JP4088726B2 - 電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔 - Google Patents

電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔に関する。なお、本発明において「ppm」とあるのは「重量ppm」を示す。
【0002】
【従来技術】
一般に、電解コンデンサの陽極用アルミニウム箔としては、Fe及びSiの含有量を極力抑え、必要に応じて少量のCuを添加した純度99.98%以上の高純度アルミニウム箔が使用されている。電解コンデンサ陽極用アルミニウム箔では、コンデンサとしての静電容量がその表面積に比例することから、塩酸等の酸性溶液中で電気化学的にエッチング処理することによって有効表面積を拡大させて静電容量の増大が図られている。
【0003】
近年、電子機器の小型化に伴い、コンデンサについても同様に小型化が要求されている。小型化されたコンデンサに必要とされる電極用アルミニウム箔は、単位面積当たりの静電容量、すなわちエッチング後の表面拡大率である拡面率が高いことが必要である。それと同時に、エッチングされたアルミニウム箔(エッチド箔)を小径のコンデンサ筒に巻き込む際、巻き込み径を小さくしても折損しないような高い機械的強度がエッチド箔に要求される。
【0004】
このような要求に対し、従来では、鉄、銅、銀、亜鉛、カドミウム、ガリウム、インジウム、錫、ニッケル等を添加した電解コンデンサ陽極用高純度アルミニウム箔等が開発されている。これらのアルミニウム箔は、エッチング液として塩酸水溶液を用いる場合には優れた箔強度と静電容量を有するエッチド箔を得ることができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、これらの合金箔では、エッチング液が塩酸及び硫酸を含む混合水溶液である場合、塩酸水溶液を用いた場合と同様の効果を得ることができない。最近では、目的とするエッチド箔のタイプに応じて、エッチング液として上記混合水溶液も多用されている。このため、塩酸及び硫酸を含む混合水溶液でエッチングしても優れた箔強度及び静電容量が得られるアルミニウム合金箔の開発が切望されている。
【0006】
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、塩酸及び硫酸を含む混合水溶液でエッチングすることにより優れた静電容量と箔強度が得られるアルミニウム合金箔を提供することを主な目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記従来技術の問題に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、特定の組成からなるアルミニウム合金箔が上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0008】
すなわち、本発明は、(1)Fe及びSiをそれぞれ6〜60ppm、(2)Cuを15〜70ppm、(3)Niを0.5〜50ppm及び(4)Ni含有量に対して1〜50重量%のPbを含有し、(5)残部がAl及び不可避不純物からなる電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔に係るものである。
【0009】
【発明の実施の形態】
本発明の電解コンデンサ用陽極アルミニウム合金箔は、(1)Fe及びSiをそれぞれ6〜60ppm、(2)Cuを15〜70ppm、(3)Niを0.5〜50ppm及び(4)Ni含有量に対して1〜50重量%のPbを含有し、(5)残部がAl及び不可避不純物からなる。以下、本発明アルミニウム合金箔の各成分の含有量及びそれらの主な作用について説明する。
【0010】
(1)Fe及びSi
Fe及びSiの含有量は、通常6〜60ppm程度、好ましくは10〜35ppmとする。各成分の含有量が6ppm未満の場合は結晶粒の粗大化によるエッチド箔の強度低下及び静電容量のバラツキが生じやすい。また、各含有量が60ppmを超える場合はエッチングの際の腐食開始点となる金属間化合物が多くなり、表面積の増加に寄与しない過剰な溶解が増加して静電容量の低下を招く。
【0011】
(2)Cu
Cuの含有量は、通常15〜70ppm程度、好ましくは20〜60ppmとする。Cuは、主としてエッチング時の溶解性を向上させ、静電容量の向上に寄与する。その含有量が15ppm未満の場合は上記の効果が十分に得られない。各含有量が70ppmを超える場合は過剰な溶解による静電容量の低下を招く。
【0012】
(3)Ni
Niの含有量は、通常0.5〜50ppm程度とし、好ましくは1〜20ppmとする。Niは、主としてエッチングピット数を増加させ、静電容量の向上に寄与する。その含有量が0.5ppm未満の場合は上記の効果が十分に得られない。含有量が50ppmを超える場合は過剰な溶解による静電容量及びエッチド箔強度の低下を招く。
【0013】
(4)Pb
Pbは、主としてエッチング時におけるNiによる溶解量を制御する働きをもつ。すなわち、Niはエッチング時における溶解量を高める働きをもつが、Pbがこの働きを制御する。従って、Pbの含有量は、Niの含有量に応じて適宜設定することができ、通常はNi含有量に対して1〜50重量%程度とすれば良い。Pbの含有量が1重量%未満の場合は上記の効果が十分に得られない。その含有量が50重量%を超える場合は表面溶解性が大きくなり、静電容量及びエッチド箔強度の低下を招く。
【0014】
また、Pbは、上記含有量の範囲内において、箔表面から0.1μmまでの表層部分でのPb含有量が40〜2000ppmであることが望ましい。この範囲において、Pbがより効果的に作用する。
【0015】
(5)残部
残部はAlと不可避不純物からなる。本発明のアルミニウム合金箔におけるアルミニウム純度は、電解コンデンサ陽極用として使える範囲内であれば特に制限されない。また、不可避不純物としては、例えばMg、Mn、Zn、Ti、V、Ga、Cr、Zr、B等が含まれていても良い。
【0016】
本発明のアルミニウム合金箔は、公知の製造方法に従って製造すれば良い。例えば、まず高純度アルミニウムに所定の成分を添加してアルミニウム合金スラブを製造し、このスラブを通常のソーキング、熱間圧延、冷間圧延等の処理を行い、所定の箔厚さとした後、最終焼鈍を行えば良い。各工程における操作条件も常法に従えば良い。
【0017】
本発明のアルミニウム合金箔は、酸性水溶液を用いる公知のエッチング方法に従ってエッチングすれば良い。この場合、エッチング液も、塩酸、硝酸、リン酸、硫酸等の酸性水溶液であれば特に制限されないが、この中でも塩酸と硫酸を含む混合水溶液を用いる場合に特に優れた効果が得られる。また、本発明のアルミニウム合金箔は、芯残りタイプ、貫通タイプ等のいずれのタイプのエッチド箔の製造にも適している。
【0018】
具体的なエッチング方法としては、例えば塩酸2〜8重量%と硫酸2〜35重量%を主成分として含有する混合水溶液中において、液温60〜90℃で電流密度0.1〜0.5A/cm2程度で電解エッチングを行えば良い。エッチング後、得られたエッチド箔を公知の方法に従って化成処理すれば良い。
【0019】
【発明の効果】
本発明のアルミニウム合金箔は、Ni及びPbを含む特定の合金組成から構成されているので、特に塩酸及び硫酸を含む混合水溶液でエッチングした場合、優れた静電容量と箔強度を得ることができる。従って、本発明アルミニウム合金箔は、電解コンデンサ陽極用として有効に利用することができる。
【0020】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を示し、本発明の特徴とするところを明確にする。
【0021】
実施例1
純度99.9重量%以上の高純度アルミニウムに対して種々の成分を添加し、表1に示す合金組成(ppm)となるように調整されたアルミニウム合金スラブをそれぞれ製造した。各スラブを通常のソーキング、熱間圧延及び冷間圧延に供し、厚さ100μmの箔とした後、真空中で520℃×5時間の条件下で焼鈍した。次いで、5重量%塩酸+3重量%硫酸を含む混合水溶液(液温75℃)中において、電流密度0.3A/cm2にて直流エッチングを行った。エッチング前後の箔の重量差によりエッチング時の溶解減量を求めた後、5重量%のホウ酸アンモニウム水溶液(液温90℃)中で380Vの電圧を20分間印加して化成処理を行い、LCRメーターにて静電容量を測定した。また、エッチド箔の強度は、化成処理後のエッチド箔を10mm幅に切断し、その引張強度を測定した。
【0022】
試料No.1を標準(100%)として、各試料における溶解減量、静電容量及び強度の比較値を求めた。その結果を表1に示す。なお、静電容量は101%が合格基準であり、引張強度は95%以上が合格基準である。また、表1には、本発明範囲外のものを比較例として示す。
【0023】
【表1】
Figure 0004088726
【0024】
表1の結果より、本発明の合金箔は、塩酸及び硫酸を含む混合水溶液でエッチングすることにより優れた静電容量と箔強度をもつエッチド箔が得られることがわかる。

Claims (2)

  1. (1)Fe及びSiをそれぞれ6〜60ppm、(2)Cuを15〜70ppm、(3)Niを0.5〜50ppm及び(4)Ni含有量に対して1〜50重量%のPbを含有し、(5)残部がAl及び不可避不純物からなる電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔。
  2. 箔表面から深さ0.1μmまでの表層部分におけるPb含有量が40〜2000ppmである請求項1記載の電解コンデンサ陽極用アルミニウム合金箔。
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