JP4069552B2 - マイクロレンズ基板 - Google Patents
マイクロレンズ基板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4069552B2 JP4069552B2 JP21711899A JP21711899A JP4069552B2 JP 4069552 B2 JP4069552 B2 JP 4069552B2 JP 21711899 A JP21711899 A JP 21711899A JP 21711899 A JP21711899 A JP 21711899A JP 4069552 B2 JP4069552 B2 JP 4069552B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- liquid crystal
- microlens
- pseudo
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Projection Apparatus (AREA)
- Transforming Electric Information Into Light Information (AREA)
- Video Image Reproduction Devices For Color Tv Systems (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
スクリーン上に、画像を投影する投射型表示装置が知られている。このような投射型表示装置では、その画像形成に主として液晶パネル（液晶光シャッター）が用いられている。この液晶パネルは、例えば、液晶を駆動する液晶駆動基板と液晶パネル用対向基板とが、液晶層を介して接合された構成となっている。
【０００３】
このような構成の液晶パネルの中には、光の利用効率を高めるべく、液晶パネル用対向基板の各画素に対応する位置に多数の微小なマイクロレンズを設けたものが知られている。これにより、高い光の利用効率を有する液晶パネルが得られる。
【０００４】
図１２は、液晶パネル用対向基板に用いられるマイクロレンズ基板の従来の構造を示す模式的な縦断面図である。
【０００５】
同図に示すように、マイクロレンズ基板９００は、多数の凹部９０６が設けられたガラス基板９０２と、かかるガラス基板９０２の凹部９０６が設けられた面に樹脂層（接着剤層）９０４を介して接合されたガラス層９０３とを有しており、また、樹脂層９０４では、凹部９０６内に充填された樹脂によりマイクロレンズ９０７が形成されている。
【０００６】
このようなマイクロレンズ基板９００は、液晶パネルを製造する際に、通常、加熱工程を経る。
【０００７】
このとき加熱により、マイクロレンズ基板９００には、そり、たわみ等が生じる場合があった。また、極端な場合には、ガラス層９０３が、ガラス基板９０２から剥離することもあった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、そり、たわみ、剥離等の欠陥を防止できるマイクロレンズ基板、および、かかるマイクロレンズ基板を備えた液晶パネル用対向基板、液晶パネル、さらには、投射型表示装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記（１）〜（１５）の発明により達成される。
【００１０】
（１） 複数の凹部が設けられた第一基板と、該第一基板に樹脂層を介して接合された第二基板とを有し、前記凹部内に充填された樹脂によりマイクロレンズが構成されたマイクロレンズ基板であって、
有効レンズ領域の外側に、マイクロレンズとして使用されず、かつ、形状、大きさまたは配設パターンのうちの少なくとも一つが前記凹部と異なる擬似凹部が形成された領域を有することを特徴とするマイクロレンズ基板。
【００１１】
（２） 前記擬似凹部が形成された領域は、前記有効レンズ領域の全周にわたって設けられている上記（１）に記載のマイクロレンズ基板。
【００１２】
（３） 前記擬似凹部が形成された領域の外側に、前記第一基板の本来の厚みが保持された領域を有する上記（１）または（２）に記載のマイクロレンズ基板。
【００１３】
（４） 前記第一基板の本来の厚みが保持された領域は、前記擬似凹部が形成された領域の全周にわたって設けられている上記（３）に記載のマイクロレンズ基板。
【００１８】
（５） 前記第一基板の本来の厚みが保持された領域の面積は、マイクロレンズ基板の面積の１〜４０％を占める上記（３）または（４）に記載のマイクロレンズ基板。
【００１９】
（６） 前記第一基板の本来の厚みが保持された領域の面積をＡ1、前記擬似凹部が形成された領域の面積をＡ2としたとき、Ａ1／Ａ2は、０．０５〜１０である上記（３）ないし（５）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板。
【００２０】
（７） 前記擬似凹部が形成された領域の面積は、マイクロレンズ基板の面積の１〜５０％を占める上記（１）ないし（６）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板。
【００２１】
（８） 前記凹部の最大深さをＤ1、前記擬似凹部の最大深さをＤ2としたとき、０．５≦Ｄ2／Ｄ1≦２なる関係を満足する上記（１）ないし（７）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板。
【００２２】
（９） 前記有効レンズ領域内における前記凹部の単位面積あたりの数をＮ1、前記擬似凹部が形成された領域内における前記擬似凹部の単位面積あたりの数をＮ2としたとき、０．１≦Ｎ2／Ｎ1≦１０なる関係を満足する上記（１）ないし（８）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板。
【００２３】
（１０） 前記擬似凹部が形成された領域内における前記擬似凹部の局所的な単位面積あたりの数をΔＮとしたとき、該ΔＮがマイクロレンズ基板の縁部に向かって漸減する傾向を有する部位を有する上記（１）ないし（９）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板。
【００２４】
（１１） 上記（１）ないし（１０）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板と、前記第一基板上および／または前記第二基板上に設けられた透明導電膜とを有することを特徴とする液晶パネル用対向基板。
【００２５】
（１２） 上記（１）ないし（１０）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板と、前記第一基板上および／または前記第二基板上に設けられたブラックマトリックスと、該ブラックマトリックスを覆う透明導電膜とを有することを特徴とする液晶パネル用対向基板。
【００２６】
（１３） 上記（１１）または（１２）に記載の液晶パネル用対向基板を備えたことを特徴とする液晶パネル。
【００２７】
（１４） 画素電極を備えた液晶駆動基板と、該液晶駆動基板に接合された上記（１１）または（１２）に記載の液晶パネル用対向基板と、前記液晶駆動基板と前記液晶パネル用対向基板との空隙に封入された液晶とを有することを特徴とする液晶パネル。
【００２８】
（１５） 上記（１３）または（１４）に記載の液晶パネルを備えたライトバルブを有し、該ライトバルブを少なくとも１個用いて画像を投射することを特徴とする投射型表示装置。
【００３３】
【発明の実施の形態】
本発明におけるマイクロレンズ基板には、個別基板およびウエハーの双方を含むものとする。
【００３４】
本発明者は、前述したマイクロレンズ基板９００に生じるそり、たわみ、剥離等の欠陥の原因を調査、研究した結果、かかる原因は、有効レンズ領域９０９における樹脂層９０４の厚さと、非有効レンズ領域９０８における樹脂層９０４の厚さとが大きく異なっていることに起因することを突き止めた。詳しくは、以下のように説明できる。
【００３５】
すなわち、マイクロレンズ基板９００では、有効レンズ領域９０９には多数の凹部９０６が形成されているのに対し、非有効レンズ領域９０８ではガラス基板９０２の本来の厚さが保持されている。このため、マイクロレンズ基板９００では、有効レンズ領域９０９における樹脂層９０４の厚さと、非有効レンズ領域９０８における樹脂層９０４の厚さとが大きく異なったものとなっている。
【００３６】
しかも、マイクロレンズ基板９００では、ガラス基板９０２と樹脂層９０４とは、異なる材料で構成されている。両者の材料が異なるので、両者の熱膨張係数も異なったものとなる（通常、ガラス基板９０２を構成する材料よりも樹脂層９０４を構成する材料の方がはるかに熱膨張係数が大きい。）。このため、マイクロレンズ基板９００が加熱等により温度上昇したときに、有効レンズ領域９０９と非有効レンズ領域９０８とでは、樹脂層９０４の熱膨張の度合いが大きく異なる。これが結果として、マイクロレンズ基板９００のそり、たわみ、剥離等の欠陥となって現われる。
【００３７】
本発明は、かかる知見に基づくものである。すなわち本発明は、有効レンズ領域と非有効レンズ領域とにおいて、樹脂層の厚さが相違することによって生じる熱膨張の度合いの差を緩和することにより、上記問題を解決するものである。以下、本発明を、添付図面に示す好適な実施の形態に基づき、詳細に説明する。
【００３８】
図１は、本発明のマイクロレンズ基板の実施形態を説明するための模式的な平面図である。図２〜６は、本発明のマイクロレンズ基板の、各実施の形態を示す模式的な図１中Ａ−Ａ線断面図である。
【００３９】
これらの図に示すように、本発明のマイクロレンズ基板１Ａ、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ、１Ｅ、１Ｆおよび１Ｇは、凹曲面を有する複数（多数）の凹部（マイクロレンズ用凹部）３と擬似凹部４１〜４６、４７１、４７２とが形成されたガラス基板（第一基板）５と、かかるガラス基板５の凹部３が設けられた面に中間層として樹脂層（接着剤層）７を介して接合されたガラス層（第二基板）６と、マイクロレンズ基板に所定の機能を付加する機能性部位とを有しており、また、樹脂層７では、凹部３内に充填された樹脂によりマイクロレンズ８が形成されている。
【００４０】
図１に示すように、マイクロレンズ基板１Ａ（他の実施の形態のマイクロレンズ基板も同様）は、例えばほぼ長方形（四角形）をなしている。その中央部には、ほぼ長方形（四角形）の有効レンズ領域９９が形成されている。この有効レンズ領域９９の外側には、全周にわたって、擬似凹部形成領域９８が形成されている。さらに、この擬似凹部形成領域９８の外側、すなわち、マイクロレンズ基板１Ａの縁部には、全周にわたって、厚み保持領域９７が形成されている。換言すれば、マイクロレンズ基板１Ａでは、マイクロレンズ基板１Ａの中央部に位置する有効レンズ領域９９の外周を擬似凹部形成領域９８が囲み、さらにこの擬似凹部形成領域９８の外周を厚み保持領域９７が囲むような構成となっている。
【００４１】
ここで、有効レンズ領域９９とは、凹部３に充填される樹脂により形成されるマイクロレンズ８が、使用時にマイクロレンズとして有効に用いられる領域をいう。また、擬似凹部形成領域９８とは、擬似凹部４１が形成されている領域をいう。さらには、厚み保持領域９７とは、擬似凹部４１が形成されておらず（当然凹部３も形成されておらず）、ガラス基板（マイクロレンズ用凹部付き基板）５の本来の厚み（母材本来の厚み）が保持された領域をいう。なお、説明の便宜上、擬似凹部形成領域９８と厚み保持領域９７とを合わせた領域を、非有効レンズ領域１００と呼ぶ。
【００４２】
本発明者は、上記問題点を解決すべく検討を重ねた結果、有効レンズ領域９９の外側に、形状、大きさまたは配設パターンのうちの少なくとも一つが凹部３と異なる擬似凹部を設けることに到達した。かかる擬似凹部は、樹脂だまりとして機能するが、擬似凹部内に充填された樹脂は、通常、有効なマイクロレンズとしては使用されない。
【００４３】
このような擬似凹部をマイクロレンズ基板に設けることにより、マイクロレンズ基板では、有効レンズ領域９９と非有効レンズ領域１００とにおける、樹脂層７の熱膨張の度合いの差を小さくすることができる。特に、有効レンズ領域９９の外周を囲むように擬似凹部形成領域９８を設けることにより、マイクロレンズ基板の全方向にわたって、マイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を好適に防止することができる。
【００４４】
しかも、擬似凹部をガラス基板５に設けることにより、樹脂層７とガラス基板５の密着力が向上し（アンカー効果）、界面剥離をより確実に防止できる。
【００４５】
さらに、擬似凹部の形状、大きさまたは配設パターンを凹部３と異なるものとすることにより次のような効果が得られる。すなわち、凹部３はマイクロレンズ８を形成し、これにより各画素ごとに光を集光するという機能があるのに対し、擬似凹部は、集光のためでなく、熱膨張時の応力を緩和するためのものである。このように、凹部３と擬似凹部とではその機能・役割が異なっているため、凹部３と擬似凹部とでは、その機能を最も効果的に発揮できる形状や大きさ、配設パターンは異なったものとなる。したがって、凹部３と擬似凹部とで、両者の形状、大きさまたは配設パターンを異なるものとすることにより、凹部３は集光機能を、擬似凹部は応力緩和機能を、それぞれ最適に発揮できるようになる。
【００４６】
なお、これらマイクロレンズ基板１Ａ、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ、１Ｅ、１Ｆおよび１Ｇでは、擬似凹部４１、４２、４３、４４、４５、４６、４７１および４７２に、樹脂層７を構成する樹脂が充填されている。このため、樹脂層７には、擬似凹部４１、４２、４３、４４、４５、４６、４７１および４７２に対応した形状の凸部７１、７２、７３、７４、７５、７６、７７１および７７２が、それぞれ形成されている。
【００４７】
さらに、マイクロレンズ基板１Ａ（他の実施の形態のマイクロレンズ基板も同様）に厚み保持領域９７を設けることにより、次のような利点が得られる。すなわち、マイクロレンズ基板１Ａにおいて、そり、たわみ、剥離等の欠陥が最も起こりやすいのは、有効レンズ領域９９と非有効レンズ領域１００との境界付近である。このため、有効レンズ領域９９の外周部付近には擬似凹部形成領域９８を設けて熱膨張による応力を緩和する必要があるが、有効レンズ領域９９から離間した位置では、擬似凹部４１を形成する必要性が低くなる。
【００４８】
加えて、非有効レンズ領域１００内に擬似凹部４１が形成されていない領域、すなわち、厚み保持領域９７を設けることにより、マイクロレンズ基板１Ａに所定の機能を付加する機能性部位を設けることが可能となる。このような機能性部位を擬似凹部形成領域９８内に設置したとしたならば、擬似凹部４１の影響（ガラス基板５表面の平坦性のなさ、凸部７１がレンズとして機能し得ること等）により、その機能を発揮しにくくなる可能性が高い。例えば、後述するアライメントマーク２１を擬似凹部形成領域９８内に設けた場合には、凸部７１がレンズとして機能するため、アライメントマーク２１の光学的認識をしにくくなる。また、後述するスペーサー２６は、擬似凹部形成領域９８内に設置することが困難であり、また、設置できた場合でも、スペーサー２６をガラス基板５に面接触させて固定することは困難であり、厚さを調整する上での十分な強度が得難い。
【００４９】
これに対して、非有効レンズ領域１００内に、ガラス基板５の本来の厚みが保持された厚み保持領域１００を設けることにより、擬似凹部４１の影響を受けないように、機能性部位を設けることが可能となる。これにより、マイクロレンズ基板に、レンズとしての機能に加えて、新たな機能、例えば光学的な機能、物理的な機能などを付加することができ、しかも、その機能が効果的に発揮されるようにる。
【００５０】
機能性部位としては、例えば、位置合わせの指標となるアライメントマーク２１（図２〜５、１０、１１参照）、ガラス基板５とガラス層（カバーガラス）６との間隔（距離）すなわち樹脂層７の厚さを規定（規制）するスペーサー２６（図６参照）などが挙げられる。なお、アライメントマーク２１は、例えばガラス層６上に設けることができる。また、スペーサー２６は、ガラス基板５上にガラス層６に当接するように設けることができる。
【００５１】
例えば、アライメントマーク２１を設けることにより、マイクロレンズ基板に光学的な機能を付加することができる。すなわち、アライメントマーク２１をマイクロレンズ基板に設け、アライメントマーク２１を光学的に認識することにより、マイクロレンズ基板と他の部材（例えば後述するＴＦＴ基板１７）との位置合わせ、あるいは、マイクロレンズ基板の構成要素（例えばマイクロレンズ８）と他の部材を構成する要素（例えばＴＦＴ基板１７を構成する画素電極１７２（後述参照））との位置合わせを容易に行うことができるようになる。
【００５２】
また例えば、スペーサー２６を設けることにより、マイクロレンズ基板に物理的な機能を付加することができる。すなわち、スペーサー２６をガラス基板５とガラス層６との間に設けることにより、樹脂層７を所望の厚さに設定することができる。しかも、マイクロレンズ基板全体で樹脂層７の厚さを均一にすることが容易となる。さらには、マイクロレンズ基板を多数製造した際の各マイクロレンズ基板間での樹脂層７の厚さのばらつきを抑制することも容易となる。
【００５３】
このような効果をより効果的に得る観点からは、マイクロレンズ基板は、以下のような事項を満足することが好ましい。
【００５４】
擬似凹部形成領域９８の面積は、マイクロレンズ基板の面積（図１に示すような平面視での面積、以下同じ）の１〜５０％程度を占めることが好ましく、５〜４０％程度を占めることがより好ましい。擬似凹部形成領域９８の面積をこの範囲内とすることにより、その機能を有効に発揮できるようにマイクロレンズ８および機能性部位を設置しつつ、熱膨張時の内部応力を好適に緩和できるようになる。
【００５５】
厚み保持領域９７の面積は、マイクロレンズ基板の面積の１〜４０％程度を占めることが好ましく、５〜３０％程度を占めることがより好ましい。厚み保持領域９７の面積が小さすぎると、機能性部位をその機能が十分に発揮できるように設置しにくくなる場合がある。一方、厚み保持領域９７の面積が大きすぎると、その分擬似凹部形成領域９８の面積が小さくなり、マイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を十分に防止できなくなるおそれがある。
【００５６】
厚み保持領域９７の面積をＡ1、擬似凹部形成領域９８の面積をＡ2としたとき、Ａ1／Ａ2は、０．０５〜１０程度であることが好ましく、０．２〜７程度であることがより好ましい。これにより、マイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を十分に防止しつつ、機能性部位の機能を有効に発揮させることができるようになる。
【００５７】
また、有効レンズ領域９９の面積をＡ3としたとき、Ａ2／Ａ3は、０．０５〜１０程度であることが好ましく、０．１〜５程度であることがより好ましい。Ａ2／Ａ3がこの範囲の下限値未満であると、マイクロレンズ基板は、熱膨張による内部応力を十分に緩和できなくなる可能性がある。一方、Ａ2／Ａ3がこの範囲の上限値を超えると、機能性部位の機能を有効に発揮させることができなくなる場合がある。
【００５８】
また、有効レンズ領域９９の縁部からマイクロレンズ基板の縁部までの長さをＬ1、有効レンズ領域９９の縁部から擬似凹部形成領域９８の縁部までの長さをＬ2としたとき、Ｌ2／Ｌ1は、０．１〜０．９程度であることが好ましく、０．２〜０．７程度であることがより好ましい。これにより、マイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を十分に防止しつつ、機能性部位の機能を有効に発揮させることができるようになる。
【００５９】
なお、擬似凹部の深さは、凹部３の深さよりも深くすることも浅くすることも可能であるが、前述したような効果をさらに有効に得る観点からは、凹部３の最大深さをＤ1、擬似凹部の最大深さをＤ2としたとき、マイクロレンズ基板は、０．５≦Ｄ2／Ｄ1≦２なる関係を満足することが好ましく、０．７５≦Ｄ2／Ｄ1≦１．５なる関係を満足することがより好ましい。これにより、マイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を、より好適に抑制することができる。
【００６０】
また、擬似凹部を設ける際の配設密度は、凹部３の配設密度よりも高くすることも低くすることも可能であるが、前述したような効果をさらに有効に得る観点からは、有効レンズ領域９９内における凹部３の単位面積あたりの数をＮ1、擬似凹部形成領域９８内における擬似凹部の単位面積あたりの数をＮ2としたとき、マイクロレンズ基板は、０．１≦Ｎ2／Ｎ1≦１０なる関係を満足することが好ましく、０．２≦Ｎ2／Ｎ1≦５なる関係を満足することがより好ましい。これにより、マイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を、より好適に抑制することができる。
【００６１】
マイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を防止する効果は、樹脂層７を構成する材料の熱膨張係数（膨張率）が１×１０-6／℃以上、特に、５×１０-6／℃以上のときに、より顕著に発揮される。
【００６２】
また、かかる効果は、樹脂層７を構成する材料の熱膨張係数が、ガラス基板を構成する材料の熱膨張係数よりも２倍以上、特に、１０倍以上大きいときに、より顕著に発揮される。
【００６３】
擬似凹部および機能性部位は、例えば、図２〜６、１０、１１に示すように設けることができる。以下、各図面ごとに説明する。
【００６４】
図２に示すように、マイクロレンズ基板１Ａでは、凹部３とほぼ相似形状でかつ凹部３よりも小さい擬似凹部４１が、凹部３よりも高い配設密度で設けられていることを特徴とする。
【００６５】
このようなマイクロレンズ基板１Ａでは、擬似凹部形成領域９８と厚み保持領域９７との境界部付近において、両領域における樹脂層７の平均厚さの相違を小さくすることができる。このため、かかる境界部付近においてもマイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を有効に防止できるようになる。さらには、マイクロレンズ基板１Ａでは、ガラス基板５の表面積の増大により、樹脂層７とガラス基板５の密着力が特に向上し（アンカー効果）、ガラス層６のガラス基板５に対する密着力が特に向上する。
【００６６】
図３に示すように、マイクロレンズ基板１Ｂでは、凹部３とほぼ同形状の擬似凹部４２が設けられていることを特徴とする。かかる擬似凹部４２の配設密度は、有効レンズ領域９９の近傍からマイクロレンズ基板１Ｂの縁部に向かって漸減する傾向を有している。すなわち、マイクロレンズ基板１Ｂでは、擬似凹部形成領域９８における擬似凹部４２の局所的な単位面積あたりの数を△Ｎとしたとき、かかる△Ｎは、有効レンズ領域９９の近傍からマイクロレンズ基板１Ｂの縁部に向かって漸減する傾向を有している。
【００６７】
図４に示すように、マイクロレンズ基板１Ｃでは、凹部３とほぼ相似形状でかつ凹部３よりも小さい擬似凹部４３が設けられていることを特徴とする。かかる擬似凹部４３の配設密度は、有効レンズ領域９９の近傍からマイクロレンズ基板１Ｃの縁部に向かって漸減する傾向を有している。すなわち、マイクロレンズ基板１Ｃでは、擬似凹部形成領域９８における擬似凹部４３の局所的な単位面積あたりの数を△Ｎとしたとき、かかる△Ｎは、有効レンズ領域９９の近傍からマイクロレンズ基板１Ｃの縁部に向かって漸減する傾向を有している。
【００６８】
なお、マイクロレンズ基板１Ｂおよび１Ｃでは、有効レンズ領域９９の近傍から擬似凹部形成領域９８の縁部まで△Ｎが漸減する傾向を有しているが、マイクロレンズ基板には、擬似凹部形成領域９８内に、△Ｎが漸減する傾向を有する部位を部分的に設けてもよい。
【００６９】
このような△Ｎが漸減する傾向を有する部位を設けると、有効レンズ領域９９の近傍から擬似凹部形成領域９８の縁部に向けて、樹脂層７の厚さの相違による基板の応力を、連続的に緩和することができるようになる。しかも、これにより、擬似凹部形成領域９８と厚み保持領域９７との境界部付近で擬似凹部の配設密度を小さくすることができる。このため、両者の境界部付近において、擬似凹部形成領域９８と厚み保持領域９７とにおける樹脂層７の平均厚さの相違を小さくすることができ、かかる境界部付近においてもマイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を有効に防止できるようになる。
【００７０】
図５に示すように、マイクロレンズ基板１Ｄでは、凹部３’は、その縁部近傍よりも底部近傍において曲率半径が大きくなっている（より平坦に近い）。したがって、かかる凹部３’に充填される樹脂により形成されるマイクロレンズ８’では、レンズの中心部分（凹部３’の底部付近に対応）の方が、縁部近傍よりも、曲率半径が大きくなっている。
【００７１】
このようなマイクロレンズ基板１Ｄでは、マイクロレンズ８’による入射光の集光度合いが緩和され、光が集光された部分に生じうる局所的な発熱が、好適に抑制されるようになる。このため、マイクロレンズ基板１Ｄを例えば後述する液晶パネル１７等の構成部材として用いると、液晶パネル１７の構成部材に生じうる局所的な焼き付け等が好適に防止され、液晶パネル１７の寿命が延びる。
【００７２】
また、擬似凹部４４の形状は、凹部３’の形状とは異なるものとなっており、略半球状をなしている。擬似凹部４４の形状を半球に近い形状とすることにより、高いアンカー効果が得られるようになる。
【００７３】
図１０に示すように、マイクロレンズ基板１Ｆでは、底部が平坦な擬似凹部４６が設けられており、かかる底部の平坦な領域が擬似凹部形成領域９８のほぼ全域を占めていることを特徴とする。
【００７４】
なお、擬似凹部４６は、例えば、有効レンズ領域９９の近傍からマイクロレンズ基板の縁部に向かってガラス基板５の厚さが漸増するようなテーパ状をなしていてもよい。
【００７５】
図１１に示すように、マイクロレンズ基板１Ｇでは、底部が平坦な擬似凹部４７１と、凹部３とほぼ相似形状でかつ凹部３よりも小さい擬似凹部４７２とが設けられていることを特徴とする。擬似凹部４７１は、単独で有効レンズ領域９９の外周を囲んでいる。また、擬似凹部４７２は、かかる擬似凹部４７１の外周を囲うように配設されている。かかる擬似凹部４７２の配設密度は、凹部３の配設密度よりも高い。
【００７６】
マイクロレンズ基板１Ｇのように、複数種類の擬似凹部を有しており、一方の擬似凹部（例えば有効レンズ領域９９近傍に形成された擬似凹部４７１）と他方の擬似凹部（例えば厚み保持領域９７側に形成された擬似凹部４７２）とで、その形状、大きさまたは配設パターンが異なっていると、有効レンズ領域９９の近傍から擬似凹部形成領域９８の縁部に向けて、樹脂層７の厚さの相違による基板の応力を、多段的に緩和することができるようになる。このため、有効レンズ領域９９と擬似凹部形成領域９８との境界部付近においても、擬似凹部形成領域９８と厚み保持領域９７との境界部付近においても、領域が変わることにより樹脂層７の平均厚さが大きく変化することを防止することができる。このため、これら境界部付近においてもマイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を有効に防止できるようになる。
【００７７】
なお、有効レンズ領域９７近傍の擬似凹部の大きさを凹部３の大きさとほぼ同じとし、マイクロレンズ基板の縁部側に位置する擬似凹部の大きさを凹部３の大きさよりも小さくすることにより、マイクロレンズ基板に複数種類の擬似凹部を設けてもよい。
【００７８】
これらマイクロレンズ基板１Ａ、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ、１Ｆおよび１Ｇでは、ガラス層６のガラス基板５と反対側に、アライメントマーク２１が設けられている。かかるアライメントマーク２１は、例えば、図１に示すように、厚み保持領域９７内であるマイクロレンズ基板の四隅（４つの各角部の近傍）に、それぞれ設けられている。アライメントマーク２１をマイクロレンズ基板の少なくとも四隅に設けることにより、位置合わせをより確実に行うことができるようになる。
【００７９】
なお、アライメントマーク２１の設置数は、これより少なくてもよく、また、設置位置も隅、すなわち、角部近傍でなくてもよい。ただし、マイクロレンズ基板では、アライメントマーク２１を少なくとも２個設け、これらを少なくとも２個角部近傍に設置することが好ましい。これにより、好適に位置合わせを行えるようになる。
【００８０】
図６に示すように、マイクロレンズ基板１Ｅでは、凹部３とほぼ同形状の擬似凹部４５が設けられていることを特徴とする。かかる擬似凹部４５の配設密度は、有効レンズ領域９９の近傍からマイクロレンズ基板１Ｅの縁部に向かって漸減する傾向を有している。また、マイクロレンズ基板１Ｅの四隅には、例えば柱状のスペーサー２６が設けられている。
【００８１】
このように、マイクロレンズ基板の少なくとも四隅にスペーサー２６を設けると、マイクロレンズ基板全体にわたって、ガラス基板５とガラス層６との距離をより均一なものとすることができる。なお、スペーサー２６の設置数はこれより少ないものであってもよい。
【００８２】
なお、図示の例ではスペーサー２６をガラス基板５と別体として設けているが、スペーサー２６は、ガラス基板５またはガラス層６と一体として設けられていてもよい。
【００８３】
以下、マイクロレンズ基板の代表としてマイクロレンズ基板１Ａ（または１Ｂ）を用いて説明するが、原則的に、他の実施の形態のマイクロレンズ基板でも、同様のことが言える。
【００８４】
マイクロレンズ基板１Ａが液晶パネルに用いられ、かかる液晶パネルがガラス基板５以外のガラス基板（例えば後述するガラス基板１７１等）を有する場合には、ガラス基板５やガラス層６の熱膨張係数は、かかる液晶パネルが有する他のガラス基板の熱膨張係数とほぼ等しいものであることが好ましい。このように、ガラス基板５やガラス層６の熱膨張係数と液晶パネルが有する他のガラス基板の熱膨張係数とをほぼ等しいものとすると、得られる液晶パネルでは、温度が変化したときに二者の熱膨張係数が違うことにより生じるそり、たわみ、剥離等が防止される。
【００８５】
かかる観点からは、ガラス基板５やガラス層６と、液晶パネルが有する他のガラス基板とは、同じ材質で構成されていることが好ましい。これにより、温度変化時の熱膨張係数の相違によるそり、たわみ、剥離等が効果的に防止される。
【００８６】
特に、マイクロレンズ基板１Ａを高温ポリシリコンのＴＦＴ液晶パネルに用いる場合には、ガラス基板５およびガラス層６は、石英ガラスで構成されていることが好ましい。ＴＦＴ液晶パネルは、液晶駆動基板としてＴＦＴ基板を有している。かかるＴＦＴ基板には、製造時の環境により特性が変化しにくい石英ガラスが好ましく用いられる。このため、これに対応させて、ガラス基板５およびガラス層６を石英ガラスで構成することにより、そり、たわみ等の生じにくい、安定性に優れたＴＦＴ液晶パネルを得ることができる。
【００８７】
樹脂層７は、例えば、ガラス基板５の屈折率よりも高い屈折率の樹脂（接着剤）などで構成されていることが好ましい。
【００８８】
ガラス基板５の厚さは、ガラス基板５を構成する材料、屈折率等の種々の条件により異なるが、通常、０．３〜５mm程度とされ、より好ましくは０．５〜２mm程度とされる。なお、液晶パネルが、光をガラス層６側から入射する構成の場合（換言すれば、ガラス基板５上にブラックマトリックスや透明導電膜を形成し、かかるガラス基板５と後述するＴＦＴ基板１７（ガラス基板１７１）とが対向するように液晶パネルを構成する場合）には、ガラス基板５の厚さは、好ましくは１０〜１０００μｍ程度とされ、より好ましくは２０〜１５０μｍ程度とされる。
【００８９】
ガラス層６の厚さは、マイクロレンズ基板１Ａが液晶パネルに用いられる場合、必要な光学特性を得る観点からは、通常、１０〜１０００μｍ程度とされ、より好ましくは２０〜１５０μｍ程度とされる。なお、液晶パネルが、光をガラス層６側から入射する構成の場合には、ガラス層６の厚さは、好ましくは０．３〜５mm程度とされ、より好ましくは０．５〜２mm程度とされる。
【００９０】
樹脂層７の厚さ（ガラス基板５が本来の厚みを有しているところ）は、０．１〜１００μｍ程度が好ましく、１〜２０μｍ程度がより好ましい。
【００９１】
このようなマイクロレンズ基板１Ａは、例えば以下のようにして製造することができる。以下に示す方法は、擬似凹部４１を、凹部３の形成と同時に形成することを特徴とする。
【００９２】
▲１▼まず、用意した未加工のガラス基板５の表面にマスク層を形成する。このとき、ガラス基板５の裏面に、ガラス基板５の裏面を保護する層を設けてもよい。マスク層および裏面を保護する層は、例えば、ＣＶＤ法等により、ガラス基板５上にポリシリコン等の層を形成することにより設けることができる。
【００９３】
▲２▼次に、前記マスク層に凹部３および擬似凹部４１に対応した形状、パターンの開口を形成する。これは、例えば、マスク層上に、開口に対応するパターンのレジスト層を形成し、次いで、エッチング（例えばＣＦガス等によるドライエッチング）を行ない、次いで、前記レジスト層を除去することにより行うことができる。
【００９４】
▲３▼次に、ガラス基板５に、凹部３および擬似凹部４１を形成する。これは、例えばフッ酸系エッチング液等によるウエットエッチングなどにより行なうことができる。
【００９５】
▲４▼次に、前記マスク層を除去する。これは、例えばアルカリ水溶液等によるウエットエッチングなどにより行なうことができる。また、このとき、前記裏面を保護する層も除去することができる。
【００９６】
▲５▼次に、ガラス層６を、樹脂を介して、ガラス基板５の凹部３が形成された面に接合する。
【００９７】
▲６▼次に、必要に応じて、ガラス層６の厚さを例えば研削、研磨等により調整する。
【００９８】
▲７▼次に、アライメントマーク２１を形成する。これは、例えばマスクスパッタリング法等の気相成膜法などにより、金属等（例えば後述するブラックマトリックスと同様のものなど）で構成された薄膜を、ガラス層６上に局所的に成膜することにより、行うことができる。
【００９９】
これにより、マイクロレンズ基板１Ａが得られる。
【０１００】
なお、アライメントマーク２１は、後述するブラックマトリックスをガラス層６上に形成する際に、同時に形成してもよい。
【０１０１】
なお、マイクロレンズ基板１Ｅは、凹部３および擬似凹部４５を形成後ガラス層６の接合前（例えば前記工程▲４▼と▲５▼の間）に、スペーサー２６をガラス基板５上に設置することにより、前記と同様に製造することができる。
【０１０２】
なお、マイクロレンズ基板１Ｆ、１Ｇの擬似凹部４６、４７１は、研削によって形成することもできる。
【０１０３】
このようにマイクロレンズ基板１Ａを製造すると、擬似凹部４１は、凹部３の形成と同時に形成されるので、工程数を特段に増やさずに、擬似凹部４１を形成することができる。
【０１０４】
また、厚み保持領域９７は、前記工程▲３▼にてエッチングにより食刻されない部分である。マイクロレンズ基板１Ａは、このような食刻されない部分を有しているため、マイクロレンズ基板１Ａを製造する際にはエッチング液の使用量が比較的抑制される。このため、マイクロレンズ基板１Ａを連続して多数製造するときに、エッチングレートの低下を抑制し、エッチング液の寿命を長くすることができる。
【０１０５】
マイクロレンズ基板１Ｂ、１Ｃおよび１Ｅのように、擬似凹部４２、４３および４５の配設密度がマイクロレンズ基板１Ｂ、１Ｃおよび１Ｅの縁部に向かって漸減する傾向を有していると、マイクロレンズ基板１Ｂ、１Ｃおよび１Ｅの縁部近傍では、擬似凹部４２、４３および４５同士の間隔が大きくなる。このため、マイクロレンズ基板１Ｂ、１Ｃおよび１Ｅでは、擬似凹部４２、４３および４５の直径等を、非常に正確かつ容易に測定できるようになる。
【０１０６】
ところで、マイクロレンズ基板１Ｂ、１Ｃおよび１Ｅを連続して多数製造するときに、同一のエッチング液を使用し続けて凹部３および擬似凹部４２、４３および４５を形成すると（前記工程▲３▼参照）、エッチング液が徐々に劣化する。このため、エッチングレートが徐々に低下し、所定の大きさの凹部３および擬似凹部４２、４３および４５を形成するためのエッチング時間が、徐々に変化する。このとき、マイクロレンズ基板１Ｂ、１Ｃおよび１Ｅのように、擬似凹部４２、４３および４５の直径等を正確に測定することができると、次のバッチ（新たなマイクロレンズ基板１Ｂ、１Ｃおよび１Ｅを製造する際の凹部３および擬似凹部４２、４３および４５を形成する工程（前記工程▲３▼参照））におけるエッチング時間を正確に決めることが可能となる。
【０１０７】
また、マイクロレンズ基板１Ｂ、１Ｃおよび１Ｅのように、擬似凹部４２、４３および４５の配設密度が比較的小さい部分を有していると、凹部３および擬似凹部４２、４３および４５を形成する工程（前記工程▲３▼参照）において、使用するエッチング液の劣化の度合いがより小さくなる。
【０１０８】
なお、前述したマイクロレンズ基板では、擬似凹部形成領域９８は、有効レンズ領域９９を囲むような構成としたが、このような構成にしなくてもよい。例えば、擬似凹部形成領域９８を有効レンズ領域９９の角部近傍に設けなくてもよい（角部近傍を除く箇所に設けてもよい）。
【０１０９】
同様に、前述したマイクロレンズ基板では、厚み保持領域９７は、擬似凹部形成領域９８を囲むような構成としたが、このような構成にしなくてもよい。例えば、擬似凹部形成領域９８は、マイクロレンズ基板の縁部まで形成されていてもよい。また例えば、図７に示すように、厚み保持領域９７は、マイクロレンズ基板の角部近傍にのみ設けてもよい。
【０１１０】
なお、前述したマイクロレンズ基板では、アライメントマーク２１をガラス層６の樹脂層７と反対側に設けたが、アライメントマークは、樹脂層７側に設けてもよい。さらには、アライメントマークは、ガラス基板５上（表面または裏面）に設けてもよい。特に、ガラス基板５上にアライメントマークを設けると、後述するブラックマトリックス１１の開口１１１を形成する際の位置決めが容易となる。
【０１１１】
なお、前述したマイクロレンズ基板では、スペーサー２６をガラス基板５上にガラス層６に当接するように設けたが、ガラス基板５のガラス層６と反対側に設けてもよい。また、例えば、スペーサーをガラス層６の樹脂層７と反対側に設けてもよい。これにより、例えば後述するＴＦＴ基板１７とマイクロレンズ基板との距離を規定することができる。
【０１１２】
さらには、機能性部位は、前述したような光学的な機能、物理的な機能以外にも、例えば、マイクロレンズ基板に電気的な機能、磁気的な機能などを付加するものであってもよい。
【０１１３】
また、機能性部位は、前述では、マイクロレンズ基板上に設けられていたが、マイクロレンズ基板以外の部材、例えば後述するＴＦＴ基板側アライメントマーク１７５のように、ＴＦＴ基板１７上に設けられていてもよい。
【０１１４】
本発明のマイクロレンズ基板は、以下に述べる液晶パネル用対向基板および液晶パネル以外にも、ＣＣＤ用マイクロレンズ基板、光通信素子用マイクロレンズ基板等の各種基板、各種用途に用いることができることは言うまでもない。
【０１１５】
前述したマイクロレンズ基板のガラス層６上に、例えば、開口１１１を有するブラックマトリックス１１を形成し、次いで、かかるブラックマトリックス１１を覆うように透明導電膜１２を形成することにより、液晶パネル用対向基板１０を製造することができる（図８参照）。
【０１１６】
ブラックマトリックス１１は、遮光機能を有し、例えば、Cr、Al、Al合金、Ni、Zn、Ti等の金属、カーボンやチタン等を分散した樹脂などで構成されている。
【０１１７】
透明導電膜１２は、導電性を有し、例えば、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムオキサイド（ＩＯ）、酸化スズ（SnO2）などで構成されている。
【０１１８】
ブラックマトリックス１１は、例えば、気相成膜法（例えば蒸着、スパッタリング等）によりガラス層６上にブラックマトリックス１１となる薄膜を成膜し、次いで、かかる薄膜上に開口１１１のパターンを有するレジスト膜を形成し、次いで、ウエットエッチングを行い前記薄膜に開口１１１を形成し、次いで、前記レジスト膜を除去することにより設けることができる。なお、あらかじめ、開口１１１のパターンとともに、レジスト膜にアライメントマーク２１のパターンをも形成することにより、開口１１１の形成と同時にアライメントマーク２１を形成することもできる。
【０１１９】
また、透明導電膜１２は、例えば、蒸着、スパッタリング等の気相成膜法などにより設けることができる。
【０１２０】
なお、ブラックマトリックス１１は、設けなくてもよい。
【０１２１】
以下、このような液晶パネル用対向基板を用いた液晶パネル（液晶光シャッター）について、図８に基づいて説明する。
【０１２２】
同図に示すように、本発明の液晶パネル（ＴＦＴ液晶パネル）１６は、ＴＦＴ基板（液晶駆動基板）１７と、ＴＦＴ基板１７に接合された液晶パネル用対向基板１０と、ＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向基板１０との空隙に封入された液晶よりなる液晶層１８とを有している。
【０１２３】
液晶パネル用対向基板１０は、マイクロレンズ基板１Ｂと、かかるマイクロレンズ基板１Ｂのガラス層６上に設けられ、開口１１１が形成されたブラックマトリックス１１と、ガラス層６上にブラックマトリックス１１を覆うように設けられた透明導電膜（共通電極）１２とを有している。
【０１２４】
ＴＦＴ基板１７は、液晶層１８の液晶を駆動するための基板であり、ガラス基板１７１と、かかるガラス基板１７１上に設けられ、マトリックス状（行列状）に配設された複数（多数）の画素電極１７２と、かかる画素電極１７２の近傍に設けられ、各画素電極１７２に対応する複数（多数）の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１７３と、位置合わせの指標となるＴＦＴ基板側アライメントマーク１７５とを有している。なお、図では、シール材、配向膜、配線などの記載は省略した。
【０１２５】
この液晶パネル１６では、液晶パネル用対向基板１０の透明導電膜１２と、ＴＦＴ基板１７の画素電極１７２とが対向するように、ＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向基板１０とが、一定距離離間して接合されている。
【０１２６】
ガラス基板１７１は、前述したような理由から、石英ガラスで構成されていることが好ましい。
【０１２７】
画素電極１７２は、透明導電膜（共通電極）１２との間で充放電を行うことにより、液晶層１８の液晶を駆動する。この画素電極１７２は、例えば、前述した透明導電膜１２と同様の材料で構成されている。
【０１２８】
薄膜トランジスタ１７３は、近傍の対応する画素電極１７２に接続されている。また、薄膜トランジスタ１７３は、図示しない制御回路に接続され、画素電極１７２へ供給する電流を制御する。これにより、画素電極１７２の充放電が制御される。
【０１２９】
液晶層１８は液晶分子（図示せず）を含有しており、画素電極１７２の充放電に対応して、かかる液晶分子、すなわち液晶の配向が変化する。
【０１３０】
この液晶パネル１６では、通常、１個のマイクロレンズ８と、かかるマイクロレンズ８の光軸Ｑに対応したブラックマトリックス１１の１個の開口１１１と、１個の画素電極１７２と、かかる画素電極１７２に接続された１個の薄膜トランジスタ１７３とが、１画素に対応している。
【０１３１】
なお、非有効レンズ領域１００に設けられた擬似凹部４１および凸部７１は、画素に対応させる必要はない。これは、擬似凹部４１および凸部７１は、通常、マイクロレンズとして使用されないからである。
【０１３２】
液晶パネル用対向基板１０側から入射した入射光Ｌは、ガラス基板５を通り、マイクロレンズ８を通過する際に集光されつつ、樹脂層７、ガラス層６、ブラックマトリックス１１の開口１１１、透明導電膜１２、液晶層１８、画素電極１７２、ガラス基板１７１を透過する。なお、このとき、マイクロレンズ基板１Ｂの入射側には通常偏光板（図示せず）が配置されているので、入射光Ｌが液晶層１８を透過する際に、入射光Ｌは直線偏光となっている。その際、この入射光Ｌの偏光方向は、液晶層１８の液晶分子の配向状態に対応して制御される。したがって、液晶パネル１６を透過した入射光Ｌを、偏光板（図示せず）に透過させることにより、出射光の輝度を制御することができる。
【０１３３】
このように、液晶パネル１６は、マイクロレンズ８を有しており、しかも、マイクロレンズ８を通過した入射光Ｌは、集光されてブラックマトリックス１１の開口１１１を通過する。一方、ブラックマトリックス１１の開口１１１が形成されていない部分では、入射光Ｌは遮光される。したがって、液晶パネル１６では、画素以外の部分から不要光が漏洩することが防止され、かつ、画素部分での入射光Ｌの減衰が抑制される。このため、液晶パネル１６は、画素部で高い光の透過率を有し、比較的少ない光量で明るく鮮明な画像を形成することができる。
【０１３４】
この液晶パネル１６は、例えば、公知の方法により製造されたＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向基板１０とを配向処理した後、シール材（図示せず）を介して両者を接合し、次いで、これにより形成された空隙部の封入孔（図示せず）より液晶を空隙部内に注入し、次いで、かかる封入孔を塞ぐことにより製造することができる。その後、必要に応じて、液晶パネル１６の入射側や出射側に偏光板を貼り付けてもよい。
【０１３５】
このとき、アライメントマーク２１とＴＦＴ基板側アライメントマーク１７５とを用いることにより、液晶パネル用対向基板１０とＴＦＴ基板１７とを好適に位置合わせして接合することができる。すなわち、例えば、アライメントマーク２１とＴＦＴ基板側アライメントマーク１７５とが一定の間隔となるように、液晶パネル用対向基板１０とＴＦＴ基板１７とを接合することにより、液晶パネル用対向基板１０の画素（マイクロレンズ８、ブラックマトリックス１１の開口１１１）とＴＦＴ基板１７の画素（画素電極１７２）との位置合わせが好適になされた液晶パネル１６が得られる。
【０１３６】
なお、上記液晶パネル１６では、液晶駆動基板としてＴＦＴ基板を用いたが、液晶駆動基板にＴＦＴ基板以外の他の液晶駆動基板、例えば、ＴＦＤ基板、ＳＴＮ基板などを用いてもよい。
【０１３７】
以下、上記液晶パネル１６を用いた投射型表示装置（液晶プロジェクター）について説明する。
【０１３８】
図９は、本発明の投射型表示装置の光学系を模式的に示す図である。
【０１３９】
同図に示すように、投射型表示装置３００は、光源３０１と、複数のインテグレータレンズを備えた照明光学系と、複数のダイクロイックミラー等を備えた色分離光学系（導光光学系）と、赤色に対応した（赤色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２４と、緑色に対応した（緑色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２５と、青色に対応した（青色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２６と、赤色光のみを反射するダイクロイックミラー面２１１および青色光のみを反射するダイクロイックミラー面２１２が形成されたダイクロイックプリズム（色合成光学系）２１と、投射レンズ（投射光学系）２２とを有している。
【０１４０】
また、照明光学系は、インテグレータレンズ３０２および３０３を有している。色分離光学系は、ミラー３０４、３０６、３０９、青色光および緑色光を反射する（赤色光のみを透過する）ダイクロイックミラー３０５、緑色光のみを反射するダイクロイックミラー３０７、青色光のみを反射するダイクロイックミラー（または青色光を反射するミラー）３０８、集光レンズ３１０、３１１、３１２、３１３および３１４とを有している。
【０１４１】
液晶ライトバルブ２５は、前述した液晶パネル１６と、液晶パネル１６の入射面側（マイクロレンズ基板が位置する面側、すなわちダイクロイックプリズム２１と反対側）に接合された第１の偏光板（図示せず）と、液晶パネル１６の出射面側（マイクロレンズ基板と対向する面側、すなわちダイクロイックプリズム２１側）に接合された第２の偏光板（図示せず）とを備えている。液晶ライトバルブ２４および２６も、液晶ライトバルブ２５と同様の構成となっている。これら液晶ライトバルブ２４、２５および２６が備えている液晶パネル１６は、図示しない駆動回路にそれぞれ接続されている。
【０１４２】
なお、投射型表示装置３００では、ダイクロイックプリズム２１と投射レンズ２２とで、光学ブロック２０が構成されている。また、この光学ブロック２０と、ダイクロイックプリズム２１に対して固定的に設置された液晶ライトバルブ２４、２５および２６とで、表示ユニット２３が構成されている。
【０１４３】
以下、投射型表示装置３００の作用を説明する。
【０１４４】
光源３０１から出射された白色光（白色光束）は、インテグレータレンズ３０２および３０３を透過する。この白色光の光強度（輝度分布）は、インテグレータレンズ３０２および３０３により均一にされる。
【０１４５】
インテグレータレンズ３０２および３０３を透過した白色光は、ミラー３０４で図９中左側に反射し、その反射光のうちの青色光（Ｂ）および緑色光（Ｇ）は、それぞれダイクロイックミラー３０５で図９中下側に反射し、赤色光（Ｒ）は、ダイクロイックミラー３０５を透過する。
【０１４６】
ダイクロイックミラー３０５を透過した赤色光は、ミラー３０６で図９中下側に反射し、その反射光は、集光レンズ３１０により整形され、赤色用の液晶ライトバルブ２４に入射する。
【０１４７】
ダイクロイックミラー３０５で反射した青色光および緑色光のうちの緑色光は、ダイクロイックミラー３０７で図９中左側に反射し、青色光は、ダイクロイックミラー３０７を透過する。
【０１４８】
ダイクロイックミラー３０７で反射した緑色光は、集光レンズ３１１により整形され、緑色用の液晶ライトバルブ２５に入射する。
【０１４９】
また、ダイクロイックミラー３０７を透過した青色光は、ダイクロイックミラー（またはミラー）３０８で図９中左側に反射し、その反射光は、ミラー３０９で図９中上側に反射する。前記青色光は、集光レンズ３１２、３１３および３１４により整形され、青色用の液晶ライトバルブ２６に入射する。
【０１５０】
このように、光源３０１から出射された白色光は、色分離光学系により、赤色、緑色および青色の三原色に色分離され、それぞれ、対応する液晶ライトバルブに導かれ、入射する。
【０１５１】
この際、液晶ライトバルブ２４が有する液晶パネル１６の各画素（薄膜トランジスタ１７３とこれに接続された画素電極１７２）は、赤色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路（駆動手段）により、スイッチング制御（オン／オフ）、すなわち変調される。
【０１５２】
同様に、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ２５および２６に入射し、それぞれの液晶パネル１６で変調され、これにより緑色用の画像および青色用の画像が形成される。この際、液晶ライトバルブ２５が有する液晶パネル１６の各画素は、緑色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御され、液晶ライトバルブ２６が有する液晶パネル１６の各画素は、青色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御される。
【０１５３】
これにより赤色光、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ２４、２５および２６で変調され、赤色用の画像、緑色用の画像および青色用の画像がそれぞれ形成される。
【０１５４】
前記液晶ライトバルブ２４により形成された赤色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２４からの赤色光は、面２１３からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１１で図９中左側に反射し、ダイクロイックミラー面２１２を透過して、出射面２１６から出射する。
【０１５５】
また、前記液晶ライトバルブ２５により形成された緑色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２５からの緑色光は、面２１４からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１１および２１２をそれぞれ透過して、出射面２１６から出射する。
【０１５６】
また、前記液晶ライトバルブ２６により形成された青色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２６からの青色光は、面２１５からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１２で図９中左側に反射し、ダイクロイックミラー面２１１を透過して、出射面２１６から出射する。
【０１５７】
このように、前記液晶ライトバルブ２４、２５および２６からの各色の光、すなわち液晶ライトバルブ２４、２５および２６により形成された各画像は、ダイクロイックプリズム２１により合成され、これによりカラーの画像が形成される。この画像は、投射レンズ２２により、所定の位置に設置されているスクリーン３２０上に投影（拡大投射）される。
【０１５８】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、そり、たわみ、剥離等の欠陥を防止し、マイクロレンズ基板を構成する各層の密着性が高いマイクロレンズ基板およびこれを備えた機器を提供することができる。しかも、それにとどまらず、本発明によれば、例えば位置合わせ機能が得られるアライメントマークや、厚み調整機能が得られるスペーサーのような機能性部位を、その機能が好適に発揮されるように、マイクロレンズ基板に設置することができる。これにより、マイクロレンズ基板に、レンズ機能に加えて新たな機能を、その機能が好適に発揮されるように付加することができる。
【０１５９】
さらには、本発明によれば、画像を好適に投射できる液晶パネルおよび投射型表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のマイクロレンズ基板の実施形態を説明するための模式的な平面図である。
【図２】本発明のマイクロレンズ基板の第１実施形態を示す模式的な図１中Ａ−Ａ線断面図である。
【図３】本発明のマイクロレンズ基板の第２実施形態を示す模式的な図１中Ａ−Ａ線断面図である。
【図４】本発明のマイクロレンズ基板の第３実施形態を示す模式的な図１中Ａ−Ａ線断面図である。
【図５】本発明のマイクロレンズ基板の第４実施形態を示す模式的な図１中Ａ−Ａ線断面図である。
【図６】本発明のマイクロレンズ基板の第５実施形態を示す模式的な図１中Ａ−Ａ線断面図である。
【図７】本発明のマイクロレンズ基板の他の実施形態を説明するための模式的な平面図である。
【図８】本発明の液晶パネルの実施例を示す模式的な縦断面図である。
【図９】本発明の実施例における投射型表示装置の光学系を模式的に示す図である。
【図１０】本発明のマイクロレンズ基板の第６実施形態を示す模式的な図１中Ａ−Ａ線断面図である。
【図１１】本発明のマイクロレンズ基板の第７実施形態を示す模式的な図１中Ａ−Ａ線断面図である。
【図１２】従来のマイクロレンズ基板を示す模式的な縦断面図である。
【符号の説明】
１Ａ、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ、１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ マイクロレンズ基板
９７ 厚み保持領域
９８ 擬似凹部形成領域
９９ 有効レンズ領域
１００ 非有効レンズ領域
２１ アライメントマーク
２６ スペーサー
３、３’ 凹部
４１、４２、４３、４４、４５、４６、４７１、４７２ 擬似凹部
５ ガラス基板
６ ガラス層
７ 樹脂層
７１、７２、７３、７４、７５、７６、７７１、７７２ 凸部
８、８’ マイクロレンズ
１０ 液晶パネル用対向基板
１１ ブラックマトリックス
１１１ 開口
１２ 透明導電膜
１６ 液晶パネル
１７ ＴＦＴ基板
１７１ ガラス基板
１７２ 画素電極
１７３ 薄膜トランジスタ
１７５ ＴＦＴ基板側アライメントマーク
１８ 液晶層
３００ 投射型表示装置
３０１ 光源
３０２、３０３ インテグレータレンズ
３０４、３０６、３０９ ミラー
３０５、３０７、３０８ ダイクロイックミラー
３１０〜３１４ 集光レンズ
３２０ スクリーン
２０ 光学ブロック
２１ ダイクロイックプリズム
２１１、２１２ ダイクロイックミラー面
２１３〜２１５ 面
２１６ 出射面
２２ 投射レンズ
２３ 表示ユニット
２４〜２６ 液晶ライトバルブ
９００ マイクロレンズ基板
９０２ ガラス基板
９０３ ガラス層
９０４ 樹脂層
９０６ 凹部
９０７ マイクロレンズ
９０８ 非有効レンズ領域
９０９ 有効レンズ領域
【発明の属する技術分野】
本発明は、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
スクリーン上に、画像を投影する投射型表示装置が知られている。このような投射型表示装置では、その画像形成に主として液晶パネル（液晶光シャッター）が用いられている。この液晶パネルは、例えば、液晶を駆動する液晶駆動基板と液晶パネル用対向基板とが、液晶層を介して接合された構成となっている。
【０００３】
このような構成の液晶パネルの中には、光の利用効率を高めるべく、液晶パネル用対向基板の各画素に対応する位置に多数の微小なマイクロレンズを設けたものが知られている。これにより、高い光の利用効率を有する液晶パネルが得られる。
【０００４】
図１２は、液晶パネル用対向基板に用いられるマイクロレンズ基板の従来の構造を示す模式的な縦断面図である。
【０００５】
同図に示すように、マイクロレンズ基板９００は、多数の凹部９０６が設けられたガラス基板９０２と、かかるガラス基板９０２の凹部９０６が設けられた面に樹脂層（接着剤層）９０４を介して接合されたガラス層９０３とを有しており、また、樹脂層９０４では、凹部９０６内に充填された樹脂によりマイクロレンズ９０７が形成されている。
【０００６】
このようなマイクロレンズ基板９００は、液晶パネルを製造する際に、通常、加熱工程を経る。
【０００７】
このとき加熱により、マイクロレンズ基板９００には、そり、たわみ等が生じる場合があった。また、極端な場合には、ガラス層９０３が、ガラス基板９０２から剥離することもあった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、そり、たわみ、剥離等の欠陥を防止できるマイクロレンズ基板、および、かかるマイクロレンズ基板を備えた液晶パネル用対向基板、液晶パネル、さらには、投射型表示装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
このような目的は、下記（１）〜（１５）の発明により達成される。
【００１０】
（１） 複数の凹部が設けられた第一基板と、該第一基板に樹脂層を介して接合された第二基板とを有し、前記凹部内に充填された樹脂によりマイクロレンズが構成されたマイクロレンズ基板であって、
有効レンズ領域の外側に、マイクロレンズとして使用されず、かつ、形状、大きさまたは配設パターンのうちの少なくとも一つが前記凹部と異なる擬似凹部が形成された領域を有することを特徴とするマイクロレンズ基板。
【００１１】
（２） 前記擬似凹部が形成された領域は、前記有効レンズ領域の全周にわたって設けられている上記（１）に記載のマイクロレンズ基板。
【００１２】
（３） 前記擬似凹部が形成された領域の外側に、前記第一基板の本来の厚みが保持された領域を有する上記（１）または（２）に記載のマイクロレンズ基板。
【００１３】
（４） 前記第一基板の本来の厚みが保持された領域は、前記擬似凹部が形成された領域の全周にわたって設けられている上記（３）に記載のマイクロレンズ基板。
【００１８】
（５） 前記第一基板の本来の厚みが保持された領域の面積は、マイクロレンズ基板の面積の１〜４０％を占める上記（３）または（４）に記載のマイクロレンズ基板。
【００１９】
（６） 前記第一基板の本来の厚みが保持された領域の面積をＡ1、前記擬似凹部が形成された領域の面積をＡ2としたとき、Ａ1／Ａ2は、０．０５〜１０である上記（３）ないし（５）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板。
【００２０】
（７） 前記擬似凹部が形成された領域の面積は、マイクロレンズ基板の面積の１〜５０％を占める上記（１）ないし（６）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板。
【００２１】
（８） 前記凹部の最大深さをＤ1、前記擬似凹部の最大深さをＤ2としたとき、０．５≦Ｄ2／Ｄ1≦２なる関係を満足する上記（１）ないし（７）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板。
【００２２】
（９） 前記有効レンズ領域内における前記凹部の単位面積あたりの数をＮ1、前記擬似凹部が形成された領域内における前記擬似凹部の単位面積あたりの数をＮ2としたとき、０．１≦Ｎ2／Ｎ1≦１０なる関係を満足する上記（１）ないし（８）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板。
【００２３】
（１０） 前記擬似凹部が形成された領域内における前記擬似凹部の局所的な単位面積あたりの数をΔＮとしたとき、該ΔＮがマイクロレンズ基板の縁部に向かって漸減する傾向を有する部位を有する上記（１）ないし（９）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板。
【００２４】
（１１） 上記（１）ないし（１０）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板と、前記第一基板上および／または前記第二基板上に設けられた透明導電膜とを有することを特徴とする液晶パネル用対向基板。
【００２５】
（１２） 上記（１）ないし（１０）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板と、前記第一基板上および／または前記第二基板上に設けられたブラックマトリックスと、該ブラックマトリックスを覆う透明導電膜とを有することを特徴とする液晶パネル用対向基板。
【００２６】
（１３） 上記（１１）または（１２）に記載の液晶パネル用対向基板を備えたことを特徴とする液晶パネル。
【００２７】
（１４） 画素電極を備えた液晶駆動基板と、該液晶駆動基板に接合された上記（１１）または（１２）に記載の液晶パネル用対向基板と、前記液晶駆動基板と前記液晶パネル用対向基板との空隙に封入された液晶とを有することを特徴とする液晶パネル。
【００２８】
（１５） 上記（１３）または（１４）に記載の液晶パネルを備えたライトバルブを有し、該ライトバルブを少なくとも１個用いて画像を投射することを特徴とする投射型表示装置。
【００３３】
【発明の実施の形態】
本発明におけるマイクロレンズ基板には、個別基板およびウエハーの双方を含むものとする。
【００３４】
本発明者は、前述したマイクロレンズ基板９００に生じるそり、たわみ、剥離等の欠陥の原因を調査、研究した結果、かかる原因は、有効レンズ領域９０９における樹脂層９０４の厚さと、非有効レンズ領域９０８における樹脂層９０４の厚さとが大きく異なっていることに起因することを突き止めた。詳しくは、以下のように説明できる。
【００３５】
すなわち、マイクロレンズ基板９００では、有効レンズ領域９０９には多数の凹部９０６が形成されているのに対し、非有効レンズ領域９０８ではガラス基板９０２の本来の厚さが保持されている。このため、マイクロレンズ基板９００では、有効レンズ領域９０９における樹脂層９０４の厚さと、非有効レンズ領域９０８における樹脂層９０４の厚さとが大きく異なったものとなっている。
【００３６】
しかも、マイクロレンズ基板９００では、ガラス基板９０２と樹脂層９０４とは、異なる材料で構成されている。両者の材料が異なるので、両者の熱膨張係数も異なったものとなる（通常、ガラス基板９０２を構成する材料よりも樹脂層９０４を構成する材料の方がはるかに熱膨張係数が大きい。）。このため、マイクロレンズ基板９００が加熱等により温度上昇したときに、有効レンズ領域９０９と非有効レンズ領域９０８とでは、樹脂層９０４の熱膨張の度合いが大きく異なる。これが結果として、マイクロレンズ基板９００のそり、たわみ、剥離等の欠陥となって現われる。
【００３７】
本発明は、かかる知見に基づくものである。すなわち本発明は、有効レンズ領域と非有効レンズ領域とにおいて、樹脂層の厚さが相違することによって生じる熱膨張の度合いの差を緩和することにより、上記問題を解決するものである。以下、本発明を、添付図面に示す好適な実施の形態に基づき、詳細に説明する。
【００３８】
図１は、本発明のマイクロレンズ基板の実施形態を説明するための模式的な平面図である。図２〜６は、本発明のマイクロレンズ基板の、各実施の形態を示す模式的な図１中Ａ−Ａ線断面図である。
【００３９】
これらの図に示すように、本発明のマイクロレンズ基板１Ａ、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ、１Ｅ、１Ｆおよび１Ｇは、凹曲面を有する複数（多数）の凹部（マイクロレンズ用凹部）３と擬似凹部４１〜４６、４７１、４７２とが形成されたガラス基板（第一基板）５と、かかるガラス基板５の凹部３が設けられた面に中間層として樹脂層（接着剤層）７を介して接合されたガラス層（第二基板）６と、マイクロレンズ基板に所定の機能を付加する機能性部位とを有しており、また、樹脂層７では、凹部３内に充填された樹脂によりマイクロレンズ８が形成されている。
【００４０】
図１に示すように、マイクロレンズ基板１Ａ（他の実施の形態のマイクロレンズ基板も同様）は、例えばほぼ長方形（四角形）をなしている。その中央部には、ほぼ長方形（四角形）の有効レンズ領域９９が形成されている。この有効レンズ領域９９の外側には、全周にわたって、擬似凹部形成領域９８が形成されている。さらに、この擬似凹部形成領域９８の外側、すなわち、マイクロレンズ基板１Ａの縁部には、全周にわたって、厚み保持領域９７が形成されている。換言すれば、マイクロレンズ基板１Ａでは、マイクロレンズ基板１Ａの中央部に位置する有効レンズ領域９９の外周を擬似凹部形成領域９８が囲み、さらにこの擬似凹部形成領域９８の外周を厚み保持領域９７が囲むような構成となっている。
【００４１】
ここで、有効レンズ領域９９とは、凹部３に充填される樹脂により形成されるマイクロレンズ８が、使用時にマイクロレンズとして有効に用いられる領域をいう。また、擬似凹部形成領域９８とは、擬似凹部４１が形成されている領域をいう。さらには、厚み保持領域９７とは、擬似凹部４１が形成されておらず（当然凹部３も形成されておらず）、ガラス基板（マイクロレンズ用凹部付き基板）５の本来の厚み（母材本来の厚み）が保持された領域をいう。なお、説明の便宜上、擬似凹部形成領域９８と厚み保持領域９７とを合わせた領域を、非有効レンズ領域１００と呼ぶ。
【００４２】
本発明者は、上記問題点を解決すべく検討を重ねた結果、有効レンズ領域９９の外側に、形状、大きさまたは配設パターンのうちの少なくとも一つが凹部３と異なる擬似凹部を設けることに到達した。かかる擬似凹部は、樹脂だまりとして機能するが、擬似凹部内に充填された樹脂は、通常、有効なマイクロレンズとしては使用されない。
【００４３】
このような擬似凹部をマイクロレンズ基板に設けることにより、マイクロレンズ基板では、有効レンズ領域９９と非有効レンズ領域１００とにおける、樹脂層７の熱膨張の度合いの差を小さくすることができる。特に、有効レンズ領域９９の外周を囲むように擬似凹部形成領域９８を設けることにより、マイクロレンズ基板の全方向にわたって、マイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を好適に防止することができる。
【００４４】
しかも、擬似凹部をガラス基板５に設けることにより、樹脂層７とガラス基板５の密着力が向上し（アンカー効果）、界面剥離をより確実に防止できる。
【００４５】
さらに、擬似凹部の形状、大きさまたは配設パターンを凹部３と異なるものとすることにより次のような効果が得られる。すなわち、凹部３はマイクロレンズ８を形成し、これにより各画素ごとに光を集光するという機能があるのに対し、擬似凹部は、集光のためでなく、熱膨張時の応力を緩和するためのものである。このように、凹部３と擬似凹部とではその機能・役割が異なっているため、凹部３と擬似凹部とでは、その機能を最も効果的に発揮できる形状や大きさ、配設パターンは異なったものとなる。したがって、凹部３と擬似凹部とで、両者の形状、大きさまたは配設パターンを異なるものとすることにより、凹部３は集光機能を、擬似凹部は応力緩和機能を、それぞれ最適に発揮できるようになる。
【００４６】
なお、これらマイクロレンズ基板１Ａ、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ、１Ｅ、１Ｆおよび１Ｇでは、擬似凹部４１、４２、４３、４４、４５、４６、４７１および４７２に、樹脂層７を構成する樹脂が充填されている。このため、樹脂層７には、擬似凹部４１、４２、４３、４４、４５、４６、４７１および４７２に対応した形状の凸部７１、７２、７３、７４、７５、７６、７７１および７７２が、それぞれ形成されている。
【００４７】
さらに、マイクロレンズ基板１Ａ（他の実施の形態のマイクロレンズ基板も同様）に厚み保持領域９７を設けることにより、次のような利点が得られる。すなわち、マイクロレンズ基板１Ａにおいて、そり、たわみ、剥離等の欠陥が最も起こりやすいのは、有効レンズ領域９９と非有効レンズ領域１００との境界付近である。このため、有効レンズ領域９９の外周部付近には擬似凹部形成領域９８を設けて熱膨張による応力を緩和する必要があるが、有効レンズ領域９９から離間した位置では、擬似凹部４１を形成する必要性が低くなる。
【００４８】
加えて、非有効レンズ領域１００内に擬似凹部４１が形成されていない領域、すなわち、厚み保持領域９７を設けることにより、マイクロレンズ基板１Ａに所定の機能を付加する機能性部位を設けることが可能となる。このような機能性部位を擬似凹部形成領域９８内に設置したとしたならば、擬似凹部４１の影響（ガラス基板５表面の平坦性のなさ、凸部７１がレンズとして機能し得ること等）により、その機能を発揮しにくくなる可能性が高い。例えば、後述するアライメントマーク２１を擬似凹部形成領域９８内に設けた場合には、凸部７１がレンズとして機能するため、アライメントマーク２１の光学的認識をしにくくなる。また、後述するスペーサー２６は、擬似凹部形成領域９８内に設置することが困難であり、また、設置できた場合でも、スペーサー２６をガラス基板５に面接触させて固定することは困難であり、厚さを調整する上での十分な強度が得難い。
【００４９】
これに対して、非有効レンズ領域１００内に、ガラス基板５の本来の厚みが保持された厚み保持領域１００を設けることにより、擬似凹部４１の影響を受けないように、機能性部位を設けることが可能となる。これにより、マイクロレンズ基板に、レンズとしての機能に加えて、新たな機能、例えば光学的な機能、物理的な機能などを付加することができ、しかも、その機能が効果的に発揮されるようにる。
【００５０】
機能性部位としては、例えば、位置合わせの指標となるアライメントマーク２１（図２〜５、１０、１１参照）、ガラス基板５とガラス層（カバーガラス）６との間隔（距離）すなわち樹脂層７の厚さを規定（規制）するスペーサー２６（図６参照）などが挙げられる。なお、アライメントマーク２１は、例えばガラス層６上に設けることができる。また、スペーサー２６は、ガラス基板５上にガラス層６に当接するように設けることができる。
【００５１】
例えば、アライメントマーク２１を設けることにより、マイクロレンズ基板に光学的な機能を付加することができる。すなわち、アライメントマーク２１をマイクロレンズ基板に設け、アライメントマーク２１を光学的に認識することにより、マイクロレンズ基板と他の部材（例えば後述するＴＦＴ基板１７）との位置合わせ、あるいは、マイクロレンズ基板の構成要素（例えばマイクロレンズ８）と他の部材を構成する要素（例えばＴＦＴ基板１７を構成する画素電極１７２（後述参照））との位置合わせを容易に行うことができるようになる。
【００５２】
また例えば、スペーサー２６を設けることにより、マイクロレンズ基板に物理的な機能を付加することができる。すなわち、スペーサー２６をガラス基板５とガラス層６との間に設けることにより、樹脂層７を所望の厚さに設定することができる。しかも、マイクロレンズ基板全体で樹脂層７の厚さを均一にすることが容易となる。さらには、マイクロレンズ基板を多数製造した際の各マイクロレンズ基板間での樹脂層７の厚さのばらつきを抑制することも容易となる。
【００５３】
このような効果をより効果的に得る観点からは、マイクロレンズ基板は、以下のような事項を満足することが好ましい。
【００５４】
擬似凹部形成領域９８の面積は、マイクロレンズ基板の面積（図１に示すような平面視での面積、以下同じ）の１〜５０％程度を占めることが好ましく、５〜４０％程度を占めることがより好ましい。擬似凹部形成領域９８の面積をこの範囲内とすることにより、その機能を有効に発揮できるようにマイクロレンズ８および機能性部位を設置しつつ、熱膨張時の内部応力を好適に緩和できるようになる。
【００５５】
厚み保持領域９７の面積は、マイクロレンズ基板の面積の１〜４０％程度を占めることが好ましく、５〜３０％程度を占めることがより好ましい。厚み保持領域９７の面積が小さすぎると、機能性部位をその機能が十分に発揮できるように設置しにくくなる場合がある。一方、厚み保持領域９７の面積が大きすぎると、その分擬似凹部形成領域９８の面積が小さくなり、マイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を十分に防止できなくなるおそれがある。
【００５６】
厚み保持領域９７の面積をＡ1、擬似凹部形成領域９８の面積をＡ2としたとき、Ａ1／Ａ2は、０．０５〜１０程度であることが好ましく、０．２〜７程度であることがより好ましい。これにより、マイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を十分に防止しつつ、機能性部位の機能を有効に発揮させることができるようになる。
【００５７】
また、有効レンズ領域９９の面積をＡ3としたとき、Ａ2／Ａ3は、０．０５〜１０程度であることが好ましく、０．１〜５程度であることがより好ましい。Ａ2／Ａ3がこの範囲の下限値未満であると、マイクロレンズ基板は、熱膨張による内部応力を十分に緩和できなくなる可能性がある。一方、Ａ2／Ａ3がこの範囲の上限値を超えると、機能性部位の機能を有効に発揮させることができなくなる場合がある。
【００５８】
また、有効レンズ領域９９の縁部からマイクロレンズ基板の縁部までの長さをＬ1、有効レンズ領域９９の縁部から擬似凹部形成領域９８の縁部までの長さをＬ2としたとき、Ｌ2／Ｌ1は、０．１〜０．９程度であることが好ましく、０．２〜０．７程度であることがより好ましい。これにより、マイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を十分に防止しつつ、機能性部位の機能を有効に発揮させることができるようになる。
【００５９】
なお、擬似凹部の深さは、凹部３の深さよりも深くすることも浅くすることも可能であるが、前述したような効果をさらに有効に得る観点からは、凹部３の最大深さをＤ1、擬似凹部の最大深さをＤ2としたとき、マイクロレンズ基板は、０．５≦Ｄ2／Ｄ1≦２なる関係を満足することが好ましく、０．７５≦Ｄ2／Ｄ1≦１．５なる関係を満足することがより好ましい。これにより、マイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を、より好適に抑制することができる。
【００６０】
また、擬似凹部を設ける際の配設密度は、凹部３の配設密度よりも高くすることも低くすることも可能であるが、前述したような効果をさらに有効に得る観点からは、有効レンズ領域９９内における凹部３の単位面積あたりの数をＮ1、擬似凹部形成領域９８内における擬似凹部の単位面積あたりの数をＮ2としたとき、マイクロレンズ基板は、０．１≦Ｎ2／Ｎ1≦１０なる関係を満足することが好ましく、０．２≦Ｎ2／Ｎ1≦５なる関係を満足することがより好ましい。これにより、マイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を、より好適に抑制することができる。
【００６１】
マイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を防止する効果は、樹脂層７を構成する材料の熱膨張係数（膨張率）が１×１０-6／℃以上、特に、５×１０-6／℃以上のときに、より顕著に発揮される。
【００６２】
また、かかる効果は、樹脂層７を構成する材料の熱膨張係数が、ガラス基板を構成する材料の熱膨張係数よりも２倍以上、特に、１０倍以上大きいときに、より顕著に発揮される。
【００６３】
擬似凹部および機能性部位は、例えば、図２〜６、１０、１１に示すように設けることができる。以下、各図面ごとに説明する。
【００６４】
図２に示すように、マイクロレンズ基板１Ａでは、凹部３とほぼ相似形状でかつ凹部３よりも小さい擬似凹部４１が、凹部３よりも高い配設密度で設けられていることを特徴とする。
【００６５】
このようなマイクロレンズ基板１Ａでは、擬似凹部形成領域９８と厚み保持領域９７との境界部付近において、両領域における樹脂層７の平均厚さの相違を小さくすることができる。このため、かかる境界部付近においてもマイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を有効に防止できるようになる。さらには、マイクロレンズ基板１Ａでは、ガラス基板５の表面積の増大により、樹脂層７とガラス基板５の密着力が特に向上し（アンカー効果）、ガラス層６のガラス基板５に対する密着力が特に向上する。
【００６６】
図３に示すように、マイクロレンズ基板１Ｂでは、凹部３とほぼ同形状の擬似凹部４２が設けられていることを特徴とする。かかる擬似凹部４２の配設密度は、有効レンズ領域９９の近傍からマイクロレンズ基板１Ｂの縁部に向かって漸減する傾向を有している。すなわち、マイクロレンズ基板１Ｂでは、擬似凹部形成領域９８における擬似凹部４２の局所的な単位面積あたりの数を△Ｎとしたとき、かかる△Ｎは、有効レンズ領域９９の近傍からマイクロレンズ基板１Ｂの縁部に向かって漸減する傾向を有している。
【００６７】
図４に示すように、マイクロレンズ基板１Ｃでは、凹部３とほぼ相似形状でかつ凹部３よりも小さい擬似凹部４３が設けられていることを特徴とする。かかる擬似凹部４３の配設密度は、有効レンズ領域９９の近傍からマイクロレンズ基板１Ｃの縁部に向かって漸減する傾向を有している。すなわち、マイクロレンズ基板１Ｃでは、擬似凹部形成領域９８における擬似凹部４３の局所的な単位面積あたりの数を△Ｎとしたとき、かかる△Ｎは、有効レンズ領域９９の近傍からマイクロレンズ基板１Ｃの縁部に向かって漸減する傾向を有している。
【００６８】
なお、マイクロレンズ基板１Ｂおよび１Ｃでは、有効レンズ領域９９の近傍から擬似凹部形成領域９８の縁部まで△Ｎが漸減する傾向を有しているが、マイクロレンズ基板には、擬似凹部形成領域９８内に、△Ｎが漸減する傾向を有する部位を部分的に設けてもよい。
【００６９】
このような△Ｎが漸減する傾向を有する部位を設けると、有効レンズ領域９９の近傍から擬似凹部形成領域９８の縁部に向けて、樹脂層７の厚さの相違による基板の応力を、連続的に緩和することができるようになる。しかも、これにより、擬似凹部形成領域９８と厚み保持領域９７との境界部付近で擬似凹部の配設密度を小さくすることができる。このため、両者の境界部付近において、擬似凹部形成領域９８と厚み保持領域９７とにおける樹脂層７の平均厚さの相違を小さくすることができ、かかる境界部付近においてもマイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を有効に防止できるようになる。
【００７０】
図５に示すように、マイクロレンズ基板１Ｄでは、凹部３’は、その縁部近傍よりも底部近傍において曲率半径が大きくなっている（より平坦に近い）。したがって、かかる凹部３’に充填される樹脂により形成されるマイクロレンズ８’では、レンズの中心部分（凹部３’の底部付近に対応）の方が、縁部近傍よりも、曲率半径が大きくなっている。
【００７１】
このようなマイクロレンズ基板１Ｄでは、マイクロレンズ８’による入射光の集光度合いが緩和され、光が集光された部分に生じうる局所的な発熱が、好適に抑制されるようになる。このため、マイクロレンズ基板１Ｄを例えば後述する液晶パネル１７等の構成部材として用いると、液晶パネル１７の構成部材に生じうる局所的な焼き付け等が好適に防止され、液晶パネル１７の寿命が延びる。
【００７２】
また、擬似凹部４４の形状は、凹部３’の形状とは異なるものとなっており、略半球状をなしている。擬似凹部４４の形状を半球に近い形状とすることにより、高いアンカー効果が得られるようになる。
【００７３】
図１０に示すように、マイクロレンズ基板１Ｆでは、底部が平坦な擬似凹部４６が設けられており、かかる底部の平坦な領域が擬似凹部形成領域９８のほぼ全域を占めていることを特徴とする。
【００７４】
なお、擬似凹部４６は、例えば、有効レンズ領域９９の近傍からマイクロレンズ基板の縁部に向かってガラス基板５の厚さが漸増するようなテーパ状をなしていてもよい。
【００７５】
図１１に示すように、マイクロレンズ基板１Ｇでは、底部が平坦な擬似凹部４７１と、凹部３とほぼ相似形状でかつ凹部３よりも小さい擬似凹部４７２とが設けられていることを特徴とする。擬似凹部４７１は、単独で有効レンズ領域９９の外周を囲んでいる。また、擬似凹部４７２は、かかる擬似凹部４７１の外周を囲うように配設されている。かかる擬似凹部４７２の配設密度は、凹部３の配設密度よりも高い。
【００７６】
マイクロレンズ基板１Ｇのように、複数種類の擬似凹部を有しており、一方の擬似凹部（例えば有効レンズ領域９９近傍に形成された擬似凹部４７１）と他方の擬似凹部（例えば厚み保持領域９７側に形成された擬似凹部４７２）とで、その形状、大きさまたは配設パターンが異なっていると、有効レンズ領域９９の近傍から擬似凹部形成領域９８の縁部に向けて、樹脂層７の厚さの相違による基板の応力を、多段的に緩和することができるようになる。このため、有効レンズ領域９９と擬似凹部形成領域９８との境界部付近においても、擬似凹部形成領域９８と厚み保持領域９７との境界部付近においても、領域が変わることにより樹脂層７の平均厚さが大きく変化することを防止することができる。このため、これら境界部付近においてもマイクロレンズ基板のそり、たわみ、剥離等の欠陥を有効に防止できるようになる。
【００７７】
なお、有効レンズ領域９７近傍の擬似凹部の大きさを凹部３の大きさとほぼ同じとし、マイクロレンズ基板の縁部側に位置する擬似凹部の大きさを凹部３の大きさよりも小さくすることにより、マイクロレンズ基板に複数種類の擬似凹部を設けてもよい。
【００７８】
これらマイクロレンズ基板１Ａ、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ、１Ｆおよび１Ｇでは、ガラス層６のガラス基板５と反対側に、アライメントマーク２１が設けられている。かかるアライメントマーク２１は、例えば、図１に示すように、厚み保持領域９７内であるマイクロレンズ基板の四隅（４つの各角部の近傍）に、それぞれ設けられている。アライメントマーク２１をマイクロレンズ基板の少なくとも四隅に設けることにより、位置合わせをより確実に行うことができるようになる。
【００７９】
なお、アライメントマーク２１の設置数は、これより少なくてもよく、また、設置位置も隅、すなわち、角部近傍でなくてもよい。ただし、マイクロレンズ基板では、アライメントマーク２１を少なくとも２個設け、これらを少なくとも２個角部近傍に設置することが好ましい。これにより、好適に位置合わせを行えるようになる。
【００８０】
図６に示すように、マイクロレンズ基板１Ｅでは、凹部３とほぼ同形状の擬似凹部４５が設けられていることを特徴とする。かかる擬似凹部４５の配設密度は、有効レンズ領域９９の近傍からマイクロレンズ基板１Ｅの縁部に向かって漸減する傾向を有している。また、マイクロレンズ基板１Ｅの四隅には、例えば柱状のスペーサー２６が設けられている。
【００８１】
このように、マイクロレンズ基板の少なくとも四隅にスペーサー２６を設けると、マイクロレンズ基板全体にわたって、ガラス基板５とガラス層６との距離をより均一なものとすることができる。なお、スペーサー２６の設置数はこれより少ないものであってもよい。
【００８２】
なお、図示の例ではスペーサー２６をガラス基板５と別体として設けているが、スペーサー２６は、ガラス基板５またはガラス層６と一体として設けられていてもよい。
【００８３】
以下、マイクロレンズ基板の代表としてマイクロレンズ基板１Ａ（または１Ｂ）を用いて説明するが、原則的に、他の実施の形態のマイクロレンズ基板でも、同様のことが言える。
【００８４】
マイクロレンズ基板１Ａが液晶パネルに用いられ、かかる液晶パネルがガラス基板５以外のガラス基板（例えば後述するガラス基板１７１等）を有する場合には、ガラス基板５やガラス層６の熱膨張係数は、かかる液晶パネルが有する他のガラス基板の熱膨張係数とほぼ等しいものであることが好ましい。このように、ガラス基板５やガラス層６の熱膨張係数と液晶パネルが有する他のガラス基板の熱膨張係数とをほぼ等しいものとすると、得られる液晶パネルでは、温度が変化したときに二者の熱膨張係数が違うことにより生じるそり、たわみ、剥離等が防止される。
【００８５】
かかる観点からは、ガラス基板５やガラス層６と、液晶パネルが有する他のガラス基板とは、同じ材質で構成されていることが好ましい。これにより、温度変化時の熱膨張係数の相違によるそり、たわみ、剥離等が効果的に防止される。
【００８６】
特に、マイクロレンズ基板１Ａを高温ポリシリコンのＴＦＴ液晶パネルに用いる場合には、ガラス基板５およびガラス層６は、石英ガラスで構成されていることが好ましい。ＴＦＴ液晶パネルは、液晶駆動基板としてＴＦＴ基板を有している。かかるＴＦＴ基板には、製造時の環境により特性が変化しにくい石英ガラスが好ましく用いられる。このため、これに対応させて、ガラス基板５およびガラス層６を石英ガラスで構成することにより、そり、たわみ等の生じにくい、安定性に優れたＴＦＴ液晶パネルを得ることができる。
【００８７】
樹脂層７は、例えば、ガラス基板５の屈折率よりも高い屈折率の樹脂（接着剤）などで構成されていることが好ましい。
【００８８】
ガラス基板５の厚さは、ガラス基板５を構成する材料、屈折率等の種々の条件により異なるが、通常、０．３〜５mm程度とされ、より好ましくは０．５〜２mm程度とされる。なお、液晶パネルが、光をガラス層６側から入射する構成の場合（換言すれば、ガラス基板５上にブラックマトリックスや透明導電膜を形成し、かかるガラス基板５と後述するＴＦＴ基板１７（ガラス基板１７１）とが対向するように液晶パネルを構成する場合）には、ガラス基板５の厚さは、好ましくは１０〜１０００μｍ程度とされ、より好ましくは２０〜１５０μｍ程度とされる。
【００８９】
ガラス層６の厚さは、マイクロレンズ基板１Ａが液晶パネルに用いられる場合、必要な光学特性を得る観点からは、通常、１０〜１０００μｍ程度とされ、より好ましくは２０〜１５０μｍ程度とされる。なお、液晶パネルが、光をガラス層６側から入射する構成の場合には、ガラス層６の厚さは、好ましくは０．３〜５mm程度とされ、より好ましくは０．５〜２mm程度とされる。
【００９０】
樹脂層７の厚さ（ガラス基板５が本来の厚みを有しているところ）は、０．１〜１００μｍ程度が好ましく、１〜２０μｍ程度がより好ましい。
【００９１】
このようなマイクロレンズ基板１Ａは、例えば以下のようにして製造することができる。以下に示す方法は、擬似凹部４１を、凹部３の形成と同時に形成することを特徴とする。
【００９２】
▲１▼まず、用意した未加工のガラス基板５の表面にマスク層を形成する。このとき、ガラス基板５の裏面に、ガラス基板５の裏面を保護する層を設けてもよい。マスク層および裏面を保護する層は、例えば、ＣＶＤ法等により、ガラス基板５上にポリシリコン等の層を形成することにより設けることができる。
【００９３】
▲２▼次に、前記マスク層に凹部３および擬似凹部４１に対応した形状、パターンの開口を形成する。これは、例えば、マスク層上に、開口に対応するパターンのレジスト層を形成し、次いで、エッチング（例えばＣＦガス等によるドライエッチング）を行ない、次いで、前記レジスト層を除去することにより行うことができる。
【００９４】
▲３▼次に、ガラス基板５に、凹部３および擬似凹部４１を形成する。これは、例えばフッ酸系エッチング液等によるウエットエッチングなどにより行なうことができる。
【００９５】
▲４▼次に、前記マスク層を除去する。これは、例えばアルカリ水溶液等によるウエットエッチングなどにより行なうことができる。また、このとき、前記裏面を保護する層も除去することができる。
【００９６】
▲５▼次に、ガラス層６を、樹脂を介して、ガラス基板５の凹部３が形成された面に接合する。
【００９７】
▲６▼次に、必要に応じて、ガラス層６の厚さを例えば研削、研磨等により調整する。
【００９８】
▲７▼次に、アライメントマーク２１を形成する。これは、例えばマスクスパッタリング法等の気相成膜法などにより、金属等（例えば後述するブラックマトリックスと同様のものなど）で構成された薄膜を、ガラス層６上に局所的に成膜することにより、行うことができる。
【００９９】
これにより、マイクロレンズ基板１Ａが得られる。
【０１００】
なお、アライメントマーク２１は、後述するブラックマトリックスをガラス層６上に形成する際に、同時に形成してもよい。
【０１０１】
なお、マイクロレンズ基板１Ｅは、凹部３および擬似凹部４５を形成後ガラス層６の接合前（例えば前記工程▲４▼と▲５▼の間）に、スペーサー２６をガラス基板５上に設置することにより、前記と同様に製造することができる。
【０１０２】
なお、マイクロレンズ基板１Ｆ、１Ｇの擬似凹部４６、４７１は、研削によって形成することもできる。
【０１０３】
このようにマイクロレンズ基板１Ａを製造すると、擬似凹部４１は、凹部３の形成と同時に形成されるので、工程数を特段に増やさずに、擬似凹部４１を形成することができる。
【０１０４】
また、厚み保持領域９７は、前記工程▲３▼にてエッチングにより食刻されない部分である。マイクロレンズ基板１Ａは、このような食刻されない部分を有しているため、マイクロレンズ基板１Ａを製造する際にはエッチング液の使用量が比較的抑制される。このため、マイクロレンズ基板１Ａを連続して多数製造するときに、エッチングレートの低下を抑制し、エッチング液の寿命を長くすることができる。
【０１０５】
マイクロレンズ基板１Ｂ、１Ｃおよび１Ｅのように、擬似凹部４２、４３および４５の配設密度がマイクロレンズ基板１Ｂ、１Ｃおよび１Ｅの縁部に向かって漸減する傾向を有していると、マイクロレンズ基板１Ｂ、１Ｃおよび１Ｅの縁部近傍では、擬似凹部４２、４３および４５同士の間隔が大きくなる。このため、マイクロレンズ基板１Ｂ、１Ｃおよび１Ｅでは、擬似凹部４２、４３および４５の直径等を、非常に正確かつ容易に測定できるようになる。
【０１０６】
ところで、マイクロレンズ基板１Ｂ、１Ｃおよび１Ｅを連続して多数製造するときに、同一のエッチング液を使用し続けて凹部３および擬似凹部４２、４３および４５を形成すると（前記工程▲３▼参照）、エッチング液が徐々に劣化する。このため、エッチングレートが徐々に低下し、所定の大きさの凹部３および擬似凹部４２、４３および４５を形成するためのエッチング時間が、徐々に変化する。このとき、マイクロレンズ基板１Ｂ、１Ｃおよび１Ｅのように、擬似凹部４２、４３および４５の直径等を正確に測定することができると、次のバッチ（新たなマイクロレンズ基板１Ｂ、１Ｃおよび１Ｅを製造する際の凹部３および擬似凹部４２、４３および４５を形成する工程（前記工程▲３▼参照））におけるエッチング時間を正確に決めることが可能となる。
【０１０７】
また、マイクロレンズ基板１Ｂ、１Ｃおよび１Ｅのように、擬似凹部４２、４３および４５の配設密度が比較的小さい部分を有していると、凹部３および擬似凹部４２、４３および４５を形成する工程（前記工程▲３▼参照）において、使用するエッチング液の劣化の度合いがより小さくなる。
【０１０８】
なお、前述したマイクロレンズ基板では、擬似凹部形成領域９８は、有効レンズ領域９９を囲むような構成としたが、このような構成にしなくてもよい。例えば、擬似凹部形成領域９８を有効レンズ領域９９の角部近傍に設けなくてもよい（角部近傍を除く箇所に設けてもよい）。
【０１０９】
同様に、前述したマイクロレンズ基板では、厚み保持領域９７は、擬似凹部形成領域９８を囲むような構成としたが、このような構成にしなくてもよい。例えば、擬似凹部形成領域９８は、マイクロレンズ基板の縁部まで形成されていてもよい。また例えば、図７に示すように、厚み保持領域９７は、マイクロレンズ基板の角部近傍にのみ設けてもよい。
【０１１０】
なお、前述したマイクロレンズ基板では、アライメントマーク２１をガラス層６の樹脂層７と反対側に設けたが、アライメントマークは、樹脂層７側に設けてもよい。さらには、アライメントマークは、ガラス基板５上（表面または裏面）に設けてもよい。特に、ガラス基板５上にアライメントマークを設けると、後述するブラックマトリックス１１の開口１１１を形成する際の位置決めが容易となる。
【０１１１】
なお、前述したマイクロレンズ基板では、スペーサー２６をガラス基板５上にガラス層６に当接するように設けたが、ガラス基板５のガラス層６と反対側に設けてもよい。また、例えば、スペーサーをガラス層６の樹脂層７と反対側に設けてもよい。これにより、例えば後述するＴＦＴ基板１７とマイクロレンズ基板との距離を規定することができる。
【０１１２】
さらには、機能性部位は、前述したような光学的な機能、物理的な機能以外にも、例えば、マイクロレンズ基板に電気的な機能、磁気的な機能などを付加するものであってもよい。
【０１１３】
また、機能性部位は、前述では、マイクロレンズ基板上に設けられていたが、マイクロレンズ基板以外の部材、例えば後述するＴＦＴ基板側アライメントマーク１７５のように、ＴＦＴ基板１７上に設けられていてもよい。
【０１１４】
本発明のマイクロレンズ基板は、以下に述べる液晶パネル用対向基板および液晶パネル以外にも、ＣＣＤ用マイクロレンズ基板、光通信素子用マイクロレンズ基板等の各種基板、各種用途に用いることができることは言うまでもない。
【０１１５】
前述したマイクロレンズ基板のガラス層６上に、例えば、開口１１１を有するブラックマトリックス１１を形成し、次いで、かかるブラックマトリックス１１を覆うように透明導電膜１２を形成することにより、液晶パネル用対向基板１０を製造することができる（図８参照）。
【０１１６】
ブラックマトリックス１１は、遮光機能を有し、例えば、Cr、Al、Al合金、Ni、Zn、Ti等の金属、カーボンやチタン等を分散した樹脂などで構成されている。
【０１１７】
透明導電膜１２は、導電性を有し、例えば、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムオキサイド（ＩＯ）、酸化スズ（SnO2）などで構成されている。
【０１１８】
ブラックマトリックス１１は、例えば、気相成膜法（例えば蒸着、スパッタリング等）によりガラス層６上にブラックマトリックス１１となる薄膜を成膜し、次いで、かかる薄膜上に開口１１１のパターンを有するレジスト膜を形成し、次いで、ウエットエッチングを行い前記薄膜に開口１１１を形成し、次いで、前記レジスト膜を除去することにより設けることができる。なお、あらかじめ、開口１１１のパターンとともに、レジスト膜にアライメントマーク２１のパターンをも形成することにより、開口１１１の形成と同時にアライメントマーク２１を形成することもできる。
【０１１９】
また、透明導電膜１２は、例えば、蒸着、スパッタリング等の気相成膜法などにより設けることができる。
【０１２０】
なお、ブラックマトリックス１１は、設けなくてもよい。
【０１２１】
以下、このような液晶パネル用対向基板を用いた液晶パネル（液晶光シャッター）について、図８に基づいて説明する。
【０１２２】
同図に示すように、本発明の液晶パネル（ＴＦＴ液晶パネル）１６は、ＴＦＴ基板（液晶駆動基板）１７と、ＴＦＴ基板１７に接合された液晶パネル用対向基板１０と、ＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向基板１０との空隙に封入された液晶よりなる液晶層１８とを有している。
【０１２３】
液晶パネル用対向基板１０は、マイクロレンズ基板１Ｂと、かかるマイクロレンズ基板１Ｂのガラス層６上に設けられ、開口１１１が形成されたブラックマトリックス１１と、ガラス層６上にブラックマトリックス１１を覆うように設けられた透明導電膜（共通電極）１２とを有している。
【０１２４】
ＴＦＴ基板１７は、液晶層１８の液晶を駆動するための基板であり、ガラス基板１７１と、かかるガラス基板１７１上に設けられ、マトリックス状（行列状）に配設された複数（多数）の画素電極１７２と、かかる画素電極１７２の近傍に設けられ、各画素電極１７２に対応する複数（多数）の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１７３と、位置合わせの指標となるＴＦＴ基板側アライメントマーク１７５とを有している。なお、図では、シール材、配向膜、配線などの記載は省略した。
【０１２５】
この液晶パネル１６では、液晶パネル用対向基板１０の透明導電膜１２と、ＴＦＴ基板１７の画素電極１７２とが対向するように、ＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向基板１０とが、一定距離離間して接合されている。
【０１２６】
ガラス基板１７１は、前述したような理由から、石英ガラスで構成されていることが好ましい。
【０１２７】
画素電極１７２は、透明導電膜（共通電極）１２との間で充放電を行うことにより、液晶層１８の液晶を駆動する。この画素電極１７２は、例えば、前述した透明導電膜１２と同様の材料で構成されている。
【０１２８】
薄膜トランジスタ１７３は、近傍の対応する画素電極１７２に接続されている。また、薄膜トランジスタ１７３は、図示しない制御回路に接続され、画素電極１７２へ供給する電流を制御する。これにより、画素電極１７２の充放電が制御される。
【０１２９】
液晶層１８は液晶分子（図示せず）を含有しており、画素電極１７２の充放電に対応して、かかる液晶分子、すなわち液晶の配向が変化する。
【０１３０】
この液晶パネル１６では、通常、１個のマイクロレンズ８と、かかるマイクロレンズ８の光軸Ｑに対応したブラックマトリックス１１の１個の開口１１１と、１個の画素電極１７２と、かかる画素電極１７２に接続された１個の薄膜トランジスタ１７３とが、１画素に対応している。
【０１３１】
なお、非有効レンズ領域１００に設けられた擬似凹部４１および凸部７１は、画素に対応させる必要はない。これは、擬似凹部４１および凸部７１は、通常、マイクロレンズとして使用されないからである。
【０１３２】
液晶パネル用対向基板１０側から入射した入射光Ｌは、ガラス基板５を通り、マイクロレンズ８を通過する際に集光されつつ、樹脂層７、ガラス層６、ブラックマトリックス１１の開口１１１、透明導電膜１２、液晶層１８、画素電極１７２、ガラス基板１７１を透過する。なお、このとき、マイクロレンズ基板１Ｂの入射側には通常偏光板（図示せず）が配置されているので、入射光Ｌが液晶層１８を透過する際に、入射光Ｌは直線偏光となっている。その際、この入射光Ｌの偏光方向は、液晶層１８の液晶分子の配向状態に対応して制御される。したがって、液晶パネル１６を透過した入射光Ｌを、偏光板（図示せず）に透過させることにより、出射光の輝度を制御することができる。
【０１３３】
このように、液晶パネル１６は、マイクロレンズ８を有しており、しかも、マイクロレンズ８を通過した入射光Ｌは、集光されてブラックマトリックス１１の開口１１１を通過する。一方、ブラックマトリックス１１の開口１１１が形成されていない部分では、入射光Ｌは遮光される。したがって、液晶パネル１６では、画素以外の部分から不要光が漏洩することが防止され、かつ、画素部分での入射光Ｌの減衰が抑制される。このため、液晶パネル１６は、画素部で高い光の透過率を有し、比較的少ない光量で明るく鮮明な画像を形成することができる。
【０１３４】
この液晶パネル１６は、例えば、公知の方法により製造されたＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向基板１０とを配向処理した後、シール材（図示せず）を介して両者を接合し、次いで、これにより形成された空隙部の封入孔（図示せず）より液晶を空隙部内に注入し、次いで、かかる封入孔を塞ぐことにより製造することができる。その後、必要に応じて、液晶パネル１６の入射側や出射側に偏光板を貼り付けてもよい。
【０１３５】
このとき、アライメントマーク２１とＴＦＴ基板側アライメントマーク１７５とを用いることにより、液晶パネル用対向基板１０とＴＦＴ基板１７とを好適に位置合わせして接合することができる。すなわち、例えば、アライメントマーク２１とＴＦＴ基板側アライメントマーク１７５とが一定の間隔となるように、液晶パネル用対向基板１０とＴＦＴ基板１７とを接合することにより、液晶パネル用対向基板１０の画素（マイクロレンズ８、ブラックマトリックス１１の開口１１１）とＴＦＴ基板１７の画素（画素電極１７２）との位置合わせが好適になされた液晶パネル１６が得られる。
【０１３６】
なお、上記液晶パネル１６では、液晶駆動基板としてＴＦＴ基板を用いたが、液晶駆動基板にＴＦＴ基板以外の他の液晶駆動基板、例えば、ＴＦＤ基板、ＳＴＮ基板などを用いてもよい。
【０１３７】
以下、上記液晶パネル１６を用いた投射型表示装置（液晶プロジェクター）について説明する。
【０１３８】
図９は、本発明の投射型表示装置の光学系を模式的に示す図である。
【０１３９】
同図に示すように、投射型表示装置３００は、光源３０１と、複数のインテグレータレンズを備えた照明光学系と、複数のダイクロイックミラー等を備えた色分離光学系（導光光学系）と、赤色に対応した（赤色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２４と、緑色に対応した（緑色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２５と、青色に対応した（青色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）２６と、赤色光のみを反射するダイクロイックミラー面２１１および青色光のみを反射するダイクロイックミラー面２１２が形成されたダイクロイックプリズム（色合成光学系）２１と、投射レンズ（投射光学系）２２とを有している。
【０１４０】
また、照明光学系は、インテグレータレンズ３０２および３０３を有している。色分離光学系は、ミラー３０４、３０６、３０９、青色光および緑色光を反射する（赤色光のみを透過する）ダイクロイックミラー３０５、緑色光のみを反射するダイクロイックミラー３０７、青色光のみを反射するダイクロイックミラー（または青色光を反射するミラー）３０８、集光レンズ３１０、３１１、３１２、３１３および３１４とを有している。
【０１４１】
液晶ライトバルブ２５は、前述した液晶パネル１６と、液晶パネル１６の入射面側（マイクロレンズ基板が位置する面側、すなわちダイクロイックプリズム２１と反対側）に接合された第１の偏光板（図示せず）と、液晶パネル１６の出射面側（マイクロレンズ基板と対向する面側、すなわちダイクロイックプリズム２１側）に接合された第２の偏光板（図示せず）とを備えている。液晶ライトバルブ２４および２６も、液晶ライトバルブ２５と同様の構成となっている。これら液晶ライトバルブ２４、２５および２６が備えている液晶パネル１６は、図示しない駆動回路にそれぞれ接続されている。
【０１４２】
なお、投射型表示装置３００では、ダイクロイックプリズム２１と投射レンズ２２とで、光学ブロック２０が構成されている。また、この光学ブロック２０と、ダイクロイックプリズム２１に対して固定的に設置された液晶ライトバルブ２４、２５および２６とで、表示ユニット２３が構成されている。
【０１４３】
以下、投射型表示装置３００の作用を説明する。
【０１４４】
光源３０１から出射された白色光（白色光束）は、インテグレータレンズ３０２および３０３を透過する。この白色光の光強度（輝度分布）は、インテグレータレンズ３０２および３０３により均一にされる。
【０１４５】
インテグレータレンズ３０２および３０３を透過した白色光は、ミラー３０４で図９中左側に反射し、その反射光のうちの青色光（Ｂ）および緑色光（Ｇ）は、それぞれダイクロイックミラー３０５で図９中下側に反射し、赤色光（Ｒ）は、ダイクロイックミラー３０５を透過する。
【０１４６】
ダイクロイックミラー３０５を透過した赤色光は、ミラー３０６で図９中下側に反射し、その反射光は、集光レンズ３１０により整形され、赤色用の液晶ライトバルブ２４に入射する。
【０１４７】
ダイクロイックミラー３０５で反射した青色光および緑色光のうちの緑色光は、ダイクロイックミラー３０７で図９中左側に反射し、青色光は、ダイクロイックミラー３０７を透過する。
【０１４８】
ダイクロイックミラー３０７で反射した緑色光は、集光レンズ３１１により整形され、緑色用の液晶ライトバルブ２５に入射する。
【０１４９】
また、ダイクロイックミラー３０７を透過した青色光は、ダイクロイックミラー（またはミラー）３０８で図９中左側に反射し、その反射光は、ミラー３０９で図９中上側に反射する。前記青色光は、集光レンズ３１２、３１３および３１４により整形され、青色用の液晶ライトバルブ２６に入射する。
【０１５０】
このように、光源３０１から出射された白色光は、色分離光学系により、赤色、緑色および青色の三原色に色分離され、それぞれ、対応する液晶ライトバルブに導かれ、入射する。
【０１５１】
この際、液晶ライトバルブ２４が有する液晶パネル１６の各画素（薄膜トランジスタ１７３とこれに接続された画素電極１７２）は、赤色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路（駆動手段）により、スイッチング制御（オン／オフ）、すなわち変調される。
【０１５２】
同様に、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ２５および２６に入射し、それぞれの液晶パネル１６で変調され、これにより緑色用の画像および青色用の画像が形成される。この際、液晶ライトバルブ２５が有する液晶パネル１６の各画素は、緑色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御され、液晶ライトバルブ２６が有する液晶パネル１６の各画素は、青色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御される。
【０１５３】
これにより赤色光、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ２４、２５および２６で変調され、赤色用の画像、緑色用の画像および青色用の画像がそれぞれ形成される。
【０１５４】
前記液晶ライトバルブ２４により形成された赤色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２４からの赤色光は、面２１３からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１１で図９中左側に反射し、ダイクロイックミラー面２１２を透過して、出射面２１６から出射する。
【０１５５】
また、前記液晶ライトバルブ２５により形成された緑色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２５からの緑色光は、面２１４からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１１および２１２をそれぞれ透過して、出射面２１６から出射する。
【０１５６】
また、前記液晶ライトバルブ２６により形成された青色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２６からの青色光は、面２１５からダイクロイックプリズム２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１２で図９中左側に反射し、ダイクロイックミラー面２１１を透過して、出射面２１６から出射する。
【０１５７】
このように、前記液晶ライトバルブ２４、２５および２６からの各色の光、すなわち液晶ライトバルブ２４、２５および２６により形成された各画像は、ダイクロイックプリズム２１により合成され、これによりカラーの画像が形成される。この画像は、投射レンズ２２により、所定の位置に設置されているスクリーン３２０上に投影（拡大投射）される。
【０１５８】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、そり、たわみ、剥離等の欠陥を防止し、マイクロレンズ基板を構成する各層の密着性が高いマイクロレンズ基板およびこれを備えた機器を提供することができる。しかも、それにとどまらず、本発明によれば、例えば位置合わせ機能が得られるアライメントマークや、厚み調整機能が得られるスペーサーのような機能性部位を、その機能が好適に発揮されるように、マイクロレンズ基板に設置することができる。これにより、マイクロレンズ基板に、レンズ機能に加えて新たな機能を、その機能が好適に発揮されるように付加することができる。
【０１５９】
さらには、本発明によれば、画像を好適に投射できる液晶パネルおよび投射型表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のマイクロレンズ基板の実施形態を説明するための模式的な平面図である。
【図２】本発明のマイクロレンズ基板の第１実施形態を示す模式的な図１中Ａ−Ａ線断面図である。
【図３】本発明のマイクロレンズ基板の第２実施形態を示す模式的な図１中Ａ−Ａ線断面図である。
【図４】本発明のマイクロレンズ基板の第３実施形態を示す模式的な図１中Ａ−Ａ線断面図である。
【図５】本発明のマイクロレンズ基板の第４実施形態を示す模式的な図１中Ａ−Ａ線断面図である。
【図６】本発明のマイクロレンズ基板の第５実施形態を示す模式的な図１中Ａ−Ａ線断面図である。
【図７】本発明のマイクロレンズ基板の他の実施形態を説明するための模式的な平面図である。
【図８】本発明の液晶パネルの実施例を示す模式的な縦断面図である。
【図９】本発明の実施例における投射型表示装置の光学系を模式的に示す図である。
【図１０】本発明のマイクロレンズ基板の第６実施形態を示す模式的な図１中Ａ−Ａ線断面図である。
【図１１】本発明のマイクロレンズ基板の第７実施形態を示す模式的な図１中Ａ−Ａ線断面図である。
【図１２】従来のマイクロレンズ基板を示す模式的な縦断面図である。
【符号の説明】
１Ａ、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ、１Ｅ、１Ｆ、１Ｇ マイクロレンズ基板
９７ 厚み保持領域
９８ 擬似凹部形成領域
９９ 有効レンズ領域
１００ 非有効レンズ領域
２１ アライメントマーク
２６ スペーサー
３、３’ 凹部
４１、４２、４３、４４、４５、４６、４７１、４７２ 擬似凹部
５ ガラス基板
６ ガラス層
７ 樹脂層
７１、７２、７３、７４、７５、７６、７７１、７７２ 凸部
８、８’ マイクロレンズ
１０ 液晶パネル用対向基板
１１ ブラックマトリックス
１１１ 開口
１２ 透明導電膜
１６ 液晶パネル
１７ ＴＦＴ基板
１７１ ガラス基板
１７２ 画素電極
１７３ 薄膜トランジスタ
１７５ ＴＦＴ基板側アライメントマーク
１８ 液晶層
３００ 投射型表示装置
３０１ 光源
３０２、３０３ インテグレータレンズ
３０４、３０６、３０９ ミラー
３０５、３０７、３０８ ダイクロイックミラー
３１０〜３１４ 集光レンズ
３２０ スクリーン
２０ 光学ブロック
２１ ダイクロイックプリズム
２１１、２１２ ダイクロイックミラー面
２１３〜２１５ 面
２１６ 出射面
２２ 投射レンズ
２３ 表示ユニット
２４〜２６ 液晶ライトバルブ
９００ マイクロレンズ基板
９０２ ガラス基板
９０３ ガラス層
９０４ 樹脂層
９０６ 凹部
９０７ マイクロレンズ
９０８ 非有効レンズ領域
９０９ 有効レンズ領域
Claims (1)
- 複数の凹部が設けられた第一基板と、該第一基板に樹脂層を介して接合された第二基板とを有し、前記凹部内に充填された樹脂によりマイクロレンズが構成されたマイクロレンズ基板であって、前記第一基板の前記凹部が設けられた領域の周囲に、前記凹部より体積が小さく、前記マイクロレンズとして使用されない複数の擬似凹部が形成され、前記第一基板の前記擬似凹部の周囲に前記第一基板の本来の厚みが保持された領域を有し、前記擬似凹部の配設密度が、前記凹部が設けられた領域から周囲に向かって小さくなる部位が、部分的に設けられていることを特徴とするマイクロレンズ基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21711899A JP4069552B2 (ja) | 1999-07-30 | 1999-07-30 | マイクロレンズ基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21711899A JP4069552B2 (ja) | 1999-07-30 | 1999-07-30 | マイクロレンズ基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001042105A JP2001042105A (ja) | 2001-02-16 |
| JP4069552B2 true JP4069552B2 (ja) | 2008-04-02 |
Family
ID=16699147
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21711899A Expired - Fee Related JP4069552B2 (ja) | 1999-07-30 | 1999-07-30 | マイクロレンズ基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4069552B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3544349B2 (ja) * | 2000-09-27 | 2004-07-21 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
| TW200603145A (en) | 2004-03-26 | 2006-01-16 | Sony Corp | Microlens array substrate and production method therefor |
| JP4496824B2 (ja) * | 2004-04-01 | 2010-07-07 | ソニー株式会社 | マイクロレンズアレイ基板、ｔｆｔ基板、液晶パネル、液晶プロジェクタ、表示装置、照明装置、及びマイクロレンズアレイ基板の製造方法 |
| JP5469309B2 (ja) * | 2008-03-07 | 2014-04-16 | リコー光学株式会社 | 液晶パネル用の対向基板・マイクロレンズアレイ基板 |
| JP2010002925A (ja) * | 2009-09-28 | 2010-01-07 | Sony Corp | マイクロレンズアレイ基板とその製造方法、及び液晶パネル、液晶プロジェクタ、表示装置、照明装置 |
| JP6175761B2 (ja) | 2012-12-03 | 2017-08-09 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置及び電子機器 |
| JP6092756B2 (ja) * | 2013-11-20 | 2017-03-08 | アルプス電気株式会社 | レンズの製造方法 |
| JP2016151735A (ja) * | 2015-02-19 | 2016-08-22 | セイコーエプソン株式会社 | レンズアレイ基板、電気光学装置、および電子機器、並びにレンズアレイ基板の製造方法 |
| JP6891945B2 (ja) * | 2019-12-11 | 2021-06-18 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置および電子機器 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2542632B2 (ja) * | 1987-09-04 | 1996-10-09 | 富士通株式会社 | マイクロレンズ・アレイの製造方法 |
| JPH08271878A (ja) * | 1995-03-31 | 1996-10-18 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 平板マイクロレンズアレイを用いた液晶表示装置 |
| JPH0990360A (ja) * | 1995-09-22 | 1997-04-04 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 平板型マイクロレンズアレイの製造方法及びこの平板型マイクロレンズアレイを用いた液晶表示素子の製造方法 |
| JPH09292502A (ja) * | 1996-04-24 | 1997-11-11 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 平板型マイクロレンズ |
| JPH11123771A (ja) * | 1997-10-22 | 1999-05-11 | Micro Opt:Kk | 平板型マイクロレンズアレイ製造用スタンパ及び平板型マイクロレンズアレイの製造方法 |
| JP3570194B2 (ja) * | 1998-01-19 | 2004-09-29 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶装置、それを用いた電子機器及び液晶装置の製造方法 |
| JP2000275405A (ja) * | 1999-03-29 | 2000-10-06 | Canon Inc | マイクロ構造体アレイの作製方法、マイクロレンズアレイ用金型の作製方法、及びこれを用いたマイクロレンズアレイの作製方法 |
-
1999
- 1999-07-30 JP JP21711899A patent/JP4069552B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001042105A (ja) | 2001-02-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3826720B2 (ja) | マイクロレンズ基板の製造方法およびマイクロレンズ基板 | |
| US7609342B2 (en) | Liquid crystal display for enhancing reflection and method of manufacturing the same | |
| JP6175761B2 (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
| JP6111601B2 (ja) | マイクロレンズアレイ基板、マイクロレンズアレイ基板の製造方法、電気光学装置、および電子機器 | |
| US10241363B2 (en) | Lens array substrate, method of manufacturing lens array substrate, electro-optical device, and electronic apparatus | |
| JP2004070282A (ja) | マイクロレンズの製造方法、マイクロレンズ、マイクロレンズアレイ板、電気光学装置及び電子機器 | |
| JP2018072757A (ja) | マイクロレンズアレイ基板およびその製造方法、電気光学装置およびその製造方法、ならびに電子機器 | |
| KR100658077B1 (ko) | 액정표시장치 | |
| JP4069552B2 (ja) | マイクロレンズ基板 | |
| JP6111600B2 (ja) | マイクロレンズアレイ基板の製造方法 | |
| JP2016151735A (ja) | レンズアレイ基板、電気光学装置、および電子機器、並びにレンズアレイ基板の製造方法 | |
| JP2015049468A (ja) | マイクロレンズアレイ基板の製造方法、電気光学装置の製造方法 | |
| JP2008209860A (ja) | マイクロレンズアレイ基板の製造方法、光変調装置の製造方法及び光変調装置 | |
| JP2016224459A (ja) | マイクロレンズアレイ基板、電気光学装置、および電子機器 | |
| JP3529900B2 (ja) | 反射型液晶表示装置およびそれを用いた表示装置 | |
| JP3799867B2 (ja) | マイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置 | |
| JPH0212224A (ja) | 液晶表示装置 | |
| KR20040091299A (ko) | 투과율이 향상된 액정 디스플레이 패널 및 액정 프로젝터 | |
| JP2000284103A (ja) | マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置 | |
| JP2001141909A (ja) | マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置 | |
| JP2004070283A (ja) | マイクロレンズの製造方法、マイクロレンズ、マイクロレンズアレイ板、電気光学装置及び電子機器 | |
| JP2000258609A (ja) | マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置 | |
| JP2017120445A (ja) | マイクロレンズアレイ基板、マイクロレンズアレイ基板の製造方法、電気光学装置、および電子機器 | |
| JP2001021876A (ja) | マイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置 | |
| JP2001033602A (ja) | マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070220 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070406 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070807 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071005 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071225 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080107 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110125 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110125 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120125 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120125 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130125 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130125 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140125 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |