JP4143116B2 - 電解除去方法 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は、基材に付着した物質を電解方法を用いて除去する方法に関する。特に、半導体製造装置である蒸着装置・溶射装置における壁面等に付着した蒸着物や溶射物、あるいはやめっき装置に用いられる治具に付着しためっき物質を除去する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
スパッタ法、化学蒸着(CVD)法といった蒸着装置、溶射装置およびめっき装置において、付着した蒸着物、溶射物およびめっき物質が付着し、必要に応じて装置は付着物を除去する必要がある。
【0003】
従来、このような付着物を除去する方法として、付着物が溶解する薬品に被洗浄物を浸漬して付着物除去する方法及び電解による除去方法が取られている。従来の薬品への浸漬により除去する方法は、付着物の溶解性を高めるために強酸や強アルカリが使われることが多いため、基材をも腐食する危険性が高いという問題があった。特に、基材と付着物が同一のものであれば、基材の腐食量は多く、薬品での付着物除去は困難であった。また、蒸着装置、溶射装置およびめっきの治具の場合、付着物は基材全体に覆われているのではないので、基材に腐食性を持つ薬品を用いると、付着物のない部分での基材の腐食が多かった。
【0004】
また、電解による除去方法においては、電流が基材に流れると基材表面では酸化還元反応が生じ、それによって基材の腐食が生じる。したがって、基材と付着物が同一の被洗浄品であれば、基材の腐食量が付着物の除去量よりも多くなり、電解での付着物除去に問題があった。特に蒸着装置、溶射装置およびめっきの治具の場合、付着物は被洗浄品全体に覆われているのではないので、付着物のない部分の基材の腐食が多かった。特許文献1には、基材の腐食を減少させるため、電解液にグルテン添加物を添加することを提案している。また、特許文献2では、基材がアルミニウムの場合の電解液を提案しているが、腐食防止には十分でない。
【0005】
また、この電解による除去方法では、電導性のない基材の電解ができなかった。電導性のない基材と電導性の付着物からなる被洗浄品の場合、電源装置と被洗浄品の付着物を接続すれば、電解による付着物除去は可能ではあるが、電源装置接続部分付近の付着物が早く除去されるために、全体の付着物が除去される前に接続が外れ、電解不能になる。
【0006】
さらに、電源装置と被洗浄品を接続せずに陽極一陰極間内に被洗浄品を配置して、付着物を除去する電解剥離法(例えば、特許文献3参照)がある。しかし、電極間内に被洗浄品を設置すると電流は陽極より被洗浄品の付着物から基材へ、さらに陰極に流れる。電流が基材から電解液に流れる場合に基材表面では酸化還元反応が生じ、それによって基材の腐食が生じるという問題点がある。
【0007】
その他に、特許文献4には、流す電流の極性を転極し、かつ、塩基性溶液と酸性溶液を使うなど作業性に問題がある。
【0008】
【特許文献1】
特開平10−60699号公報
【特許文献2】
特開平03−28400号公報
【特許文献3】
特開昭55−50500号公報
【特許文献4】
特開2001−316900号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記従来の技術の問題点を解決するためになされたものであり、その目的は基材の腐食が少なく、特に、電導性のない基材についた付着物の除去においても効果的であり、また、基材と付着物が同一素材である付着物の場合にも基材の腐食性の少ない方法を提供する。
【0010】
【課題を解決するための手段】
基材の表面の電導性付着物を電解除去する方法において、該基材を両電極間以外の場所で電導性付着物面が両電極側になるように、両電極から等距離に両電極に接することなく設置し、電極間に電圧を印加することを特徴とする電解除去方法を提供する。
【0011】
本発明に使用する電解液は、素材及び付着物の電導性の有無によって選択するとよい。付着物に電導性がある被洗浄品では付着物の種類に対して、電解液が選択される。付着物が以下の電導性の素材の場合に用いられる電解液の例を挙げる。電解液の温度が5〜80℃にて、付着物がステンレスおよびニッケル合金の場合、電解液は、0.1mol/L〜10mol/L硫酸水溶液、0.1mol/L〜13mol/L硝酸水溶液、0.1mol/L〜10mol/L過酸化水素水、0.1mol/L〜25mol/Lフッ化水素酸水溶液、0.1〜15mol/Lリン酸水溶液、0.1mol/L〜6.5mol/Lホウフッ化水素酸水溶液、0.1mol/L〜12mol/L塩酸水溶液またはこれらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、およびこれらの酸・アルカリ金属塩・アルカリ土類金属塩・アンモニウム塩の2種以上からなる混合溶液、アンモニウムおよび過酸化水素の混合溶液であり、付着物がアルミニウムおよびアルミニウム合金の場合、0.1mol/L〜10mol/L硫酸水溶液、0.1mol/L〜13mol/L硝酸水溶液、0.1mol/L〜10mol/L過酸化水素水、0.1mol/L〜25mol/Lフッ化水素酸水溶液、0.1mol/L〜15mol/Lリン酸水溶液、0.1mol/L〜1mol/Lシュウ酸水溶液、0.1mol/L〜12mol/L塩酸水溶液またはこれらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、およびこれらの酸・アルカリ金属塩・アルカリ土類金属塩・アンモニウム塩の2種以上からなる混合溶液、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムをいずれか含むアルカリ溶液、アンモニウムおよび過酸化水素の混合溶液であり、付着物が銅および銅合金の場合、0.1mol/L〜10mol/L硫酸水溶液、0.1mol/L〜13mol/L硝酸水溶液、0.1mol/L〜10mol/L過酸化水素水、0.1mol/L〜25mol/Lフッ化水素酸水溶液、0.1mol/L〜12mol/L塩酸水溶液またはこれらのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、およびこれらの酸・アルカリ金属塩・アルカリ土類金属塩・アンモニウム塩の2種以上からなる混合溶液であり、付着物がチタンおよびチタン合金の場合、0.1mol/L〜10mol/L過酸化水素水あるいは0.1mol/〜25mol/Lフッ化水素酸水溶液またはこれらのアルカリ金属塩、アンモニウム塩の2種類以上からなる混合させた溶液、およびこれらの酸・アルカリ金属塩・アンモニウム塩にアンモニア、水酸化ナトリウム、硫酸、リン酸を1種以上混合させた溶液である。
【0012】
ただし、付着物および基材に電導性がある被洗浄品の場合、基材に腐食性がない電解液、付着物よりも基材の腐食量が少ない電解液、あるいは電解を行っていない状態では基材に腐食性がなく、電解をすることによって基材に腐食を伴う電解液を用いる。基材に腐食性がなく、電解をすることによって基材に腐食を伴う電解液の例を挙げる。電解液温度が5〜80℃にて、基材がステンレスおよびニッケル合金に対しては、硫酸、硝酸、フッ化水素酸、リン酸、塩酸のアルカリ金属塩・アルカリ土類金属塩の水溶液があり、基材がアルミニウムおよびアルミニウム合金に対しては、硫酸、硝酸、フッ化水素酸、リン酸、シュウ酸、塩酸のアルカリ金属塩・アルカリ土類金属塩の水溶液があり、基材が銅および銅合金に対しては、硫酸、硝酸、リン酸のアルカリ金属塩・アルカリ土類金属塩の水溶液があり、基材がチタン、チタン合金およびチタン窒化物に対しては、フッ化水素酸、塩酸、水酸化物のアルカリ金属塩・アルカリ土類金属塩の水溶液がある。
【0013】
基材に電導性がない被洗浄品では付着物の種類に対して、電解液が選択される。電解液には、電解を行わないときには基材に腐食性がなく、電解をすることによって付着物に腐食を伴うものを用いる。この場合に用いられる電解液の例は、電解液温度が5〜80℃にて、前記の付着物および基材に電導性がある被洗浄品の場合と同様である。
【0014】
なお、付着物に電導性がない被洗浄品、付着物および基材に電導性がある被洗浄品の場合、電解を行わないときには基材に腐食性がなく、電解をすることによって基材に腐食を伴う電解液として好適な例を挙げれば、電解液温度が25〜40℃にて、基材がステンレス、アルミニウム、アルミニウム合金の場合、0.5mol/L〜3mol/L硫酸水溶液、0.2mol/L〜飽和硫酸ナトリウム水溶液であり、基材がニッケル合金の場合、0.5mol/L〜3mol/L硝酸水溶液、0.2mol/L〜3mol/L硝酸ナトリウム水溶液であり、基材が銅および銅合金の場合、0.5mol/L〜3mol/L硫酸水溶液、0.2mol/L〜飽和硫酸マグネシウム水溶液であり、基材がチタンおよびチタン合金の場合、0.2mol/L〜2mol/Lフッ化アンモニウム水溶液および0.1mol/L〜1mol/Lフッ化水素酸の混合溶液、0.1mol/L〜1mol/Lフッ化ナトリウム水溶液である。
【0015】
電解に流す電流は基材および付着物の関係で変化し、一義的に定義できないが、10〜3000mA/cm2であれば、被洗浄品の基材から付着物が除去される。なお、40〜80mA/cm2の電流を流すときに最も基材の腐食が無く、かつ電源装置を被洗浄品に接続した電解法と比較すると著しく腐食を低減して、付着物が基材から剥離される好適な条件である。
【0016】
陰極−被洗浄品間および陽極−被洗浄品間の距離は一般的には30mm以内に設置すればよい。なお、好適な条件は5mm以内である。
【0017】
被洗浄品の付着物の除去される面積は被洗浄品に近接する電極面積に依存するので、除去したい付着物面積に合わせて電極面積を調製するか、あるいは電極を付着物に合わせて移動させればよい。被洗浄品−電極間の距離が近接すればするほど電極面積と付着物除去面積は一致し、被洗浄品−電極間の距離が遠ざかるほど電極面積に対して付着物除去面積は広がる。
【0018】
さらに、微小表面の電極を用いて移動させると、付着物の選択的・部分的な除去が可能である。また、電極の表面形状に合わせた付着物の選択的・部分的な除去も可能である。
【0019】
以下、図面を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明する。
【0020】
図1は本発明を実施するための電解装置であり、8は電源装置、7は電解槽である。基材1と付着物2からなる被洗浄品3を陽極5および陰極6間外で、被洗浄品が両極からほぼ同距離に近付け、かつ付着物が付いてない基材面1より付着物面2が両極側になるよう設置する。陽極5−陰極6間に電流を流すことによって、電流は被洗浄品3の陽極近傍から陰極近傍へ流れる。すなわち、被洗浄品3では付着物面あるいは付着物|基材界面だけで電解による酸化還元反応が生じ付着物を除去する。
【0021】
このとき、被洗浄品を流れる電流は付着物あるいは基材のどちらか一方を流れれば良いので、電源装置を基材に接続した電解法と異なり、基材に電導性がないものを被洗浄品として用いることができる。また、電源装置を付着物に接続して付着物を除去する電解法と異なり、電解する箇所をリード線等によって固定しないので、電解位置を自由に変化できる。
【0022】
また、電源装置を被洗浄品に接続した電解法では、付着物面および付着物と基材界面のみならず、付着物が付いてない基材面にも電流が流れるので、基材の腐食が多いが、本発明では基材の腐食量は無いか、あるいは電源装置を被洗浄品に接続した電解法と比較すると著しく低減できる。
【0023】
【実施例】
次に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0024】
[実施例1]
被洗浄品として基材にアルミニウムを用いた。基材のアルミニウムにブラスト処理をした後、付着物としてアルミニウムを溶射法を用いて基材に200μm付着させた。電解液として1mol/L硫酸ナトリウム水溶液を室温にて用い、図1のように陽極−陰極間(電極間:5cm、電極大きさ:直径2mm、長さ8cm)に対して平行に被洗浄品を配置し、陽極−被洗浄品間および陰極−被洗浄品間をそれぞれ5mmにして、陽極−陰極間の電位差5Vで電解を行った。1時間電解を行うことにより、被洗浄品の陽極近傍で付着物が除去され、電極と被洗浄品の位置を移動させることにより付着物全面を除去できた。溶射を行う前の基材の厚さと比べて、付着物除去後の基材の厚さに変化はなかった。
【0025】
[実施例2]
被洗浄品として基材にセラミックスを用いた。付着物としてアルミニウムを溶射法を用いて基材に200μm付着させた。電解液として1mol/L硫酸ナトリウム水溶液を室温にて用い、図1のように陽極−陰極間(電極間:5cm)に対して平行に被洗浄品を配置し、陽極−被洗浄品間および陰極−被洗浄品間をそれぞれ5mmにして、陽極−陰極間の電位差4Vで電解を行った。1時間電解を行うことにより、被洗浄品の陽極近傍で付着物が除去され、電極と被洗浄品の位置を移動させることにより付着物全面を除去できた。溶射を行う前の基材の厚さと比べて、付着物除去後の基材の厚さに変化はなかった。
【0026】
[実施例3]
被洗浄品として基材に石英ガラスを用いた。付着物としてアルミニウムを溶射法を用いて基材に200μm付着させた。電解液として1mol/L硫酸ナトリウム水溶液を室温にて用い、図1のように陽極−陰極間(電極間:5cm)に対して平行に被洗浄品を配置し、陽極−被洗浄品間および陰極−被洗浄品間をそれぞれ5mmにして、陽極−陰極間の電位差4Vで電解を行った。1時間電解を行うことにより、被洗浄品の陽極近傍で付着物が除去され、電極と被洗浄品の位置を移動させることにより付着物全面を除去できた。溶射を行う前の基材の厚さと比べて、付着物除去後の基材の厚さに変化はなかった。
【0027】
[実施例4]
被洗浄品として基材にアルミニウムを用いた。基材のアルミニウムにブラスト処理をした後、付着物として銅をスパッタ法を用いて基材に100μm付着させた。電解液として1mol/L硝酸ナトリウム水溶液を室温にて用い、図1のように陽極−陰極間(電極間:5cm)に対して平行に被洗浄品を配置し、陽極−被洗浄品間および陰極−被洗浄品間をそれぞれ5mmにして、陽極−陰極間の電位差2Vで電解を行った。1時間電解を行うことにより、被洗浄品の陽極近傍で付着物が除去され、電極と被洗浄品の位置を移動させることにより付着物全面を除去できた。スパッタリングを行う前の基材の厚さと比べて、付着物除去後の基材の厚さに変化はなかった。
【0028】
[実施例5]
被洗浄品として基材にSUS304を用いた。基材のSUS304にブラスト処理をした後、付着物としてクロムをめっきした。電解液として1mol/L硫酸マグネシウム水溶液を室温にて用い、図1のように陽極−陰極間(電極間:5cm)に対して平行に被洗浄品を配置し、陽極−被洗浄品間および陰極−被洗浄品間をそれぞれ5mmにして、陽極−陰極間の電位差2Vで電解を行った。1時間電解を行うことにより、被洗浄品の陰極近傍で付着物が除去され、電極と被洗浄品の位置を移動させることにより付着物全面を除去できた。めっきを行う前の基材の厚さと比べて、付着物除去後の基材の厚さに変化はなかった。
【0029】
[比較例1]
実施例1と同様の被洗浄品を用い、硝酸および過酸化水素からなる水溶液に10時間浸漬した。付着物全体が除去された。また、基材の厚さは、36μm減少していた。
【0030】
[比較例2]
実施例1と同様の被洗浄品を用い、1mol/L硫酸ナトリウム水溶液を電解液とし、電流密度60mA/cm2で被洗浄品を陽極として電解を行った。電解を行うと被洗浄品表面に酸化皮膜が形成され、電流が流れなくなり、付着物を基材から除去できなかった。
【0031】
[比較例3]
実施例1と同様の被洗浄品を用い、1mol/L硫酸ナトリウム水溶液を電解液とし、電流密度60mA/cm2で被洗浄品を陰極として電解を行った。90分電解を行うことにより、付着物が斑に除去された。付着物除去後の基材の厚さは25μm減少していた。
【0032】
[比較例4]
実施例1と同様の被洗浄品を用い、1mol/L硫酸ナトリウム水溶液を電解液とし、図1の被洗浄品を90°回転させ、陽極5−陰極6間内に仕切りを作るように垂直に配置した。なお、陽極5側が付着物面、陰極6側が基材面になるように被洗浄品3を配置した。陽極−陰極間の電位差5Vで電解を行った。陽極5−陰極6間に電流を流すと、電流は陽極から被洗浄品の付着物、基材面を通って、陽極に流れた。2時間電解を行うことにより、付着物の一部が除去された。付着物を除去した部分では溶射を行う前の基材の厚さと比べて、付着物除去後の基材の厚さは4μm減少していた。
【0033】
[比較例5]
実施例2と同様の被洗浄品を用い、付着物面に電源装置からのリード線を固定し、1mol/L硫酸ナトリウム水溶液を電解液とし、電流密度60mA/cm2で被洗浄品の付着物を陰極として電解を行った。15分電解を行うことにより、リード線近傍の付着物が除去され、リード線は被洗浄品から外れ、それ以上電解できなくなった。
【0034】
[比較例6]
実施例4と同様の被洗浄品を用い、1mol/L硝酸ナトリウム水溶液を電解液とし、電流密度60mA/cm2で被洗浄品を陽極として電解を行った。1時間電解を行うことにより、付着物が斑に除去された。付着物を除去した部分ではスパッタリングを行う前の基材の厚さと比べて、付着物除去後の基材の厚さは10μm減少していた。
【0035】
[比較例7]
実施例5と同様の被洗浄品を用い、1mol/L硫酸マグネシウム水溶液を電解液とし、電流密度60mA/cm2で被洗浄品を陽極として電解を行った。1時間電解を行うことにより、付着物が斑に除去された。付着物を除去した部分ではめっきを行う前の基材の厚さと比べて、付着物除去後の基材の厚さは5μm減少していた。
【0036】
実施例及び比較例の結果を表1に纏めた。
【0037】
【表1】
【0038】
【発明の効果】
本発明では、付着物および基材が同一素材の被洗浄品であっても、付着物面あるいは付着物|基材界面の一部に電位が与えられ、付着物の付いてない基材面に電解する電位が与えられないために基材にマスキングなしで電解によって基材の腐食が少なく付着物を除去できる。また、本発明では、被洗浄品の電導性がない基材の電解による付着物除去が可能である。被洗浄品の付着物あるいは基材のどちらかに電導性があれば電解可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の付着物の除去方法が実施される電解セルを表す図である。
【符号の説明】
1 基材
2 付着物
3 被洗浄品
4 電解液
5 陽極
6 陰極
7 電解槽
8 電源装置
Claims (1)
- 基材の表面の電導性付着物を電解除去する方法において、該基材を両電極間以外の場所で電導性付着物面が両電極側になるように、両電極から等距離に両電極に接することなく設置し、電極間に電圧を印加することを特徴とする電解除去方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002282539A JP4143116B2 (ja) | 2002-09-27 | 2002-09-27 | 電解除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2002282539A JP4143116B2 (ja) | 2002-09-27 | 2002-09-27 | 電解除去方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004115877A JP2004115877A (ja) | 2004-04-15 |
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2002
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---|---|
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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