JP4073405B2 - Zsm‐5触媒の製造方法 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は酸性触媒反応に有用なZSM‐5(ZeoliteSocony Mobil‐5)のようなペンタシルタイプのゼオライトである結晶化ZSM‐5の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
ZSM‐5の合成はUSP3702886(1972)に報告されている。現在知られている方法においては、ZSM‐5は、特にナトリウムなどのアルカリ金属カチオンとテトラアルキルアンモニウム・カチオンとアルミン酸ナトリウムのようなアルミニウム原料と珪酸ナトリウムのような珪素原料とpH6.7〜13.0の水とから温度120〜200℃のオートクレーヴで自生的圧力のもとで合成されている。このZSM‐5の物質は特徴的なX線回折パターンを有する。ZSM‐5触媒はかっては合成に8日間、代表的なものでは150℃で6日間もかかっていた。
【0003】
オートクレーヴ時間を減少させるための種々の試みがなされており、シード・ゲル方法によりオートクレーヴの時間を6日から2日間に減少させる試みがある[Microporous Materials 22, 626-627 (1998)]。H3PO4のようなアニオン促進剤を用いることにより[Nature, 381, 298 (1996)]、また、種々の先駆物質の割合を変更することにより[Zeolites, 12, 943 (1992)]、オートクレーヴ時間を減少する試みもなされてきた。他の多くの特許が文献に報告されている。これらの方法には幾つかの制限があり、工業化が困難である。これらの制限には(1)X線による結晶純度、(2)結晶相の純度、(3)砒酸塩のような促進剤のカチオンが四面体に入り込み異なる触媒特性を有する砒酸塩‐シリカライトを生成する、(4)ゲル及び生成物中のSi/Alが限定される、(5)生成物の収率、の問題がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は工業化の容易なZSM‐5触媒の合成方法を提供するにある。本発明の他の目的は高いX線による純度、結晶相の純度を示しSi/Al原子比が特定できるZSM‐5触媒の合成方法を提供するにある。本発明の更なる目的は短いオートクレーヴ時間で高い収率を得るZSM‐5触媒の合成方法を提供するにある。
【0005】
【課題を解決する手段】
本発明はペンタシル系の一種であるZSM‐5と同様な均一な多孔質性である結晶ゼオライト物質の改良された合成方法に関する。ZSM‐5は特徴的なX線回折パターンを有する。ZSM‐5の典型的な化学組成は3.25Na2O:Al2O3:30SiO2:〜958H2Oである。従って、本発明は、分子式が3.25Na2O:Al2O3:30SiO2:z958H2O(H2O分子は1セル当たりz=15〜20)で、表1に示すX線回折パターンを有するZSM‐5触媒の改良された合成方法を提供し、当該合成方法は、アルカリ金属カチオン、アルカリ=ヒドロキシド及び珪酸原料とを水中で混合することにより予め製造されたシード・ゲルと、更なる量の珪酸原料と、アルミニウム原料と、メタノール、アセトン、イソプロパノール、アセトニトリル及びエタノールからなる群より選択される有機溶剤との混合物をオートクレーヴにおいて、使用した有機溶剤の温度、圧力の超臨界条件以下で反応させる。
【0006】
本発明の一実施形態においてはアルカリ金属カチオンはテトラアルキルアンモニウム=ナトリウムカチオンからなる。本発明の更なる実施形態においては珪酸原料はテトラエトキシシランである。本発明の他の実施形態においてはアルミニウム原料はアルミン酸ナトリウムである。本発明の他の実施形態においては有機溶剤と共に水が溶剤として用いられる。本発明の更なる実施形態においてはオートクレーヴの温度は150〜250℃の範囲であり、好ましくは有機溶剤の超臨界温度以下である。更に本発明の他の実施形態においてはオートクレーヴの圧力は20〜50気圧である。
【0007】
本発明の他の実施形態においてはシード・ゲルのSi/Alの原子比は可変であり、それにより合成されたZSM‐5のSi/Alの原子比を制御する。好ましい実施形態においてはシード・ゲルのSi/Alの原子比は10〜60の範囲で可変である。ZSM‐5は高い熱的安定性を示し、合成されたZSM‐5を550℃で12〜16時間加熱して有機テンプレートを除去する。
【0008】
【発明の実施の形態】
シード・ゲルを初期ゲルに使用し、シード・ゲルは以下のように製造した。水酸化ナトリウム0.6g(0.01725モル)を71.028ml(3.946モル)の蒸留水に溶解した。テトラプロピルアンモニウム=ヒドロキシド27.7ml〈0.02875モル〉を水酸化ナトリウム溶液に攪拌しながら滴下した。その混合物を30分間攪拌し、それから、テトラエトキシシラン27.5ml(0.1322モル)を滴下して加えた。混合物を100℃で約6時間攪拌し、この混合物をシード・ゲルとして使用した。
【0009】
ZSM‐5は以下のように合成した。水酸化ナトリウム0.88g(0.22モル)を蒸留水に溶解し、アルミン酸ナトリウム1.05g(0.0128モル)と溶剤として196ml(4.481モル)のメタノールを加え、30分間攪拌した。テトラエトキシシラン41.9ml(0.1882モル)を滴下して加え1時間攪拌した。最後にシード・ゲル15gを加えて1時間攪拌した。混合物の初期のpHは10.2〜11.0であった。全混合物を600mlのパール・オートクレーヴ(ParrAutoclave)にいれ230〜250℃で4〜10時間攪拌した。固体生成物を濾過して取出し蒸留水で洗浄し100〜110℃で6時間乾燥した。
【0010】
550℃で12時間焼成して有機テンプレートを除去した。典型的なX線回折パターンを表1に示す。ZSM‐5触媒をオートクレーヴで温度230〜250℃で、オートクレーヴの時間を4、6及び10時間と変えて合成した。生成物のそれぞれのX線回折パターンを表1,2,3に示す。ZSM‐5の合成における溶剤や圧力の条件を変えて行ったものを表4に示す。ZSM‐5の合成の温度条件を変更して行ったものを表5に示す。
【0011】
実施例1
【0012】
溶剤としてメタノールと水を使用したZSM‐5の合成の例を示す。水酸化ナトリウム0.88g(0.22モル)、アルミン酸ナトリウム1.05g、テトラエトキシシラン41.9ml(0.1882モル)、メタノール196ml(4.841モル)及び前述したテトラプロピルアンモニウム=ヒドロキシドを含むシード・ゲル15gとを完全に混合した。混合物の初期pHは〜10.2であった。このゲルの組成は(SiO2)29.4:(Al2O3)1:(テンプレート)0.5:(H2O)260である。この混合物をパール・オートクレーヴに入れ242℃で4時間加熱した。ついで濾過して固体生成物を取り出し、完全に洗浄して100〜110℃で6時間乾燥した。有機テンプレートを550℃で〜12時間焼成して除去した。生成物のX線回折パターンを表1に示す。結晶化度は95%以上であった。BET表面積は361m2/gであった。
【0013】
実施例2
【0014】
溶剤のメタノールをアセトンに替えた以外は実施例1と同様の方法でZSM‐5の合成を行った。オートクレーヴの温度は230℃、圧力は溶剤の自生的圧力である47気圧で10時間反応を行った。生成物の結晶化度は〜74%、窒素ガスBET表面積は364m2/gであった。この触媒のX線回折パターンを表6に示す。
【0015】
実施例3
【0016】
溶剤のメタノールをビスプロパノールに替えた以外は実施例1と同様の方法でZSM‐5の合成を行った。オートクレーヴの温度は230℃、圧力は溶剤の自生的圧力である48気圧で10時間反応を行った。生成物の結晶化度は〜71%、窒素ガスBET表面積は346m2/gであった。この触媒のX線回折パターンを表7に示す。
【0017】
実施例4
【0018】
溶剤のメタノールをエタノールに替えた以外は実施例1と同様の方法でZSM‐5の合成を行った。オートクレーヴの温度は233℃、圧力は溶剤の自生的圧力である50気圧で10時間反応を行った。生成物の結晶化度は〜53%、窒素ガスによるBET表面積は343m2/gであった。この触媒のX線回折パターンを表8に示す。
【0019】
実施例5
【0020】
メタノールの代わりに水のみを溶剤とした以外は実施例1と同様の方法でZSM‐5の合成を行った。オートクレーヴの温度は260℃、圧力は溶剤の自生的圧力である47気圧で10時間反応を行った。得られたゼオライトの結晶化度は〜83%、窒素ガスを用いたBET表面積は379m2/gであった。このZSM‐5触媒のX線回折パターンを表9に示す。
【0021】
実施例6
【0022】
オートクレーヴの条件を温度は200℃、圧力は自生的圧力である39気圧にした以外は実施例1と同様の方法でZSM‐5の合成を行った。得られたゼオライトの結晶化度は〜94%、窒素ガスを用いたBET表面積は358m2/gであった。このZSM‐5触媒のX線回折パターンを表10に示す。
【図面の簡単な説明】
【図1】表1:溶剤をメタノール、オートクレーヴ時間を4時間として合成したZSM‐5のX線回折パターンである。
【図2】表2:溶剤をメタノール、オートクレーヴ時間を6時間として合成したZSM‐5のX線回折パターンである。
【図3】表3:溶剤をメタノール、オートクレーヴ時間を10時間として合成したZSM‐5のX線回折パターンである。
【図4】表4:溶剤と圧力条件を変えて合成したZSM‐5の特性を示す表である。
【図5】表5:オートクレーヴの温度と圧力を変えて合成したZSM‐5の特性を示す表である。
【図6】表6:溶剤をアセトン、オートクレーヴ時間を10時間として合成したZSM‐5のX線回折パターンである。
【図7】表7:溶剤をイソプロパノール、オートクレーヴ時間を10時間として合成したZSM‐5のX線回折パターンである。
【図8】表8:溶剤をエタノール、オートクレーヴ時間を10時間として合成したZSM‐5のX線回折パターンである。
【図9】表9:溶剤を水、オートクレーヴ時間を10時間として合成したZSM‐5のX線回折パターンである。
【図10】表10:溶剤をメタノール、オートクレーヴ温度を200℃として合成したZSM‐5のX線回折パターンである。
Claims (11)
- 分子式が3.25Na2O・Al2O3・30SiO2・z958H2O(1セル当たりz=15〜20)のZSM‐5触媒を合成する方法において、
アルカリ金属カチオン、アルカリ=ヒドロキシド及び珪酸原料とを水中で混合することにより予め製造されたシード・ゲルと、更なる量の珪酸原料と、アルミニウム原料と、メタノール、アセトン、イソプロパノール、アセトニトリル及びエタノールからなる群より選択される有機溶剤との混合物を、
前記有機溶剤の温度、圧力の超臨界条件以下で加熱・加圧反応させることを特徴とする合成方法。 - 前記アルカリ金属カチオンは、テトラアルキルアンモニウム=ナトリウム・カチオンからなることを特徴とする請求項1記載の合成方法。
- 前記珪酸原料は、テトラエトキシシランであることを特徴とする請求項1記載の合成方法。
- 前記アルミニウム原料は、アルミン酸ナトリウムであることを特徴とする請求項1記載の合成方法。
- 前記有機溶剤は、水と共に溶剤として用いられることを特徴とする請求項1記載の合成方法。
- 前記加熱反応の温度は、150〜250℃の範囲であり、有機溶剤の超臨界温度以下であることを特徴とする請求項1記載の合成方法。
- 前記加圧条件は、20〜50気圧であることを特徴とする請求項1記載の合成方法。
- 前記シード・ゲルは、含有するSi/Alの原子比を変化させることができ、それにより合成されたZSM‐5のSi/Alの原子比を制御することを特徴とする請求項1記載の合成方法。
- 前記シード・ゲルは、含有するSi/Alの原子比が10〜60の範囲であることを特徴とする請求項1記載の合成方法。
- 前記ZSM‐5は、550℃で12〜16時間加熱することにより有機テンプレートを除去することを特徴とする請求項1記載の合成方法。
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