JP4161572B2 - 熱電モジュール - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザダイオード等の発熱性の素子又は一定の温度に保持する必要がある素子の温度制御を行う熱電モジュールに関し、特に、熱電素子群間の高い電気的導通性を容易に確保することが可能な熱電モジュールに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、熱電効率を向上させるために、複数段に熱電素子群を積層して構成された熱電モジュールが提案されている。このような熱電モジュールでは、隣り合う段の間で電気的な導通を確保する必要があり、そのための構造が、例えば特開平10−190071号公報に記載されている。図22(a)乃至(c)は特開平10−190071号公報に記載された熱電モジュールと同様の構造の熱電モジュールを示す断面図である。
【0003】
図22(a)乃至(c)に示すものでは、熱電モジュールが2段の熱電素子群により構成され、下段の熱電素子群が絶縁基板101と絶縁基板102とにより挟まれ、上段の熱電素子群が絶縁基板102と絶縁基板103とにより挟まれている。また、各熱電素子群はn型熱電素子111及びp型熱電素子112が電極113を介して交互に直列接続されることにより構成されている。なお、一般には、本願明細書における熱電素子群自体が熱電モジュールとよばれることもある。
【0004】
そして、図22(a)に示す熱電モジュールの断面図によると、下段の熱電素子群の一部を構成し互いに直列に接続された熱電素子のうちで一方の端部に位置するもの、及び上段の熱電素子群を構成し互いに直列に接続された熱電素子のうちで一方の端部に位置するものに、夫々端部電極114が接続され、これらの端部電極114がリード115を介してはんだ116により互いに接続されている。端部電極114は絶縁基板102の両面に2個ずつ形成されている。
【0005】
また、図22(b)に示す熱電モジュールでは、リード115の代わりに「コ」字型の銅板117が使用されている。
【0006】
また、図22(c)に示す熱電モジュールでは、絶縁基板102にスルーホール105が形成され、このスルーホール105の内側に導電性皮膜106が形成されている。そして、2個の端部電極114が導電性皮膜106を介して互いに接続されている。一の基板では、内側に導電性皮膜が形成されたスルーホールは2つ存在する。
【0007】
また、特開平10−313150号公報には、1段の熱電素子群を備えた熱電モジュールにおいて、筐体の内面に形成された金属パターンと絶縁基板上の熱電素子との間の導通を確保するための構造が記載されている。図23は特開平10−313150号公報に記載された熱電モジュールと同様の構造の熱電モジュールを示す模式図である。
【0008】
図23に示す熱電モジュールにおいては、熱電素子群が絶縁基板121及び122に挟まれ、電極133を介して互いに直列に接続され熱電素子群を構成するn型熱電素子131及びp型熱電素子132のうち両端に位置するものに、下側の絶縁基板121の側面を介して下面まで形成された電極134が接続されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図22(a)に示す従来の熱電モジュールにおいては、リード115を接合する工程が煩雑であると共に、そのために要する費用が高いという問題点がある。また、リード115が絶縁基板の端部から大きくはみ出して他の部位に接触する虞がある。
【0010】
図22(b)に示す従来の熱電モジュールにおいては、銅板117を接合する工程が煩雑であると共に、そのために要する費用が高いという問題点がある
【0011】
図22(c)に示す従来の熱電モジュールにおいては、スルーホール105内に導電性皮膜106を形成するためには、絶縁基板102に直接メッキを施す必要があるが、このメッキ工程自体が困難であり、電気的導通を確保できないことある。また、メッキを行った後に、確実に導電性皮膜106が形成されているか否かを確認することができないという問題点もある。従って、熱電モジュールを組み立てるまでは、導通が確保されているかを確認することができないため、その後に不良であると診断された場合には、熱電モジュールの完成品が不良品となり、歩留まりが低下する。
【0012】
また、図23に示す従来の熱電モジュールについては、特開平10−313150号公報に電極134を形成する方法についての説明がなく、その製造が極めて困難である。これは、絶縁基板が極めて小さいため、その微小な側面に選択的にメッキ等を施すことが困難なためである。
【0013】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、容易且つ低コストで電気的な導通性を向上させることができる熱電モジュールを提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る熱電モジュールは、面にこの側面よりも内側に後退した後退部が形成された絶縁基板と、この絶縁基板の上面及び下面に形成された導電層と、前記絶縁基板の前記上面及び下面の前記導電層上に搭載された複数個の熱電素子から構成される熱電素子群と、前記熱電素子における前記導電層の反対側の端部に設けられ前記導電層と共に前記熱電素子を相互に接続する他の導電層と、前記後退部に設けられ前記絶縁基板の上面及び下面に形成された導電層のなかで接続端部に該当する導電層を相互に接続する接続部材とを有し、前記接続部材は、前記後退部の側面に形成されたメッキ膜と、前記メッキ膜上に形成された導電材とを有することを特徴とする。
【0015】
なお、前記導電材は、例えば、はんだ又は金属ペーストからなる。
【0016】
本発明においては、後退部内に形成された接続部材を介して熱電モジュール用基板の上面及び下面に夫々形成された熱電素子群の接続端部に該当する導電層が互いに接続されているので、接続部材の形成が容易であり、且つ、低コストで行うことが可能である。また、仮に接続部材の形成が良好でない場合が生じたとしても、そのことを外部から容易に検出することが可能である。
【0028】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例に係る熱電モジュール、熱電モジュール用基板の製造方法及び熱電モジュールの製造方法について、添付の図面を参照して具体的に説明する。図1は本発明の第1の実施例に係る熱電モジュールを示す断面図である。また、図2は絶縁基板2を示す斜視図(導電層パターンは図示せず)であり、図3は導電層13が形成された後の絶縁基板2の凹部4近傍を示す斜視図である。
【0029】
第1の実施例に係る熱電モジュールには、2段の熱電素子群が設けられており、それらの間に絶縁基板2が介装されている。また、絶縁基板2との間で下段の熱電素子群を挟む絶縁基板1、及び絶縁基板2との間で上段の熱電素子群を挟む絶縁基板3が設けられている。いずれの段の熱電素子群においても、n型熱電素子11及びp型熱電素子12が導電層13を介して互いに直列に接続されている。このような直列体は、上段の熱電素子群では、例えば1個形成され、下段の熱電素子群では、例えば2個形成されている。
【0030】
更に、絶縁基板2の端面には、図2に示すように、少なくとも2箇所、例えば4箇所において、半円状に切り欠かれた凹部4が形成されている。そして、2箇所の凹部4の周面に端面導電層(接続部材)14が形成されている。上段の熱電素子群を構成する複数個の熱電素子のうちでその直列体の両端に位置するものに接続された導電層13、即ち接続端部に該当する導電層13に端面導電層14の絶縁基板2の上面側の端部が接続され、下段の熱電素子群を構成する複数個の熱電素子のうちで各直列体の一方の末端に位置するものに接続された導電層13、即ち接続端部に該当する導電層13に端面導電層14の絶縁基板2の下面側の端部が接続されている。このようにして熱電モジュール用基板が構成されている。
【0031】
なお、絶縁基板1乃至3は、例えばアルミナ基板又はAlN基板からなる。また、導電層13及び端面導電層14は、例えばCuメッキ膜からなる。Cuメッキ膜上には、Niメッキ膜及び更にその上に形成されたAuメッキ膜が形成されていてもよい。
【0032】
次に、上述のような構造の第1の実施例に係る熱電モジュールを製造する方法について説明する。図4乃至図7は第1の実施例に係る熱電モジュールを製造する方法を工程順に示す図である。
【0033】
先ず、図4に示すように、例えば平面形状が一辺の長さが50mmの正方形で厚さが0.3mmのアルミナ板又はAlN板からなる絶縁性素板21を準備する。このサイズの絶縁性素板21は、例えば絶縁基板2の9枚分のサイズより若干大きなものである。
【0034】
次いで、図5に示すように、絶縁性素板21の任意の一辺に平行な方向において隣り合う絶縁基板切り出し領域22の境界に2個ずつスルーホール(孔)4aを形成する。なお、絶縁基板切り出し領域22は、後の工程で1個の絶縁基板2が切り出される領域であり、絶縁性素板21のサイズが絶縁基板2の9枚分のサイズより若干大きなものである場合には、9個の絶縁基板切り出し領域22が存在する。なお、スルーホールは、絶縁性素板がグリーンシートであるときに形成しておき、その後に焼結して孔が形成されたセラミック基板とする手順により形成してもよい。
【0035】
続いて、図6に示すように、例えば無電解メッキ法により、所定パターンの導電層13を絶縁性素板21の上面及び下面に順次形成する。このとき、メッキ材、例えばCu材は、スルーホール4a内にも流れ込み、スルーホール4aの内周面に端面導電層14(図6及び図7に図示せず)が導電層13と同時に形成される。従って、絶縁性素板21の上面及び下面に形成された導電層13のうちスルーホール4aまで延びるもの、即ち接続端部に該当するものが端面導電層14の端部に接触する。
【0036】
その後、図7(a)に示すように、絶縁性素板21を絶縁基板切り出し領域22の境界に沿って、例えばダイシングソーを使用して切断する。この結果、複数個の熱電モジュール用基板が絶縁性素板21から切り出される。また、切断の結果得られた熱電モジュール用基板には、凹部4が形成されており、導電層13だけでなく、端面導電層14も形成されている。なお、図7(b)に示すように、切断に当たって絶縁基板切り出し領域22の境界5を含む切断しろ6が必要であるため、少なくともスルーホール4aの切断しろ6を跨ぐ方向の径は切断しろ6の幅よりも広いことが必要である。例えば切断しろ6の幅が0.2mm程度の場合、スルーホール4aの切断しろ6を跨ぐ方向の径は0.5mm程度とすることができる。
【0037】
次に、熱電モジュール用基板と別途作製した他の絶縁基板1及び3との間に熱電素子群をはんだ等により接合し、更に熱電素子群を挟むようにして絶縁基板を熱電素子群に接合する等の通常の工程を経ることにより、熱電モジュールを製造することができる。
【0038】
このような第1の実施例及びそれを製造する方法によれば、凹部4の周面に端面導電層14が形成されているため、容易、且つ確実に上段の熱電素子群と下段の熱電素子群との間の導通を確保することができる。また、例え端面導電層14の形成が不十分となっている場合でも、端面導電層14は外部に露出しているので、それを容易に確認することができる。更に、熱電モジュールを組み立てた後に、導通不良を検出した場合には、凹部4内にはんだ等の導電材を補充することにより、その領域の導通を容易に確保することが可能である。
【0039】
なお、導電層13及び端面導電層14を形成した後、又は熱電モジュール用基板を切り出した後に、スルーホール4a又は凹部4内にはんだ(導電材)を充填してもよい。このようなはんだの充填を行った場合、図8に示すように、絶縁基板2の凹部4がはんだ材7で埋められるため、上面の部分と下面の部分との間の電気抵抗を低減することができる。
【0040】
また、導電層13及び端面導電層14を同時に形成する必要はなく、例えば端面導電層14を形成した後に、導電層13を別工程で形成してもよいし、導電層13を先に形成してから端面導電層を形成してもよい。
【0041】
また、導電層13の形成時に端面導電層14を形成せず、図7に示すように、絶縁基板用基板21から熱電モジュール用基板を切り出した後に、図9に示すように、絶縁基板2が露出している凹部4に対し、図10に示すように、はんだ材7を埋め込むことにより、又は、図11に示すように、Cuペースト又はAgペースト等の金属ペースト8を埋め込むことによって、凹部4まで延びる導電層13の相互間の導通を確保してもよい。
【0042】
更に、導電層13の形成と同時に端面導電層14を形成せずに、導電層13を形成した後に、スルーホール内にCuペースト若しくはAgペースト等の金属ペースト又ははんだ材を埋め込み、その後、絶縁性素板を絶縁基板切り出し領域の境界に沿って切断してもよい。
【0043】
更にまた、導電層13及び端面導電層を形成した後に、スルーホール内に更にCuペースト若しくはAgペースト等の金属ペースト又ははんだ材を埋め込み、その後、絶縁性素板を切断してもよい。
【0044】
更に、図12(a)に示すように、スルーホール4aの形状を切断線に沿う方向の長さをそれに垂直な方向の長さよりも長くすることにより、図12(b)に示すように、凹部4の幅を広く形成してもよい。
【0045】
更にまた、図13(a)に示すように、互いに平行な1対の切断線の夫々に1個ずつスルーホール4aを形成することにより、図13(b)に示すように、熱電モジュール用基板の熱電素子群用パターン領域15を挟む1対の互いに平行な辺に凹部4を1個ずつ形成してもよい。また、図示しないが、互いに垂直な1対の辺に凹部4を1個ずつ形成してもよく、1辺に複数の凹部4を形成してもよい。
【0046】
なお、図12及び図13においては、ハッチングを入れた部分がメッキ等により形成された導電層パターンである。
【0047】
また、絶縁性素板のスルーホールを形成する位置は、絶縁基板切り出し領域の辺の部分に限定されるものではなく、絶縁基板切り出し領域の隅部であってもよい。図14乃至図16は絶縁基板切り出し領域の隅部にスルーホールを形成した実施例を示す平面図である。図14(a)乃至図16(a)は、各実施例におけるスルーホールの形状を示し、図14(b)乃至図16(b)は、各実施例において切り出された絶縁基板の形状を示す。
【0048】
図14(a)に示す実施例では、円形のスルーホール4bを絶縁基板切り出し領域22の隅部に形成する。そして、このようなスルーホール4bを形成した絶縁性素板から切り出された絶縁基板2は、図14(b)に示すように、その4隅が1/4円弧状に切り欠かれた形状を有する。従って、例えば切り出し前にスルーホール4b内に端面導電層を形成しておくことにより、その上面及び下面に設けられる導電層間に高い導通性を確保することができる。
【0049】
また、図15(a)に示す実施例では、4つ角が切出線上に位置するようにして四角形、例えば菱形のスルーホール4cを絶縁基板切り出し領域22の隅部に形成する。そして、このようなスルーホール4cを形成した絶縁性素板から切り出された絶縁基板2は、図15(b)に示すように、その4隅が面取りされた形状を有する。従って、例えば切り出し前にスルーホール4c内に端面導電層を形成しておくことにより、その上面及び下面に設けられる導電層間に高い導通性を確保することができる。また、絶縁基板に平面視における鋭角がなくなるため、応力の集中が緩和される。図17は図15(b)に示す絶縁基板2に導電層パターンが形成された状態を示す斜視図である。ハッチングを入れた部分がメッキ等により形成された導電層パターンである。
【0050】
更に、図16(a)に示す実施例では、図15(a)に示すスルーホール4cの4辺が夫々内側に湾曲して星形になった形状のスルーホール4dを絶縁基板切り出し領域22の隅部に形成する。そして、このようなスルーホール4cを形成した絶縁性素板から切り出された絶縁基板2は、図16(b)に示すように、その4隅が丸められた形状を有する。従って、例えば切り出し前にスルーホール4d内に端面導電層を形成しておくことにより、その上面及び下面に設けられる導電層間に高い導通性を確保することができる。また、図15に示す実施例と同様に、応力の集中が緩和される。
【0051】
また、スルーホールを絶縁基板切り出し領域の辺に形成する場合には、図18に示すように、1個の絶縁基板切り出し領域当たり、その1辺に2個のスルーホールを形成し、他の3辺にはスルーホールを形成しないようにしてもよい。スルーホールを絶縁基板切り出し領域の隅部に形成する場合には、図19に示すように、1個の絶縁基板切り出し領域当たり、その2個の隅部に1個ずつスルーホールを形成し、他の2個の隅部にはスルーホールを形成しないようにしてもよい。図19(a)はスルーホールの位置及び形状を示す平面図であり、図19(b)は切り出された絶縁基板2に導電層パターンが形成された状態を示す斜視図である。
【0052】
更に、絶縁性素板に形成するスルーホールは、1個の絶縁基板切り出し領域当たり1個であってもよい。但し、この場合には、図20(a)及び(b)に示すように、例えば瓢箪型のスルーホール4eとし、境界5を含む切断しろの両側部がスルーホール4eのくびれた部分よりも外側になるようにする必要がある。このようなスルーホール4eであれば、切断の結果、図20(e)に示すように、絶縁基板2に2個の凹部4が形成される。ハッチングを入れた部分がメッキ等により形成された導電層パターンである。
【0053】
更にまた、本発明に係る熱電モジュールには、図21に示すように、1段のみの熱電素子群が設けられていてもよい。また、3段以上の熱電素子群が設けられていてもよい。
【0054】
また、絶縁性素板は、アルミナ板又はAlN板製に限定されるものではなく、グリーンシートをセラミック化したものでもよい。更に、グリーンシートの状態でスルーホールの形成及び導電層の形成を行い、その後にセラミック化して絶縁性基板に変化させてもよい。なお、グリーンシートは、例えばAlN粉末及びアセトン等の原料からスラリーを作成し、このスラリーからドクタブレード法により形成することができる。
【0055】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば、接続部材の形成が容易であり、且つ、低コストで行うことできる。また、仮に接続部材の形成が良好でない場合が生じたとしても、そのことを外部から容易に検出することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施例に係る熱電モジュールを示す断面図である。
【図2】 絶縁基板2を示す斜視図である。
【図3】 導電層13が形成された後の絶縁基板2の凹部4近傍を示す斜視図である。
【図4】 第1の実施例に係る熱電モジュールを製造する方法を示す平面図である。
【図5】 第1の実施例に係る熱電モジュールを製造する方法を示す図であって、図4に示す工程の次工程を示す斜視図である。
【図6】 第1の実施例に係る熱電モジュールを製造する方法を示す図であって、図5に示す工程の次工程を示す平面図である。
【図7】 (a)は第1の実施例に係る熱電モジュールを製造する方法を示す図であって、図6に示す工程の次工程を示す平面図であり、(b)は切断しろとスルーホールとの関係を示す平面図である。
【図8】 切断後にはんだ材7を埋め込んだ実施例を示す斜視図である。
【図9】 端面導電層14を形成しない実施例を示す斜視図である。
【図10】 露出した凹部4にはんだ材7を埋め込んだ実施例を示す斜視図である。
【図11】 露出した凹部4に金属ペースト8を埋め込んだ実施例を示す斜視図である。
【図12】 スルーホール4aの変形例を示す図である。
【図13】 スルーホール4aの形成位置の変形例を示す図である。
【図14】 絶縁基板切り出し領域の隅部にスルーホールを形成した実施例を示す平面図である。
【図15】 絶縁基板切り出し領域の隅部にスルーホールを形成した他の実施例を示す平面図である。
【図16】 絶縁基板切り出し領域の隅部にスルーホールを形成した更に他の実施例を示す平面図である。
【図17】 図15(b)に示す絶縁基板2に導電層パターンが形成された状態を示す斜視図である。
【図18】 1個の絶縁基板切り出し領域当たり1辺のみに2個のスルーホールを形成する実施例を示す平面図である。
【図19】 (a)はスルーホールの位置及び形状を示す平面図であり、(b)は切り出された絶縁基板2に導電層パターンが形成された状態を示す斜視図である。
【図20】 1個の絶縁基板切り出し領域当たり1個のスルーホールを形成する実施例を示す図である。
【図21】 1段のみの熱電素子群が設けられた実施例を示す模式図である。
【図22】 (a)乃至(c)は特開平10−190071号公報に記載された熱電モジュールと同様の構造の熱電モジュールを示す断面図である。
【図23】 特開平10−313150号公報に記載された熱電モジュールと同様の構造の熱電モジュールを示す模式図である。
【符号の説明】
1、2、3;絶縁基板、 4;凹部、 4a、4b、4c、4d、4e;スルーホール、 5;境界、 6;切断しろ、 7;はんだ材、 8;金属プラグ、11、12;熱電素子、 13;導電層、 14;端面導電層、 15;熱電素子群用パターン領域、 21;絶縁性素板、 22;絶縁基板切り出し領域

Claims (2)

  1. 面にこの側面よりも内側に後退した後退部が形成された絶縁基板と、この絶縁基板の上面及び下面に形成された導電層と、前記絶縁基板の前記上面及び下面の前記導電層上に搭載された複数個の熱電素子から構成される熱電素子群と、前記熱電素子における前記導電層の反対側の端部に設けられ前記導電層と共に前記熱電素子を相互に接続する他の導電層と、前記後退部に設けられ前記絶縁基板の上面及び下面に形成された導電層のなかで接続端部に該当する導電層を相互に接続する接続部材とを有し、前記接続部材は、前記後退部の側面に形成されたメッキ膜と、前記メッキ膜上に形成された導電材とを有することを特徴とする熱電モジュール。
  2. 前記導電材は、はんだ又は金属ペーストからなることを特徴とする請求項1に記載の熱電モジュール。
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