JP4107996B2 - リビングラジカルポリマーの製造方法及びポリマー - Google Patents

リビングラジカルポリマーの製造方法及びポリマー Download PDF

Info

Publication number
JP4107996B2
JP4107996B2 JP2003120939A JP2003120939A JP4107996B2 JP 4107996 B2 JP4107996 B2 JP 4107996B2 JP 2003120939 A JP2003120939 A JP 2003120939A JP 2003120939 A JP2003120939 A JP 2003120939A JP 4107996 B2 JP4107996 B2 JP 4107996B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
meth
living radical
polymer
molecular weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2003120939A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004323693A (ja
Inventor
茂 山子
潤一 吉田
隆 亀島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Otsuka Chemical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Otsuka Chemical Co Ltd filed Critical Otsuka Chemical Co Ltd
Priority to JP2003120939A priority Critical patent/JP4107996B2/ja
Publication of JP2004323693A publication Critical patent/JP2004323693A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4107996B2 publication Critical patent/JP4107996B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、リビングラジカルポリマーの製造方 関する。
【0002】
【従来の技術】
アゾ系化合物は、ラジカル重合の開始剤として用いられている。特にAIBN(2,2’−アゾビスイソブチロニトリル)は、アゾ系ラジカル重合開始剤の中でも重要で広く使用されている。このような反応としては、非常に多様のモノマー、例えば、スチレン、(メタ)アクリル酸アルキルやアクリロニトリル等のビニルモノマーの重合に使用されている。
【0003】
上記方法は、多様なモノマーに対して重合反応が可能であるが、生成物の分子量と分子量分布の精密な制御には不向きである。
このような問題を解消するものとして、AIBN、ジフェニルジテルリド(DPDTe)を用いてスチレンを重合させて、ポリスチレンを得る方法が知られている(例えば、非特許文献1参照)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、この方法はまず有機テルル化合物として芳香族系のDPDTeのみを用い、ビニルモノマーとしてスチレンのみを用いることを開示するものであり、且つ上記AIBN、ジフェニルジテルリド(DPDTe)、スチレンの3者を同時に反応させる方法であり、分子量分布(PD=Mw/Mn)も1.18〜1.26程度のポリマーが得られている。従ってこの文献からビニルモノマーとしてスチレンを用いる場合には分子量分布(PD=Mw/Mn)が制御されているものが得られることがわかるが、スチレン以外のビニルモノマーについての知見は不明である。そこで(メタ)アクリル酸エステルのような他のビニルモノマーについて研究したところ、アゾ化合物、有機テルル化合物、ビニルモノマーの3者を同時に反応させるこの方法では優れた分子量分布が得られないことが判明した。
〔非特許文献1 Polymer Bulletin 43,143−150(1999)〕
本発明の課題は、アゾ系重合開始剤と式(1)で表される化合物を用いてスチレンのみならずその他の(メタ)アクリル酸エステルのようなビニルモノマーであっても、温和な条件下で、精密な分子量及び分子量分布(PD=Mw/Mn)を有するリビングラジカルポリマーが得られるリビングラジカルポリマーの製造方法及び該ポリマーを提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は、第一段階として、アゾ系重合開始剤と式(1)で示される化合物を反応させ、次に第二段階として、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルから選ばれるビニルモノマーを加えて40〜100℃の温度でビニルモノマーを重合して、PD=1 . 05〜1 . 15のリビングラジカルポリマーを得ることを特徴とするリビングラジカルポリマーの製造方法に係る。
【0006】
(RTe) (1)
〔式中、Rは、C〜Cのアルキル基、アリール基、置換アリール基又は芳香族ヘテロ環基を示す。〕
【0007】
【発明の実施の形態】
本発明のリビングラジカルポリマーは、第一段階として、アゾ系重合開始剤と式(1)で示される化合物を反応させ、次に第二段階として、ビニルモノマーを加えてビニルモノマーを重合させることにより製造される。
(RTe) (1)
〔式中、Rは、C〜Cのアルキル基、アリール基、置換アリール基又は芳香族ヘテロ環基を示す。〕
【0008】
本発明で使用する式(1)で表される化合物は、次の通りである。
(RTe) (1)
〔式中、Rは、C〜Cのアルキル基、アリール基、置換アリール基又は芳香族ヘテロ環基を示す。〕
で示される基は、具体的には次の通りである。
〜Cのアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、シクロブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基等の炭素数1〜8の直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基を挙げることができる。好ましいアルキル基としては、炭素数1〜4の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、より好ましくはメチル基、エチル基又はブチル基が良い。
【0009】
アリール基としては、フェニル基、ナフチル基等、置換アリール基としては置換基を有しているフェニル基、置換基を有しているナフチル基等、芳香族へテロ環基としてはピリジル基、フリル基、チエニル基等を挙げることができる。上記置換基を有しているアリール基の置換基としては、例えば、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、−CORで示されるカルボニル含有基(R=C〜Cのアルキル基、アリール基、C〜Cのアルコキシ基、アリーロキシ基)、スルホニル基、トリフルオロメチル基等を挙げることができる。好ましいアリール基としては、フェニル基、トリフルオロメチル置換フェニル基が良い。また、これら置換基は、1個又は2個置換しているのが良く、パラ位若しくはオルト位が好ましい。
【0010】
式(1)で示される化合物は、具体的には、ジメチルジテルリド、ジエチルジテルリド、ジ−n−プロピルジテルリド、ジイソプロピルジテルリド、ジシクロプロピルジテルリド、ジ−n−ブチルジテルリド、ジ−sec−ブチルジテルリド、ジ−tert−ブチルジテルリド、ジシクロブチルジテルリド、ジフェニルジテルリド、ビス−(p−メトキシフェニル)ジテルリド、ビス−(p−アミノフェニル)ジテルリド、ビス−(p−ニトロフェニル)ジテルリド、ビス−(p−シアノフェニル)ジテルリド、ビス−(p−スルホニルフェニル)ジテルリド、ジナフチルジテルリド、ジピリジルジテルリド等が挙げられる。
【0011】
式(1)で示される化合物は、金属テルルと式(2)の化合物を反応させることにより製造することができる。
式(2)で表される化合物としては、具体的には次の通りである。
M(R)m (2)
〔式中、Rは、C〜Cのアルキル基、アリール基、置換アリール基又は芳香族ヘテロ環基を示す。Mは、アルカリ金属、アルカリ土類金属又は銅原子を示す。Mがアルカリ金属の時、mは1、Mがアルカリ土類金属の時、mは2、Mが銅原子の時、mは1または2を示す。〕
で示される基は、具体的には次の通りである。
〜Cのアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、シクロブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基等の炭素数1〜8の直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基を挙げることができる。好ましいアルキル基としては、炭素数1〜4の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基、より好ましくはメチル基、エチル基又はブチル基が良い。アリール基、置換アリール基又は芳香族ヘテロ環基としては、上記に示した通りである。
【0012】
Mで示されるものとしては、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、マグネシウム、カルシウム等のアルカリ土類金属、銅を挙げることができる。好ましくは、リチウムが良い。
なお、Mがマグネシウムの時、化合物(2)はMg(Rでも、或いはRMgX(Xは、ハロゲン原子)で表される化合物(グリニャール試薬)でもよい。Xは、好ましくは、クロロ原子、ブロモ原子がよい。
【0013】
具体的な化合物としては、メチルリチウム、エチルリチウム、n−ブチルリチウム、フェニルリチウム、p−メトキシフェニルリチウム等を挙げることができる。好ましくは、メチルリチウム、エチルリチウム、n−ブチルリチウム、フェニルリチウムが良い。
【0014】
反応は具体的には例えば次のように行う。先ず金属テルルを溶媒に懸濁させる。使用できる溶媒としては、テトラハイドロフラン(THF)等の極性溶媒やトルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、ヘキサン等の脂肪族系炭化水素、ジアルキルエーテル等のエーテル類等が挙げられる。好ましくは、THFが良い。有機溶媒の使用量としては適宜調節すればよいが、通常、金属テルル1gに対して1〜100ml、好ましくは、5〜20mlが良い。
金属テルル及び式(2)の化合物の使用割合としては、金属テルル1molに対して、式(2)の化合物を0.5〜1.5mol、好ましくは、0.8〜1.2molとするのが良い。
【0015】
上記懸濁溶液に、式(2)で表される化合物をゆっくりと滴下しその後撹拌する。反応時間は、反応温度や圧力により異なるが、通常5分〜24時間、好ましくは、10分〜2時間が良い。反応温度としては、−20℃〜80℃、好ましくは、15℃〜40℃、より好ましくは、室温が良い。圧力は、通常、常圧で行うが、加圧或いは減圧しても構わない。
【0016】
次に、この反応溶液に、水(食塩水等の中性水、塩化アンモニウム水溶液等のアルカリ性水、塩酸水等の酸性水でも良い)を加え、撹拌する。反応時間は、反応温度や圧力により異なるが、通常5分〜24時間、好ましくは、10分〜2時間が良い。反応温度としては、−20℃〜80℃、好ましくは、15℃〜40℃、より好ましくは、室温が良い。圧力は、通常、常圧で行うが、加圧或いは減圧しても構わない。
反応終了後、溶媒を濃縮し、目的化合物を単離精製する。精製方法としては、化合物により適宜選択できるが、通常、減圧蒸留や再沈殿精製等が好ましい。
【0017】
本発明で使用されるアゾ系重合開始剤は、通常のラジカル重合で使用するアゾ系重合開始剤であれば特に制限はないが、例えば式(3)で示される化合物を例示することができる。
【0018】
【化1】
Figure 0004107996
【0019】
[式中、R及びRは同一又は異なってC〜C10アルキル基、カルボキシ置換C〜Cアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基を示し、同じ炭素原子に結合しているRとRとで脂肪族環を形成していても良く、Rはシアノ基、アセトキシ基、カルバモイル基、(C〜Cアルコキシ)カルボニル基を示す。]
【0020】
本発明で用いられる式(3)のアゾ化合物において、R、RのC〜C10アルキル基としては例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル基等を例示できる。またカルボキシ置換C〜Cアルキル基のC〜Cアルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル基等を例示できる。同じ炭素原子に結合しているRとRとで形成される脂肪族環としては例えばシクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル基等を例示できる。尚、フェニル基には、例えば水酸基、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、ニトロ基、アミノ基、アセチル基、アセチルアミノ基等の置換基が置換されていてもよい。Rの(C〜Cアルコキシ)カルボニル基としては例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル基等を例示できる。
【0021】
式(3)のアゾ化合物は、具体的には、2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)(AIBN)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)(AMBN)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(ADVN)、1,1’−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリル)(ACHN)、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート(MAIB)、4,4’−アゾビス(4−シアノバレリアン酸)(ACVA)、1,1’−アゾビス(1−アセトキシ−1−フェニルエタン)、2,2’−アゾビス(2−メチルブチルアミド)、1,1’−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボン酸メチル)等が挙げられる。
【0022】
本発明で使用するビニルモノマーとしては、ラジカル重合可能なものであれば特に制限はないが、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸ラウリル等の(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸メチルシクロヘキシル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸シクロドデシル等のシクロアルキル基含有不飽和モノマー、(メタ)アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、無水マレイン酸等メチル等のカルボキシル基含有不飽和モノマー、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、2−(ジメチルアミノ)エチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート等の3級アミン含有不飽和モノマー、N−2−ヒドロキシ−3−アクリロイルオキシプロピル−N,N,N−トリメチルアンモニウムクロライド、N−メタクリロイルアミノエチル−N,N,N−ジメチルベンジルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩基含有不飽和モノマー、(メタ)アクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有不飽和モノマー、スチレン、α−メチルスチレン、4−メチルスチレン、2−メチルスチレン、3−メチルスチレン、4−メトキシスチレン、2−ヒドロキシメチルスチレン、2−クロロスチレン、4−クロロスチレン、2,4−ジクロロスチレン、1−ビニルナフタレン、ジビニルベンゼンp−スチレンスルホン酸又はそのアルカリ金属塩(ナトリウム塩、カリウム塩等)等の芳香族不飽和モノマー、2−ビニルチオフェン、N−メチル−2−ビニルピロール等のヘテロ環含有不飽和モノマー、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルアセトアミド等のビニルアミド、1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン等のα−オレフィン、ブタジエン、イソプレン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、7−メチル−1,6−オクタジエン等のジエン、酢酸ビニル、メタクリル酸ヒドロキシエチル、アクリロニトリル、アクリルアミド、N−イソプロピルアクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、塩化ビニル等を挙げることができる。
【0023】
この中でも好ましくは、(メタ)アクリル酸エステルモノマー、3級アミン含有不飽和モノマー、スチレン系モノマー、アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミドが良い。
好ましい(メタ)アクリル酸エステルモノマーとしては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチルが挙げられる。
【0024】
好ましい3級アミン含有不飽和モノマーとしては、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリルアミド、2−(ジメチルアミノ)エチル(メタ)アクリレートが挙げられる。
好ましいスチレン系モノマーとしては、スチレン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、p−t−ブチルスチレン、p−n−ブチルスチレン、p−クロロスチレン、p−スチレンスルホン酸又はそのアルカリ金属塩(ナトリウム塩、カリウム塩等)が挙げられる。特に好ましくは、スチレン、p−メトキシスチレン、p−クロロスチレンが良い。
尚、上記の「(メタ)アクリル酸」は、「アクリル酸」及び「メタクリル酸」の総称である。
これらの中で、好ましくは、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチルが挙げられる。特に好ましくは、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ブチルであり、最も好ましくはメタクリル酸メチルである。
【0025】
本発明のリビングラジカルポリマーの製造方法は、具体的には次の通りである。
不活性ガスで置換した容器で、アゾ系重合開始剤と式(1)で示される化合物を混合する。次に、上記混合物を撹拌する。反応温度、反応時間は、適宜調節すればよいが、通常、40〜150℃で、0.5〜100時間撹拌する。好ましくは、60〜120℃で、1〜30時間撹拌するのが良い。この時、圧力は、通常、常圧で行われるが、加圧或いは減圧しても構わない。この時、不活性ガスとしては、窒素、アルゴン、ヘリウム等を挙げることができる。好ましくは、アルゴン、窒素が良い。特に好ましくは、窒素が良い。
【0026】
アゾ系重合開始剤と式(1)で示される化合物の使用量としては、通常、アゾ系重合開始剤1molに対して、式(1)で示される化合物0.01〜100mol、好ましくは0.1〜10mol、特に好ましくは0.1〜5molとするのが良い。
【0027】
反応は、通常、無溶媒で行うが、ラジカル重合で一般に使用される有機溶媒或いは水系溶媒を使用しても構わない。使用できる有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、アセトン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラヒドロフラン(THF)、酢酸エチル、トリフルオロメチルベンゼン等が挙げられる。また、水系溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、1−メトキシ−2−プロパノール等が挙げられる。溶媒の使用量としては適宜調節すればよいが、例えば、ビニルモノマー1gに対して、溶媒を0.01〜50ml、好ましくは、0.05〜5mlが良い。
次に、上記混合物にビニルモノマーを加えて撹拌する。重合温度、重合時間は、得られるリビングラジカルポリマーの分子量或いは分子量分布により適宜調節すればよいが、通常、40〜150℃で、0.5〜100時間撹拌する。好ましくは、60〜120℃で、1〜30時間撹拌するのが良い。この時、圧力は、通常、常圧で行われるが、加圧或いは減圧しても構わない。
【0028】
ビニルモノマーとアゾ系重合開始剤の使用量としては、得られるリビングラジカルポリマーの分子量或いは分子量分布により適宜調節すればよいが、通常、アゾ系重合開始剤1molに対して、ビニルモノマーを5〜10,000mol、好ましくは50〜5,000molとするのが良い。
【0029】
反応終了後、常法により使用溶媒や残存モノマーを減圧下除去して目的ポリマーを取り出したり、目的ポリマー不溶溶媒を使用して再沈澱処理により目的物を単離する。反応処理については、目的物に支障がなければどのような処理方法でも行う事が出来る。
本発明のリビングラジカル重合開始剤は、優れた分子量制御及び分子量分布制御を非常に温和な条件下で行うことができる。
本発明で得られるリビングラジカルポリマーの分子量は、反応時間及び有機テルル化合物の量により調整可能であるが、数平均分子量500〜1,000,000のリビングラジカルポリマーを得ることができる。特に数平均分子量1,000〜50,000のリビングラジカルポリマーを得るのに好適である。
本発明で得られるリビングラジカルポリマーの分子量分布(PD=Mw/Mn)は、1.05〜1.50の間で制御される。更に、分子量分布1.05〜1.30、更には1.05〜1.20、更には1.05〜1.15のより狭いリビングラジカルポリマーを得ることができる。
【0030】
本発明で得られるリビングラジカルポリマーの末端基は、有機テルル化合物由来のアルキル基、アリール基、置換アリール基、芳香族へテロ環基、オキシカルボニル基又はシアノ基が、また、成長末端は、反応性の高いテルルであることが確認されている。従って、有機テルル化合物をリビングラジカル重合に用いることにより従来のリビングラジカル重合で得られるリビングラジカルポリマーよりも末端基を他の官能基へ変換することが容易である。これらにより、本発明で得られるリビングラジカルポリマーは、マクロリビングラジカル重合開始剤(マクロイニシエーター)として用いることができる。
【0031】
即ち、本発明のマクロリビングラジカル重合開始剤を用いて、例えばメタクリル酸メチル−スチレン等のA−Bジブロック共重合体やメタクリル酸メチル−スチレン−メタクリル酸メチル等のA−B−Aトリブロック共重合体、メタクリル酸メチル−スチレン−アクリル酸ブチル等のA−B−Cトリブロック共重合体を得ることができる。これは、本発明のリビングラジカル重合開始剤とジテルル化合物で、種々の異なったタイプのビニル系モノマーをコントロールできること、また、リビングラジカル重合開始剤により得られるリビングラジカルポリマーの成長末端に反応性の高いテルルが存在していることによるものである。
【0032】
ブロック共重合体の製造方法としては、具体的には次の通りである。
A−Bジブロック共重合体の場合、例えば、メタクリル酸メチル−スチレン共重合体の場合は、上記のリビングラジカルポリマーの製造方法と同様に、まず、メタクリル酸メチルとアゾ系重合開始剤と式(1)の化合物を混合し、ポリメタクリル酸メチルを製造後、続いてスチレンを混合して、メタクリル酸メチル−スチレン共重合体を得る方法が挙げられる。
A−B−Aトリブロック共重合体やA−B−Cトリブロック共重合体の場合も、上記の方法でA−Bジブロック共重合体を製造した後、ビニルモノマー(A)或いはビニルモノマー(C)を混合し、A−B−Aトリブロック共重合体やA−B−Cトリブロック共重合体を得る方法が挙げられる。
上記で、各ブロックを製造後、そのまま次のブロックの反応を開始しても良いし、一度反応を終了後、精製してから次のブロックの反応を開始しても良い。ブロック共重合体の単離は通常の方法により行うことができる。
【0033】
【実施例】
以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが何らこれらに限定されるものではない。また、実施例及び比較例において、各種物性測定は以下の方法で行った。
【0034】
(1)ジテルリド化合物及びリビングラジカルポリマーの同定
ジテルリド化合物を、H−NMR及びMSの測定結果から同定した。また、リビングラジカルポリマーの分子量及び分子量分布は、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)を用いて求めた。使用した測定機は以下の通りである。
H−NMR:Varian Gemini 2000(300MHz forH)、JEOL JNM−A400(400MHz for H)
MS(HRMS):JEOL JMS−300
分子量及び分子量分布:液体クロマトグラフ Shimadzu LC−10(カラム:Shodex K−804L + K−805L、ポリスチレンスタンダード:TOSOH TSK Standard、ポリメチルメタクリレートスタンダード:Shodex Standard M−75)
【0035】
合成例1(ジメチルジテルリド)
金属テルル〔Aldrich製、商品名:Tellurium(−40mesh)〕3.19g(25mmol)をTHF25mlに懸濁させ、メチルリチウム(関東化学株式会社製、ジエチルエーテル溶液)25ml(28.5mmol)を0℃でゆっくり加えた(10分間)。この反応溶液を金属テルルが完全に消失するまで撹拌した(10分間)。この反応溶液に、塩化アンモニウム溶液20mlを室温で加え、1時間撹拌した。有機層を分離し、水層をジエチルエーテルで3回抽出した。集めた有機層を芒硝で乾燥後、減圧濃縮し、黒紫色油状物2.69g(9.4mmol:収率75%)を得た。
MS(HRMS)、H−NMRによりジメチルジテルリドであることを確認した。
HRMS(EI)m/z:Calcd for CTe(M), 289.8594;Found289.8593
H−NMR(300MHz,CDCl)2.67(s,6H)
【0036】
合成例2(ジ−n−ブチルジテルリド)
金属テルル(上記と同じ)3.19g(25mmol)をTHF25mlに懸濁させ、n−ブチルリチウム(Aldrich製、1.6Mヘキサン溶液)17.2ml(27.5mmol)を0℃でゆっくり加えた(10分間)。この反応溶液を金属テルルが完全に消失するまで撹拌した(10分間)。この反応溶液に、塩化アンモニウム溶液20mlを室温で加え、1時間撹拌した。有機層を分離し、水層をジエチルエーテルで3回抽出した。集めた有機層を芒硝で乾燥後、減圧濃縮し、黒紫色油状物4.41g(11.93mmol:収率95%)を得た。
H−NMRによりジ−n−ブチルジテルリドであることを確認した。
H−NMR(300MHz,CDCl)0.93(t,J=7.3Hz,3H),1.39(m,2H),1.71(m,2H),3.11(t,J=7.6,2H,CHTe)
【0037】
合成例3(ジフェニルジテルリド)
金属テルル(上記と同じ)3.19g(25mmol)をTHF25mlに懸濁させ、フェニルリチウム〔Aldrich製、1.8Mシクロヘキサン/エーテル(70:30)溶液〕15.8ml(28.5mmol)を0℃でゆっくり加えた(10分間)。この反応溶液を金属テルルが完全に消失するまで撹拌した(10分間)。この反応溶液に、塩化アンモニウム溶液20mlを室温で加え、1時間撹拌した。有機層を分離し、水層をジエチルエーテルで3回抽出した。集めた有機層を芒硝で乾燥後、減圧濃縮し、黒紫色油状物3.48g(8.5mmol:収率68%)を得た。
H−NMRによりジフェニルジテルリドであることを確認した。
【0038】
実施例1
窒素置換したグローブボックス内で、AIBN(大塚化学株式会社製、商品名:AIBN)(0.10mmol)、合成例3で製造した化合物(0.10mmol)、トリフルオロメチルベンゼン1mlの溶液を80℃で3時間撹拌した。次に、この反応溶液にメチルメタクリレート〔stabilized with Hydroquinone(HQ)〕(10mmol)を加え80℃で4時間撹拌した。反応終了後、クロロホルム5mlに溶解した後、その溶液を撹拌しているヘキサン200ml中に注いだ。沈殿したポリマーを室温で吸引ろ過、乾燥することによりポリマーを得た。
GPC分析(ポリメチルメタクリレート標準サンプルの分子量を基準)の結果を表1に示す。
【0039】
比較例1
窒素置換したグローブボックス内で、AIBN(大塚化学株式会社製、商品名:AIBN)(0.10mmol)、合成例3で製造した化合物(0.10mmol)、メチルメタクリレート〔stabilized with Hydroquinone(HQ)〕(10mmol)を加え80℃で0.5時間撹拌した。反応終了後、クロロホルム5mlに溶解した後、その溶液を撹拌しているヘキサン200ml中に注いだ。沈殿したポリマーを室温で吸引ろ過、乾燥することによりポリマーを得た。
GPC分析(ポリメチルメタクリレート標準サンプルの分子量を基準)の結果を表1に示す。
【0040】
【表1】
Figure 0004107996
【0041】
実施例1と比較例1とを比較すれば明らかなように、第一段階として、アゾ系重合開始剤と式(1)で示される化合物を反応させ、次に第二段階として、ビニルモノマーを加えてビニルモノマーを重合させることにより、狭い分子量分布(PD値がより1に近い)のリビングラジカルポリマーが得られることがわかる。
【0042】
実施例2〜7
窒素置換したグローブボックス内で、AIBN(上記と同じ)(0.10mmol)、表2に示した配合で式(1)で示される化合物(合成例1から合成例3で製造した化合物)、トリフルオロメチルベンゼン1mlの溶液を80℃で3時間撹拌した。その反応溶液に表2に示した配合でビニルモノマー〔スチレン、メチルメタクリレート(上記と同じ)、アクリル酸n−ブチル(stabilized with Hydroquinone)〕を加え、次いでクロロホルム5mlに溶解した後、その溶液を撹拌しているメタノール(スチレンの場合)或いはヘキサン(メチルメタクリレート、アクリル酸n−ブチルの場合)200ml中に注いだ。沈殿したポリマーを室温で吸引ろ過、乾燥することにより各種ポリマーを得た。
GPC分析(ポリスチレン:ポリスチレン標準サンプルの分子量を基準、ポリメチルメタクリレート:ポリメチルメタクリレート標準サンプルの分子量を基準、ポリアクリル酸n−ブチル:ポリメチルメタクリレート標準サンプルの分子量を基準)の結果を表2に示す。
【0043】
【表2】
Figure 0004107996
【0044】
表2から明らかなように、スチレンのみならずその他の(メタ)アクリル酸エステルのようなビニルモノマーであっても、温和な条件下で重合することができ、しかもそのPDも1.06〜1.13と極めて優れている。
【0045】
【発明の効果】
本発明によれば、温和な条件下で、精密な分子量及び分子量分布制御を可能とするリビングラジカルポリマーの製造方法を提供する。
特に本発明ではスチレンのみならずその他の(メタ)アクリル酸エステルのようなビニルモノマーであっても、温和な条件下で、精密な分子量及び分子量分布(PD=Mw/Mn)を有するリビングラジカルポリマーを製造することができる。
また、本発明の重合方法により得られるリビングラジカルポリマーは、末端基を他の官能基へ変換することが容易であり、さらに、マクロモノマーの合成、架橋点としての利用、相容化剤、ブロックポリマーの原料等として用いることができる。

Claims (2)

  1. 第一段階として、アゾ系重合開始剤と式(1)で示される化合物を反応させ、次に第二段階として、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルから選ばれるビニルモノマーを加えて40〜100℃の温度でビニルモノマーを重合して、PD=1 . 05〜1 . 15のリビングラジカルポリマーを得ることを特徴とするリビングラジカルポリマーの製造方法。
    (RTe) (1)
    〔式中、Rは、C〜Cのアルキル基を示す。〕
  2. ビニルモノマーがメチルメタアクリレートである請求項に記載のリビングラジカルポリマーの製造方法。
JP2003120939A 2003-04-25 2003-04-25 リビングラジカルポリマーの製造方法及びポリマー Expired - Lifetime JP4107996B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003120939A JP4107996B2 (ja) 2003-04-25 2003-04-25 リビングラジカルポリマーの製造方法及びポリマー

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003120939A JP4107996B2 (ja) 2003-04-25 2003-04-25 リビングラジカルポリマーの製造方法及びポリマー

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004323693A JP2004323693A (ja) 2004-11-18
JP4107996B2 true JP4107996B2 (ja) 2008-06-25

Family

ID=33499634

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003120939A Expired - Lifetime JP4107996B2 (ja) 2003-04-25 2003-04-25 リビングラジカルポリマーの製造方法及びポリマー

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4107996B2 (ja)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005126459A (ja) * 2003-10-21 2005-05-19 Jsr Corp 酸解離性基含有樹脂およびその製造方法
JP2005344009A (ja) * 2004-06-03 2005-12-15 Shin Etsu Chem Co Ltd レジスト材料用高分子化合物及びその製造方法並びに化学増幅ポジ型レジスト材料
CN101120028B (zh) 2005-02-14 2013-12-25 丰田自动车株式会社 接枝共聚物及其制备方法
JP4539843B2 (ja) * 2005-02-17 2010-09-08 国立大学法人神戸大学 有機テルル化合物を用いた水性液の製造方法
DE602006010296D1 (de) * 2005-09-26 2009-12-24 Nippon Catalytic Chem Ind POLYMER UND VERFAHREN ZU SEINER HERSTELLUNG und ZEMENTMischung mit Polymer
CN101421312B (zh) * 2006-04-14 2011-02-09 大塚化学株式会社 树脂组合物和耐热性压敏粘合剂
JP5003550B2 (ja) * 2007-04-26 2012-08-15 東亞合成株式会社 多官能リビングラジカル重合開始剤および重合体の製造方法
JP5398248B2 (ja) 2008-02-06 2014-01-29 東京応化工業株式会社 液浸露光用レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法
JP5172494B2 (ja) 2008-06-23 2013-03-27 東京応化工業株式会社 液浸露光用レジスト組成物、レジストパターン形成方法、含フッ素高分子化合物
JP5292133B2 (ja) 2009-03-09 2013-09-18 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP5346627B2 (ja) 2009-03-10 2013-11-20 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
JP5568258B2 (ja) 2009-07-03 2014-08-06 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたレジストパターン形成方法、並びに含フッ素高分子化合物
JP5470053B2 (ja) 2010-01-05 2014-04-16 東京応化工業株式会社 ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法
US10301515B2 (en) 2011-06-02 2019-05-28 Dic Corporation Easily dismantlable adhesive composition and easily dismantlable adhesive tape
US9321944B2 (en) 2011-06-02 2016-04-26 Dic Corporation Easily dismantlable adhesive agent composition and easily dismantlable adhesive tape
US9206340B2 (en) 2011-06-02 2015-12-08 Dic Corporation Easily dismantlable adhesive composition and easily dismantlable adhesive tape
EP3075748B1 (en) 2013-11-27 2020-11-18 Zeon Corporation Method for producing polymers with radical polymerization initiator
EP3594250A4 (en) * 2017-03-09 2021-01-13 AGC Inc. POLYMER PRODUCTION PROCESS

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG82601A1 (en) * 1998-03-09 2001-08-21 Ciba Sc Holding Ag 1-alkoxy-polyalkyl-piperidine derivatives and their use as polymerization regulators
EP1541550B1 (en) * 2002-08-06 2008-10-15 Otsuka Chemical Co., Ltd. Organic tellurium compound, process for producing the same, living radical polymerization initiator, process for producing polymer with the same, and polymer
TWI313689B (en) * 2002-08-08 2009-08-21 Otsuka Chemical Co Ltd Manufacture method of living radical polymers and the polymers
JP3845108B2 (ja) * 2003-02-17 2006-11-15 大塚化学株式会社 リビングラジカルポリマーの製造方法及びポリマー
TWI288139B (en) * 2003-04-25 2007-10-11 Otsuka Chemical Co Ltd Living radical polymer, manufacturing method thereof and mixture therefor
JP4360829B2 (ja) * 2003-04-25 2009-11-11 大塚化学株式会社 有機テルル化合物の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2004323693A (ja) 2004-11-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4107996B2 (ja) リビングラジカルポリマーの製造方法及びポリマー
JP3839829B2 (ja) リビングラジカルポリマーの製造方法及びポリマー
JP3845109B2 (ja) リビングラジカルポリマーの製造方法及びポリマー
CA2494816C (en) Organic tellurium compound, process for producing the same, living radical polymerization initiator, process for producing polymer with the same, and polymer
JP2006299278A (ja) リビングラジカルポリマーの製造方法
JP4539843B2 (ja) 有機テルル化合物を用いた水性液の製造方法
JP5193480B2 (ja) リビングラジカルポリマーの製造方法およびポリマー
KR100633200B1 (ko) 리빙 라디칼 폴리머의 제조방법 및 폴리머
JP4928495B2 (ja) 有機テルル化合物、その製造方法、リビングラジカル重合開始剤、それを用いるポリマーの製造法及びポリマー
JP5380709B2 (ja) リビングラジカル重合反応助触媒
JP6754124B2 (ja) 多分岐ポリマーの製造方法及び多分岐ポリマー
JP2007302737A (ja) リビングラジカルポリマーの製造方法
JP4360829B2 (ja) 有機テルル化合物の製造方法
JP5083556B2 (ja) リビングラジカル重合開始剤及び重合体の製造方法
JP5963516B2 (ja) ポリマーの製造方法及び該方法により製造されたポリマー
KR100589035B1 (ko) 리빙 라디칼 폴리머의 제조방법 및 폴리머
JP2019194291A (ja) 多分岐ポリマーの製造方法及び多分岐ポリマー、共役ジエンモノマー
KR100708959B1 (ko) 유기 텔루르화합물, 그의 제조방법, 리빙 라디칼중합개시제, 그것을 사용하는 폴리머의 제조방법 및 폴리머
JP2009215472A (ja) 末端に官能基を有するリビングラジカルポリマーの製造方法
JP2012233041A (ja) (メタ)アクリル系樹脂組成物及び光学部品
JPWO2011132395A1 (ja) スターポリマー及びその製法
KR20050047087A (ko) 유기 텔루르화합물, 그의 제조방법, 리빙 라디칼중합개시제, 그것을 사용하는 폴리머의 제조방법 및 폴리머

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060228

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070718

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070821

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20071016

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20071019

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071119

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20071218

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080215

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20080228

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080325

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080401

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110411

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4107996

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110411

Year of fee payment: 3

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110411

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120411

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130411

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140411

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term