JP4079539B2 - ジフルオロメチル化合物の製造方法 - Google Patents
ジフルオロメチル化合物の製造方法 Download PDFInfo
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、２，２−ジフルオロメチル（チオ）ケトン類および２，２−ジフルオロエノールシリル（チオ）エーテル類の製造方法に関する。２，２−ジフルオロメチル（チオ）ケトン類や２，２−ジフルオロエノールシリルエーテルは有機化合物中にジフルオロメチレン基を導入する反応試剤または有機化合物の製造中間体として有用である。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ジフルオロメチレン基を有する化合物は特有の生物学的活性を持つことからその合成法が注目されている。これまで、カルボニル基、チオカルボニル基またはチオセタール基にＤＡＳＴ（ジメチルアミノサルファトリフルオライド）や同様の作用をする酸化的フッ素化剤を反応させてジフルオロメチレン基に変換することがしばしば行われている。また、ハロジフルオロメチル基を脱ハロゲンしてジフルオロメチレン基とする方法もよく知られている。しかしながら、トリフルオロメチル基からの選択的脱モノフルオリネーションは殆ど知られていない。
【０００３】
２，２−ジフルオロエノールシリル（チオ）エーテル類は、２，２−ジフルオロメチル（チオ）ケトンのエノレートと合成反応において同じように使用できることが知られている。
【０００４】
２，２−ジフルオロエノールシリルエーテル類については、本出願人は、特願平９−２９８０７３号においてトリフルオロメチルフェニルケトンを塩化トリメチルシランの存在下電解還元して１−フェニル−２，２−ジフルオロエノールシリルエーテルが得られることを開示した。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記の電解還元による方法は収率のよい優れた方法であるが、電解還元法は工業的には一般的とは言い難い方法であるので、それに代わる合成方法の出現は望ましい。
【０００６】
したがって、本発明では、従来多くの反応で行われている操作を適用することで工業的プロセスを構成できる、収率のよい２，２−ジフルオロメチル（チオ）ケトンおよびその等価反応試剤若しくは製造中間体である２，２−ジフルオロエノールシリル（チオ）エーテルの製造方法を提供する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、トリフルオロメチル（チオ）ケトン類とハロゲン化トリアルキルシランを低原子価金属と溶媒の存在下で反応させると２，２−ジフルオロメチル（チオ）ケトン類の生成することが判明し、さらに反応条件を調整すると２，２−ジフルオロエノールシリル（チオ）エーテルが生成することを見いだし本発明に至った。
【０００８】
すなわち、本発明は一般式（１）
【０００９】
【化６】
【００１０】
（式中、Ｒ1は炭素数１〜２０の分岐を有することもあるアルキル基、アルケニル基またはアルキニル基、炭素数１〜２０の置換基を有することもあるシクロアルキル基、炭素数１〜２０の置換基を有することもあるアリール基、２級乃至３級アミノ基、一般式（５）
−（ＣＨ 2 ） n −Ｒ 3 （５）
（式中、Ｒ 3 は炭素数１〜１０のシクロアルキル基、アリール基、アルコキシル基、チオアルコキシル基、３級アミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、複素芳香族基を表し、ｎは０または１以上の整数を表す。）で表される一価の有機基を表し、ＹはＯを表す。）で表されるトリフルオロメチル化合物に一般式（２）
（Ｒ2）3ＳｉＸ （２）
（式中、Ｒ2はそれぞれ独立にメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはフェニル基を表し、Ｘは塩素、臭素またはヨウ素を表す。）で表されるハロゲン化トリアルキルシランとマグネシウムを溶媒の存在下で反応させることからなる、一般式（４）
【００１１】
【化７】
【００１２】
（式中、ＴＡＳはトリアルキルシリル基を表し、Ｒ 1 、Ｙはそれぞれ一般式（１）のＲ 1 、Ｙと同じ置換基を表す。）で表される２，２−ジフルオロエノールシリル化合物の製造方法である。
【００１３】
本発明にかかる一般式（１）で表されるトリフルオロメチル化合物は、トリフルオロメチルケトンまたはトリフルオロメチルチオケトン（これらを併せて、トリフルオロメチル（チオ）ケトンという）は、特に限定されず、Ｒ1で表される一価の有機基が本発明の条件下で不活性であればよい。その様な有機基としては、炭素数１〜２０の分岐を有することもあるアルキル基、アルケニル基またはアルキニル基、炭素数１〜２０の置換基を有することもあるシクロアルキル基、炭素数１〜２０の置換基を有することもあるアリール基、２級乃至３級アミノ基、一般式（５）
−（ＣＨ2）n−Ｒ3 （５）
（式中、Ｒ3は炭素数１〜１０のシクロアルキル基、アリール基、アルコキシル基、チオアルコキシル基、３級アミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、複素芳香族基を表し、ｎは０または１以上の整数を表す。）で表される有機基などを挙げることができる。 一般式（１）で表されるトリフルオロメチル化合物を具体的に例示すると、トリフルオロメチル（フェニル）ケトン、トリフルオロメチル（フェニルメチル）ケトン、トリフルオロメチル（フェネチル）ケトン、トリフルオロメチル（ｎ−ヘキシル）ケトン、トリフルオロメチル（ｃ−ヘキシル）ケトン、トリフルオロメチル（エトキシカルボニルメチル）ケトン、トリフルオロメチル（２−フリル）ケトン、トリフルオロメチル（２−チエニル）ケトン、トリフルオロ酢酸エチル、トリフルオロ酢酸ｔ−ブチル、トリフルオロ酢酸ヘキシル、トリフルオロチオ酢酸Ｓ−ｔ−ブチル、トリフルオロチオ酢酸Ｓ−フェニル、トリフルオロメチル（メトキシエチル）ケトン、トリフルオロメチル（メトキシフェニル）ケトン、トリフルオロメチル（トリフルオロメチルフェニル）ケトン、トリフルオロメチル（クロロフェニル）ケトン、トリフルオロメチル（チオメトキシエチル）ケトン、トリフルオロメチル（ジメチルアミノエチル）ケトン、Ｎ，Ｎ−ジフェニルトリフルオロアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジフェニルトリフルオロアセトチオアミド、Ｎ，Ｎ−ジブチルトリフルオロアセトチオアミド、Ｎ−オクチルトリフルオロアセトチオアミド、Ｎ−フェエニルトリフルオロアセトチオアミド、トリフルオロメチル（アセチルエチル）ケトンを挙げることができるが、これらに限られないのは言うまでもない。
【００１４】
本発明にかかる一般式（３）で表される２，２−ジフルオロメチルケトン類または２，２−ジフルオロメチルチオケトン類は、それぞれ一般式（１）のＲ1と同じ置換基Ｒ1を持つ対応する２，２−ジフルオロメチル（チオ）ケトン類である。
【００１５】
また、本発明にかかる一般式（４）で表される２，２−ジフルオロエノールシリルエーテルまたは２，２−ジフルオロエノールシリル（チオ）エーテルは、それぞれ一般式（１）のＲ1と同じ置換基Ｒ1を持つ対応する２，２−ジフルオロエノールシリル（チオ）エーテルである。
【００１６】
本発明に使用するハロゲン化トリアルキルシランとしては、特に限定されないが、一般式（２）
（Ｒ2）3ＳｉＸ （２）
において、Ｒ2がそれぞれ独立にメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはフェニル基を表し、Ｘは塩素、臭素またはヨウ素を表すものが好ましい。好ましいハロゲン化トリアルキルシランとしては、塩化トリメチルシラン、塩化トリエチルシラン、塩化フェニルジメチルシラン、塩化ジフェニルメチルシラン、臭化トリエチルシランなどを挙げることができる。これらの内、塩化トリメチルシランは入手が容易で最も好ましい。 本発明の方法において使用する溶媒は、本発明反応応条件で不活性であればよく、脂肪族炭化水素系溶媒、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等、芳香族炭化水素類、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等、ニトリル類、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、フェニルアセトニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル、酸アミド類、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、メチルホルムアミド、ホルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、の低級エーテル類、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、１，２−エポキシエタン、１、４−ジオキサン、ジブチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、置換テトラヒドロフラン等などが使用され、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフランが好ましい。これらの溶媒を組み合わせて使用することもできる。溶媒の量は、出発原料の１重量部に対して１〜１００重量部程度、好ましくは１〜１０重量部である。使用する溶媒はでき得る限り水分を除去した方が好ましいが、必ずしも完全に除く必要はない。工業的に入手可能な溶媒に通常混入している程度の水分は、本製造方法の実施において特に問題にならず、従って水分を除去することなくそのまま使用できる。
【００１７】
本発明において使用される低原子価金属は、特に限定されないが、金属担体として、例えば、マグネシウム、亜鉛、銅、鉄、カドミウム、スズ、チタン、ナトリウムなど、またはこれらの金属を主成分とする合金、例えば、亜鉛−銅合金、ラネーニッケル、銀−亜鉛合金、銅−マグネシウム合金などが挙げられる。また、酸化状態が複数存在する金属元素の低原子価イオン、例えば、三塩化チタン、二ヨウ化サマリウム、二塩化クロム、金属錯体、例えば、ナトリウムナフタレニド、ナトリウムベンゾフェノンケチル錯体、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムなどが挙げられる。さらにこれら金属担体または合金と金属イオン若しくは金属錯体の混合系、例えば、四塩化チタン−金属亜鉛系、二塩化チタノセン−金属亜鉛系、二ヨウ化サマリウム−金属サマリウム系、二ヨウ化サマリウム−金属マグネシウム系などが挙げられる。これらのうちで、マグネシウムを用いた系、例えば金属マグネシウム、二ヨウ化サマリウム−金属マグネシウム系などが特に好ましいものとして挙げられる。低原子価金属は、単体で用いる場合には、粉末、粒状、塊状、多孔質状、切削屑状、線状など何れの形状でもかまわない。例えば、金属マグネシウムとしては、グリニャール反応において通常使用される公知の形状のマグネシウムがそのまま使用できる。 反応温度は−７８〜１２０℃程度であり、反応時間は反応試剤により異なるが、通常１０分から２０時間程度で行うのが好都合である。反応圧力は常圧付近でよく、その他の反応条件は、当業者に公知の有機マグネシウム化合物を用いる反応の条件が適用できる。
【００１８】
本発明の方法においては、反応を促進する目的でグリニャール反応で一般的に行われている各種の反応促進法を適用することができる。そのような手段として、例えば、臭素またはヨウ素などのハロゲン、グリニャール試薬、臭化エチル、ヨウ化メチル、ヨウ化メチレン、ヨウ化エチル、β−ブロムエチルエーテルなどの有機ハロゲン化物、あるいはオルト珪酸エチルなどを反応系に添加する方法や攪拌または超音波を照射する方法などを挙げることができる。
【００１９】
本発明の方法により一般式（１）で表されるトリフルオロメチル化合物を還元した場合、トリフルオロメチル基以外の部位は変化しない対応する一般式（３）で表されるジフルオロメチル化合物が生成するが、反応試剤および／または反応条件を調整することで、一般式（４）で表される２，２−ジフルオロエノールシリル化合物を得ることができる。
【００２０】
一般式（１）で表されるトリフルオロメチル化合物としてトリフルオロメチルケトン類を使用した場合には、２，２−ジフルオロエノールシリル化合物が生成することが多いが、これは酸または塩基の存在下、０〜１００℃程度の温度で加水分解することで目的とするジフルオロケトン類とすることができる。反応により得られた一般式（３）または一般式（４）で表される生成物を含む粗生成物は、目的や用途に応じた精製処理を実施するのが好ましい。該精製処理の手段としては、特に限定されず、通常の抽出操作、またはカラムクロマトグラフィ等を実施するのが好ましい。
【００２１】
本発明の方法によって製造される２，２−ジフルオロエノールシリルエーテルは、例えば、
【００２２】
【化８】
【００２３】
（式中、ＴＭＳはトリメチルシリル基を表し、（Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6）がそれぞれ（ｎ−ヘキシル基、ｎ−プロピル基、水素原子）、（ｎ−ヘキシル基、フェニル基、水素原子）、（ｎ−ヘキシル基、水素原子、水素原子）、（ｎ−ヘキシル基、Ｒ5とＲ6が結合してペンタメチレン基）、（ｎ−オクチル基、フェニル基、メチル基）、（ｎ−オクチル基、フェニル基、トリフルオロメチル基）を表す。）で表される反応式でα，α−ジフルオロ−β−ヒドロキシケトンを合成することができる（Tetrahedron Lett. 1983,24,507)。
【００２４】
以下に実施例をもって本発明を説明するが、これらの実施態様に限定されるものではない。
【００２５】
【実施例】
〔実施例１〕２０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（１１６．６ｍｇ、４．８mmol）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ（２．４ｍｌ））を系内に注いだ後、反応器を氷浴につけ、１０分間冷却した。トリフルオロアセトフェノン（１０４．４ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）マイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（２６０．４ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を１０分間０℃にて攪拌した。反応混合物を減圧下溶媒留去したのち、残査にヘキサン（２ｍｌ）を加え、析出したマグネシウム塩をセライトショートカラムに通し除去した。濾液を減圧乾燥後、ＩＲ、1Ｈ−および19Ｆ−ＮＭＲ測定を行った。無色液体。粗収量１２４．５ｍｇ（９１％）、反応終了直後の19Ｆ−ＮＭＲ収率９１％であった。
【００２６】
１，１−ジフルオロ−２−フェニル−２−（トリメチルシロキシ）エテン
19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ５０．４（ｄ、Ｊ＝６８Ｈｚ、１Ｆ）、６２．２（ｄ、Ｊ＝６８Ｈｚ、１Ｆ）
1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ０．０８（ｓ、９Ｈ）、７．０−７．５（ｍ、５Ｈ）
〔実施例２〕２０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（１１６．６ｍｇ、４．８mmol）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ（２．４ｍｌ））を系内に注いだ後、反応器を氷浴につけ、１０分間冷却した。１−（４−メトキシフェニル）−２，２，２−トリフルオロエタン−１−オン（１２２．５ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）マイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（２６０．４ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を５分間０℃にて攪拌した。反応混合物を減圧下溶媒留去したのち、残査にヘキサン（２ｍｌ）を加え、析出したマグネシウム塩をセライトショートカラムに通し除去した。濾液を減圧乾燥後、ＩＲ、1Ｈ−および19Ｆ−ＮＭＲ測定を行った。無色液体。粗収量１０１ｍｇ（６５％）、反応終了直後の19Ｆ−ＮＭＲ収率８２％であった。
【００２７】
１，１−ジフルオロ−２−（４−メトキシフェニル）−２−（トリメチルシロキシ）エテン19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ４８．６（ｄ，Ｊ＝７３Ｈｚ、１Ｆ）、６０．２（ｄ、Ｊ＝７３Ｈｚ、１Ｆ）
1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ０．０８（ｓ、９Ｈ）、３．２４（ｓ、３Ｈ）、６．６−６．８（ｍ、２Ｈ）、７．４−７．５（ｍ、２Ｈ）
〔実施例３〕２０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（１１６．６ｍｇ、４．８mmol）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ（２．４ｍｌ））を系内に注いだ後、反応器を氷浴につけ、１０分間冷却した。１−［４−トリフルオロメチル）フェニル］−２，２，２−トリフルオロエタン−１−オン（１４５．２ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）マイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（２６０．４ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を１０分間０℃にて攪拌した。反応混合物を減圧下溶媒留去したのち、残査にヘキサン（２ｍｌ）を加え、析出したマグネシウム塩をセライトショートカラムに通し除去した。濾液を減圧乾燥後、ＩＲ、1Ｈ−および19Ｆ−ＮＭＲ測定を行った。粗収量１６１．２ｍｇ（９２％）、反応終了直後の19Ｆ−ＮＭＲ収率８６％であった。
【００２８】
１，１−ジフルオロ−２−［４−（４−トリフルオロメチル）フェニル］−２−（トリメチルシロキシ）エテン19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ５１．４（ｄ、Ｊ＝６３Ｈｚ、１Ｆ）、６３．４（ｄ、Ｊ＝６３Ｈｚ、１Ｆ）、１００．４（ｓ、３Ｆ）
1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ−０．０４（ｓ、９Ｈ）、７．２−７．３（ｍ、４Ｈ）
〔実施例４〕２０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（１１６．６ｍｇ、４．８mmol）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ（２．４ｍｌ））を系内に注いだ後、反応器を氷浴につけ、１０分間冷却した。１−（４−クロロフェニル）−２，２，２−トリフルオロエタン−１−オン（１２５．１ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）マイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（２６０．４ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を１０分間０℃にて攪拌した。反応混合物を減圧下溶媒留去したのち、残査にヘキサン（２ｍｌ）を加え、析出したマグネシウム塩をセライトショートカラムに通し除去した。濾液を減圧乾燥後、ＩＲ、1Ｈ−および19Ｆ−ＮＭＲ測定を行った。無色液体。粗収量１５４．４ｍｇ（９７％）、反応終了直後の19Ｆ−ＮＭＲ収率９８％であった。
【００２９】
２−（４−クロロフェニル）−１，１−ジフルオロ−２−（トリメチルシロキシ）エテン19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ５１．４（ｄ、Ｊ＝６６Ｈｚ、１Ｆ）、６２．９（ｄ、Ｊ＝６６Ｈｚ、１Ｆ）
1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ０．０２（ｓ、９Ｈ）、７．０−７．２（ｍ、４Ｈ）
〔実施例５〕２０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（１１６．６ｍｇ、４．８mmol）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ（２．４ｍｌ））を系内に注いだ後、反応器を氷浴につけ、１０分間冷却した。２，２，２−トリフルオロ−１−（２−フリル）エタン−１−オン（１０８．１ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）マイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（２６０．４ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を１０分間０℃にて攪拌した。反応混合物を減圧下溶媒留去したのち、残査にヘキサン（２ｍｌ）を加え、析出したマグネシウム塩をセライトショートカラムに通し除去した。濾液を減圧乾燥後、ＩＲ、1Ｈ−および19Ｆ−ＮＭＲ測定を行った。淡黄色液体。粗収量９５．３ｍｇ（９４％）、反応終了直後の19Ｆ−ＮＭＲ収率９５％であった。
【００３０】
２−［２，２−ジフルオロ−１−（トリメチルシロキシ）エテニル］フラン19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ５１．２（ｄ、Ｊ＝６５Ｈｚ、１Ｆ）、５８．７（ｄ、Ｊ＝６５Ｈｚ、１Ｆ）
1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ０．１０（ｓ、９Ｈ）、６．０２（ｄｄ、Ｊ＝３．５、２．０Ｈｚ、１Ｈ）、６．２４（ｄ、Ｊ＝６．２Ｈｚ、１Ｈ）、６．９９（ｄ、Ｊ＝２．０Ｈｚ、１Ｈ）
〔実施例６〕２０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（１１６．６ｍｇ、４．８mmol）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ（２．４ｍｌ））を系内に注いだ後、反応器を氷浴につけ、１０分間冷却した。２，２，２−トリフルオロ−１−（２−チエニル）エタン−１−オン（１０８．１ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）マイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（２６０．４ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を１０分間０℃にて攪拌した。反応混合物を減圧下溶媒留去したのち、残査にヘキサン（２ｍｌ）を加え、析出したマグネシウム塩をセライトショートカラムに通し除去した。濾液を減圧乾燥後、ＩＲ、1Ｈ−および19Ｆ−ＮＭＲ測定を行った。反応終了直後の19Ｆ−ＮＭＲ収率９３％であった。
【００３１】
２−［２，２−ジフルオロ−１−（トリメチルシロキシ）エテニル］チオフェン19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ５１．２（ｄ、Ｊ＝６６Ｈｚ、１Ｆ）、５７．８（ｄ、Ｊ＝６６Ｈｚ、１Ｆ）
1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ０．１１（ｓ、９Ｈ）、６．６８（ｄｄ、Ｊ＝５．０、３．８Ｈｚ、１Ｈ）、６．８１（ｄｄ、Ｊ＝５．０、３．８Ｈｚ、１Ｈ）、６．８１（ｄｄ、Ｊ＝５．０、１．３Ｈｚ、１Ｈ）、７．０３（ｄｄ、Ｊ＝３．８、１．３Ｈｚ、１Ｈ）
〔実施例７〕２０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（１１６．６ｍｇ、４．８mmol）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。乾燥Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ（２．４ｍｌ））を系内に注いだ後、反応器を氷浴につけ、１０分間冷却した。１，１，１−トリフルオロオクタン−２−オン（１０９．２ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）マイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリエチルシラン（２６０．４ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を３０分間０℃にて攪拌した。反応混合物を減圧下溶媒留去したのち、残査にヘキサン（２ｍｌ）を加え、析出したマグネシウム塩をセライトショートカラムに通し除去した。濾液に塩化アンモニウム水溶液を注ぎ、酢酸エチルで抽出した。減圧乾燥後、19Ｆ−ＮＭＲ測定を行った。反応終了直後の19Ｆ−ＮＭＲ収率５６％であった。
【００３２】
１，１−ジフルオロ−２−（トリエチルシロキシ）−１−オクテン19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ３９．９（ｄ、Ｊ＝８７Ｈｚ、１Ｆ）、５７．８（ｄ、Ｊ＝８７Ｈｚ、１Ｆ）
〔実施例８〕２０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（１１６．６ｍｇ、４．８mmol）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。乾燥ＤＭＦ（２．４ｍｌ））を系内に注いだ後、反応器を氷浴につけ、１０分間冷却した。１−シクロヘキシル−２，２，２−トリフルオロエタン−１−オン（１０８．１ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）マイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（２６０．４ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を３０分間０℃にて攪拌した。反応混合物を減圧下溶媒留去したのち、残査にヘキサン（２ｍｌ）を加え、析出したマグネシウム塩をセライトショートカラムに通し除去した。濾液に塩化アンモニウム水溶液を注ぎ、酢酸エチルで抽出した。減圧乾燥後、19Ｆ−ＮＭＲ測定を行った。反応終了直後の19Ｆ−ＮＭＲ収率６２％であった。
【００３３】
２−シクロヘキシル−１，１−ジフルオロ−２−（トリメチルシロキシ）エテン19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ３９．４（ｄ、Ｊ＝９２Ｈｚ、１Ｆ）、５３．４（ｄ、Ｊ＝９２Ｈｚ、１Ｆ）
〔実施例９〕１０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（４０ｍｇ、１．６ｍｍｏｌ）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。０．１Ｍヨウ化サマリウム（ＳｍＩ2）／乾燥ＴＨＦ（０．２ｍｌ、０．０２ｍｍｏｌ）を系内に注いだ後、室温で１０分間冷却した。Ｎ，Ｎ−ジブチル−２，２，２−トリフルオロアセトチオアミド（５０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）をマイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（３４ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を室温で１時間攪拌した。反応混合物に塩化アンモニウム水溶液を加え反応を停止させ、酢酸エチルで抽出後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒留去したのち、得られた残査をシリカゲルカラムｓクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル１０：１）を用いて精製した。淡黄色液体。収量３８ｍｇ（８４％）であった。
【００３４】
Ｎ，Ｎ−ジブチル−２，２−ジフルオロアセトチオアミド19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）；δ４８．３（ｄ、Ｊ＝５６．３Ｈｚ、２Ｆ）
1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）；δ０．９６（ｔ、Ｊ＝７．１Ｈｚ、６Ｈ）、１．２−１．４（ｍ、４Ｈ）、１．５−１．８（ｍ、４Ｈ）、３．６７（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、２Ｈ）、３．８２（ｔ、Ｊ＝７．９Ｈｚ、２Ｈ）、６．６２（ｔ、Ｊ＝５６．３Ｈｚ、１Ｈ）
〔実施例１０〕１０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（４０ｍｇ、１．６ｍｍｏｌ）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。０．１ＭＳｍＩ2／乾燥ＴＨＦ（０．２ｍｌ、０．０２ｍｍｏｌ）を系内に注いだ後、室温で１０分間冷却した。Ｎ，Ｎ−ジフェニル−２，２，２−トリフルオロアセトチオアミド（５６ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）をマイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（３４ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を室温で１時間攪拌した。反応混合物に塩化アンモニウム水溶液を加え反応を停止させ、酢酸エチルで抽出後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒留去したのち、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル１０：１）を用いて精製した。淡黄色液体。収量３７ｍｇ（６５％）であった。
【００３５】
Ｎ，Ｎ−ジフェニル−２，２−ジフルオロアセトチオアミド19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）；δ５３．１（ｄ、Ｊ＝５５．８Ｈｚ、２Ｆ）
1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）；δ６．２０（ｔ、Ｊ＝５５．８Ｈｚ、１Ｈ）、７．２−７．４（ｍ、１０Ｈ）、１．５−１．８（ｍ、４Ｈ）、３．６７（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、２Ｈ）、３．８２（ｔ、Ｊ＝７．９Ｈｚ、２Ｈ）、６．６２（ｔ、Ｊ＝５６．３Ｈｚ、１Ｈ）
〔実施例１１〕１０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（４０ｍｇ、１．６ｍｍｏｌ）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。０．１ＭＳｍＩ2／乾燥ＴＨＦ（０．２ｍｌ、０．０２ｍｍｏｌ）を系内に注いだ後、室温で１０分間冷却した。Ｎ−ヘキシル−２，２，２−トリフルオロアセトチオアミド（５０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）をマイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（３４ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を室温で６時間攪拌した。反応混合物に塩化アンモニウム水溶液を加え反応を停止させ、酢酸エチルで抽出後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒留去したのち、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル１０：１）を用いて精製した。淡黄色液体。収量１９ｍｇ（４１％）であった。
【００３６】
Ｎ−ヘキシル−２，２−ジフルオロアセトチオアミド19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）；δ４４．３（ｄ、Ｊ＝５６．３Ｈｚ、２Ｆ）
1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）；δ０．８７（ｔ、Ｊ＝６．７Ｈｚ、３Ｈ）、１．１−１．４（ｍ、６Ｈ）、１．５−１．８（ｍ、２Ｈ）、３．５−３．８（ｍ、２Ｈ）、６．１７（ｔ、Ｊ＝５６．３Ｈｚ、１Ｈ）
【００３７】
【発明の効果】
本発明の製造方法によると、原料入手の容易なトリフルオロメチルケトン類を原料として、有機合成反応において有用なジフルオロメチル（チオ）ケトン類および２，２−ジフルオロエノールシリル（チオ）エーテルを収率よく製造できるという効果を奏する。
【発明の属する技術分野】
本発明は、２，２−ジフルオロメチル（チオ）ケトン類および２，２−ジフルオロエノールシリル（チオ）エーテル類の製造方法に関する。２，２−ジフルオロメチル（チオ）ケトン類や２，２−ジフルオロエノールシリルエーテルは有機化合物中にジフルオロメチレン基を導入する反応試剤または有機化合物の製造中間体として有用である。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ジフルオロメチレン基を有する化合物は特有の生物学的活性を持つことからその合成法が注目されている。これまで、カルボニル基、チオカルボニル基またはチオセタール基にＤＡＳＴ（ジメチルアミノサルファトリフルオライド）や同様の作用をする酸化的フッ素化剤を反応させてジフルオロメチレン基に変換することがしばしば行われている。また、ハロジフルオロメチル基を脱ハロゲンしてジフルオロメチレン基とする方法もよく知られている。しかしながら、トリフルオロメチル基からの選択的脱モノフルオリネーションは殆ど知られていない。
【０００３】
２，２−ジフルオロエノールシリル（チオ）エーテル類は、２，２−ジフルオロメチル（チオ）ケトンのエノレートと合成反応において同じように使用できることが知られている。
【０００４】
２，２−ジフルオロエノールシリルエーテル類については、本出願人は、特願平９−２９８０７３号においてトリフルオロメチルフェニルケトンを塩化トリメチルシランの存在下電解還元して１−フェニル−２，２−ジフルオロエノールシリルエーテルが得られることを開示した。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記の電解還元による方法は収率のよい優れた方法であるが、電解還元法は工業的には一般的とは言い難い方法であるので、それに代わる合成方法の出現は望ましい。
【０００６】
したがって、本発明では、従来多くの反応で行われている操作を適用することで工業的プロセスを構成できる、収率のよい２，２−ジフルオロメチル（チオ）ケトンおよびその等価反応試剤若しくは製造中間体である２，２−ジフルオロエノールシリル（チオ）エーテルの製造方法を提供する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、トリフルオロメチル（チオ）ケトン類とハロゲン化トリアルキルシランを低原子価金属と溶媒の存在下で反応させると２，２−ジフルオロメチル（チオ）ケトン類の生成することが判明し、さらに反応条件を調整すると２，２−ジフルオロエノールシリル（チオ）エーテルが生成することを見いだし本発明に至った。
【０００８】
すなわち、本発明は一般式（１）
【０００９】
【化６】
【００１０】
（式中、Ｒ1は炭素数１〜２０の分岐を有することもあるアルキル基、アルケニル基またはアルキニル基、炭素数１〜２０の置換基を有することもあるシクロアルキル基、炭素数１〜２０の置換基を有することもあるアリール基、２級乃至３級アミノ基、一般式（５）
−（ＣＨ 2 ） n −Ｒ 3 （５）
（式中、Ｒ 3 は炭素数１〜１０のシクロアルキル基、アリール基、アルコキシル基、チオアルコキシル基、３級アミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、複素芳香族基を表し、ｎは０または１以上の整数を表す。）で表される一価の有機基を表し、ＹはＯを表す。）で表されるトリフルオロメチル化合物に一般式（２）
（Ｒ2）3ＳｉＸ （２）
（式中、Ｒ2はそれぞれ独立にメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはフェニル基を表し、Ｘは塩素、臭素またはヨウ素を表す。）で表されるハロゲン化トリアルキルシランとマグネシウムを溶媒の存在下で反応させることからなる、一般式（４）
【００１１】
【化７】
【００１２】
（式中、ＴＡＳはトリアルキルシリル基を表し、Ｒ 1 、Ｙはそれぞれ一般式（１）のＲ 1 、Ｙと同じ置換基を表す。）で表される２，２−ジフルオロエノールシリル化合物の製造方法である。
【００１３】
本発明にかかる一般式（１）で表されるトリフルオロメチル化合物は、トリフルオロメチルケトンまたはトリフルオロメチルチオケトン（これらを併せて、トリフルオロメチル（チオ）ケトンという）は、特に限定されず、Ｒ1で表される一価の有機基が本発明の条件下で不活性であればよい。その様な有機基としては、炭素数１〜２０の分岐を有することもあるアルキル基、アルケニル基またはアルキニル基、炭素数１〜２０の置換基を有することもあるシクロアルキル基、炭素数１〜２０の置換基を有することもあるアリール基、２級乃至３級アミノ基、一般式（５）
−（ＣＨ2）n−Ｒ3 （５）
（式中、Ｒ3は炭素数１〜１０のシクロアルキル基、アリール基、アルコキシル基、チオアルコキシル基、３級アミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、複素芳香族基を表し、ｎは０または１以上の整数を表す。）で表される有機基などを挙げることができる。 一般式（１）で表されるトリフルオロメチル化合物を具体的に例示すると、トリフルオロメチル（フェニル）ケトン、トリフルオロメチル（フェニルメチル）ケトン、トリフルオロメチル（フェネチル）ケトン、トリフルオロメチル（ｎ−ヘキシル）ケトン、トリフルオロメチル（ｃ−ヘキシル）ケトン、トリフルオロメチル（エトキシカルボニルメチル）ケトン、トリフルオロメチル（２−フリル）ケトン、トリフルオロメチル（２−チエニル）ケトン、トリフルオロ酢酸エチル、トリフルオロ酢酸ｔ−ブチル、トリフルオロ酢酸ヘキシル、トリフルオロチオ酢酸Ｓ−ｔ−ブチル、トリフルオロチオ酢酸Ｓ−フェニル、トリフルオロメチル（メトキシエチル）ケトン、トリフルオロメチル（メトキシフェニル）ケトン、トリフルオロメチル（トリフルオロメチルフェニル）ケトン、トリフルオロメチル（クロロフェニル）ケトン、トリフルオロメチル（チオメトキシエチル）ケトン、トリフルオロメチル（ジメチルアミノエチル）ケトン、Ｎ，Ｎ−ジフェニルトリフルオロアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジフェニルトリフルオロアセトチオアミド、Ｎ，Ｎ−ジブチルトリフルオロアセトチオアミド、Ｎ−オクチルトリフルオロアセトチオアミド、Ｎ−フェエニルトリフルオロアセトチオアミド、トリフルオロメチル（アセチルエチル）ケトンを挙げることができるが、これらに限られないのは言うまでもない。
【００１４】
本発明にかかる一般式（３）で表される２，２−ジフルオロメチルケトン類または２，２−ジフルオロメチルチオケトン類は、それぞれ一般式（１）のＲ1と同じ置換基Ｒ1を持つ対応する２，２−ジフルオロメチル（チオ）ケトン類である。
【００１５】
また、本発明にかかる一般式（４）で表される２，２−ジフルオロエノールシリルエーテルまたは２，２−ジフルオロエノールシリル（チオ）エーテルは、それぞれ一般式（１）のＲ1と同じ置換基Ｒ1を持つ対応する２，２−ジフルオロエノールシリル（チオ）エーテルである。
【００１６】
本発明に使用するハロゲン化トリアルキルシランとしては、特に限定されないが、一般式（２）
（Ｒ2）3ＳｉＸ （２）
において、Ｒ2がそれぞれ独立にメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはフェニル基を表し、Ｘは塩素、臭素またはヨウ素を表すものが好ましい。好ましいハロゲン化トリアルキルシランとしては、塩化トリメチルシラン、塩化トリエチルシラン、塩化フェニルジメチルシラン、塩化ジフェニルメチルシラン、臭化トリエチルシランなどを挙げることができる。これらの内、塩化トリメチルシランは入手が容易で最も好ましい。 本発明の方法において使用する溶媒は、本発明反応応条件で不活性であればよく、脂肪族炭化水素系溶媒、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等、芳香族炭化水素類、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等、ニトリル類、例えば、アセトニトリル、プロピオニトリル、フェニルアセトニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル、酸アミド類、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、メチルホルムアミド、ホルムアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、の低級エーテル類、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、ジエチルエーテル、１，２−エポキシエタン、１、４−ジオキサン、ジブチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、置換テトラヒドロフラン等などが使用され、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフランが好ましい。これらの溶媒を組み合わせて使用することもできる。溶媒の量は、出発原料の１重量部に対して１〜１００重量部程度、好ましくは１〜１０重量部である。使用する溶媒はでき得る限り水分を除去した方が好ましいが、必ずしも完全に除く必要はない。工業的に入手可能な溶媒に通常混入している程度の水分は、本製造方法の実施において特に問題にならず、従って水分を除去することなくそのまま使用できる。
【００１７】
本発明において使用される低原子価金属は、特に限定されないが、金属担体として、例えば、マグネシウム、亜鉛、銅、鉄、カドミウム、スズ、チタン、ナトリウムなど、またはこれらの金属を主成分とする合金、例えば、亜鉛−銅合金、ラネーニッケル、銀−亜鉛合金、銅−マグネシウム合金などが挙げられる。また、酸化状態が複数存在する金属元素の低原子価イオン、例えば、三塩化チタン、二ヨウ化サマリウム、二塩化クロム、金属錯体、例えば、ナトリウムナフタレニド、ナトリウムベンゾフェノンケチル錯体、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムなどが挙げられる。さらにこれら金属担体または合金と金属イオン若しくは金属錯体の混合系、例えば、四塩化チタン−金属亜鉛系、二塩化チタノセン−金属亜鉛系、二ヨウ化サマリウム−金属サマリウム系、二ヨウ化サマリウム−金属マグネシウム系などが挙げられる。これらのうちで、マグネシウムを用いた系、例えば金属マグネシウム、二ヨウ化サマリウム−金属マグネシウム系などが特に好ましいものとして挙げられる。低原子価金属は、単体で用いる場合には、粉末、粒状、塊状、多孔質状、切削屑状、線状など何れの形状でもかまわない。例えば、金属マグネシウムとしては、グリニャール反応において通常使用される公知の形状のマグネシウムがそのまま使用できる。 反応温度は−７８〜１２０℃程度であり、反応時間は反応試剤により異なるが、通常１０分から２０時間程度で行うのが好都合である。反応圧力は常圧付近でよく、その他の反応条件は、当業者に公知の有機マグネシウム化合物を用いる反応の条件が適用できる。
【００１８】
本発明の方法においては、反応を促進する目的でグリニャール反応で一般的に行われている各種の反応促進法を適用することができる。そのような手段として、例えば、臭素またはヨウ素などのハロゲン、グリニャール試薬、臭化エチル、ヨウ化メチル、ヨウ化メチレン、ヨウ化エチル、β−ブロムエチルエーテルなどの有機ハロゲン化物、あるいはオルト珪酸エチルなどを反応系に添加する方法や攪拌または超音波を照射する方法などを挙げることができる。
【００１９】
本発明の方法により一般式（１）で表されるトリフルオロメチル化合物を還元した場合、トリフルオロメチル基以外の部位は変化しない対応する一般式（３）で表されるジフルオロメチル化合物が生成するが、反応試剤および／または反応条件を調整することで、一般式（４）で表される２，２−ジフルオロエノールシリル化合物を得ることができる。
【００２０】
一般式（１）で表されるトリフルオロメチル化合物としてトリフルオロメチルケトン類を使用した場合には、２，２−ジフルオロエノールシリル化合物が生成することが多いが、これは酸または塩基の存在下、０〜１００℃程度の温度で加水分解することで目的とするジフルオロケトン類とすることができる。反応により得られた一般式（３）または一般式（４）で表される生成物を含む粗生成物は、目的や用途に応じた精製処理を実施するのが好ましい。該精製処理の手段としては、特に限定されず、通常の抽出操作、またはカラムクロマトグラフィ等を実施するのが好ましい。
【００２１】
本発明の方法によって製造される２，２−ジフルオロエノールシリルエーテルは、例えば、
【００２２】
【化８】
【００２３】
（式中、ＴＭＳはトリメチルシリル基を表し、（Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6）がそれぞれ（ｎ−ヘキシル基、ｎ−プロピル基、水素原子）、（ｎ−ヘキシル基、フェニル基、水素原子）、（ｎ−ヘキシル基、水素原子、水素原子）、（ｎ−ヘキシル基、Ｒ5とＲ6が結合してペンタメチレン基）、（ｎ−オクチル基、フェニル基、メチル基）、（ｎ−オクチル基、フェニル基、トリフルオロメチル基）を表す。）で表される反応式でα，α−ジフルオロ−β−ヒドロキシケトンを合成することができる（Tetrahedron Lett. 1983,24,507)。
【００２４】
以下に実施例をもって本発明を説明するが、これらの実施態様に限定されるものではない。
【００２５】
【実施例】
〔実施例１〕２０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（１１６．６ｍｇ、４．８mmol）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ（２．４ｍｌ））を系内に注いだ後、反応器を氷浴につけ、１０分間冷却した。トリフルオロアセトフェノン（１０４．４ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）マイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（２６０．４ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を１０分間０℃にて攪拌した。反応混合物を減圧下溶媒留去したのち、残査にヘキサン（２ｍｌ）を加え、析出したマグネシウム塩をセライトショートカラムに通し除去した。濾液を減圧乾燥後、ＩＲ、1Ｈ−および19Ｆ−ＮＭＲ測定を行った。無色液体。粗収量１２４．５ｍｇ（９１％）、反応終了直後の19Ｆ−ＮＭＲ収率９１％であった。
【００２６】
１，１−ジフルオロ−２−フェニル−２−（トリメチルシロキシ）エテン
19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ５０．４（ｄ、Ｊ＝６８Ｈｚ、１Ｆ）、６２．２（ｄ、Ｊ＝６８Ｈｚ、１Ｆ）
1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ０．０８（ｓ、９Ｈ）、７．０−７．５（ｍ、５Ｈ）
〔実施例２〕２０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（１１６．６ｍｇ、４．８mmol）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ（２．４ｍｌ））を系内に注いだ後、反応器を氷浴につけ、１０分間冷却した。１−（４−メトキシフェニル）−２，２，２−トリフルオロエタン−１−オン（１２２．５ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）マイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（２６０．４ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を５分間０℃にて攪拌した。反応混合物を減圧下溶媒留去したのち、残査にヘキサン（２ｍｌ）を加え、析出したマグネシウム塩をセライトショートカラムに通し除去した。濾液を減圧乾燥後、ＩＲ、1Ｈ−および19Ｆ−ＮＭＲ測定を行った。無色液体。粗収量１０１ｍｇ（６５％）、反応終了直後の19Ｆ−ＮＭＲ収率８２％であった。
【００２７】
１，１−ジフルオロ−２−（４−メトキシフェニル）−２−（トリメチルシロキシ）エテン19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ４８．６（ｄ，Ｊ＝７３Ｈｚ、１Ｆ）、６０．２（ｄ、Ｊ＝７３Ｈｚ、１Ｆ）
1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ０．０８（ｓ、９Ｈ）、３．２４（ｓ、３Ｈ）、６．６−６．８（ｍ、２Ｈ）、７．４−７．５（ｍ、２Ｈ）
〔実施例３〕２０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（１１６．６ｍｇ、４．８mmol）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ（２．４ｍｌ））を系内に注いだ後、反応器を氷浴につけ、１０分間冷却した。１−［４−トリフルオロメチル）フェニル］−２，２，２−トリフルオロエタン−１−オン（１４５．２ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）マイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（２６０．４ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を１０分間０℃にて攪拌した。反応混合物を減圧下溶媒留去したのち、残査にヘキサン（２ｍｌ）を加え、析出したマグネシウム塩をセライトショートカラムに通し除去した。濾液を減圧乾燥後、ＩＲ、1Ｈ−および19Ｆ−ＮＭＲ測定を行った。粗収量１６１．２ｍｇ（９２％）、反応終了直後の19Ｆ−ＮＭＲ収率８６％であった。
【００２８】
１，１−ジフルオロ−２−［４−（４−トリフルオロメチル）フェニル］−２−（トリメチルシロキシ）エテン19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ５１．４（ｄ、Ｊ＝６３Ｈｚ、１Ｆ）、６３．４（ｄ、Ｊ＝６３Ｈｚ、１Ｆ）、１００．４（ｓ、３Ｆ）
1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ−０．０４（ｓ、９Ｈ）、７．２−７．３（ｍ、４Ｈ）
〔実施例４〕２０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（１１６．６ｍｇ、４．８mmol）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ（２．４ｍｌ））を系内に注いだ後、反応器を氷浴につけ、１０分間冷却した。１−（４−クロロフェニル）−２，２，２−トリフルオロエタン−１−オン（１２５．１ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）マイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（２６０．４ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を１０分間０℃にて攪拌した。反応混合物を減圧下溶媒留去したのち、残査にヘキサン（２ｍｌ）を加え、析出したマグネシウム塩をセライトショートカラムに通し除去した。濾液を減圧乾燥後、ＩＲ、1Ｈ−および19Ｆ−ＮＭＲ測定を行った。無色液体。粗収量１５４．４ｍｇ（９７％）、反応終了直後の19Ｆ−ＮＭＲ収率９８％であった。
【００２９】
２−（４−クロロフェニル）−１，１−ジフルオロ−２−（トリメチルシロキシ）エテン19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ５１．４（ｄ、Ｊ＝６６Ｈｚ、１Ｆ）、６２．９（ｄ、Ｊ＝６６Ｈｚ、１Ｆ）
1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ０．０２（ｓ、９Ｈ）、７．０−７．２（ｍ、４Ｈ）
〔実施例５〕２０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（１１６．６ｍｇ、４．８mmol）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ（２．４ｍｌ））を系内に注いだ後、反応器を氷浴につけ、１０分間冷却した。２，２，２−トリフルオロ−１−（２−フリル）エタン−１−オン（１０８．１ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）マイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（２６０．４ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を１０分間０℃にて攪拌した。反応混合物を減圧下溶媒留去したのち、残査にヘキサン（２ｍｌ）を加え、析出したマグネシウム塩をセライトショートカラムに通し除去した。濾液を減圧乾燥後、ＩＲ、1Ｈ−および19Ｆ−ＮＭＲ測定を行った。淡黄色液体。粗収量９５．３ｍｇ（９４％）、反応終了直後の19Ｆ−ＮＭＲ収率９５％であった。
【００３０】
２−［２，２−ジフルオロ−１−（トリメチルシロキシ）エテニル］フラン19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ５１．２（ｄ、Ｊ＝６５Ｈｚ、１Ｆ）、５８．７（ｄ、Ｊ＝６５Ｈｚ、１Ｆ）
1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ０．１０（ｓ、９Ｈ）、６．０２（ｄｄ、Ｊ＝３．５、２．０Ｈｚ、１Ｈ）、６．２４（ｄ、Ｊ＝６．２Ｈｚ、１Ｈ）、６．９９（ｄ、Ｊ＝２．０Ｈｚ、１Ｈ）
〔実施例６〕２０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（１１６．６ｍｇ、４．８mmol）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。乾燥テトラヒドロフラン（ＴＨＦ（２．４ｍｌ））を系内に注いだ後、反応器を氷浴につけ、１０分間冷却した。２，２，２−トリフルオロ−１−（２−チエニル）エタン−１−オン（１０８．１ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）マイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（２６０．４ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を１０分間０℃にて攪拌した。反応混合物を減圧下溶媒留去したのち、残査にヘキサン（２ｍｌ）を加え、析出したマグネシウム塩をセライトショートカラムに通し除去した。濾液を減圧乾燥後、ＩＲ、1Ｈ−および19Ｆ−ＮＭＲ測定を行った。反応終了直後の19Ｆ−ＮＭＲ収率９３％であった。
【００３１】
２−［２，２−ジフルオロ−１−（トリメチルシロキシ）エテニル］チオフェン19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ５１．２（ｄ、Ｊ＝６６Ｈｚ、１Ｆ）、５７．８（ｄ、Ｊ＝６６Ｈｚ、１Ｆ）
1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ０．１１（ｓ、９Ｈ）、６．６８（ｄｄ、Ｊ＝５．０、３．８Ｈｚ、１Ｈ）、６．８１（ｄｄ、Ｊ＝５．０、３．８Ｈｚ、１Ｈ）、６．８１（ｄｄ、Ｊ＝５．０、１．３Ｈｚ、１Ｈ）、７．０３（ｄｄ、Ｊ＝３．８、１．３Ｈｚ、１Ｈ）
〔実施例７〕２０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（１１６．６ｍｇ、４．８mmol）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。乾燥Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ（２．４ｍｌ））を系内に注いだ後、反応器を氷浴につけ、１０分間冷却した。１，１，１−トリフルオロオクタン−２−オン（１０９．２ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）マイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリエチルシラン（２６０．４ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を３０分間０℃にて攪拌した。反応混合物を減圧下溶媒留去したのち、残査にヘキサン（２ｍｌ）を加え、析出したマグネシウム塩をセライトショートカラムに通し除去した。濾液に塩化アンモニウム水溶液を注ぎ、酢酸エチルで抽出した。減圧乾燥後、19Ｆ−ＮＭＲ測定を行った。反応終了直後の19Ｆ−ＮＭＲ収率５６％であった。
【００３２】
１，１−ジフルオロ−２−（トリエチルシロキシ）−１−オクテン19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ３９．９（ｄ、Ｊ＝８７Ｈｚ、１Ｆ）、５７．８（ｄ、Ｊ＝８７Ｈｚ、１Ｆ）
〔実施例８〕２０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（１１６．６ｍｇ、４．８mmol）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。乾燥ＤＭＦ（２．４ｍｌ））を系内に注いだ後、反応器を氷浴につけ、１０分間冷却した。１−シクロヘキシル−２，２，２−トリフルオロエタン−１−オン（１０８．１ｍｇ、０．６ｍｍｏｌ）マイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（２６０．４ｍｇ，２．４ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を３０分間０℃にて攪拌した。反応混合物を減圧下溶媒留去したのち、残査にヘキサン（２ｍｌ）を加え、析出したマグネシウム塩をセライトショートカラムに通し除去した。濾液に塩化アンモニウム水溶液を注ぎ、酢酸エチルで抽出した。減圧乾燥後、19Ｆ−ＮＭＲ測定を行った。反応終了直後の19Ｆ−ＮＭＲ収率６２％であった。
【００３３】
２−シクロヘキシル−１，１−ジフルオロ−２−（トリメチルシロキシ）エテン19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、Ｃ6Ｄ6）；δ３９．４（ｄ、Ｊ＝９２Ｈｚ、１Ｆ）、５３．４（ｄ、Ｊ＝９２Ｈｚ、１Ｆ）
〔実施例９〕１０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（４０ｍｇ、１．６ｍｍｏｌ）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。０．１Ｍヨウ化サマリウム（ＳｍＩ2）／乾燥ＴＨＦ（０．２ｍｌ、０．０２ｍｍｏｌ）を系内に注いだ後、室温で１０分間冷却した。Ｎ，Ｎ−ジブチル−２，２，２−トリフルオロアセトチオアミド（５０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）をマイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（３４ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を室温で１時間攪拌した。反応混合物に塩化アンモニウム水溶液を加え反応を停止させ、酢酸エチルで抽出後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒留去したのち、得られた残査をシリカゲルカラムｓクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル１０：１）を用いて精製した。淡黄色液体。収量３８ｍｇ（８４％）であった。
【００３４】
Ｎ，Ｎ−ジブチル−２，２−ジフルオロアセトチオアミド19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）；δ４８．３（ｄ、Ｊ＝５６．３Ｈｚ、２Ｆ）
1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）；δ０．９６（ｔ、Ｊ＝７．１Ｈｚ、６Ｈ）、１．２−１．４（ｍ、４Ｈ）、１．５−１．８（ｍ、４Ｈ）、３．６７（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、２Ｈ）、３．８２（ｔ、Ｊ＝７．９Ｈｚ、２Ｈ）、６．６２（ｔ、Ｊ＝５６．３Ｈｚ、１Ｈ）
〔実施例１０〕１０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（４０ｍｇ、１．６ｍｍｏｌ）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。０．１ＭＳｍＩ2／乾燥ＴＨＦ（０．２ｍｌ、０．０２ｍｍｏｌ）を系内に注いだ後、室温で１０分間冷却した。Ｎ，Ｎ−ジフェニル−２，２，２−トリフルオロアセトチオアミド（５６ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）をマイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（３４ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を室温で１時間攪拌した。反応混合物に塩化アンモニウム水溶液を加え反応を停止させ、酢酸エチルで抽出後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒留去したのち、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル１０：１）を用いて精製した。淡黄色液体。収量３７ｍｇ（６５％）であった。
【００３５】
Ｎ，Ｎ−ジフェニル−２，２−ジフルオロアセトチオアミド19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）；δ５３．１（ｄ、Ｊ＝５５．８Ｈｚ、２Ｆ）
1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）；δ６．２０（ｔ、Ｊ＝５５．８Ｈｚ、１Ｈ）、７．２−７．４（ｍ、１０Ｈ）、１．５−１．８（ｍ、４Ｈ）、３．６７（ｔ、Ｊ＝８．０Ｈｚ、２Ｈ）、３．８２（ｔ、Ｊ＝７．９Ｈｚ、２Ｈ）、６．６２（ｔ、Ｊ＝５６．３Ｈｚ、１Ｈ）
〔実施例１１〕１０ｍｌ二口反応器内に市販のマグネシウム（４０ｍｇ、１．６ｍｍｏｌ）をはかり入れ、真空下ヒートガンで加熱しながらアルゴン置換した。０．１ＭＳｍＩ2／乾燥ＴＨＦ（０．２ｍｌ、０．０２ｍｍｏｌ）を系内に注いだ後、室温で１０分間冷却した。Ｎ−ヘキシル−２，２，２−トリフルオロアセトチオアミド（５０ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）をマイクロシリンジで系内に注いだ後に塩化トリメチルシラン（３４ｍｇ，０．３ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を室温で６時間攪拌した。反応混合物に塩化アンモニウム水溶液を加え反応を停止させ、酢酸エチルで抽出後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下溶媒留去したのち、得られた残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル１０：１）を用いて精製した。淡黄色液体。収量１９ｍｇ（４１％）であった。
【００３６】
Ｎ−ヘキシル−２，２−ジフルオロアセトチオアミド19Ｆ−ＮＭＲ（１８８ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）；δ４４．３（ｄ、Ｊ＝５６．３Ｈｚ、２Ｆ）
1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3）；δ０．８７（ｔ、Ｊ＝６．７Ｈｚ、３Ｈ）、１．１−１．４（ｍ、６Ｈ）、１．５−１．８（ｍ、２Ｈ）、３．５−３．８（ｍ、２Ｈ）、６．１７（ｔ、Ｊ＝５６．３Ｈｚ、１Ｈ）
【００３７】
【発明の効果】
本発明の製造方法によると、原料入手の容易なトリフルオロメチルケトン類を原料として、有機合成反応において有用なジフルオロメチル（チオ）ケトン類および２，２−ジフルオロエノールシリル（チオ）エーテルを収率よく製造できるという効果を奏する。
Claims (2)
- 一般式（１）
−（ＣＨ 2 ） n −Ｒ 3 （５）
（式中、Ｒ 3 は炭素数１〜１０のシクロアルキル基、アリール基、アルコキシル基、チオアルコキシル基、３級アミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、複素芳香族基を表し、ｎは０または１以上の整数を表す。）で表される一価の有機基を表し、ＹはＯを表す。）で表されるトリフルオロメチル化合物に一般式（２）
（Ｒ2）3ＳｉＸ （２）
（式中、Ｒ2はそれぞれ独立にメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはフェニル基を表し、Ｘは塩素、臭素またはヨウ素を表す。）で表されるハロゲン化トリアルキルシランとマグネシウムを溶媒の存在下で反応させることからなる一般式（４）
（式中、ＴＡＳはトリアルキルシリル基を表し、Ｒ1 、Ｙはそれぞれ一般式（１）のＲ1 、Ｙと同じ置換基を表す。）で表される２，２−ジフルオロエノールシリル化合物の製造方法 - 一般式（６）
（式中、Ｒ1は炭素数１〜２０の分岐を有することもあるアルキル基、アルケニル基またはアルキニル基、炭素数１〜２０の置換基を有することもあるシクロアルキル基、炭素数１〜２０の置換基を有することもあるアリール基、２級乃至３級アミノ基、一般式（５）
−（ＣＨ 2 ） n −Ｒ 3 （５）
（式中、Ｒ 3 は炭素数１〜１０のシクロアルキル基、アリール基、アルコキシル基、チオアルコキシル基、３級アミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、複素芳香族基を表し、ｎは０または１以上の整数を表す。）で表される一価の有機基を表す。）で表されるトリフルオロメチルチオ化合物に一般式（２）
（Ｒ2）3ＳｉＸ （２）
（式中、Ｒ2はそれぞれ独立にメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基またはフェニル基を表し、Ｘは塩素、臭素またはヨウ素を表す。）で表されるハロゲン化トリアルキルシランとマグネシウムを溶媒の存在下で反応させて一般式（７）
（式中、ＴＡＳはトリアルキルシリル基を表し、Ｒ1は一般式（６）のＲ1と同じ置換基を表す。）で表される２，２−ジフルオロエノール化合物を得、次いで加水分解することからなる一般式（８）、
（式中、Ｒ1は一般式（６）のＲ1と同じ置換基を表す。）で表されるジフルオロメチルチオ化合物の製造方法
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