JP4213428B2 - 計算機ホログラム成形用樹脂組成物 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、計算機で計算した干渉縞データから生成した描画用矩形データによって作製された微細矩形パターンを有する計算機ホログラムに関し、特に、フォトポリメリゼーション法(2P法)で作製するのに適した計算機ホログラム成形用樹脂組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種の計算機ホログラムの製造方法は、描画用矩形データによって微細矩形パターンを描画した原版を、加熱により軟化する樹脂層に押し付ける方法、例えば、インジェクション法又はキャスティング法が使用でき、これら方法には、熱可塑性、熱硬化性のいずれの樹脂も使用することができる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、計算機ホログラムは、微細矩形パターンの深さが複雑でかつシャープである。例えば、通常のエンボスホログラムは、エンボス凹凸が0.1〜0.65μmであるのに対して、計算機ホログラムは、微細矩形パターンが多段であり、深いところで、約1.2μmとなる。このため、上述したインジェクション法やキャスティング法では、型再現性が悪いという問題があった。
【0004】
一方、微細凹凸パターンの成形方法、例えば、透明基板上に情報トラックを形成する代表的な方法として、従来より、フォトポリメリゼーション法(2P法)が知られている(特開平8−167167号、特開平9−63130号等)。この2P法は、まず、情報トラックの形状に対応する凹凸パターンを備えた光学的記録担体作製用スタンパの上に、紫外線硬化型樹脂等を塗布し、さらに、この樹脂上に透明基板を載置し、次いで、紫外線等を照射することにより、紫外線硬化型樹脂を硬化させると共に、透明基板に固着させて、情報トラックを有する硬化樹脂層を透明基板に形成する方法である。
しかし、この2P法は、光学的記録担体、例えば、光カードの製造方法として開発されたものであり、このまま、計算機ホログラムの製造方法に適用することはできなかった。
【0005】
本発明の課題は、型再現性がよく、2P法で製造するのに適した計算機ホログラム成形用樹脂組成物を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、請求項1の発明は、計算機により干渉縞データを計算し、その干渉縞データに基づいて描画用矩形データを生成し、その描画用矩形データによって微細矩形パターンを描画して原版を作製し、その原版又は前記原版から複製した複製版に塗布し、光線を照射して硬化させることにより、微細矩形パターンを有する計算機ホログラムを樹脂製の基材上に固着させて一体化して複製する計算機ホログラム成形用樹脂組成物であって、
ウレタンアクリレート 30〜35部
1,6ヘキサンジオールジアクリレートとジペンタエリスリトールトリアクリレートとの混合体 40〜45部
ビニルピロリドン 15〜20部
光重合開始剤 2〜6部
添加剤 0.01〜1部
を含むことを特徴とする計算機ホログラム成形用樹脂組成物である。
【0009】
【発明の実施の形態】
以下、図面等を参照して、本発明の実施の形態について、さらに詳しくに説明する。
図1は、本発明による計算機ホログラムとその製造方法の実施形態を示す模式図である。
本実施形態の計算機ホログラム5の製造方法は、まず、図1(a)に示すように、干渉縞データに基づいた描画用矩形データの形状に対応した微細矩形パターン1aを有する原盤1を作製する(原盤作製工程#101)。この原盤1は、ガラス盤であり、その製造方法は、後述する図2で詳細に説明する。
【0010】
次いで、図1(b)に示すように、この原盤1の微細矩形パターン1aの面に、紫外線硬化型樹脂2を塗布し(樹脂塗布工程#102)、その上に基材3を重ね合わせた後に(基板積層工程#103)、紫外線(UV)を照射して紫外線硬化型樹脂2を硬化させることにより(樹脂硬化工程#104)、基材3に固着させて一体化させる。
【0011】
そして、図1(c)に示すように、基材3を硬化した樹脂層4と共に、原盤1から剥離すると(剥離工程#105)、原盤1の微細矩形パターン1aが正確に転写された樹脂層4が基板3上に形成される。
【0012】
その結果、図1(d)に示すように、微細矩形パターン4a付きの樹脂層4を基材3に有する計算機ホログラム5が得られる。
この場合に、樹脂層4は、後述する離型性が付与された紫外線硬化型樹脂2が使用されているため、小さな剥離力で原盤1から剥離することができる。
【0013】
原盤作製工程#101では、計算機ホログラム5を作製するために、干渉縞データを数値計算し、このデータを媒体に記録する。
図2は、本発明の実施形態のよる計算機ホログラム作製手順を示すフローチャートである。
#201では、計算機ホログラムとして記録する3次元対象物体の形状をデジタルデータとして作成する。
【0014】
#202では、この3次元対象物体とホログラム面の配置を計算機内部で設定し、#203では、ホログラム面上の干渉縞データを計算する。3次元対象物体の各サンプル点を点光源と考え複素振幅を設定し、また、参照光の照射角度や波長など、干渉縞の計算に必要なパラメーターを決定する。このパラメーターと所定の計算式により、干渉縞データを生成する。
【0015】
#204では、EB描画装置を用いて記録するために、干渉縞データに2値化処理を施す。EB描画装置は、データをON/OFF制御で描画するため、干渉縞データを2値(縞の有無)に変換する必要がある。
#205では、この2値化された干渉縞データをEB描画用矩形データに変換する。
#206では、レジスト材の塗布されたガラス基板にEB描画し、原盤1を作製する。
【0016】
紫外線硬化型樹脂2としては、ウレタンアクリレート、オリゴエステルアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、メラミンアクリレート等のアクリロイル基をもつ重合性オリゴマーもしくはモノマー、または、これらオリゴマー、モノマーとアクリル酸、アクリルアミド、アクリロニトリル、スチレン等の重合性ビニル基を含む単官能もしくは多官能モノマーとを配合したもの等に、光重合開始剤、増感剤もしくは所望の添加剤を添加したものが使用できる。
【0017】
本実施形態において、紫外線硬化型樹脂2の各成分の最適な組成比(重量部)は、以下の通りである。
(1)ウレタンアクリレート 30〜35部
このウレタンアクリレートは、強靭性を付与する働きをするが、粘度が高いため入れすぎると紫外線硬化型樹脂の粘度が高くなる。例えば、ゴーセラックUV−7500B(日本合成化学)等が使用できる。
(2)1,6ヘキサンジオールジアクリレートとジペンタエリスリトールトリアクリレートとの混合体 40〜45部
この1,6ヘキサンジオールジアクリレートとジペンタエリスリトールトリアクリレートとの混合体は、ウレタンアクリレートの粘度を下げながら、硬度、柔軟性を付与する働きをし、入れすぎると脆くなる。例えば、1,6ヘキサンジオールジアクリレート(東亞合成化学)、ジペンタエリスリトールトリアクリレート(東亞合成化学)等が使用できる。
(3)ビニルピロリドン 15〜20部
このビニルピロリドンは、粘度を下げるとともに、ポリカーボネートの密着性を付与する働きをする。例えば、ビニルピロリドン(東亞合成化学)等が使用できる。
(4)光重合開始剤 2〜6部
この光重合開始剤は、反応開始剤であり、入れすぎると硬化物中に残留してしまい、脆くなる。例えば、1ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバガイギー)、ベンゾフェノン(日本化薬)等が使用できる。
(5)添加剤 0.01〜1部
この添加剤は、ガラス原版からの離型性を付与する働きをし、入れすぎると他の成分と相溶せず、白濁する。例えば、TSF4440(GE東芝シリコーン)等が使用できる。
【0018】
また、基材3としては、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等の合成樹脂を用いることができるが、ポリカーボネート樹脂が好ましい。
【0019】
(変形形態)
以上説明した実施形態に限定されることなく、種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の均等の範囲内である。
例えば、図1の方法でスタンパ(複製版)を作製し、そのスタンパを原盤として、計算機ホログラム5を製造するようにしてもよい。
光硬化性樹脂として、紫外線硬化性樹脂を例に説明したが、電子線(EB)で硬化する電子線硬化性樹脂でもよい。
【0020】
【実施例】
以下の比較例とともに実施例をあげて、本発明を具体的に説明するが、本発明は、この実施例によって限定されるものではない。なお、各例中の組成割合は、特に記載がない限り、全て重量部を示す。
図3は、本発明の実施例1〜3を示す模式図である。
(実施例1)
実施例1として、以下の成分を混合して紫外線硬化性組成物を調整した。
ゴーセラックUV−7500B(日本合成化学) 35部
1,6ヘキサンジオールジアクリレート(東亞合成化学) 35部
ジペンタエリスリトールトリアクリレート(東亞合成化学) 10部
ビニルピロリドン(東亞合成化学) 15部
1ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバガイギー) 2部
ベンゾフェノン(日本化薬) 2部
TSF4440(GE東芝シリコーン) 1部
【0021】
この紫外線硬化性樹脂組成物の液を、表面に凹凸を有するホログラムガラス原版1に滴下し、これに基板として、0.4mm厚ポリカーボネート基板2を重ね合わせた後、高圧水銀灯を用いて600mJ/cm2(365nm)の紫外線を照射して樹脂層4を硬化させた。
そして、ポリカーボネート基板3をガラス原版1から剥離する際に要する剥離力を測定した。なお、硬化した樹脂層4は、ポリカーボネート基板3と一体化しており、硬化した樹脂層4にガラス原版1の凹凸が完全に転写された計算機ホログラム形成品5が得られた。
【0022】
(実施例2)
実施例2として、以下の成分を混合して紫外線硬化性組成物を調整した。
ゴーセラックUV−7500B(日本合成化学) 30部
1,6ヘキサンジオールジアクリレート(東亞合成化学) 35部
ジペンタエリスリトールトリアクリレート(東亞合成化学) 10部
ビニルピロリドン(東亞合成化学) 20部
1ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバガイギー) 2部
ベンゾフェノン(日本化薬) 2部
TSF4440(GE東芝シリコーン) 1部
【0023】
この紫外線硬化性樹脂組成物の液を、表面に凹凸を有するホログラムガラス原版1に滴下し、これに基板として、0.4mm厚ポリカーボネート基板3を重ね合わせた後、高圧水銀灯を用いて600mJ/cm2(365nm)の紫外線を照射して樹脂層を硬化させた。
そして、ポリカーボネート基板3をガラス原版1から剥離する際に要する剥離力を測定した。なお、硬化した樹脂層4は、ポリカーボネート基板3と一体化しており、硬化した樹脂層4にガラス原版1の凹凸が完全に転写された計算機ホログラム形成品5が得られた。
【0024】
(実施例3)
実施例3として、以下の成分を混合して光硬化性組成物を調整した。
ゴーセラックUV−7500B(日本合成化学) 35部
1,6ヘキサンジオールジアクリレート(東亞合成化学) 20部
ジペンタエリスリトールトリアクリレート(東亞合成化学) 25部
ビニルピロリドン(東亞合成化学) 15部
1ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバガイギー) 2部
ベンゾフェノン(日本化薬) 2部
TSF4440(GE東芝シリコーン) 1部
【0025】
この紫外線硬化性樹脂組成物の液を、表面に凹凸を有するホログラムガラス原版1に滴下し、これに基板として、0.4mm厚ポリカーボネート基板3を重ね合わせた後、高圧水銀灯を用いて600mJ/cm2(365nm)の紫外線を照射して樹脂層4を硬化させた。
そして、ポリカーボネート基板3をガラス原版1から剥離する際に要する剥離力を測定した。なお、硬化した樹脂層4は、ポリカーボネート基板3と一体化しており、硬化した樹脂層4にガラス原版1の凹凸が完全に転写された計算機ホログラム形成品5が得られた。
【0026】
(比較例1)
図4は、計算機ホログラムの比較例1を示す模式図である。
比較例1として、以下の成分を混合して光硬化性組成物を調整した。
ゴーセラックUV−7500B(日本合成化学) 50部
1,6ヘキサンジオールジアクリレート(東亞合成化学) 25部
ジペンタエリスリトールトリアクリレート(東亞合成化学) 5部
ビニルピロリドン(東亞合成化学) 15部
1ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバガイギー) 2部
ベンゾフェノン(日本化薬) 2部
TSF4440(GE東芝シリコーン) 1部
【0027】
この紫外線硬化性樹脂組成物の液を、表面に凹凸を有するホログラムガラス原版11に滴下し、これに基板として、0.4mm厚ポリカーボネート基板13を重ね合わせた後、高圧水銀灯を用いて600mJ/cm2(365nm)の紫外線を照射して樹脂層を硬化させた。
そして、ポリカーボネート基板13をガラス原版11から剥離する際に要する剥離力を測定した。硬化した樹脂層14は、ポリカーボネート基板13と一体化しているが、硬化した樹脂層14にガラス原版11の凹凸11aは、完全に転写されなかった。
【0028】
(比較例2)
図5は、計算機ホログラムの比較例2を示す模式図である。
比較例2として、以下の成分を混合して光硬化性組成物を調整した。
ゴーセラックUV−7500B(日本合成化学) 35部
ジペンタエリスリトールトリアクリレート(東亞合成化学) 45部
ビニルピロリドン(東亞合成化学) 15部
1ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバガイギー) 2部
ベンゾフェノン(日本化薬) 2部
TSF4440(GE東芝シリコーン) 1部
【0029】
この紫外線硬化性樹脂組成物の液を、表面に凹凸を有するホログラムガラス原版21に滴下し、これに基板として、0.4mm厚ポリカーボネート基板23を重ね合わせた後、高圧水銀灯を用いて600mJ/cm2(365nm)の紫外線を照射して樹脂層を硬化させた。
そして、ポリカーボネート基板23をガラス原版21から剥離する際に要する剥離力を測定した。硬化した樹脂層24は、ポリカーボネート基板23と一体化しているが、硬化した樹脂層24にガラス原版21の凹凸21aは、完全に転写されなかった。
【0030】
(比較例3)
図6は、計算機ホログラムの比較例3を示す模式図である。
比較例3として、以下の成分を混合して光硬化性組成物を調整した。
1,6ヘキサンジオールジアクリレート(東亞合成化学) 60部
ジペンタエリスリトールトリアクリレート(東亞合成化学) 20部
ビニルピロリドン(東亞合成化学) 15部
1ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバガイギー) 2部
ベンゾフェノン(日本化薬) 2部
TSF4440(GE東芝シリコーン) 1部
【0031】
この紫外線硬化性樹脂組成物の液を、表面に凹凸を有するホログラムガラス原版31に滴下し、これに基板として、0.4mm厚ポリカーボネート基板33を重ね合わせた後、高圧水銀灯を用いて600mJ/cm2(365nm)の紫外線を照射して樹脂層を硬化させた。
そして、ポリカーボネート基板33をガラス原版31から剥離する際に要する剥離力を測定した。硬化した樹脂層34は、ポリカーボネート基板31と一体化しているが、硬化した樹脂層34にガラス原版31の凹凸31aは完全に転写されなかった。
【0032】
上述した実施例1〜3及び比較例1〜3の剥離力測定結果、賦型物の形状を表1に示す。
【表1】
【0033】
実施例1〜3及び比較例1〜3の剥離力は、それぞれ、9.7、10.0、10.5、14.1、15.3、20.3(g/cm)であり、賦型性については、実施例1〜3は、良好であった(○)のに対して、比較例1〜3は、完全に転写されなかった(×)。
【0034】
比較例1のように、ウレタンアクリレートの比率を多くすると、強靭性が向上するが、樹脂の粘度が高くなり、図4に示すように、微細矩形パターンに入りきらない。
【0035】
比較例2では、ジベンタエリスチトールトリアクリレートは、反応性が高く硬化物も硬くなるが、1,6ヘキサンジオールジアクリレートより柔軟性が落ちるため、ガラス原板から剥離する際に、図5に示すように、樹脂内部で破壊が生じてしまう。
【0036】
比較例3のように、ウレタンアクリレートを除くと、柔軟性がなくなり、硬いが脆い硬化物となり、図6に示すように、剥離時に樹脂内部で裂けてしまう。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による計算機ホログラムとその製造方法の実施形態を示す模式図である。
【図2】本発明の実施形態のよる計算機ホログラム作製手順を示すフローチャートである。
【図3】本発明のよる計算機ホログラムの実施例1〜3を示す模式図である。
【図4】計算機ホログラムの比較例1を示す模式図である。
【図5】計算機ホログラムの比較例2を示す模式図である。
【図6】計算機ホログラムの比較例3を示す模式図である。
【符号の説明】
1 ガラス原版
2 紫外線硬化性樹脂
3 ポリカーボネート基板
4 樹脂層
5 計算機ホログラム形成品
Claims (1)
- 計算機により干渉縞データを計算し、その干渉縞データに基づいて描画用矩形データを生成し、その描画用矩形データによって微細矩形パターンを描画して原版を作製し、その原版又は前記原版から複製した複製版に塗布し、光線を照射して硬化させることにより、微細矩形パターンを有する計算機ホログラムを樹脂製の基材上に固着させて一体化して複製する計算機ホログラム成形用樹脂組成物であって、
ウレタンアクリレート 30〜35部
1,6ヘキサンジオールジアクリレートとジペンタエリスリトールトリアクリレートとの混合体 40〜45部
ビニルピロリドン 15〜20部
光重合開始剤 2〜6部
添加剤 0.01〜1部
を含むことを特徴とする計算機ホログラム成形用樹脂組成物。
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JP2002230088A JP4213428B2 (ja) | 2002-08-07 | 2002-08-07 | 計算機ホログラム成形用樹脂組成物 |
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JP2004070059A JP2004070059A (ja) | 2004-03-04 |
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