光触媒として用いた場合の評価]
次に、実施例に係る立方晶系錫−タンタル複合酸化物を光触媒として用いた場合の触媒活性評価を、メチレンブルー水溶液の光ブリーチング法で行った。
【0039】
これは、メチレンブルー染料溶液に上記立方晶系錫−タンタル複合酸化物を投入したサンプルと、メチレンブルー染料溶液に立方晶系錫−タンタル複合酸化物を投入しないサンプルを用意し、これ等サンプルに光を照射し、光触媒効果によるメチレンブルーの分解の程度を分光光度計で調べる方法である。
【0040】
(メチレンブルー水溶液の調製)
メチレンブルー(関東化学株式会社製、試薬特級)
超純水(比抵抗18.2MΩcm以上)
上記メチレンブルー7.48mgを精秤し、全量をメスフラスコを用いて1リットルの超純水に溶解し、2.0×10-5mol/リットル(mol・dm-3)の水溶液を作製した。
【0041】
(光照射)
A 実験装置 装置概略は図4に示す。
【0042】
光源:下方照射型500WのXeランプ
分光光度計:日立製作所製、U4000分光光度計
B 試料溶液
実施例に係る立方晶系錫−タンタル複合酸化物(試料)0.20gをメチレンブルー水溶液200cm3中にマグネチックスターラーを用いて分散させた。
【0043】
次に、試料を分散させたメチレンブルー溶液を石英セルに採取し、透過スペクトルを測定した。
【0044】
次に、測定した試料を元に戻し、攪拌と光照射を繰り返し、時間経過ごとに透過スペクトルを測定し、その吸光度を求めた。結果を図3に示す。
【0045】
尚、図3の「吸光度」は、上記Xeランプ全光を照射したときの波長600〜664nmにあるメチレンブルーの最大吸収の値を示している。
【0046】
そして、図3のグラフ図から理解されるように、実施例に係る立方晶系錫−タンタル複合酸化物(試料)を投入した場合、実施例と同様に測定した無投入サンプルに較べてその吸光度が徐々に減少している。
【0047】
このことから、実施例に係る立方晶系錫−タンタル複合酸化物が光触媒性能を有していることが確認される。
【0048】
【発明の効果】
請求項1記載の発明に係る立方晶系錫−タンタル複合酸化物によれば、
化学式SnTaO4+x(但し、−0.25≦x≦0.5)で表されると共に、蛍石型構造からみて酸素イオン欠損が規則的に存在しかつ陽イオンが規則配列したパイロクロア型構造の酸素欠損位置に酸素が充填されたパイロクロア関連構造を有しており、例えば、光触媒として産業上利用される新規化合物として提供できる効果を有している。
【0049】
また、請求項2記載の発明に係る立方晶系錫−タンタル複合酸化物の製造方法によれば、
パイロクロア型構造の複合酸化物Sn2Ta27を前駆体とし、この前駆体を酸素ガス中若しくは酸素ガスと不活性ガスの混合雰囲気中、250℃〜700℃で2〜120時間酸化処理しており、請求項1記載の立方晶系錫−タンタル複合酸化物を製造できる効果を有している。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(a)は硝酸洗浄後におけるパイロクロア型構造の複合酸化物(前駆体)のX線回折測定を示すグラフ図、図1(b)は上記前駆体を酸化して得られたパイロクロア関連構造の立方晶系錫−タンタル複合酸化物のX線回折測定結果を示すグラフ図。
【図2】図2(a)は立方晶κ−CeZrO4型構造(空間群P213)の結晶構造から計算で求めたX線回折強度パターンのグラフ図、図2(b)はパイロクロア関連構造(空間群Fd3m)の結晶構造から計算で求めたX線回折強度パターンのグラフ図。
【図3】実施例に係る立方晶系錫−タンタル複合酸化物が投入されたメチレンブルー水溶液と無投入のメチレンブルー水溶液における照射時間と吸光度変化との関係をそれぞれ示すグラフ図。
【図4】触媒活性評価を行うための光照射実験装置における構成説明図。
【図5】図5(a)〜(b)はパイロクロア型構造のCe2Zr27+y、および、κ−CeZrO4の結晶構造の単位格子の1/8をそれぞれ示す模式図。

Claims (2)

  1. 化学式SnTaO 4+x (但し、−0.25≦x≦0.5)で表されると共に、蛍石型構造からみて酸素イオン欠損が規則的に存在しかつ陽イオンが規則配列したパイロクロア型構造の酸素欠損位置に酸素が充填されたパイロクロア関連構造を有しており、粉末のX線回折データ(ターゲットCuKα線,波長0.154056nm)並びに格子定数が、
    Figure 0004232464
    格子定数 a=1.0171±0.006nm
    であることを特徴とする立方晶系錫−タンタル複合酸化物。
  2. 請求項1記載の立方晶系錫−タンタル複合酸化物の製造方法において、
    パイロクロア型構造の複合酸化物Sn2Ta27を前駆体とし、この前駆体を酸素ガス中若しくは酸素ガスと不活性ガスの混合雰囲気中、250℃〜700℃で2〜120時間酸化処理することを特徴とする立方晶系錫−タンタル複合酸化物の製造方法。
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