JP4074040B2 - 半導体モジュール - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体チップを三次元実装した半導体モジュールに関する。
【0002】
【従来の技術及びその問題点】
半導体チップを内部に実装した構成として、例えば特開平5−226518号公報や特開平6−45763号公報に記載のものがある。これらは、例えば図10に示すように平坦回路基板1上に半導体チップ2を実装し、開口部3を有する枠型の基板4をその半導体チップ2を内部に収容するようにして重ね、これに更に平坦回路基板1を重ねた構成である。これらの構成では、上下の回路基板間を電気的に接続する構造に困難があり、実際には高密度なモジュール化が困難である。また、1つの半導体チップ2を実装するために2枚の基板1,4が必要であるから、半導体チップの実装数が増大すると、基板数が大幅に増加し、製造上の困難が生じてくる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的は、回路基板を多層化して内部に半導体チップを実装するようにした半導体モジュールにおいて、回路基板間の層間接続を高密度で行うことができ、しかも、回路基板数を削減して容易に製造できるようになすことである。
【0004】
【課題を解決するための手段】
上記課題の解決のため、請求項1の発明は、一方の面に導体回路及び前記導体回路と接続するように実装された半導体チップを備え、他方の面に凹部が形成された回路基板が、一の前記回路基板の前記凹部内に、他の前記回路基板に実装された前記半導体チップが位置するように、複数枚積層された半導体モジュールであって、前記凹部から外れた位置で前記回路基板を貫通し、前記導体回路に連なるビアバンプが、電解銅メッキ及び電解スズを重ねて形成され、複数枚の前記回路基板は、エポキシ系の接着剤を挟んで積層され、積層された前記回路基板を加熱真空プレスして前記接着剤を硬化させることにより前記回路基板間が接着され、前記ビアバンプにより前記回路基板間の層間接続がされている構成としたところに特徴を有する。
【0005】
請求項2の発明は、前記回路基板の収容凹部を、開口部を有する枠型基板と平坦基板とを貼り合わせることにより枠型基板の開口部により形成される構成としたところに特徴を有する。
また、請求項3の発明は、回路基板の収容凹部を、平坦基板の一方の面をざぐり加工することにより形成したところに特徴を有するものである。
【0006】
【発明の作用及び効果】
本発明によれば、回路基板を貫通して形成されたビアバンプにより層間接続が可能になり、小型・高密度化することができる。また、1個の半導体チップ毎に1枚の回路基板を使用することになるから、多数の半導体チップを三次元実装して高密度化を図っても、積層される回路基板数を削減することができ、製造が容易になる。
【0007】
【発明の実施の形態】
以下、本発明をメモリモジュールに適用した第1実施形態について図1〜図6を参照して説明する。
図1に中間層に積層される中間回路基板10を示した。これは図2に示すように平坦基板11と、四角の開口部12Aを備えた枠型基板12とを貼り合わせることにより形成されたもので、上記開口部12Aによって後述する半導体チップ13を収容する収容凹部14が下面に形成されている。これらの回路基板11,12は厚さ例えば75μmで、ガラスエポキシを絶縁基材としたもので、平坦基板11には予め銅箔をエッチングすることにより所要の回路パターン15が形成されている。そして、この平坦基板11の表面には例えばICメモリの半導体チップ13が回路パターン15上にフリップチップ実装されている。
【0008】
また、収容凹部14を取り囲む周囲部分には、互いに貼り合わされた平坦基板11と枠型基板12との双方を貫通してビアホール16が枠型基板12側から回路パターン15に届くようにレーザー照射によって形成され、その内部に例えば電解銅メッキと電解スズメッキとを順に行うことによってビアホール16を充填するビアバンプ17が形成されている。このビアバンプ17の一端側は回路パターン15に接触しており、他端側は枠型基板12の下面から僅かに突出した状態となっている。
このような構成の中間回路基板10は本実施形態では例えば3枚準備される。
【0009】
一方、モジュールの最下層に位置する下層回路基板20は、2枚の平坦基板21,22を貼り合わせて構成されている。上側の平坦基板21は上述の中間回路基板10の平坦基板11と同一構成で、上面に半導体チップ13がフリップチップ実装されている。また、下側の平坦基板22は開口部を備えず、下面側に接続用の回路パターン23を備え、半導体チップ13に連なる上側の回路パターン24と下側の回路パターン23とは前記中間回路基板10と同様に形成したビアバンプ25によって接続されている。
【0010】
また、モジュールの最上層に位置する上層回路基板30は、中間回路基板10と同様に互いに貼り合わされた平坦基板31と枠型基板32とによって構成されており、枠型基板32の開口部32Aによって下層の中間回路基板10に実装された半導体チップ13を逃げるための収容凹部33が形成されている。そして、平坦基板31の上面には図4に示すように銅箔のエッチングにより多数のパッド34とこれに連なるビアバンプ35とが形成されている。
【0011】
以上の構成の上層回路基板30,中間回路基板10及び下層回路基板20は互いに位置合わせされ、相互間に例えばエポキシ系の接着剤40を挟んで加熱真空プレスされ、これを硬化させることで図5に示すように各回路基板10,20,30を相互に固着して一体化される。その後、上層回路基板30のパッド34上に半田ボール36を付着させてメモリモジュールが完成する(図6参照)。
【0012】
このような本実施形態の構成によれば、各回路基板10,20,30を貫通して形成されたビアバンプ17,25,35により層間接続が可能になり、モジュールの小型・高密度化が可能になる。また、1個の半導体チップ13毎に1枚の回路基板10,20を使用することになるから、多数の半導体チップ13を三次元実装して高密度化を図っても、積層される回路基板数を削減することができ、製造が容易になる。
【0013】
図7ないし図9は本発明の第2実施形態を示す。前記第1実施形態との相違は、各回路基板の構造である。すなわち、第1実施形態では各回路基板は2枚の基板の貼り合わせにより形成したが、この第2実施形態では1枚のガラスエポキシ基材の銅張積層板から構成している。
図7に示した中間回路基板50は、例えば150μm程度の厚さで両面が平坦なガラスエポキシ基板の下面側をザグリ加工することにより下層の半導体チップ51のための収容凹部50Aを形成してある。その中間回路基板50の上面には予め銅箔をエッチングすることにより、所要の回路パターン52が形成され、この回路パターン52上に例えばICメモリの半導体チップ51がフリップチップ実装されている。また、収容凹部50Aを取り囲む周囲部分には、例えばレーザ照射によってビアホール53が形成され、その内部に例えば電解銅メッキ層54Aと電解スズメッキ層54Bとを順に重ねることによってビアバンプ54が充填されている。このビアバンプ54の上端側の電解銅メッキ層54Aは回路パターン52に接触しており、下端側は中間回路基板50の下面から僅かに突出した状態となっている。
このような構成の中間回路基板50は本実施形態では例えば3枚準備される。
【0014】
一方、モジュールの最下層に位置する下層回路基板60は、図8に示すように、下面をザグリ加工していないところのみが上記中間回路基板50と相違するもので、やはり上面に回路パターン61を形成するとともに、ここに半導体チップ51がフリップチップ実装されている。また、下面側には接続用の回路パターン62が形成されており、半導体チップ51に連なる上側の回路パターン61と下側の回路パターン62とは前記中間回路基板50と同様に形成したビアバンプ63によって接続されている。
また、モジュールの最上層に位置する上層回路基板70は、中間回路基板50と同様に下面にザグリ加工により形成した収容凹部70Aを備える。そして、上面には銅箔のエッチングにより多数のパッド71とこれに連なるビアバンプ72とが形成されている。
【0015】
以上の構成の上層回路基板70,中間回路基板50及び下層回路基板60は、前記第1実施形態と同様に、互いに位置合わせされ、相互間に例えばエポキシ系の接着剤80を挟んで加熱真空プレスされ、これを硬化させることで図9に示すように各回路基板70,50,60を相互に固着して一体化される。その後、上層回路基板70のパッド71上に半田ボールを付着させてメモリモジュールが完成する。
この第2実施形態によれば、3種類の各回路基板50,60,70を1枚のガラスエポキシ基板から製造できるから、第1実施形態に比べて基板の取扱い枚数が減少し、製造コスト上、有利となる。
【0016】
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施の形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施の形態も本発明の技術的範囲に含まれ、さらに、下記以外にも要旨を逸脱しない範囲内で種々変更して実施することができる。
(1)上記各実施形態では、半導体チップ13をフリップチップ実装により回路基板10,20に装着したが、これに限らず、ワイヤボンディング法によって実装してもよい。
(2)また、半導体チップ13はメモリICに限らず、例えばロジックIC、マイクロプロセッサ、汎用や専用のデジタルシグナルプロセッサ、アナログIC、ハイブリッドIC等の半導体集積回路であってもよく、さらに、例えばメモリIC及びロジックICのような異種の半導体チップを組み合わせた混在型としてもよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1実施形態に係る中間回路基板を示す断面図
【図2】 同じく中間回路基板の分解斜視図
【図3】 モジュールの分解断面図
【図4】 モジュールの分解斜視図
【図5】 完成したモジュールの断面図
【図6】 完成したモジュールの斜視図
【図7】 本発明の第2実施形態を示す中間回路基板の断面図
【図8】 同じく第2実施形態に係るモジュールの分解斜視図
【図9】 同じく第2実施形態に係る完成したモジュールの断面図
【図10】従来のモジュール構造を示す断面図
【符号の説明】
10,20,30、50,60,70……回路基板
11……平坦基板
12……枠型基板
12A……開口部
13……半導体チップ
14……収容凹部
17……ビアバンプ
40,80……接着剤
Claims (3)
- 一方の面に導体回路及び前記導体回路と接続するように実装された半導体チップを備え、他方の面に凹部が形成された回路基板が、一の前記回路基板の前記凹部内に、他の前記回路基板に実装された前記半導体チップが位置するように、複数枚積層された半導体モジュールであって、前記凹部から外れた位置で前記回路基板を貫通し、前記導体回路に連なるビアバンプが、電解銅メッキ及び電解スズを重ねて形成され、複数枚の前記回路基板は、エポキシ系の接着剤を挟んで積層され、積層された前記回路基板を加熱真空プレスして前記接着剤を硬化させることにより前記回路基板間が接着され、前記ビアバンプにより前記回路基板間の層間接続がされていることを特徴とする半導体モジュール。
- 前記回路基板の収容凹部は、開口部を有する枠型基板と平坦基板とを貼り合わせることにより前記枠型基板の前記開口部により形成されていることを特徴とする請求項1記載の半導体モジュール。
- 前記回路基板の収容凹部は、平坦基板の一方の面をざぐり加工することにより形成されていることを特徴とする請求項1記載の半導体モジュール。
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