JP4161464B2 - Pzt系圧電結晶膜の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板上に水熱合成法により形成されたPZT系圧電結晶膜に関する。PZT系圧電結晶膜は、コンデンサをはじめとし、赤外線や超音波等の検出器、また、アクチュエータや圧電ブザー等に使用することができる。
【0002】
【従来の技術】
近年、通信機器、情報処理機器、AV、家電製品等の高性能化と小型化が進むのと並行して、それらの機器を構成する電子部品の小型化、軽量化が検討されており、薄膜化による性能向上が試みられている。
しかしながら、従来のセラミックス研磨法による薄膜化では、所望の密度や組成は得られるものの、目的とする厚み(3〜10μm)に形成するためには歩留まりが悪く極度のコストアップとなるという課題があり、また、曲面状等の自由な形状に圧電結晶膜を形成するには適していない。
また、スパッタリング法、CVD法、蒸着法等の物理的蒸着法、ゾル−ゲル法等を用いて薄膜化することもできるが、これらの方法の場合、高温での製膜あるいは製膜後の熱処理が必要であり組成の制御が難しく、基板の種類が限られ、さらに膜厚を厚くする場合の量産性に乏しいという課題がある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
前記課題を解決する手段として、水熱法によるPZT系圧電結晶膜が開発された。水熱法によるPZT系圧電結晶膜は、大きさや形状の制限が少なく、膜形成時点で分極しており、さらにチタン表面に優先的に結晶成長することを利用したパターニングが可能等の特性を有しており、電子材料として幅広い応用分野を有している。
しかし、従来公知の水熱法で得られる膜は、PZT系結晶が立方体状であり、粒界に欠陥が発生しやすくなり、耐電圧等の特性の点で未だ十分でなく、その改善が種々検討されている。
本発明は、上記課題を解決し、さらに各種デバイスに応用可能な優れた特性を有するPZT系圧電結晶膜を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明は、0.1mol/l〜8.0mol/lのアルカリ水溶液中、鉛含有化合物が50mmol〜500mmol/l、ジルコニウム含有原料化合物が10mmol/l〜500mmol/l、チタン含有原料化合物が0mmol/l〜500mmol/lとなるように調整した混合溶液中に基板を設置固定し、80℃〜200℃で水熱処理を行い、基板上に初期PZT結晶層を形成する第1工程、および、0.1mol/l〜8.0mol/lのアルカリ水溶液中、鉛含有原料化合物が50mmol/l〜500mmol/l、ジルコニウム含有原料化合物が10mmol/l〜500mmol/l、チタン含有原料化合物が10mmol/l〜500mmol/l、およびニオブ含有原料化合物が0.01mmol/l〜10mmol/lの条件で80℃〜200℃で水熱処理を行い、結晶成長層を形成する第2工程とを有する、Pbに対して5原子%以下のNbを含有するPZT系圧電結晶膜の製造方法に関する。本発明の製造方法で得られたPZT系圧電結晶膜は、Pb(ZrxTi1-x)O3(ただし、0≦x≦1)からなるPZT系圧電結晶膜であり、Pbに対して5原子%以下のNbを含有する。また、得られたPZT系圧電結晶膜の圧電結晶は不定形である。さらに、得られたPZT系圧電結晶膜の耐電圧は10kV/mm以上である。
【0005】
【発明の実施の形態】
本発明のPZT系圧電結晶膜の製造方法は以下のような方法である。まず、0.1mol/l〜8.0mol/lのアルカリ水溶液中、鉛含有化合物が50mmol〜500mmol/l、ジルコニウム含有原料化合物が10mmol/l〜500mmol/l、チタン含有原料化合物が0mmol/l〜500mmol/lとなるように調整し、所望によりストロンチウムおよび/またはバリウム含有原料化合物が0.01mmol/l〜500mmol/lとなるように調整された混合溶液中に基板を設置固定し、80℃〜200℃、好ましくは120℃〜160℃で1分以上、好ましくは30分以上反応させ、基板上に初期PZT結晶層を形成する第1工程、および、0.1mol/l〜8.0mol/lのアルカリ水溶液中、鉛含有原料化合物が50mmol/l〜500mmol/l、ジルコニウム含有原料化合物が10mmol/l〜500mmol/l、チタン含有原料化合物が10mmol/l〜500mmol/l、およびニオブ含有原料化合物が0.01mmol/l〜10mmol/lの条件で80℃〜200℃、好ましくは120℃〜160℃で1分以上、好ましくは30分以上反応させ、結晶成長層を形成する第2工程とからPZT系圧電結晶膜が製造される。
【0006】
本発明によれば、初期結晶層形成時に鉛成分原料、ジルコニウム成分原料、微量のチタン成分原料化合物を存在させて第1工程の水熱処理をを行った後、鉛成分原料、ジルコニウム成分原料、チタン成分原料、およびニオブ成分原料化合物を存在させて第2工程の水熱処理を行い、表面平滑性、耐電圧に優れたPZT系結晶の成長反応を行うことができる。
本発明において、ストロンチウムおよび/またはバリウム成分原料化合物を存在させて第1工程を行うことによりPZT系圧電結晶膜の結晶化を促進させることができるので好ましい。その場合の初期PZT結晶層の組成は、(Pb1-aMa)(ZrxTi1-x)O3(但し、式中、MはSrおよび/またはBaを示し、0<a<1、0<x<1である。)で表される。
【0007】
第2工程の成長反応時に、ニオブ成分原料化合物を含有させること無く水熱反応を行うと、生成するPZT結晶は立方体状になり、粒界に欠陥が形成されやすくなることから、耐電圧の低いPZT結晶膜が生成しやすくなる。一方、第2工程の成長反応時に、鉛成分原料、ジルコニウム成分原料、チタン成分原料、およびニオブ成分原料化合物を存在させて水熱反応を行うと、生成するPZT系結晶は不定形となり、粒界部分の欠陥も減少するので耐電圧も10kV/mm以上と増大する。本発明において、過度にNb量が多いと良好な膜が得られ難くなるので、PZT系圧電結晶膜におけるNb含有量は、Pbに対して5原子%以下とするのがよい。
【0008】
本発明で使用される基板は特に限定されないが、結晶核形成時に基板と溶液中の金属イオンとの反応による初期結晶層と基板との密着力を大きくするためにPZT系圧電結晶膜の構成元素を少なくとも一つ以上含有するような基板が好ましい。また、PZT系圧電結晶膜を構成する元素でコーティングした基板を使用することもできる。
【0009】
本発明において水熱反応に使用される鉛、ジルコニウム、チタン、およびニオブの構成元素を含有する原料化合物としては塩化物、オキシ塩化物、硝酸塩、水酸化物、酸化物等が好ましい。また、所望により含有されるストロンチウムおよびバリウムの構成元素を含有する原料化合物としては、前記と同様に塩化物、硝酸塩、水酸化物、酸化物等が好ましい。
また、水熱反応において使用されるアルカリ化合物として、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物を挙げることができる。
【0010】
本発明の製造方法の具体例を以下に詳述する。基板としてチタン基板あるいはチタンをコーティングした基板を用い、前記基板上に水熱法により、表面性、電気特性の改善されたPZT系圧電結晶膜を製造する。
まず、0.1mol/l〜8.0mol/lのKOH水溶液中、Pb(NO3)2が50mmol〜500mmol/l、ZrOCl2が10mmol/l〜500mmol/l、TiCl4が0mmol/l〜500mmol/l、Sr(NO3)2および/またはBa(OH)2が0.01mmol/l〜500mmol/lとなるように調整された混合溶液中に基板を設置固定し、80℃〜200℃、好ましくは120℃〜160℃で1分以上、好ましくは30分以上行い、基板上に初期PZT結晶層を形成する。このときの初期PZT結晶層の厚みは0.05μm〜2.0μmとなっている。
【0011】
次に、結晶を成長させるため、Pb(NO3)2水溶液50mmol/l〜500mmol/l、ZrOCl2水溶液10mmol/l〜500mmol/l、TiCl4水溶液0.02mmol/l〜500mmol/l、NbOCl3水溶液0.01mmol/l〜10mmol/lおよびKOH水溶液0.1mol/l〜8.0mol/lの混合溶液中に、前記の初期PZT結晶層が形成された基板を任意の場所に設置固定し、80℃〜200℃、好ましくは120〜160℃1分以上、好ましくは30分以上水熱処理を行う。これより基板上にPZT系圧電結晶膜が形成される。水熱処理における加熱方法は油浴や電気炉等による。その後、一般的な洗浄を行う。例えば、純水中で超音波洗浄を行い、100℃〜500℃で30分以上乾燥させる。洗浄には酢酸等の有機酸、硝酸、硫酸等の使用もできる。
【0012】
本発明で得られるPZT系圧電結晶膜を素子化する場合に使用される電極としては、特に限定されないが、コストや量産性を考慮し、最適なものが選定される。例えば、無電解メッキ法によるニッケル、焼き付けタイプの銀等がある。その他、蒸着法によるアルミニウム、スパッタリング法による白金、チタン、ニッケル、金等も用いられる。
【0013】
【実施例】
次に、実施例および比較例を挙げて、本発明を具体的に説明する。
実施例1
第1工程の反応原料投入量をPb(NO3)2水溶液190mmol/l、Sr(NO3)2水溶液10mmol/l、ZrOCl2水溶液50mmol/l、TiCl4水溶液50mmol/l、およびKOH水溶液2.2mol/lとし、該混合液中にチタン基板を設置固定して通常の撹拌操作の下、150℃で1時間の水熱処理を行った。この第1工程で生成した初期PZT結晶層は組成が(Pb1-aSra)(ZrxTi1-x)O3(但し、0<a<1、0<x<1である。)のペロブスカイト相からなる膜厚0.3μmの均一な結晶膜であった。
このようにして得られた第1工程の初期PZT結晶層に結晶成長のために第2工程の反応原料投入量をPb(NO3)2水溶液330mmol/l、ZrOCl2水溶液150mmol/l、TiCl4水溶液150mmol/l、NbOCl3水溶液2mmol、およびKOH水溶液3.06mol/lとし、該混合溶液中に初期PZT結晶膜層を形成したチタン基板を設置固定して通常の撹拌操作の下、130℃で4時間の水熱処理を行い、平均粒径が4μmの不定形状の結晶からなり膜厚が5μmのPb(ZrxTi1-x)O3(但し、0<x<1である。)の膜とした。その後、純水中で超音波洗浄を3分間×2回行い、200℃で6時間乾燥を行った。図1に得られたPZT系圧電結晶膜の走査型電子顕微鏡写真(図2と同一倍率である)を示す。
得られたPZT系圧電結晶膜にスパッタリング法により、金電極を付与し、バイモルフ素子の構成で、分極処理を施すことなく電圧を印加したところ変位を示し、分極方向が揃っていることが電気的に確認された。この膜の比誘電率は約800、誘電損失は約0.03、耐電圧は60V(厚みが5μmとすると12kV/mm)であった。また、ICP分析により確認された膜中のNbは1.1原子%であった。
【0014】
実施例2
第1工程の反応原料投入量をPb(NO3)2水溶液190mmol/l、Sr(NO3)2水溶液10mmol/l、ZrOCl2水溶液50mmol/l、TiCl4水溶液50mmol/l、およびKOH水溶液2.2mol/lとし、該混合液中にチタン基板を設置固定して通常の撹拌操作の下、150℃で1時間の水熱処理を行った。この第1工程で生成した初期PZT結晶層は組成が(Pb1-aSra)(ZrxTi1-x)O3(但し、0<a<1、0<x<1である。)のペロブスカイト相からなる膜厚0.3μmの均一な結晶膜であった。
このようにして得られた第1工程の初期PZT結晶層に結晶成長のために第2工程の反応原料投入量をPb(NO3)2水溶液330mmol/l、ZrOCl2水溶液150mmol/l、TiCl4水溶液150mmol/l、NbOCl3水溶液5mmol、およびKOH水溶液3.06mol/lとし、該混合溶液中に初期PZT結晶膜層を形成したチタン基板を設置固定して通常の撹拌操作の下、130℃で4時間の水熱処理を行い、平均粒径が5μmの不定形状の結晶からなり膜厚が7μmのPb(ZrxTi1-x)O3(但し、0<x<1である。)の膜とした。その後、純水中で超音波洗浄を3分間×2回行い、200℃で6時間乾燥を行った。
得られたPZT系圧電結晶膜にスパッタリング法により、金電極を付与し、バイモルフ素子の構成で、分極処理を施すことなく電圧を印加したところ変位を示し、分極方向が揃っていることが電気的に確認された。この膜の比誘電率は約750、誘電損失は約0.03、耐電圧は80V(厚みが7μmとすると11.4kV/mm)であった。また、ICP分析により確認された膜中のNbは1.3原子%であった。
【0015】
実施例3
第1工程の反応原料投入量をPb(NO3)2水溶液190mmol/l、Sr(NO3)2水溶液10mmol/l、ZrOCl2水溶液50mmol/l、TiCl4水溶液50mmol/l、およびKOH水溶液2.2mol/lとし、該混合液中にチタン基板を設置固定して通常の撹拌操作の下、150℃で1時間の水熱処理を行った。この第1工程で生成した初期PZT結晶層は組成が(Pb1-aSra)(ZrxTi1-x)O3(但し、0<a<1、0<x<1である。)のペロブスカイト相からなる膜厚0.3μmの均一な結晶膜であった。
このようにして得られた第1工程の初期PZT結晶層に結晶成長のために第2工程の反応原料投入量をPb(NO3)2水溶液330mmol/l、ZrOCl2水溶液150mmol/l、TiCl4水溶液150mmol/l、NbOCl3水溶液8mmol、およびKOH水溶液3.06mol/lとし、該混合溶液中に初期PZT結晶膜層を形成したチタン基板を設置固定して通常の撹拌操作の下、130℃で4時間の水熱処理を行い、平均粒径が6μmの不定形状の結晶からなり膜厚が8μmのPb(ZrxTi1-x)O3(但し、0<x<1である。)の膜とした。その後、純水中で超音波洗浄を3分間×2回行い、200℃で6時間乾燥を行った。
得られたPZT系圧電結晶膜にスパッタリング法により、金電極を付与し、バイモルフ素子の構成で、分極処理を施すことなく電圧を印加したところ変位を示し、分極方向が揃っていることが電気的に確認された。この膜の比誘電率は約700、誘電損失は約0.03、耐電圧は100V(厚みが8μmとすると12.4kV/mm)であった。また、ICP分析により確認された膜中のNbは1.5原子%であった。
【0016】
比較例1
第1工程の反応原料投入量をPb(NO3)2水溶液190mmol/l、Sr(NO3)2水溶液10mmol/l、ZrOCl2水溶液50mmol/l、TiCl4水溶液50mmol/l、およびKOH水溶液2.2mol/lとし、該混合液中にチタン基板を設置固定して通常の撹拌操作の下、150℃で1時間の水熱処理を行った。この第1工程で生成した初期PZT結晶層は組成が(Pb1-aSra)(ZrxTi1-x)O3(但し、0<a<1、0<x<1である。)のペロブスカイト相からなる膜厚0.3μmの均一な結晶膜であった。
このようにして得られた第1工程の初期PZT結晶層に結晶成長のために第2工程の反応原料投入量をPb(NO3)2水溶液330mmol/l、ZrOCl2水溶液150mmol/l、TiCl4水溶液150mmol/l、およびKOH水溶液3.06mol/lとし、該混合溶液中に初期PZT結晶膜層を形成したチタン基板を設置固定して通常の撹拌操作の下、130℃で4時間の水熱処理を行い、平均粒径が3μmで膜厚が3μmのPb(ZrxTi1-x)O3(但し、0<x<1である。)の膜とした。その後、純水中で超音波洗浄を3分間×2回行い、200℃で6時間乾燥を行った。図2に得られたPZT系圧電結晶膜の走査型電子顕微鏡写真(図1と同一倍率である)を示す。
得られたPZT系圧電結晶膜にスパッタリング法により、金電極を付与し、バイモルフ素子の構成で、分極処理を施すことなく電圧を印加したところ変位を示し、分極方向が揃っていることが電気的に確認された。この膜の比誘電率は約900、誘電損失は約0.04、耐電圧は20V(厚みが3μmとすると6.7kV/mm)であった。
【0017】
【発明の効果】
以上のようにPbに対してNbを5原子%以下含有する本発明の製造方法により得られたPZT系結晶膜は、表面粗さ、耐電圧に優れ、コンデンサ、アクチュエータ等の電子部品に使用可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1の方法で作製したPZT系結晶膜の走査型電子顕微鏡写真である。
【図2】比較例1の方法で作製したPZT結晶膜の走査型電子顕微鏡写真である。
Claims (3)
- 0.1mol/l〜8.0mol/lのアルカリ水溶液中、鉛含有化合物が50mmol〜500mmol/l、ジルコニウム含有原料化合物が10mmol/l〜500mmol/l、チタン含有原料化合物が0mmol/l〜500mmol/lとなるように調整した混合溶液中に基板を設置固定し、80℃〜200℃で水熱処理を行い、基板上に初期PZT結晶層を形成する第1工程、および、0.1mol/l〜8.0mol/lのアルカリ水溶液中、鉛含有原料化合物が50mmol/l〜500mmol/l、ジルコニウム含有原料化合物が10mmol/l〜500mmol/l、チタン含有原料化合物が10mmol/l〜500mmol/l、およびニオブ含有原料化合物が0.01mmol/l〜10mmol/lの条件で80℃〜200℃で水熱処理を行い、結晶成長層を形成する第2工程とを有する、Pbに対して5原子%以下のNbを含有するPZT系圧電結晶膜の製造方法。
- 前記圧電結晶が不定形であることを特徴とする請求項1記載のPZT系圧電結晶膜の製造方法。
- 前記圧電結晶膜の耐電圧が10kV/mm以上であることを特徴とする請求項1記載のPZT系圧電結晶膜の製造方法。
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