JP4112249B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体装置の製造方法に係り、特に半導体装置の製造方法に用いられるエッチング方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
さまざまな半導体装置、例えばレーザダイオード、ＧａＡｓ−ＦＥＴ、ＨＥＭＴを構成する際にヘテロ接合構造を用いて、その半導体装置の特性改善が行われている。良好なヘテロ接合構造を構成するためには、両者の格子定数がほぼ一致していることが必要である。
【０００３】
例えば、半導体レーザの分野においては、バンドギャップの小さい発光領域をバンドギャップの大きな半導体層でサンドイッチにする、いわゆるヘテロ接合構造によるしきい値電流の低減が提案された。その後、ＧａＡｓとＡｌxＧａ1-xＡｓを用いて良好なヘテロ接合構造を構成できることが知られるようになり、ＧａＡｓ−ＡｌＧａＡｓダブルへテロ接合レーザが形成された。
ＡｌxＧａ1-xＡｓ系材料は、混晶比ｘの増加とともにバンドギャップＥgは増加し、屈折率ｎは減少するが、格子定数の変化は非常に小さい。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従来、ヘテロ接合構造を有する半導体装置を形成する際の、ヘテロ接合構造の成長界面における選択エッチングにおいては、被エッチング層とエッチング停止層との間の化学的なエッチングレートの差のみによりエッチングの停止を行うものであり、被エッチング層とエッチング停止層との間のエッチングレート比を５０以上にする必要がある。
このため、如何に良好なヘテロ接合を形成できるＡｌxＧａ1-xＡｓ系材料といえども、選択エッチングを行う際には被エッチング層とエッチング停止層との材料によってはエッチングを精度良く停止させる制御が難しく、エッチング液の選定に多大の時間を要したり、半導体装置を構成する材料の選択にかなりの制限を受けていた。
【０００５】
図１３は従来の半導体レーザの斜視図である。
図１３において、１００は半導体レーザ、１０１はｎ型ＧａＡｓ基板（以下"ｎ型"は"ｎ−"、"ｐ型"は"ｐ−"と表記する）、１０２はｎ−ＧａＡｓからなるバッファ層、１０３はｎ−Ａｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓからなるｎ型クラッド層、１０４はＡｌ0.35Ｇａ0.65Ａｓ/Ａｌ0.15Ｇａ0.85Ａｓ多重量子井戸活性層、１０５はｐ−Ａｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓからなる第１のｐ型クラッド層、１０６はｐ−Ａｌ0.2Ｇａ0.8Ａｓからなるエッチングストッパー層、１０７はｎ−Ａｌ0.6Ｇａ0.4Ａｓからなる電流ブロック層、１０８は電流ブロック層１０７の開口部、１０９はｎ−ＧａＡｓからなる表面保護層、１１０はｐ−Ａｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓからなる第２のｐ型クラッド層、１１１はｐ−ＧａＡｓからなるコンタクト層、１１２はコンタクト層１１１の除去領域、１１３はｐ電極、１１４はｎ電極である。
【０００６】
次に従来の半導体レーザの製造方法について説明する。
図１４及び図１５は従来の半導体レーザの製造方法における一段階を示す半導体レーザの断面図である。図１４及び図１５は図１３のＸＩＶ−ＸＩＶ断面における断面図である。
図１４を参照して、ｎ−ＧａＡｓ基板１０１上にバッファ層１０２を介してｎ型クラッド層１０３、多重量子井戸活性層１０４、第１のｐ型クラッド層１０５、エッチングストッパー層１０６、電流ブロック層１０７、および表面保護層１０９を順次積層した後、表面保護層１０９の表面上にレジスト膜を形成し光導波方向の帯状をした開口を有するレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクとしてフォトリソグラフィー技術を用いて表面保護層１０９をパターニングする。次いでレジスト膜のマスクパターンを除去した後、パターニングされた表面保護層１０９をマスクとして、電流ブロック層１０７をエッチングストッパー層１０６が露呈するまで選択エッチングし、電流ブロック層１０７に帯状の開口部１０８を形成する。
【０００７】
次に開口部１０８を含め電流ブロック層１０７および表面保護層１０９上に第２のｐ型クラッド層１１０およびコンタクト層１１１を順次積層する。
次いで、コンタクト層１１１の表面上にレジスト膜を形成し、帯状の開口部１０８の両端面近傍に開口を有するレジストパターン１１５を形成し、このレジストパターン１１５をマスクとしてコンタクト層１１１の選択エッチングを行い、コンタクト層１１１の除去領域１１２を形成する。この選択エッチングの工程の結果を示すのが図１４である。
コンタクト層１１１を除去する選択エッチングには、エッチング液としてアンモニアと過酸化水素水との混合液が用いられる。
【０００８】
図１５を参照して、ついでレジストパターン１１５を除去し、ｐ電極１１３が形成され、さらにｎ−ＧａＡｓ基板１０１の裏面側は所定の厚さになるまで研磨された後にｎ電極１１４が形成される。この工程の結果を示すのが図１５である。
従来の製造方法において行ったコンタクト層１１１を除去する選択エッチングに用いたエッチング液（アンモニアと過酸化水素水との混合液）は、コンタクト層１１１としてのＧａＡｓと第２のｐ型クラッド層１１０としてのＡｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓとの間の化学的なエッチングレートの差のみを用いてエッチングを停止させるものである。従って被エッチング層のＧａＡｓとエッチング停止層のＡｌxＧａ1-xＡｓとの間のエッチングレート比を５０以上にする必要がある。このためエッチング停止層のＡｌ組成比を０．２以上にすることが必要となる。
【０００９】
今の場合、エッチング停止層は第２のｐ型クラッド層１１０であるためにＡｌ組成比を０．５とすることが出来るために、ＧａＡｓとの間で十分なエッチングレート比を確保することができた。しかし一般的には、必ずしもこの様な条件が確保できるわけではないので、ヘテロ接合された化合物半導体の選択エッチングはヘテロ接合された材料によりかなりの制限を受け、延いては半導体装置の構成材料の選定、及び構造がかなりの制限を受けていた。
また、十分なエッチングレート比を確保することができた場合でも、必要十分なエッチングを行うための制御がなかなか難しくオーバーエッチングしてしまうとサイドエッチングを起こしてしまう。またアンモニアと過酸化水素水との混合液をエッチング液とした場合、表面の酸化が激しく表面モフォロジーとしても望ましくない。
【００１０】
この発明は上記の問題点を解消するためになされたもので、第１の目的は、ヘテロ接合を構成する界面の選択エッチングを精度良く停止することができる工程を含む半導体装置の製造方法を提供することである。
【００１１】
なお、公知技術として、特開平０１−０９９２７６号公報、特開昭６１−０７７３８４号公報、及び特開昭６２−１７６１８３号公報があり、これらには選択エッチングの精度を向上させるための技術が開示されている。
また、特開平０１−０９９２７６号公報には、エッチング液として酒石酸を用いた方法が開示されている。
さらに、Appl.Phys.Lett.55(10),4 September 1989, p984-p986 にはＧａＡｓ／ＡｌＧａＡｓヘテロ構造のレーザ光を照射して行う光化学エッチングが記載されている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
この発明に係る半導体装置の製造方法は、ＡｌＧａＡｓ系半導体からなる第１の半導体層の上にこの第１の半導体層よりもバンドギャップが小さくかつその価電子帯のエネルギーが上記第１の半導体層の価電子帯のエネルギーよりも大きいＡｌＧａＡｓ系半導体からなる第２の半導体層が配設されたヘテロ接合構造の、上記第２の半導体層の表面上であって、第２の半導体層が除去される第１の部分の外側に、金属膜を形成する工程と、この金属膜を覆い、第２の半導体層の第１の部分を露呈したマスクパターンを形成し、このマスクパターンをマスクとして、第２の半導体層のフェルミレベルよりも高いフェルミレベルを有し酒石酸と過酸化水素水との混合液を含むエッチング液を使用し、光照射の下で第２の半導体層を選択的に除去しかつ第２の半導体層の除去が実質的に終了した後に第２の半導体層の除去が光照射の下で自ずと停止する工程と、を含むもので、エッチングに寄与する正孔を光を照射することにより発生させるとともに第２の半導体層が薄膜化されると、第２の半導体層の薄膜の並行方向の正孔の移動度が高くなり、正孔が第２の半導体層を介して金属膜に移動しやすくなり、エッチングに寄与する正孔が少なくなり、第２の半導体層のエッチングが停止する。
【００１３】
さらに、第１、第２の半導体層を、ＡｌＧａＡｓ系材料、ＩｎＧａＡｓ系材料、ＡｌＧａＩｎＰ系材料、またはＡｌＧａＩｎＡｓ系材料を用いて形成するもので、化合物半導体層を用いた半導体装置の選択エッチングにおいて、第２の半導体層のエッチングを停止することができる。
【００１４】
さらに、エッチング液として水酸基を含むエッチング液を用いるもので、第２の半導体層の正孔と水酸基とを結合することによりエッチングの進行を効果的に進めることができる。
【００１５】
さらに、エッチング液が酒石酸を含むもので、エッチングされた表面の酸化を少なくすることが出来る。
【００１６】
また、第１導電型のＧａＡｓ基板上に、第１導電型のＡｌＧａＡｓ系材料からなる下クラッド層、ＡｌＧａＡｓ系材料からなる多重量子井戸構造の活性層、第２導電型のＡｌＧａＡｓ系材料からなる第１上クラッド層、第１導電型のＡｌＧａＡｓ系材料からなる電流ブロック層を順次積層し、電流ブロック層に電流通路としての光導波方向の溝を形成する工程と、電流通路としての溝を埋め込むとともに電流ブロック層上に、第２導電型のＡｌxＧａ1-xＡｓ（０＜x≦１）からなる第２の上クラッド層を形成し、この上に第２導電型のＡｌyＧａ1-yＡｓ（０≦y≦１,y＜x）からなるコンタクト層を形成する工程と、コンタクト層上に金属電極膜を形成し、この金属電極膜を覆うとともに電流通路としての溝の両端上のコンタクト層表面を露呈したレジストパターンを形成する工程と、コンタクト層のフェルミレベルよりも高いフェルミレベルを有する、酒石酸を含むエッチング液を用い、レジストパターンをマスクとして光照射を行いながらコンタクト層を選択的にエッチングする工程と、を含むもので、コンタクト層除去構造のＡｌＧａＡｓ系レーザのコンタクト層の選択エッチングを簡単な工程により行うことができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
実施の形態１．
図１及び図２はこの発明の一つの実施の形態に係る半導体装置の製造方法を説明する模式図である。
図１（ａ）はエッチング進行中の正孔の移動を示す模式図、図１（ｂ）はエッチング進行中のエネルギーバンドを示す模式図である。
また図２（ａ）はエッチング停止状態の正孔の移動を示す模式図、図２（ｂ）はエッチング停止状態のエネルギーバンドを示す模式図である。
【００１８】
図１（ａ）および図２（ａ）において１０は第１の半導体層としての例えばＡｌxＧａ1-xＡｓ層（０＜x≦１）、１２はＡｌxＧａ1-xＡｓ層１０の上に積層された第２の半導体層としての、例えばＡｌyＧａ1-yＡｓ層（０≦y≦１,y＜x）である。
１４は第１の部分としての、ＡｌyＧａ1-yＡｓ層１２がエッチングされるエッチング領域、１６は金属膜としての例えばＡｕ電極膜である。このＡｕ電極膜１６は、エッチング領域１４から数μｍから１０μｍ程度の間隔でエッチング領域１４の外側に取り囲むように形成されている。
１８はＡｕ電極膜１６を覆い、エッチング領域１４が露呈するように形成されたマスクパターンとしてのレジストパターンである。
【００１９】
ＡｌxＧａ1-xＡｓ層１０、ＡｌyＧａ1-yＡｓ層１２のバンドギャップ及び価電子帯のエネルギーの大きさは、Ａｌ組成比がｙ＜ｘであり、図１（ｂ）及び図２（ｂ）のエネルギーバンド図から分かるように、ＡｌxＧａ1-xＡｓ層１０のバンドギャップがＡｌyＧａ1-yＡｓ層１２のそれよりも大きく、ＡｌyＧａ1-yＡｓ層１２の価電子帯のエネルギーの大きさはＡｌxＧａ1-xＡｓ層１０のそれよりも大きくなっている。
さらにエッチング液のフェルミ準位をＡｌyＧａ1-yＡｓ層１２のフェルミ準位よりも高くなるように調整することにより、エッチング液に接するＡｌyＧａ1-yＡｓ層１２の伝導帯及び価電子帯の形を、図１（ｂ）及び図２（ｂ）のエネルギーバンド図に示されるように少し曲げることができる。
このエッチング液のフェルミ準位とは、例えば「電極化学」（佐藤教男著、（株）日鉄技術情報センター（１９９３））第２章の７０頁〜９９頁に記載されるように、エッチング液中の酸化還元系電子の電気化学ポテンシャルである。
酸化還元系電子の電気化学ポテンシャルμ（/）e(REDOX)すなわち酸化還元系電子のフェルミ準位εF(REDOX)は、一般的に次の式で導かれる。なおμ（/）はμ upper barの表記である。
μ（/）e(REDOX)＝εF(REDOX)＝｛（εOX,A＋εRED,D）／２｝＋｛（λOX−λRED）／２｝
ここで、εOX,Aは酸化体のアクセプター準位すなわち酸化体の電子親和力、εRED,Dは還元体のドナー準位すなわち還元体のイオン化エネルギー、λOXおよびλREDはそれぞれ酸化体および還元体の水和構造再配列エネルギーである。
【００２０】
次に選択エッチングについて説明する。
図１はエッチングが進行している状態を示しており、このとき十分なエネルギーｈνを持つ光を照射することにより、レジストパターン１８をマスクとして露呈されたエッチング領域１４のＡｌxＧａ1-xＡｓ層１０およびＡｌyＧａ1-yＡｓ層１２では電子・正孔対が形成される。ＡｌxＧａ1-xＡｓ層１０内で形成された電子及び正孔はＡｌyＧａ1-yＡｓ層１２に移動し、特に正孔はＡｌyＧａ1-yＡｓ層１２に蓄積され、レジストパターン１８をマスクとしてエッチング液に接触している部分では、この正孔がエッチング液の水酸基（ＯＨ⁻）と結合することにより、ＡｌyＧａ1-yＡｓ層１２が溶解しエッチングが進行する。
【００２１】
図２はさらにエッチングが進行し、ＡｌyＧａ1-yＡｓ層１２が薄膜化してきた状態を示している。
エッチング領域１４のＡｌyＧａ1-yＡｓ層１２が薄膜化するに従い、ＡｌyＧａ1-yＡｓ層１２に蓄積された正孔は二次元正孔ガスとなり、薄膜化したＡｌyＧａ1-yＡｓ層１２の並行方向の移動度が増大する。このためＡｌxＧａ1-xＡｓ層１０内で形成された正孔はＡｌyＧａ1-yＡｓ層１２に到達するとすぐにＡｌyＧａ1-yＡｓ層１２の並行方向に移動し、マスクされたＡｌyＧａ1-yＡｓ層１２を介してＡｕ電極膜１６に移動させられ、Ａｕ電極膜１６を介して消滅する。この結果、エッチング液の水酸基と結合する正孔は少なくなり、ＡｌyＧａ1-yＡｓ層１２の溶解は停止し、エッチングは停止する。
【００２２】
選択エッチングを行い化学的にエッチングを停止させるためには、エッチングレート比を５０以上にする必要があったが、十分な光照射の下にて光化学的にエッチングを行い、被エッチング半導体層に蓄積された正孔が二次元正孔ガスとなる程度に被エッチング半導体層が薄膜化されると、薄膜の並行方向の正孔の移動度を高め、正孔を被エッチング半導体層の表面に形成された金属膜に移動させることにより正孔がエッチングに寄与しなくさせることにより、化学的にはエッチングレート比が小さくても、エッチング停止層でエッチングを停止させ、選択エッチングを行うことができる。このために極めて精度良くエッチング停止を制御することができる。
延いては、半導体装置を構成する材料や構造の制限条件をゆるめることができるとともに特性の揃った半導体装置を簡単な工程で安価に製造することができる。
【００２３】
実施例１．
半導体レーザの劣化現象として光学損傷（Catastrophic Optical Damage，以下CODという）が知られている。このＣＯＤ劣化はレーザ端面における発熱とその発熱による光吸収の相互作用により、レーザ端面の温度が結晶破壊に至るまで上昇することに起因する。
このＣＯＤ劣化の防止法としてレーザ端面近傍の活性層に電流を流さないことによりジュール熱の発生を抑制することが提案されており、レーザ端面近傍のコンタクト層の一部を除去したコンタクト層除去構造をもつ半導体レーザとして具体化されている。
【００２４】
図３はこの発明の半導体装置の製造方法の一実施例に係る半導体レーザの斜視図である。図４は図３のＩＶ−ＩＶ断面におけるこの半導体レーザの断面図、図５は図３のＶ−Ｖ断面におけるこの半導体レーザの断面図である。
図３、図４、及び図５において、２０はコンタクト層除去構造の半導体レーザ、２２はｎ−ＧａＡｓ基板、２４はｎ−ＧａＡｓ基板２２上に配設されたｎ−ＧａＡｓからなるバッファ層、２６はバッファ層２４上に配設されたｎ−Ａｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓからなるｎ型クラッド層、２８はｎ型クラッド層２６上に配設された多重量子井戸構造の活性層で、光ガイド層及びバリア層はＡｌ0.35Ｇａ0.65Ａｓにより、またウエル層はＡｌ0.15Ｇａ0.85Ａｓにより形成されている。
【００２５】
３０は活性層２８の上に配設されたｐ−Ａｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓからなる第１のｐ型クラッド層、３２は第１のｐ型クラッド層の上に配設されたｐ−Ａｌ0.2Ｇａ0.8Ａｓからなるエッチングストッパー層である。
３４はエッチングストッパー層３２上に配設されたｎ−Ａｌ0.6Ｇａ0.4Ａｓからなる電流ブロック層、３６は電流ブロック層３４上に配設されたｎ−ＧａＡｓからなる表面保護層で、電流ブロック層３４及び表面保護層３６の中央には光導波方向に延在する開口部３８が設けられている。この開口部３８は活性層２８に流れる電流の電流経路となっている。
【００２６】
４０は開口部３８を埋め込むとともに表面保護層３６上に配設されたｐ−Ａｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓからなる第２のｐ型クラッド層、４２は第２のｐ型クラッド層４０上に配設されたｐ−ＧａＡｓからなるコンタクト層で、このコンタクト層４２には、開口部３８に対応してレーザ端面近傍のコンタクト層４２を除去した除去領域４４が配設され、活性層２８のレーザ端面近傍に電流を流さないようにしている。
４６はＡｕを含む金属層で構成されたｐ電極で、少なくとも除去領域４４の周縁に対応する部分は、除去領域４４から数μｍから１０μｍ程度の間隔で除去領域４４の外側を取り囲むように配設されている。４８はｎ−ＧａＡｓ基板２２の裏面上に配設されたｎ電極である。
【００２７】
この構成を有する半導体レーザ２０においては、ｐ電極４６とｎ電極４８の間でバイアスが印加されレーザ発振を行うが、コンタクト層４２の除去領域４４に対応するレーザ端面近傍の活性層２８には電流が流れないので、活性層２８のレーザ端面近傍ではジュール熱の発生が抑制されるので、レーザ端面におけるＣＯＤ劣化が防止される。
【００２８】
次に半導体レーザの製造方法について説明する。
図６、図７、図８、図９、図１０、図１１及び図１２はこの発明に係る半導体レーザの製造方法の各段階における半導体レーザの断面図である。
図６を参照し、ｎ−ＧａＡｓ基板２２上に、バッファ層２４としてのｎ−ＧａＡｓ層、ｎ型クラッド層２６としてのｎ−Ａｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓ層、活性層２８としてのＡｌ0.35Ｇａ0.65Ａｓ/Ａｌ0.15Ｇａ0.85Ａｓ多重量子井戸層、第１のｐ型クラッド層３０としてのｐ−Ａｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓ層、エッチングストッパー層３２としてのｐ−Ａｌ0.2Ｇａ0.8Ａｓ層、電流ブロック層３４としてのｎ−Ａｌ0.6Ｇａ0.4Ａｓ層、表面保護層３６としてのｎ−ＧａＡｓ層をＭＯＣＶＤ法等の結晶成長法により順次形成する。この結果を示すのが図６である。
【００２９】
図７を参照し、次に表面保護層３６の表面上にレジスト膜を形成し光導波方向に延在する帯状をした開口を有するレジストパターン５０を形成する。
このレジストパターン５０をマスクとしてフォトリソグラフィー技術を用いて表面保護層３６としてのｎ−ＧａＡｓ層をパターニングを行い、表面保護層３６としてのｎ−ＧａＡｓ層に開口を形成する。この結果を示すのが図７である。
図８を参照し、その後レジストパターン５０を除去した後、開口が形成された表面保護層３６としてのｎ−ＧａＡｓ層をマスクとし、電流ブロック層３４としてのｎ−Ａｌ0.6Ｇａ0.4Ａｓ層を、エッチングストッパー層３２としてのｐ−Ａｌ0.2Ｇａ0.8Ａｓ層が露呈するまでエッチングし、開口部３８を形成する。この結果を示すのが図８である。
【００３０】
図９を参照し、次いで開口部３８を含め電流ブロック層３４としてのｎ−Ａｌ0.6Ｇａ0.4Ａｓ層および表面保護層３６としてのｎ−ＧａＡｓ層上に、第２のｐ型クラッド層４０としてのｐ−Ａｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓ層およびコンタクト層４２としてのｐ−ＧａＡｓ層を結晶成長法により順次積層する。この結果を示すのが図９である。
図１０を参照し、次にコンタクト層４２としてのｐ−ＧａＡｓ層の表面上に、蒸着等によりｐ電極４６を形成する。ｐ電極４６はコンタクト層４２としてのｐ−ＧａＡｓ層の除去領域４４の外側に形成される。この結果を示すのが図１０である。
【００３１】
図１１を参照し、次にｐ電極４６を覆いコンタクト層４２上にレジスト膜を形成し、フォトリソグラフィー技術を用いてコンタクト層４２としてのｐ−ＧａＡｓ層の除去領域４４が露呈するようにレジストパターン５２を形成する。次いでこのレジストパターン５２をマスクとして光照射の下で酒石酸と過酸化水素水との混合液（酒石酸と過酸化水素水の比率が４：１）を用いてエッチングを行う。この結果除去領域４４のｐ−ＧａＡｓ層のみが選択エッチングされる。
十分なエネルギーｈνを持つ光照射の下でエッチングを行うと、レジストパターン５２をマスクとして露呈された除去領域４４のｐ−ＧａＡｓ層および第２のｐ型クラッド層４０としてのｐ−Ａｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓ層では電子・正孔対が形成される。
【００３２】
第２のｐ型クラッド層４０としてのｐ−Ａｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓ層内で形成された電子及び正孔はコンタクト層４２としてのｐ−ＧａＡｓ層の除去領域４４に移動し、特に正孔は除去領域４４のｐ−ＧａＡｓ層に蓄積され、レジストパターン５２をマスクとしてエッチング液に接触している部分では、この正孔がエッチング液の水酸基（ＯＨ⁻）と結合することにより、除去領域４４のｐ−ＧａＡｓ層が溶解しエッチングが進行する。
【００３３】
さらにエッチングが進行し、除去領域４４のｐ−ＧａＡｓ層が薄膜化するに従い、このｐ−ＧａＡｓ層に蓄積された正孔は二次元正孔ガスとなり、薄膜化した除去領域４４のｐ−ＧａＡｓ層の並行方向の移動度が増大する。
このため第２のｐ型クラッド層４０としてのｐ−Ａｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓ内で形成された正孔は除去領域４４のｐ−ＧａＡｓ層に到達すると、すぐに除去領域４４の薄膜化したｐ−ＧａＡｓ層の並行方向に移動し、マスクされているｐ−ＧａＡｓ層を介してｐ電極４６に移動させられ、ｐ電極４６を介して消滅する。この結果、エッチング液の水酸基と結合する正孔は少なくなり、除去領域４４のｐ−ＧａＡｓ層の溶解は停止し、エッチングは停止する。
【００３４】
このとき、極めて薄いｐ−ＧａＡｓ層が残ることになるが、これは次の工程の前処理において、完全に除去される程度の薄膜で、半導体装置として機能的に影響を残すことない。従ってほぼ必要十分な程度にエッチングを行い停止することができる。
ちなみに、従来の方法によるエッチングにおいて、アンモニアと過酸化水素水との混合液に変えて酒石酸と過酸化水素水との混合液を使用した場合は、ＧａＡｓとＡｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓのエッチングレートはほぼ等しく、ＧａＡｓとＡｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓの界面でエッチングは停止せずＡｌ0.5Ｇａ0.5Ａｓ層もエッチングしてしまう。
この後エッチング終了後レジストパターン５２を除去する。この工程の結果を示すのが図１２である。
【００３５】
さらに、ｎ−基板２２の裏面側を研磨し、ｎ−ＧａＡｓ基板２２を所定の厚みに形成した後、ｎ−ＧａＡｓ基板２２の裏面にｎ電極４８を形成し図３、図４及び図５に示された半導体レーザ２０として完成する。
この選択エッチングでは、化学的なエッチングレート比のみで選択エッチングを行っているわけではないので、極めて正確にエッチング停止を制御することができる。このため特性の揃った半導体レーザを簡単な工程で製造することができ歩留まりが向上するとともに安価に提供することができる。
また、エッチング液として、酒石酸と過酸化水素水との混合液を使用しているので、表面酸化が少なく、表面のモフォロジーのよい半導体レーザを製造することができる。
【００３６】
この実施の形態では、ＡｌＧａＡｓ系材料を例として説明したがその他の化合物半材料であるＩｎＧａＡｓ系材料、ＡｌＧａＩｎＰ系材料、またはＡｌＧａＩｎＡｓ系材料などでも同様の効果を奏し、ヘテロ接合界面を有する他の半導体材料を用いた場合においても同様の効果を奏する。
【００３７】
【発明の効果】
この発明に係る半導体装置の製造方法は以上に説明したような工程を含んでいるので、以下のような効果を有する。
この発明に係る半導体装置の製造方法においては、第１の半導体層の上にこの第１の半導体層よりもバンドギャップが小さくかつその価電子帯のエネルギーが第１の半導体層の価電子帯のエネルギーよりも大きい第２の半導体層が配設されたヘテロ接合構造の、この第２の半導体層の表面上であって、第２の半導体層が除去される第１の部分の外側に、金属膜を形成する工程と、この金属膜を覆い、第２の半導体層の第１の部分を露呈したマスクパターンを形成し、このマスクパターンをマスクとして、第２の半導体層のフェルミレベルよりも高いフェルミレベルのエッチング液を使用し、光照射の下で第２の半導体層を選択的に除去する工程と、を含むもので、エッチングに寄与する正孔を光を照射することにより発生させるとともに第２の半導体層が薄膜化されることにより、第２の半導体層の薄膜の並行方向に正孔の移動度が高くなり、第２の半導体層を介して金属膜に移動しやすくなって、エッチングに寄与する正孔が少なくなり、第２の半導体層のエッチングが停止する。このためヘテロ接合界面で必要十分にエッチングの停止を行うことができ、選択エッチングを行うことができる。従って極めて精度高くエッチングの停止を制御することができる。延いては、半導体装置を構成する材料や構造の制限条件をゆるめることができるとともに特性の揃った半導体装置を簡単な工程で安価に製造することができる。
【００３８】
さらに、第１、第２の半導体層を、ＡｌＧａＡｓ系材料、ＩｎＧａＡｓ系材料、ＡｌＧａＩｎＰ系材料、またはＡｌＧａＩｎＡｓ系材料を用いて形成するもので、化合物半導体層を用いた半導体装置の選択エッチングにおいて、第２の半導体層のエッチングを正確に停止することができる。延いては、ＡｌＧａＡｓ系材料、ＩｎＧａＡｓ系材料、ＡｌＧａＩｎＰ系材料、またはＡｌＧａＩｎＡｓ系材料を用いた半導体装置を構成する材料や構造の制限条件をゆるめることができるとともに特性の揃った半導体装置を簡単な工程で安価に製造することができる。
【００３９】
さらに、エッチング液として水酸基を含むエッチング液を用いるもので、第２の半導体層の正孔と水酸基とを結合することによりエッチングの進行を効果的に進めることができる。延いては特性の揃った半導体装置を簡単な工程で安価に製造することができる。
【００４０】
さらに、エッチング液が酒石酸を含むもので、エッチングされた表面の酸化を少なくすることが出来る。延いては表面のモフォロジーの良い半導体装置を簡単に製造することができる。
【００４１】
また、第１導電型のＧａＡｓ基板上に、第１導電型のＡｌＧａＡｓ系材料からなる下クラッド層、ＡｌＧａＡｓ系材料からなる多重量子井戸構造の活性層、第２導電型のＡｌＧａＡｓ系材料からなる第１上クラッド層、第１導電型のＡｌＧａＡｓ系材料からなる電流ブロック層を順次積層し、電流ブロック層に電流通路としての光導波方向の溝を形成する工程と、電流通路としての溝を埋め込むとともに電流ブロック層上に、第２導電型のＡｌxＧａ1-xＡｓ（０＜x≦１）からなる第２の上クラッド層を形成し、この上に第２導電型のＡｌyＧａ1-yＡｓ（０≦y≦１,y＜x）からなるコンタクト層を形成する工程と、コンタクト層上に金属電極膜を形成し、この金属電極膜を覆うとともに電流通路としての溝の両端上のコンタクト層表面を露呈したレジストパターンを形成する工程と、コンタクト層のフェルミレベルよりも高いフェルミレベルを有する、酒石酸を含むエッチング液を用い、レジストパターンをマスクとして光照射を行いながらコンタクト層を選択的にエッチングする工程と、を含むもので、コンタクト層除去構造のＡｌＧａＡｓ系レーザのコンタクト層の選択エッチングを簡単な工程により行うことができる。延いては、コンタクト層除去構造のＡｌＧａＡｓ系レーザを構成する材料や構造の制限条件をゆるめることができるとともに特性の揃った表面モフォロジーのよいコンタクト層除去構造のＡｌＧａＡｓ系レーザを簡単な工程で安価に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法を説明する模式図である。
【図２】 この発明の一実施の形態に係る半導体装置の製造方法を説明する模式図である。
【図３】 この発明の半導体装置の製造方法の一実施の形態の一実施例に係る半導体レーザの斜視図である。
【図４】 図３のＩＶ−ＩＶ断面におけるこの発明に係る半導体レーザの断面図である。
【図５】 図３のＶ−Ｖ断面におけるこの発明に係る半導体レーザの断面図である。
【図６】 この発明の一実施の形態に係る半導体レーザの製造方法の一段階における半導体レーザの断面図である。
【図７】 この発明の一実施の形態に係る半導体レーザの製造方法の一段階における半導体レーザの断面図である。
【図８】 この発明の一実施の形態に係る半導体レーザの製造方法の一段階における半導体レーザの断面図である。
【図９】 この発明の一実施の形態に係る半導体レーザの製造方法の一段階における半導体レーザの断面図である。
【図１０】 この発明の一実施の形態に係る半導体レーザの製造方法の一段階における半導体レーザの断面図である。
【図１１】 この発明の一実施の形態に係る半導体レーザの製造方法の一段階における半導体レーザの断面図である。
【図１２】 この発明の一実施の形態に係る半導体レーザの製造方法の一段階における半導体レーザの断面図である。
【図１３】 従来の半導体レーザの斜視図である。
【図１４】 従来の半導体レーザの製造方法における一段階を示す半導体レーザの断面図である。
【図１５】 従来の半導体レーザの製造方法における一段階を示す半導体レーザの断面図である。
【符号の説明】
１０ ＡｌxＧａ1-xＡｓ層（０＜x≦１）、 １２ ＡｌyＧａ1-yＡｓ層（０≦y≦１,y＜x）、 １６ Ａｕ電極膜、 １８ レジストパターン、 ２２ ｎ−ＧａＡｓ基板、 ２６ ｎ型クラッド層、 ２８ 活性層、 ３０ 第１のｐ型クラッド層、 ３４ 電流ブロック層、 ３８ 開口部、４０ 第２のｐ型クラッド層、 ４２ コンタクト層、 ４６ ｐ電極、 ５２ レジストパターン。

Claims (2)

1. ＡｌＧａＡｓ系半導体からなる第１の半導体層の上にこの第１の半導体層よりもバンドギャップが小さくかつその価電子帯のエネルギーが上記第１の半導体層の価電子帯のエネルギーよりも大きいＡｌＧａＡｓ系半導体からなる第２の半導体層が配設されたヘテロ接合構造の、上記第２の半導体層の表面上であって、第２の半導体層が除去される第１の部分の外側に、金属膜を形成する工程と、
   この金属膜を覆い、第２の半導体層の第１の部分を露呈したマスクパターンを形成し、このマスクパターンをマスクとして、第２の半導体層のフェルミレベルよりも高いフェルミレベルを有し酒石酸と過酸化水素水との混合液を含むエッチング液を使用し、光照射の下で第２の半導体層を選択的に除去しかつ第２の半導体層の除去が実質的に終了した後に第２の半導体層の除去が光照射の下で自ずと停止する工程と、
   を含む半導体装置の製造方法。
2. 第１導電型のＧａＡｓ基板上に、第１導電型のＡｌＧａＡｓ系材料からなる下クラッド層、ＡｌＧａＡｓ系材料からなる多重量子井戸構造の活性層、第２導電型のＡｌＧａＡｓ系材料からなる第１上クラッド層、第１導電型のＡｌＧａＡｓ系材料からなる電流ブロック層を順次積層し、電流ブロック層に電流通路としての光導波方向の溝を形成する工程と、
   電流通路としての溝を埋め込むとともに電流ブロック層上に、第２導電型のＡｌxＧａ1-xＡｓ（０＜x≦１）からなる第２の上クラッド層を形成し、この上に第２導電型のＡｌyＧａ1-yＡｓ（０≦y≦１,y＜x）からなるコンタクト層を形成する工程と、
   コンタクト層上に金属電極膜を形成し、この金属電極膜を覆うとともに電流通路としての溝の両端上のコンタクト層表面を露呈したレジストパターンを形成する工程と、
   コンタクト層のフェルミレベルよりも高いフェルミレベルを有する、酒石酸を含むエッチング液を用い、レジストパターンをマスクとして光照射を行いながらコンタクト層を選択的にエッチングする工程と、
   を含む半導体装置の製造方法。

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