JP4100760B2 - 単結晶インゴットの位置決め装置、位置決め加工システム、位置決め用治具、および位置決め加工方法 - Google Patents
単結晶インゴットの位置決め装置、位置決め加工システム、位置決め用治具、および位置決め加工方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4100760B2 JP4100760B2 JP07631098A JP7631098A JP4100760B2 JP 4100760 B2 JP4100760 B2 JP 4100760B2 JP 07631098 A JP07631098 A JP 07631098A JP 7631098 A JP7631098 A JP 7631098A JP 4100760 B2 JP4100760 B2 JP 4100760B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- single crystal
- ingot
- index
- crystal ingot
- detected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims description 226
- 238000012545 processing Methods 0.000 title description 30
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 55
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 52
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 claims description 49
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 238000007689 inspection Methods 0.000 claims description 15
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019219 chocolate Nutrition 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Automatic Control Of Machine Tools (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、単結晶インゴットの外周面にオリフラまたはノッチ等の結晶面指標を形成するための加工装置に併設される単結晶インゴットの位置決め装置、これら加工装置と位置決め装置の各機能を備えた位置決め加工システム、単結晶インゴットの位置決めに用いられる位置決め用治具、および単結晶インゴットの位置決め加工方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、シリコン(Si)、フェライト、その他の各種単結晶材料が産業界で広く用いられている。この単結晶材料は、一般に、チョコラルスキー引上げ法などの技術を用いて円柱形状の単結晶インゴットとして製造される。この単結晶インゴットは、外周面を研削後、その外周面にオリフラまたはノッチ等の結晶面指標を形成した状態で取り引きされている。
【0003】
この結晶面指標は、単結晶インゴットの結晶格子面に沿って形成し、その後、半導体製造工程において、単結晶インゴットから切り出されたウエハーに対し半導体パターンを形成する際の位置決め基準として利用される。
したがって、結晶面指標の形成に際しては、単結晶インゴットの結晶格子面を検出するとともに、この結晶格子面を結晶面指標の研削位置へ正確に位置決めすることが必要となる。
【0004】
そこで、従来は、加工装置にX線測定装置を組み込み、加工装置に支持された単結晶インゴットの外周面上にX線を照射するとともに、その照射点(測定点)から反射してきたX線の強度を検出することにより、単結晶インゴットの結晶格子面を検出するシステムが採用されていた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
さて、従来のこの種の単結晶インゴットの加工システムにおいては、あらかじめ設定した所定位置に結晶面指標の研削位置およびX線測定装置による結晶格子面の測定点を配置しているが、その配置調整は作業員の目視により行うか、または砥石に直接結晶板を取り付けてX線測定による研削位置の確認をしており、高い位置決め精度は望めなかった。
【0006】
そこで、従来は結晶面指標を形成した後、該単結晶インゴットを加工システムとは別に設けた専用の検査装置に装着し、結晶格子面に沿って結晶面指標が形成されているか否かを検査する工程(検査工程)が必須となっていた。
しかし、この検査工程は加工システムとは別に設けた専用の検査装置により行っていたので、単結晶インゴットの移送に手間がかかり、作業性が悪いという問題を有していた。
【0007】
この発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、単結晶インゴットにオリフラまたはノッチ等の結晶面指標を形成する際の位置決めを高精度に行えるようにすることを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
この発明の単結晶インゴット位置決め装置は、単結晶インゴットを支持して主軸中心に回転可能なインゴット支持手段と、単結晶インゴットの回転角度を検出する角度検出手段と、単結晶インゴットの外周面に対し所定の研削基準位置を中心に接触して同インゴットの外周面にオリフラまたはノッチ等の結晶面指標を形成する研削手段とを備えた単結晶インゴット加工装置に併設される。
【0009】
そして、単結晶インゴットの外周面軌道上に設定した所定の測定点にX線を照射するとともに、該測定点から反射してきたX線の強度を検出することにより、単結晶インゴットの結晶格子面を検出するX線測定手段と、単結晶インゴットに形成された結晶面指標を、同インゴットの外周面軌道上に設定した所定の指標確認点において検出する指標確認手段とを備えている。
【0010】
また、この発明の単結晶インゴット位置決め加工システムは、上述した単結晶インゴット加工装置と位置決め装置の各機能を備えるべく、次の構成を有している。
▲1▼ 単結晶インゴットを支持して主軸中心に回転可能なインゴット支持手段
▲2▼ 単結晶インゴットの回転角度を検出する角度検出手段
▲3▼ 単結晶インゴットの外周面に対し、所定の研削基準位置を中心に接触して同インゴットの外周面にオリフラまたはノッチ等の結晶面指標を形成する研削手段
▲4▼ 単結晶インゴットの外周面軌道上に設定した所定の測定点にX線を照射するとともに、該測定点から反射してきたX線の強度を検出することにより、単結晶インゴットの結晶格子面を検出するX線測定手段
▲5▼ 単結晶インゴットに形成された結晶面指標を、同インゴットの外周面軌道上に設定した所定の指標確認点において検出する指標確認手段
【0011】
上述した単結晶インゴットの位置決め加工システムによれば、例えば、次の工程をもって単結晶インゴットを高精度に位置決めして、その外周面に結晶面指標を形成することができる。
【0012】
▲1▼ 研削基準位置と指標確認点との間の主軸を中心とする相対角度を検出する指標確認位置検出工程
この指標確認位置検出工程においては、例えば、単結晶インゴットに模して形成したダミーインゴットをインゴット支持手段により主軸中心に回転自在に支持するとともに、該ダミーインゴットの外周面に研削基準位置にて研削手段をもって擬似的に結晶面指標を形成した後、ダミーインゴットを回転させながら、該結晶面指標を指標確認位置で検出する。このときの回転角度を角度検出手段により検出することで、研削基準位置と指標確認点との間の主軸を中心とする相対角度を検出することができる。
【0013】
▲2▼ 指標確認点と測定点との間の主軸を中心とする相対角度を検出する測定位置検出工程
この測定位置検出工程は、例えば、次のような構成を備えた単結晶インゴット位置決め用治具を、インゴット支持手段に装着することで行うことができる。
【0014】
すなわち、単結晶インゴット位置決め用治具は、単結晶インゴットに模して外周面の少なくとも一部を形成するとともに、該外周面にオリフラまたはノッチ等の結晶面指標を擬似的に形成した治具本体と、結晶面指標に周方向の位置を合わせ、かつ面内回転可能に治具本体の外周面に取り付けた結晶板とを備えている。
【0015】
この単結晶インゴット位置決め用治具をインゴット支持手段により主軸中心に回転させながら、該位置決め用治具の結晶面指標を指標確認手段により指標確認点で検出するとともに、そのときの回転角度位置を角度検出手段により検出する。
【0016】
続いて、単結晶インゴット位置決め用治具上に設けた結晶板の結晶格子面を、X線測定手段により測定点で検出するとともに、そのときの回転角度位置を角度検出手段により検出する。
これらの回転角度位置に基づき、指標確認点と測定点の間の主軸を中心とする相対角度を検出することができる。
【0017】
▲3▼ X線測定手段をもって、インゴット支持手段に支持された単結晶インゴットの外周面軌道上に設定した測定点にX線を照射するとともに、該測定点から反射してきたX線の強度を検出することにより、単結晶インゴットの結晶格子面を検出する結晶格子面検出工程
【0018】
▲4▼ 上記結晶格子面検出工程の後、指標確認位置検出工程において検出した相対角度、および測定位置検出工程において検出した相対角度に基づき算出した、研削基準位置と測定点との間の主軸を中心とする相対角度だけ単結晶インゴットを回転することにより、該単結晶インゴットの結晶格子面を研削基準位置に位置決めする位置決め工程
【0019】
▲5▼ 研削手段をもって、研削基準位置を中心に単結晶インゴットの外周面を研削することにより、同インゴットの外周面に結晶面指標を形成する研削工程
【0020】
以上の工程により、本発明の位置決め加工システムは、単結晶インゴットの結晶格子面を高精度に研削基準位置へ位置決めして、オリフラまたはノッチ等の結晶面指標を適正に形成することができる。
【0021】
また、上記研削工程の後、単結晶インゴットを回転させ、指標確認手段が指標確認点において結晶面指標を検出したときの回転角度と、指標確認位置検出工程により検出した相対角度とを比較する検査工程を実行してもよい。
この検査工程は、上述した単結晶インゴットの位置決め加工システム上で実行できるので、加工後の単結晶インゴットを別に設けた専用の検査装置へ移送する手間を必要とせず、効率的に行うことができる。
【0022】
しかも、検査工程で結晶面指標と結晶格子面との間のズレを検出したときは、そのズレ量を補正値としてそのまま単結晶インゴットの位置決め加工システムにフィードバックすることができるので、同システムの位置決めに関する補正作業も簡易に行うことができる。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
図1はこの発明の実施形態に係る単結晶インゴット位置決め加工システムの概要を示す斜視図、図2は同システムに組み込まれる位置決め装置の外観を示す斜視図である。
【0024】
図1に示すように、この実施形態に係る単結晶インゴット位置決め加工システムは、一対の支持部材11,12(インゴット支持手段)、ノッチ形成砥石13(研削手段)、周面研削砥石14、X線測定ユニット15(X線測定手段)、および変位センサ16(指標確認手段)を備えている。
このうち、一対の支持部材11,12、ノッチ形成砥石13、および周面研削砥石14は、単結晶インゴット加工装置の構成要素であり、X線測定ユニット15、および変位センサ16は、図2に示す単結晶インゴット位置決め装置の構成要素となっている。
【0025】
本実施形態に係る単結晶インゴット位置決め加工システムは、単結晶インゴット加工装置と単結晶インゴット位置決め装置との組み合わせをもって構成してある。なお、単結晶インゴット加工装置については、上記構成要素を備えた公知の各種加工装置(円筒研削盤)を適用することができる。また、この実施形態では、結晶面指標としてノッチ2を単結晶インゴット1の外周面に形成する場合の構成を示しているが、結晶面指標としてオリフラを形成する場合も同様に構成することができる。
【0026】
一対の支持部材11,12は、協同して単結晶インゴット1の両端を支持する。一方の支持部材(駆動側支持部材)11は、回転駆動源17からの回転駆動力により回転し、他方の支持部材(従動側支持部材)12は、駆動側支持部材11に従動して回転する。これら支持部材11,12に支持されて、単結晶インゴット1は、主軸Oを中心に回転する。
【0027】
回転駆動源17の駆動軸にはエンコーダ18(角度検出手段)が設けてあり、支持部材11,12に支持された単結晶インゴット1の回転角度を検出できるようになっている。
【0028】
ノッチ形成砥石13は、支持部材11,12に支持された単結晶インゴット1の外周面にノッチ2を形成するための工具であり、単結晶インゴット加工装置にあらかじめ設定された研削基準位置を中心にして単結晶インゴット1の外周面に接触し、同インゴット1の軸方向に移動しながらノッチ2を形成していく。
【0029】
周面研削砥石14は、支持部材11,12により支持された単結晶インゴット1の外周面を研削するための工具である。チョコラルスキー引上げ法などにより製造された無垢の単結晶インゴット1は、まずこの周面研削砥石14により外周面を研削され、その後、ノッチ形成砥石13により同インゴット1の外周面にノッチ2が形成される。
【0030】
X線測定ユニット15および変位センサ16は、既述したように単結晶インゴット位置決め装置20に装備されている(図2参照)。X線測定ユニット15は、X線源21及びX線検出器22の他、X線回折測定に必要とされる各種構成要素からなっている。この測定ユニット15は、X線源21から単結晶インゴット1の外周面に向けてX線を照射し、その周面で回折してきたX線の強度をX線検出器22で検出することにより、同インゴット1の結晶格子面を検出する機能を有している。
【0031】
このX線測定ユニット15による測定点b、すなわち単結晶インゴット1の外周面に対するX線の照射点は、単結晶インゴット位置決め装置20を位置決め加工システムに組み込む際、任意に設定される。
この測定点bにおいて、単結晶インゴット1の結晶格子面へのX線入射角度と、同格子面からの回折角度とが等しくなったとき、X線検出器22で検出されるX線強度が最大となる。X線測定ユニット15は、この最大X線強度により結晶格子面の方位を検出する。
【0032】
変位センサ16は、単結晶インゴット1の外周面形状の変化に基づき、ノッチ2を検出する機能を有している。この変位センサ16によりノッチ2を検出する指標確認点cも、単結晶インゴット位置決め装置20を位置決め加工システムに組み込む際に設定される。変位センサ16は、この指標確認点c上にノッチ2が移動してきたとき、検出信号を出力する。
【0033】
図4はこの実施形態に係る単結晶インゴット位置決め加工システムにおける研削基準位置a、測定点b、指標確認点cの位置関係を示している。
研削基準位置aに対して、指標確認点cは回転角度φの位置に設定してある。また、指標確認点cに対して、測定点bは回転角度ψの位置に設定してある。
【0034】
図3は指標確認点cと測定点bとの間の回転角度ψを検出するために用いられる位置決め用治具を示す斜視図、図5は同治具の側面図である。
同図に示す位置決め用治具30は、単結晶インゴット1に模して形成した治具本体31と、この治具本体31に取り付けた結晶板32とを備えている。
【0035】
治具本体31の外周面には、軸方向に延在するノッチ33が擬似的に形成してある。また、治具本体31の外周面には一部に切欠き面31aが形成してあり、この切欠き面31a上に結晶板32が取り付けてある。この結晶板32は、位置決め用治具30の中心軸Oを通る径方向の軸Pを中心に面内回転自在となっている。
【0036】
ここで、ノッチ33の中心と結晶板32の中心とは周方向の位置を合わせてある。また、結晶板32の回転軸Pはノッチ33の中心を通る法線と同一の方向に位置決めしてある(図5参照)。なお、ノッチ33の中心と結晶板32の中心とは、任意の角度に位置を合わせてもよい。
【0037】
治具本体31は、アルミ合金等の金属材料で形成してある。結晶板32は、シリコン(Si)等の単結晶材料で形成してあり、結晶格子面の方位に合わせて好ましくは結晶格子面と平行に)表面が形成してある。結晶板32は、位置決め用治具30を支持部材11,12に装着して回転させたとき、測定点aを通過する位置に取り付けてある。
【0038】
次に、上述の位置決め加工システムを用いた単結晶インゴットの位置決め加工方法を説明する。図6〜図8はこの実施形態に係る単結晶インゴットの位置決め加工方法を説明するための図である。
【0039】
この単結晶インゴットの位置決め加工方法は、指標確認位置検出工程(図6)、測定位置検出工程(図7)、結晶格子面検出工程(図8(a))、位置決め工程、研削工程(図8(b))、および検査工程(図8(c))の各工程からなる。
【0040】
まず、研削基準位置aと指標確認点cとの間の主軸Oを中心とする相対角度φ(図4参照)を検出するために、指標確認位置検出工程を実施する。
この指標確認位置検出工程においては、図6に示すように、単結晶インゴットに模して、アルミ合金等の金属材料で形成したダミーインゴット40を、支持部材11,12により支持する。
そして、ダミーインゴット40の外周面に、研削基準位置aにてノッチ研削砥石13をもって擬似的にノッチ41を形成する。エンコーダ18は、この位置を原点に設定しておく。
【0041】
次いで、ダミーインゴット40を主軸Oを中心に回転させながら、外周面に形成したノッチ41を指標確認位置cにて変位センサ16により検出するとともに、この検出時点の回転角度をエンコーダ18により検出する。この回転角度が、研削基準位置aと指標確認点cとの間の主軸Oを中心とする相対角度φである。
次に、指標確認点cと測定点bとの間の主軸Oを中心とする相対角度ψ(図4参照)を検出するために、測定位置検出工程を実施する。
【0042】
この測定位置検出工程では、図3に示した位置決め用治具30を、支持部材11,12で支持する。そして、位置決め用治具30を回転させながら、該位置決め用治具30のノッチ33を変位センサ16により指標確認点cで検出するとともに、そのときの回転角度位置をエンコーダ18の原点に設定する(図7(a)参照)。
【0043】
続いて、位置決め用治具30を回転し、X線測定ユニット15のX線検出器22が最大X線強度を検出したときの回転角度を、エンコーダ18により検出する(図7(b))。
結晶板32の表面が結晶格子面と平行に切り出してある場合には、X線検出器22が最大X線強度を検出したとき、結晶板32の中心が測定点b上に位置しており、結晶板32の表面に対してX線の入射角と回折角とが等しくなっている。
【0044】
結晶板32の中心は、既述したようにノッチ33の中心と周方向の位置を合わせてあるので、結晶板32の中心が測定点b上に位置したとき、ノッチ33の延長線上に測定点bが位置することになる。
したがって、このときの回転角度は、指標確認点cと測定点bとの間の主軸Oを中心とする相対角度ψ=0となる。
【0045】
一方、結晶板32の表面に対し結晶格子面が傾いている場合は、X線検出器22が最大X線強度を検出したときの回転角度(α)と、さらに結晶板32を回転軸P周りに180゜回転させた姿勢において、X線検出器22が最大X線強度を検出したときの回転角度(β)とを検出する。そして、これら回転角度の平均値((α+β)/2)が、指標確認点cと測定点bとの間の主軸Oを中心とする相対角度ψとなる。
【0046】
以上の工程により、研削基準位置aと指標確認点cとの間の主軸Oを中心とする相対角度φと、指標確認点cと測定点bとの間の主軸Oを中心とする相対角度ψとを検出した後、支持部材11,12に単結晶インゴット1を装着し、周面研削砥石14により外周面を研削する。
【0047】
続いて、単結晶インゴット1の結晶格子面を検出するための結晶格子面検出工程を行う。
この結晶格子面検出工程では、単結晶インゴット1を回転ながら、X線測定ユニット15のX線検出器22が最大X線強度を検出したときの回転角度位置を、エンコーダ18により検出する(図8(a))。このとき、測定点bにおいて、単結晶インゴット1の結晶格子面1aに対するX線の入射角と回折角とが一致している。
【0048】
次に、指標確認位置検出工程において検出した相対角度φ、および測定位置検出工程において検出した相対角度ψに基づき、研削基準位置aと測定点bとの間の主軸Oを中心とする相対角度(φ−ψ)を求め、この相対角度(φ−ψ)だけ単結晶インゴット1を回転する(位置決め工程)。この工程により、単結晶インゴット1の結晶格子面1aを研削基準位置aに位置決めすることができる。
【0049】
その後、ノッチ研削砥石13をもって、研削基準位置aを中心に単結晶インゴット1の外周面を研削することにより、同インゴット1の外周面にノッチ2を形成する(研削工程:図8(b))。
以上の工程により、単結晶インゴット1の結晶格子面1aを高精度に研削基準位置aに位置決めすることができ、その結果、ノッチ2を結晶格子面1aに合わせて適正に形成することができる。
【0050】
この実施形態では、研削工程の後、ノッチ2の形成位置が適正に結晶格子面1aと合致しているが否かを検査するために、検査工程を実行している(図8(c)参照)。
検査工程では、単結晶インゴット1を回転させながら、変位センサ16がノッチ2を検出するまでの回転角度をエンコーダ18で検出する。ノッチ2の形成位置が適正に結晶格子面1aと合致しているときは、検出した回転角度が既述した相対角度φと一致する。
【0051】
一方、検出した回転角度と既述した相対角度φとの間にズレがあった場合は、そのズレ角度分が、ノッチ2の形成位置と結晶格子面1aとの間のズレ量である。そこで、この場合は検出したズレ角度を補正値として位置決め加工システムにフィードバックしておく。さらに、単結晶インゴット1の周面を研削した後、結晶格子面検出工程、位置決め工程、および研削工程を実行して、改めて適正位置にノッチ2を形成することもできる。
これらの検査工程、およびノッチの再形成は、単結晶インゴット1を支持部材11,12に装着したまま行えるため、作業能率が高い。
【0052】
なお、この発明は上述した実施形態に限定されるものではない。
例えば、結晶面指標としてオリフラを単結晶インゴット1の外周面に形成する場合は、図9に示すような角度センサ50(指標確認手段)を指標確認点cに配設
した構成としてもよい。
【0053】
同図に示す角度センサ50は、支軸51と一体に回動自在な揺動アーム52の両端に測定子53,53を取り付けた構成となっている。支軸51には揺動アーム52の回動角度を検出するエンコーダ54が装着してある。
エンコーダ54は、指標確認点cにおいて測定子53,53がオリフラ3に接触するときの揺動アーム52の回動角度を基準角度に設定しておく。
このように構成すれば、エンコーダ54で揺動アーム52の回動角度を監視し、基準角度を検出することにより、指標確認点c上にオリフラ3が置かれたことを認識することができ、さらに回転角度の補正も行うことができる。
【0054】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、単結晶インゴットにオリフラまたはノッチ等の結晶面指標を形成する際の位置決めを効率的かつ高精度に行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施形態に係る単結晶インゴット位置決め加工システムの概要を示す斜視図である。
【図2】同システムに組み込まれる位置決め装置の外観を示す斜視図である。
【図3】この発明の実施形態で用いられる位置決め用治具を示す斜視図である。
【図4】この実施形態に係る単結晶インゴット位置決め加工システムにおける研削基準位置、測定点、および指標確認点の位置関係を示す図である。
【図5】図3に示した位置決め用治具の側面図である。
【図6】この発明の実施形態に係る単結晶インゴットの位置決め加工方法を説明するための図である。
【図7】この発明の実施形態に係る単結晶インゴットの位置決め加工方法を説明するための、図6に続く図である。
【図8】この発明の実施形態に係る単結晶インゴットの位置決め加工方法を説明するための、図7に続く図である。
【図9】この発明を構成する指標確認手段の変形例を示す図である。
【符号の説明】
1:単結晶インゴット 2:ノッチ
11:支持部材 13:ノッチ研削砥石
15:X線測定ユニット 16:変位センサ
18:エンコーダ
20:単結晶インゴット位置決め装置
21:X線源 22:X線検出器
30:位置決め用治具 31:治具本体
32:結晶板 33:ノッチ
40:ダミーインゴット 41:ノッチ
50:角度センサ
Claims (1)
- 単結晶インゴットを周面研削が可能なように主軸中心に回転自在に支持するとともに、当該単結晶インゴットの回転角度をエンコーダによって検出し、且つ当該単結晶インゴットの外周面にオリフラまたはノッチ等の結晶面指標を形成するための研削基準位置と、当該単結晶インゴットの結晶格子面をX線回折測定により測定するための測定点と、当該単結晶インゴットに形成した結晶面指標を検出するための指標確認点とを、あらかじめ当該単結晶インゴットの外周面軌道上に設定してある単結晶インゴットの位置決め加工方法であって、
単結晶インゴットに模して形成したダミーインゴットと、
単結晶インゴットに模して外周面の少なくとも一部を形成するとともに、該外周面にオリフラまたはノッチ等の結晶面指標を擬似的に形成した治具本体と、前記結晶面指標に周方向の位置を合わせ、かつ面内回転可能に前記治具本体の外周面に取り付けた結晶板と、を備えた単結晶インゴットの位置決め用治具と、
を用意し、
前記ダミーインゴットを主軸中心に回転自在に支持するとともに、当該ダミーインゴットの外周面に前記研削基準位置にて擬似的に結晶面指標を形成した後、前記ダミーインゴットを回転させながら、当該結晶面指標を前記指標確認位置で検出したときの回転角度を検出することで、前記研削基準位置と前記指標確認点との間の前記主軸を中心とする相対角度を検出する指標確認位置検出工程と、
前記単結晶インゴットの位置決め用治具を主軸中心に回転自在に支持し、該位置決め用治具の結晶面指標を前記指標確認点で検出したときの回転角度位置と、該位置決め用治具上の結晶板の結晶格子面を前記測定点で検出したときの回転角度位置とに基づき、前記指標確認点と前記測定点の間の前記主軸を中心とする相対角度を検出する測定位置検出工程と、
前記単結晶インゴットを回転させながら、前記測定点にX線を照射するとともに、当該測定点から反射してきたX線の強度を検出することにより、前記単結晶インゴットの結晶格子面を検出したときの前記単結晶インゴットの回転位置を前記エンコーダにより検出する結晶格子面検出工程と、
この結晶格子面検出工程によって結晶格子面を検出したときの前記単結晶インゴットの回転位置を起点として、前記指標確認位置検出工程において検出した相対角度、および前記測定位置検出工程において検出した相対角度に基づき算出した、前記研削基準位置と前記測定点との間の前記主軸を中心とする相対角度だけ、前記エンコーダの検出する回転角度に基づき前記単結晶インゴットを回転させる位置決め工程と、
前記研削基準位置を中心に前記単結晶インゴットの外周面を研削することにより、同インゴットの外周面に結晶面指標を形成する研削工程と、
前記研削工程の後、前記単結晶インゴットを回転させ、前記指標確認点において前記単結晶インゴットの外周面に形成した結晶面指標を検出するとともに、当該検出した際の前記単結晶インゴットの回転角度を前記エンコーダにより検出し、且つ当該エンコーダが検出した回転角度と、前記指標確認位置検出工程により検出した前記研削基準位置と前記指標確認点との間の前記主軸を中心とする相対角度とを比較し、当該相対角度と前記結晶面指標を検出したときの回転角度との間にズレがあるか否か判別し、ズレがある場合は当該ズレ角度だけ前記エンコーダによる回転角度の検出値を補正する検査工程とを含み、
さらに、前記検査工程において前記ズレがあった場合は、前記単結晶インゴットの周面を研削し、続いて前記結晶格子面検出工程、前記位置決め工程、及び前記研削工程を実施して、前記単結晶インゴットの外周面に改めて結晶面指標を形成することを特徴とする単結晶インゴットの位置決め加工方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07631098A JP4100760B2 (ja) | 1998-03-24 | 1998-03-24 | 単結晶インゴットの位置決め装置、位置決め加工システム、位置決め用治具、および位置決め加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07631098A JP4100760B2 (ja) | 1998-03-24 | 1998-03-24 | 単結晶インゴットの位置決め装置、位置決め加工システム、位置決め用治具、および位置決め加工方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2005082783A Division JP4253643B2 (ja) | 2005-03-22 | 2005-03-22 | 単結晶インゴットの位置決め用治具 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11267946A JPH11267946A (ja) | 1999-10-05 |
| JP4100760B2 true JP4100760B2 (ja) | 2008-06-11 |
Family
ID=13601807
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07631098A Expired - Fee Related JP4100760B2 (ja) | 1998-03-24 | 1998-03-24 | 単結晶インゴットの位置決め装置、位置決め加工システム、位置決め用治具、および位置決め加工方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4100760B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105127883B (zh) * | 2015-06-26 | 2017-10-03 | 中国科学技术大学 | 用于制备表面为特定晶面的单晶空间取向调控方法和装置 |
| CN112606233B (zh) * | 2020-12-15 | 2022-11-04 | 西安奕斯伟材料科技有限公司 | 一种晶棒的加工方法及晶片 |
-
1998
- 1998-03-24 JP JP07631098A patent/JP4100760B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11267946A (ja) | 1999-10-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8259901B1 (en) | Intelligent machines and process for production of monocrystalline products with goniometer continual feedback | |
| JP4921444B2 (ja) | 半導体ウェハの同時両面機械加工のための両面研削盤における研削スピンドル位置の修正のための方法および当該方法を実施するための装置 | |
| JP2903916B2 (ja) | 半導体インゴット加工方法 | |
| JPH1089904A (ja) | Vノッチウェハ位置決め装置 | |
| WO2003043077A1 (fr) | Procede et appareil de positionnement de plaquette, systeme de traitement et procede de positionnement de l'axe du siege de plaquette d'un appareil de positionnement de plaquette | |
| JP3205402B2 (ja) | 結晶方位決定方法及び装置 | |
| KR100291047B1 (ko) | 원통형 단결정을 제조하는 방법과 장치 및 반도체 웨이퍼를 절삭하는 방법 | |
| JP4253643B2 (ja) | 単結晶インゴットの位置決め用治具 | |
| CN111595517A (zh) | 一种金刚石微径铣刀动平衡测试与修正系统 | |
| JPH04264241A (ja) | 単結晶のof方位検出方法及び装置 | |
| WO2024256542A3 (en) | Method, device and computer program for determining an orientation of a sample on a sample stage | |
| JP4100760B2 (ja) | 単結晶インゴットの位置決め装置、位置決め加工システム、位置決め用治具、および位置決め加工方法 | |
| EP1524516A1 (en) | X-ray diffractometer and method of correcting measurement position thereof | |
| JPH0231443A (ja) | ウエハ位置整合方法 | |
| JPS63210437A (ja) | 円筒回転体のアンバランス修正用治具および円筒回転体のアンバランス修正方法 | |
| JPH05126768A (ja) | 蛍光x線の分析方法 | |
| JP2000180154A5 (ja) | 位相合わせ方法および位相合わせ装置 | |
| JP3780841B2 (ja) | インゴットのオリエンテーションフラット加工方法及びオリエンテーションフラット加工装置 | |
| JPH1094746A (ja) | 塗布装置 | |
| JP2997360B2 (ja) | 位置合わせ装置 | |
| JPH02167703A (ja) | 半導体切断装置 | |
| JP2004523114A5 (ja) | ||
| JPH07146257A (ja) | 単結晶インゴットの端面測定装置 | |
| JP3412852B2 (ja) | 単結晶インゴットのマーキング装置 | |
| JPH11285955A (ja) | 単結晶インゴット周面加工装置におけるインゴット位置決め方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041210 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050119 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050322 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050914 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051114 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060531 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060731 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060908 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20060914 |
|
| A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20061006 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080218 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080318 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110328 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110328 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120328 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130328 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130328 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140328 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |