JP4130815B2 - 半導体受光素子及びその製造方法 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 136
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 23
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 36
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 34
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 claims description 16
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 8
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910021424 microcrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 28
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 25
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 9
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 7
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000013461 design Methods 0.000 description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 5
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 2
- 239000004038 photonic crystal Substances 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004541 SiN Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/08—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
- H01L31/10—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. phototransistors
- H01L31/101—Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/14625—Optical elements or arrangements associated with the device
-
- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14643—Photodiode arrays; MOS imagers
- H01L27/14645—Colour imagers
- H01L27/14647—Multicolour imagers having a stacked pixel-element structure, e.g. npn, npnpn or MQW elements
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/02—Details
- H01L31/0216—Coatings
- H01L31/02161—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier
- H01L31/02162—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors
- H01L31/02165—Coatings for devices characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for filtering or shielding light, e.g. multicolour filters for photodetectors using interference filters, e.g. multilayer dielectric filters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
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Description
従来の固体撮像素子は、p型のシリコン基板20に形成された複数のn型の領域である複数の半導体受光素子21と、各半導体受光素子21の光入射側に設けられたカラーフィルタ22と、MOSトランジスタ24を有し、各半導体受光素子21と接続され、信号電荷を電圧に変換、増幅して出力する複数の出力アンプ23とから構成される。
しかしながら、従来の固体撮像素子では、カラーフィルタにより各半導体受光素子に入射する光を選択し、RGB3色に対応するそれぞれの受光素子を平面内にそれぞれ配置しているため、小チップ化しようとした場合に、それぞれの画素に対応する受光領域が小さくなり、感度が低下するという問題があり、この場合は撮像画像の色再現性が低下するため、更なる高画質化あるいは低コスト化の要求に応えることができないという問題がある。
これによって、各pn接合部におけるp型層およびn型層の配置を、他のpn接合部におけるp型層およびn型層の配置に影響されること無く自由に設定することができるので、設計自由度の高い半導体受光素子を実現することができる。
これによって、他のpn接合部に染み出る光を完全にカットすることができるので、より鮮明に光の色分離ができ、固体撮像素子の画像の鮮明度の向上を可能にする半導体受光素子を実現することができる。
これによって、高感度の半導体受光素子の製造方法を実現することができる。
また、前記pn接合分離層は、絶縁層であってもよい。
(第1の実施の形態)
図1は、本発明の第1の実施の形態の半導体受光素子の構造を示す概略断面図である。
まず、図2(a)に示されるように、エピタキシャル成長法によりSi基板(図外)上に、単結晶Siから構成される第1のpn接合部2を形成する。その後、プラズマCVD法(気相堆積法)により第1のpn接合部2上、第1の絶縁層3を形成する。そして、電子ビーム露光等によるリソグラフィーとエッチングにより、ドーナツ状あるいはストライプ状の開口部を第1の絶縁層3に形成する。
以上のように本実施の形態の半導体受光素子によれば、第1のpn接合部2は赤色光を光電変換し、第2のpn接合部4は緑色光を光電変換し、第3のpn接合部6は青色光を光電変換する。よって、1つの半導体受光素子への入射光に含まれる赤色光成分、緑色光成分および青色光成分を全て利用することができ、光の利用効率を高めることができるので、本実施の形態の半導体受光素子は、固体撮像素子の撮像画像の色再現性を高めることができるため、固体撮像素子に対する更なる高画質化の要求に応えることを可能にする半導体受光素子を実現することができる。また、同一位置での光3原色のセンシングが可能となるので、本実施の形態の半導体受光素子は、固体撮像素子の高解像度化を可能にする半導体受光素子を実現することができる。さらに、カラー化を行うために、固体撮像素子にカラーフィルタを用意し、さらに赤色光、緑色光および青色光を光電変換するための半導体受光素子を別々に、同一平面内に用意する必要が無くなるので、本実施の形態の半導体受光素子は、固体撮像素子に対する更なる小型化の要求、及び低コスト化の要求に応えることを可能にする半導体受光素子を実現することができる。
図3は、本発明の第2の実施の形態の半導体受光素子の構造を示す概略断面図である。なお、図1と同一の要素には同一の符号が付されており、それらに関する詳しい説明はここでは省略する。
第1の絶縁層12は、積層構造を含み、第1のpn接合部2と第2のpn接合部4とを電気的に分離する。積層方向には、屈折率周期構造が形成される。すなわち、最上層をはじめ奇数層には低屈折率材料からなる低屈折率層12aが、上から2番目の層をはじめ偶数層には高屈折率材料からなる高屈折率層12bが交互に配置される。一方、面内方向には、同心状で相似な円形状を呈する周期構造が形成される。すなわち、最上層の中央の開口及びそれを囲むドーナツ状の開口が、それぞれ第1の絶縁層12を貫通するように、最下層に向けて垂直に空けられている。開口幅(図4(a)におけるA)は一定であり、隣り合う2つの開口の間隔(図4(a)におけるB)は、外側になるほど小さくなる。
2 第1のpn接合部
2a、4a、6a n型層
2b、4b、6b p型層
3、12 第1の絶縁層
4 第2のpn接合部
5、13 第2の絶縁層
6 第3のpn接合部
12a、13a、14a 低屈折率層
12b、13b、14b 高屈折率層
14 第3の絶縁層
20 シリコン基板
21 半導体受光素子
22 カラーフィルタ
23 出力アンプ
24 MOSトランジスタ
Claims (12)
- 入射光を光電変換する半導体受光素子であって、
積層された複数のpn接合部と、
隣り合う前記pn接合部の間に形成されたpn接合分離層とを備え、
前記pn接合分離層は、開口部を有し、
前記複数のpn接合部は、前記開口部を介して隣り合い、
前記開口部は、前記pn接合分離層の面内方向において同心状で相似な形状を有し、
前記pn接合分離層は、前記pn接合分離層を通過する光の焦点を前記pn接合分離層下方に位置する前記pn接合部のpn接合面で結ばせる
ことを特徴とする半導体受光素子。 - 前記pn接合分離層は、隣り合う前記pn接合部と異なる屈折率を有する材質を含み、集光機能を有する
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体受光素子。 - 前記pn接合分離層は、絶縁層を含む
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体受光素子。 - 前記半導体受光素子は、第1のpn接合部と、前記第1のpn接合部上方の第2のpn接合部と、前記第2のpn接合部上方の第3のpn接合部とを有し、
前記第1のpn接合部の禁制帯幅は、前記第2のpn接合部の禁制帯幅より小さく、
前記第2のpn接合部の禁制帯幅は、前記第3のpn接合部の禁制帯幅より小さい
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の半導体受光素子。 - 前記第1のpn接合部の禁制帯幅は、赤色光の波長に相当するエネルギーよりも小さく、
前記第2のpn接合部の禁制帯幅は、緑色光の波長に相当するエネルギーよりも小さく、
前記第3のpn接合部の禁制帯幅は、青色光の波長に相当するエネルギーよりも小さい
ことを特徴とする請求項4に記載の半導体受光素子。 - 前記第1のpn接合部のpn接合面は、赤色光に対して感度が最大となる位置に形成され、
前記第2のpn接合部のpn接合面は、緑色光に対して感度が最大となる位置に形成され、
前記第3のpn接合部のpn接合面は、青色光に対して感度が最大となる位置に形成される
ことを特徴とする請求項4又は5に記載の半導体受光素子。 - 前記pn接合分離層は、Oを含む材料により構成される
ことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の半導体受光素子。 - 前記pn接合分離層は、SiO2あるいはSiNにより構成される
ことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の半導体受光素子。 - 前記pn接合分離層は、所定の波長の光を選択的に透過させる
ことを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の半導体受光素子。 - 前記pn接合分離層は、屈折率の異なる少なくとも2種類の層を積層させて構成される
ことを特徴とする請求9に記載の半導体受光素子。 - 前記複数のpn接合部は、それぞれSiを含む半導体材料により構成される
ことを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の半導体受光素子。 - 前記複数のpn接合部のうちの少なくとも1つは、アモルファスSi、微結晶Si、単結晶SiC、アモルファスSiC、微結晶SiCにより構成される
ことを特徴とする請求項11に記載の半導体受光素子。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004209676A JP4130815B2 (ja) | 2004-07-16 | 2004-07-16 | 半導体受光素子及びその製造方法 |
US11/180,581 US7411232B2 (en) | 2004-07-16 | 2005-07-14 | Semiconductor photodetecting device and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004209676A JP4130815B2 (ja) | 2004-07-16 | 2004-07-16 | 半導体受光素子及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006032669A JP2006032669A (ja) | 2006-02-02 |
JP4130815B2 true JP4130815B2 (ja) | 2008-08-06 |
Family
ID=35598554
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004209676A Expired - Fee Related JP4130815B2 (ja) | 2004-07-16 | 2004-07-16 | 半導体受光素子及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7411232B2 (ja) |
JP (1) | JP4130815B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP3405099B2 (ja) | 1996-11-27 | 2003-05-12 | 松下電器産業株式会社 | カラーセンサ |
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JP4817584B2 (ja) | 2002-05-08 | 2011-11-16 | キヤノン株式会社 | カラー撮像素子 |
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US7476557B2 (en) * | 2004-03-29 | 2009-01-13 | Articulated Technologies, Llc | Roll-to-roll fabricated light sheet and encapsulated semiconductor circuit devices |
-
2004
- 2004-07-16 JP JP2004209676A patent/JP4130815B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-07-14 US US11/180,581 patent/US7411232B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7411232B2 (en) | 2008-08-12 |
JP2006032669A (ja) | 2006-02-02 |
US20060011954A1 (en) | 2006-01-19 |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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