JP2000258609A - マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】そり、たわみ、剥離等の欠陥が生じにくいマイ
クロレンズ基板を提供すること。 【解決手段】マイクロレンズ基板１Ａは、多数の凹部６
が設けられたガラス基板２と、かかるガラス基板２の凹
部６が設けられた面に樹脂層４を介して接合されたガラ
ス層３とを有しており、また、樹脂層４では、凹部６内
に充填された樹脂によりマイクロレンズ７が形成されて
いる。マイクロレンズ基板１Ａでは、マイクロレンズ非
形成領域１００に、樹脂層４の厚さが均一で、かつ、ガ
ラス基板２の厚さを薄くすることにより形成された均一
厚さ部分８１を有していることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本発明は、マイクロレンズ基
板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表
示装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】スクリーン上に、画像を投影する投射型
表示装置が知られている。

【０００３】このような投射型表示装置では、その画像
形成に主として液晶パネル（液晶光シャッター）が用い
られている。

【０００４】この液晶パネルは、例えば、各画素を制御
する薄膜トランジスター（ＴＦＴ）と個別電極とを有す
る液晶駆動基板（ＴＦＴ基板）と、ブラックマトリック
スや共通電極等を有する液晶パネル用対向基板とが、液
晶層を介して接合された構成となっている。

【０００５】このような構成の液晶パネル（ＴＦＴ液晶
パネル）では、液晶パネル用対向基板の画素となる部分
以外のところにブラックマトリックスが形成されている
ため、液晶パネルを透過する光の領域は制限される。こ
のため、光の透過率が下がる。

【０００６】かかる光の透過率を高めるべく、液晶パネ
ル用対向基板には、各画素に対応する位置に多数の微小
なマイクロレンズが設けられたものが知られている。こ
れにより、液晶パネル用対向基板を透過する光は、ブラ
ックマトリックスに形成された開口に集光され、光の透
過率が高まる。

【０００７】図８は、液晶パネル用対向基板に用いられ
るマイクロレンズ基板の従来の構造を示す模式的な縦断
面図である。

【０００８】同図に示すように、マイクロレンズ基板９
００は、多数の凹部９０６が設けられたガラス基板９０
２と、かかるガラス基板９０２の凹部９０６が設けられ
た面に樹脂層（接着剤層）９０４を介して接合されたガ
ラス層９０３とを有しており、また、樹脂層９０４で
は、凹部９０６内に充填された樹脂によりマイクロレン
ズ９０７が形成されている。

【０００９】このようなマイクロレンズ基板９００は、
液晶パネルを製造する際に、通常、加熱工程を経る。

【００１０】このとき加熱により、マイクロレンズ基板
９００には、そり、たわみ等が生じる場合があった。ま
た、極端な場合には、ガラス層９０３が、ガラス基板９
０２から剥離することもあった。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、そ
り、たわみ、剥離等の欠陥が生じにくいマイクロレンズ
基板、および、かかるマイクロレンズ基板を備えた液晶
パネル用対向基板、液晶パネル、さらには、投射型表示
装置を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（２２）の本発明により達成される。

【００１３】（１） 多数の凹部が設けられたガラス基
板と、該ガラス基板に樹脂層を介して接合されたガラス
層とを有し、前記凹部内に充填された樹脂によりマイク
ロレンズが構成されたマイクロレンズ基板であって、マ
イクロレンズ形成領域内における樹脂層の最大厚さをＴ
_max 、マイクロレンズ形成領域内における樹脂層の最小
厚さをＴ_min としたとき、マイクロレンズ形成領域外に
おける樹脂層の厚さＴが、Ｔ_min ＜Ｔ≦Ｔ_max なる関係
を満足する部分を有することを特徴とするマイクロレン
ズ基板。

【００１４】（２） 前記マイクロレンズ形成領域外の
全面積をＳ₁ 、前記マイクロレンズ形成領域外におい
て、前記式Ｔ_min ＜Ｔ≦Ｔ_max を満足する部分の面積を
Ｓ₂ としたとき、０．２≦Ｓ₂ ／Ｓ₁ ≦１なる関係を満
足する上記（１）に記載のマイクロレンズ基板。

【００１５】（３） 前記マイクロレンズ形成領域外に
おける前記樹脂層の平均厚さをＴ_avr としたとき、Ｔ
_min ＜Ｔ_avr ≦Ｔ_max なる関係を満足する上記（１）ま
たは（２）に記載のマイクロレンズ基板。

【００１６】（４） 前記マイクロレンズ形成領域外に
おける前記樹脂層の平均厚さをＴ_avr としたとき、１．
１Ｔ_min ≦Ｔ_avr ≦０．９Ｔ_max なる関係を満足する上
記（１）または（２）に記載のマイクロレンズ基板。

【００１７】（５） 前記マイクロレンズ形成領域は、
マイクロレンズ基板の中央部に形成され、かつ、四角形
をなしており、その四角形の各辺の近傍に、前記式Ｔ
_min ＜Ｔ≦Ｔ_max を満足する部分を有する上記（１）な
いし（４）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板。

【００１８】（６） 前記マイクロレンズ形成領域外に
おける前記樹脂層の局所的な平均厚さをΔＴ_avr とした
とき、該ΔＴ_avr がマイクロレンズ基板の縁部に向かっ
て漸減する傾向を有する部位を有する上記（１）ないし
（５）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板。

【００１９】（７） 前記Ｔ_max と前記Ｔ_min とが、
１．３≦Ｔ_max ／Ｔ_min ≦３０なる関係を満足する上記
（１）ないし（６）のいずれかに記載のマイクロレンズ
基板。

【００２０】（８） 前記マイクロレンズ形成領域外
に、前記樹脂層の厚さが均一な部分を有する上記（１）
ないし（７）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板。

【００２１】（９） 前記マイクロレンズ形成領域外の
前記式Ｔ_min ＜Ｔ≦Ｔ_max を満足する領域内に、前記樹
脂層の厚さが均一な部分を有する上記（１）ないし
（８）のいずれかに記載のマイクロレンズ基板。

【００２２】（１０） 前記樹脂層の厚さが均一な部分
の面積は、前記マイクロレンズ形成領域外の面積の３０
％以上を占める上記（８）または（９）に記載のマイク
ロレンズ基板。

【００２３】（１１） 前記樹脂層は、前記マイクロレ
ンズ形成領域外に、前記マイクロレンズとほぼ相似形状
の凸部を有する上記（１）ないし（１０）のいずれかに
記載のマイクロレンズ基板。

【００２４】（１２） 前記凸部は、前記マイクロレン
ズ形成領域外のほぼ全域にわたって多数設けられている
上記（１１）に記載のマイクロレンズ基板。

【００２５】（１３） 前記式Ｔ_min ＜Ｔ≦Ｔ_max を満
足する部分は、前記マイクロレンズ形成領域外における
前記ガラス基板の厚さを調整することによって形成され
ている上記（１）ないし（１２）のいずれかに記載のマ
イクロレンズ基板。

【００２６】（１４） 前記式Ｔ_min ＜Ｔ≦Ｔ_max を満
足する部分は、前記マイクロレンズ形成領域外における
前記ガラス層の厚さを調整することによって形成されて
いる上記（１）ないし（１３）のいずれかに記載のマイ
クロレンズ基板。

【００２７】（１５） 前記式Ｔ_min ＜Ｔ≦Ｔ_max を満
足する部分は、前記凹部を形成する際に同時に形成され
たものである上記（１）ないし（１４）のいずれかに記
載のマイクロレンズ基板。

【００２８】（１６） 上記（１）ないし（１５）のい
ずれかに記載のマイクロレンズ基板と、前記ガラス層上
に設けられた透明導電膜とを有することを特徴とする液
晶パネル用対向基板。

【００２９】（１７） 上記（１）ないし（１５）のい
ずれかに記載のマイクロレンズ基板と、前記ガラス層上
に設けられたブラックマトリックスと、該ブラックマト
リックスを覆う透明導電膜とを有することを特徴とする
液晶パネル用対向基板。

【００３０】（１８） 上記（１６）または（１７）に
記載の液晶パネル用対向基板を備えたことを特徴とする
液晶パネル。

【００３１】（１９） 個別電極を備えた液晶駆動基板
と、該液晶駆動基板に接合された上記（１６）または
（１７）に記載の液晶パネル用対向基板と、前記液晶駆
動基板と前記液晶パネル用対向基板との空隙に封入され
た液晶とを有することを特徴とする液晶パネル。

【００３２】（２０） 前記液晶駆動基板はＴＦＴ基板
である上記（１９）に記載の液晶パネル。

【００３３】（２１） 上記（１８）ないし（２０）の
いずれかに記載の液晶パネルを備えたライトバルブを有
し、該ライトバルブを少なくとも１個用いて画像を投射
することを特徴とする投射型表示装置。

【００３４】（２２） 画像を形成する赤色、緑色およ
び青色に対応した３つのライトバルブと、光源と、該光
源からの光を赤色、緑色および青色の光に分離し、前記
各光を対応する前期ライトバルブに導く色分離光学系
と、前記各画像を合成する色合成光学系と、前記合成さ
れた画像を投射する投射光学系とを有する投射型表示装
置であって、前記ライトバルブは、上記（１８）ないし
（２０）のいずれかに記載の液晶パネルを備えたことを
特徴とする投射型表示装置。

【００３５】

【発明の実施の形態】本発明におけるマイクロレンズ基
板には、個別基板およびウエハーの双方を含むものとす
る。

【００３６】本発明者は、前述したマイクロレンズ基板
９００に生じるそり、たわみ、剥離等の欠陥の原因を調
査、研究した結果、かかる原因は、マイクロレンズ形成
領域９０９における樹脂層９０４の厚さと、マイクロレ
ンズ非形成領域９０８における樹脂層９０４の厚さとが
大きく異なっていることに起因することを突き止めた。
詳しくは、以下のように説明できる。

【００３７】すなわち、マイクロレンズ基板９００で
は、マイクロレンズ形成領域９０９には多数の凹部９０
６が形成されているのに対し、マイクロレンズ非形成領
域９０８ではガラス基板９０２の本来の厚さが保持され
ている。このため、マイクロレンズ基板９００では、マ
イクロレンズ形成領域９０９における樹脂層９０４の厚
さと、マイクロレンズ非形成領域９０８における樹脂層
９０４の厚さとが大きく異なったものとなっている。

【００３８】しかも、マイクロレンズ基板９００では、
ガラス基板９０２と樹脂層９０４とは、異なる材料で構
成されている。両者の材料が異なるので、両者の熱膨張
係数も異なったものとなる（通常、ガラス基板９０２を
構成する材料よりも樹脂層９０４を構成する材料の方が
はるかに熱膨張係数が大きい。）。このため、マイクロ
レンズ基板９００が加熱等により温度上昇したときに、
マイクロレンズ形成領域９０９とマイクロレンズ非形成
領域９０８とでは、樹脂層９０４の熱膨張の度合いが大
きく異なる。これが結果として、マイクロレンズ基板９
００のそり、たわみ、剥離等の欠陥となって現われる。

【００３９】本発明は、かかる知見に基づくものであ
る。すなわち本発明は、マイクロレンズ形成領域とマイ
クロレンズ非形成領域とにおいて、樹脂層の厚さが相違
することによって生じる熱膨張の度合いの差を緩和する
ことにより、上記問題を解決するものである。以下、本
発明を、添付図面に示す好適な実施の形態に基づき、詳
細に説明する。

【００４０】図１〜４は、本発明のマイクロレンズ基板
の、各実施の形態を示す模式的な縦断面図である。

【００４１】これらの図に示すように、本発明のマイク
ロレンズ基板１Ａ、１Ｂ、１Ｃおよび１Ｄは、多数の凹
部６が設けられたガラス基板（マイクロレンズ用凹部付
き基板）２と、かかるガラス基板２の凹部６が設けられ
た面に中間層として樹脂層（接着剤層）４を介して接合
されたガラス層（カバーガラス）３とを有しており、ま
た、樹脂層４では、凹部６内に充填された樹脂によりマ
イクロレンズ７が形成されている。

【００４２】このようなマイクロレンズ基板１Ａ、１
Ｂ、１Ｃおよび１Ｄは、２つの領域、すなわち、マイク
ロレンズ形成領域９９とマイクロレンズ非形成領域１０
０とを有している。ここで、マイクロレンズ形成領域９
９とは、ガラス基板２に入射した光を集光するために用
いられるマイクロレンズ７が形成されている領域をい
う。ただし、マイクロレンズ基板の製造方法によって
は、最外周のマイクロレンズは不良となりやすい場合が
ある。このため、マイクロレンズ基板の中には、最外周
のマイクロレンズの不良を防止するために、マージン
（予備）として、有効なマイクロレンズ７の外側にも例
えば数列から数十列程度の使用されないマイクロレンズ
を設ける場合がある。よって、マイクロレンズ形成領域
９９には、かかるマージンとしてのマイクロレンズが設
けられた部位も含むものとする。なお、本明細書では、
かかる事情から、マイクロレンズ７には、通常、マージ
ンとしてのマイクロレンズも含めるものとする。一方、
マイクロレンズ非形成領域１００とは、マイクロレンズ
７（有効なマイクロレンズ７およびマージンとしてのマ
イクロレンズ）が形成されていない領域、すなわち、マ
イクロレンズ形成領域９９の外側の領域をいう。

【００４３】本発明者は、上記問題点を解決すべく検討
を重ねた結果、このようなマイクロレンズ基板におい
て、マイクロレンズ形成領域９９における樹脂層４の最
大厚さをＴ_max 、マイクロレンズ形成領域９９における
樹脂層４の最小厚さをＴ_min としたとき、マイクロレン
ズ非形成領域１００における樹脂層４の厚さＴが、Ｔ
_min ＜Ｔ≦Ｔ_max ……（Ｉ）なる関係を満足する部分
を、マイクロレンズ非形成領域１００に設けることに到
達した。なお、かかる式（Ｉ）は、１．１Ｔ_min ≦Ｔ≦
０．９Ｔ_max 、さらには、１．２５Ｔ_min ≦Ｔ≦０．７
５Ｔ_maxに置換可能である。

【００４４】このような部分をマイクロレンズ基板に設
けることにより、マイクロレンズ形成領域９９とマイク
ロレンズ非形成領域１００とにおける、樹脂層４の熱膨
張の度合いの差を小さくすることができる。これによ
り、マイクロレンズ基板のそり、たわみ等の欠陥が抑制
される。

【００４５】このような効果を特に有効に得る観点から
は、マイクロレンズ基板は、マイクロレンズ非形成領域
１００の全面積をＳ₁ とし、前記式（Ｉ）を満足する部
分の面積をＳ₂ としたとき、０．２≦Ｓ₂ ／Ｓ₁ ≦１…
…（II）なる関係を満足することが好ましい。すなわ
ち、かかる式（II）を満足するマイクロレンズ基板で
は、前述した効果をより顕著に得ることができるように
なる。なお、かかる式（II）は、０．３≦Ｓ₂ ／Ｓ₁ ≦
１なる関係を満足することがより好ましく、０．５≦Ｓ
₂ ／Ｓ₁ ≦１なる関係を満足することがさらに好まし
い。

【００４６】図５は、本発明のマイクロレンズ基板の実
施形態を模式的に示す平面図である。図５では、一例と
して、マイクロレンズ基板１Ａを示しているが、マイク
ロレンズ基板１Ｂ、１Ｃおよび１Ｄでも同様である。

【００４７】図５に示すように、マイクロレンズ基板１
Ａは、ほぼ長方形（四角形）をなしている。その中央部
には、ほぼ長方形（四角形）のマイクロレンズ形成領域
９９が形成されている。この領域の外周部がマイクロレ
ンズ非形成領域１００となっている。換言すれば、マイ
クロレンズ基板１Ａでは、マイクロレンズ基板１Ａの中
央部に位置するマイクロレンズ形成領域９９の外周を、
マイクロレンズ非形成領域１００が囲むような構成とな
っている。

【００４８】このようなマイクロレンズ基板１Ａでは、
前記式（Ｉ）を満足する部分は、マイクロレンズ形成領
域９９がなす四角形の各辺の近傍に（例えば、図５中網
かけ線の範囲で示すように）、それぞれ少なくとも１箇
所設けられていることが好ましい。これにより、マイク
ロレンズ基板１Ａの各方向（四方）で、マイクロレンズ
基板１Ａのそり、たわみ等の欠陥を抑制することができ
る。なお、マイクロレンズ非形成領域１００の、前記式
（Ｉ）を満足する部分以外の部分は、例えば、ガラス基
板２の本来の厚さが保持されている（樹脂層４の厚さが
一定となっている）。

【００４９】また、マイクロレンズ基板１Ａでは、前記
式（Ｉ）を満足する部分は、マイクロレンズ形成領域９
９の外周部を囲むように（例えば、図５中枠８９で囲ま
れた範囲（図５中ドットが付された範囲）で示すよう
に）設けられていることがより好ましい。これにより、
マイクロレンズ基板１Ａのそり、たわみ等の欠陥を、よ
り好適に抑制することができる。

【００５０】さらには、マイクロレンズ基板１Ａでは、
前記式（Ｉ）を満足する部分は、マイクロレンズ非形成
領域１００の全体（例えば、図５中斜線および網かけ線
で示す範囲全体）にわたって設けられていることがさら
に好ましい。これにより、マイクロレンズ基板１Ａの全
体にわたって、マイクロレンズ基板１Ａのそり、たわみ
等の欠陥を抑制することができる。

【００５１】また、前述したような効果を特に有効に得
る観点からは、マイクロレンズ基板は、マイクロレンズ
非形成領域１００における樹脂層４の平均厚さをＴ_avr
としたとき、Ｔ_min ＜Ｔ_avr ≦Ｔ_max ……（III ）なる
関係を満足することが好ましい。すなわち、樹脂層４の
平均厚さＴ_avr をこの範囲内とすると、マイクロレンズ
形成領域９９とマイクロレンズ非形成領域１００とにお
ける樹脂層４の熱膨張の度合いの差をより小さくするこ
とができ、マイクロレンズ基板のそり、たわみ等の欠陥
がより好適に抑制される。なお、かかる式（III ）は、
１．１Ｔ_min ≦Ｔ_avr ≦０．９Ｔ_max なる関係を満足す
ることがより好ましく、１．２Ｔ_min ≦Ｔ_avr ≦０．８
Ｔ_max なる関係を満足することがさらに好ましい。

【００５２】さらに、同様の観点からは、マイクロレン
ズ基板は、マイクロレンズ形成領域９９における樹脂層
４の平均厚さをＴ_avr2としたとき、０．５≦Ｔ_avr ／Ｔ
_avr2≦２……（IV）なる関係を満足することが好まし
い。なお、かかる式（IV）は、０．７≦Ｔ_avr ／Ｔ_avr2
≦１．５なる関係を満足することがより好ましい。

【００５３】このような効果は、前記Ｔ_max と前記Ｔ
_min とが、１．３≦Ｔ_max ／Ｔ_min ≦３０なる関係を満
足するマイクロレンズ基板、その中でも特に、２≦Ｔ
_max ／Ｔ_min ≦２０なる関係を満足するマイクロレンズ
基板で、より顕著に発揮される。

【００５４】また、このような効果は、樹脂層４を構成
する材料の熱膨張係数（膨張率）が１×１０^-6／℃以
上、特に、５×１０^-6／℃以上のときに、より顕著に発
揮される。

【００５５】また、このような効果は、樹脂層４を構成
する材料の熱膨張係数が、ガラス基板２を構成する材料
の熱膨張係数よりも２倍以上、特に、１０倍以上大きい
ときに、より顕著に発揮される。

【００５６】以下さらに、各図面に示す好適な実施形態
ごとに説明する。

【００５７】図１に示すように、マイクロレンズ基板１
Ａでは、マイクロレンズ非形成領域１００に、樹脂層４
の厚さが均一で、かつ、前記式（Ｉ）を満足している部
分（以下、「均一厚さ部分８１」という）を有している
ことを特徴とする。この均一厚さ部分８１は、ガラス基
板２の厚さを調整し、薄くすることにより形成されてい
る。

【００５８】マイクロレンズ基板１Ａでは、均一厚さ部
分８１により、前述した効果が得られる。

【００５９】図２に示すように、マイクロレンズ基板１
Ｂでは、マイクロレンズ非形成領域１００に、樹脂層４
の厚さが均一で、かつ、前記式（Ｉ）を満足している部
分（以下、「均一厚さ部分８２」という）を有している
ことを特徴とする。この均一厚さ部分８２は、ガラス層
３の厚さを調整し、薄くすることにより形成されてい
る。

【００６０】マイクロレンズ基板１Ｂでは、均一厚さ部
分８２により、前述した効果が得られる。

【００６１】厚さが均一な部分をマイクロレンズ基板に
設ける場合、かかる厚さが均一な部分の面積は、マイク
ロレンズ非形成領域１００の３０％以上を占めることが
好ましく、５０％以上を占めることがより好ましい。こ
れにより、マイクロレンズ基板のそり、たわみ等の欠陥
を、より好適に抑制することができる。

【００６２】図３に示すように、マイクロレンズ基板１
Ｃでは、マイクロレンズ非形成領域１００に、マイクロ
レンズ７とほぼ相似形状（同一形状も含む）の凸部８３
を多数設けたことを特徴とする。かかる凸部８３によ
り、マイクロレンズ非形成領域１００に、前記式（Ｉ）
を満たす部分が形成される。

【００６３】マイクロレンズ基板１Ｃでは、かかる凸部
８３により、前述した効果が得られる。

【００６４】図４に示すように、マイクロレンズ基板１
Ｄでは、マイクロレンズ非形成領域１００に、前記凸部
８３と同様の凸部８４を多数設けたことを特徴とする。
かかる凸部８４により、マイクロレンズ非形成領域１０
０に、前記式（Ｉ）を満たす部分が形成される。

【００６５】かかる凸部８４の配設密度は、マイクロレ
ンズ形成領域９９の近傍からマイクロレンズ基板１Ｄの
縁部に向かって漸減する傾向を有している。すなわち、
マイクロレンズ基板１Ｄでは、マイクロレンズ非形成領
域１００における樹脂層４の局所的な平均厚さをΔＴ
_avr としたとき、かかるΔＴ_avr は、マイクロレンズ形
成領域９９の近傍からマイクロレンズ基板１Ｄの縁部に
向かって漸減する傾向を有している。

【００６６】なお、マイクロレンズ基板１Ｄでは、マイ
クロレンズ形成領域９９の近傍からマイクロレンズ基板
１Ｄの縁部までΔＴ_avr が漸減する傾向を有している
が、マイクロレンズ基板には、マイクロレンズ非形成領
域１００に、ΔＴ_avr が漸減する傾向を有する部位を部
分的に設けてもよい。

【００６７】このようなΔＴ_avr が漸減する傾向を有す
る部位をマイクロレンズ非形成領域１００に設けると、
マイクロレンズ形成領域９９の近傍からマイクロレンズ
基板の縁部に向けて、樹脂層４の厚さの相違による基板
の応力を、連続的に緩和することができるようになる。
このため、マイクロレンズ基板のそり、たわみ等の欠陥
を、より効果的に防止できるようになる。

【００６８】なお、ΔＴ_avr が漸減する傾向を有する部
位は、例えば、凸部８４の高さ（大きさ）を漸次減少さ
せることにより形成してもよい。また、例えば、マイク
ロレンズ非形成領域１００においてガラス基板２または
ガラス層３の樹脂層４との接触面をテーパ状とし、その
結果として、ΔＴ_avr が漸減する傾向を有する部位を、
マイクロレンズ基板に形成してもよい。

【００６９】なお、マイクロレンズ基板１Ｃ、１Ｄのガ
ラス基板２には、凸部８３、８４を形成すべく、凸部８
３、８４に対応した形状の小凹部８３１、８４１が、そ
れぞれ形成されている。

【００７０】マイクロレンズ基板１Ｃ、１Ｄでは、これ
ら凸部８３、８４および小凹部８３１、８４１により、
樹脂層４とガラス基板２の密着力が向上し（アンカー効
果）、界面剥離をより確実に防止できる。これは、樹脂
層４のガラス基板２に対する接触面積が増大することに
よる。

【００７１】かかる観点からは、凸部８３、８４は、マ
イクロレンズ非形成領域１００のほぼ全域にわたって設
けられていることが好ましい。

【００７２】ただし、マイクロレンズ基板には、アライ
メントマーク等の特定の機能を有する部位が設けられる
ことが多い。このような部位には、凸部を設けることが
困難な場合がある。特に、アライメントマークの設けら
れた部位に凸部が設けられていると、かかる凸部がレン
ズとして機能しうるので、凸部が自動アライメントを行
う際の妨げとなる場合がある。このような点を考慮する
と、凸部８３、８４をマイクロレンズ非形成領域１００
のほぼ全域に設ける場合でも、アライメントマーク等の
特定の機能を有する部位には、凸部８３、８４を設けな
くてもよい。

【００７３】このようなマイクロレンズ基板１Ａ、１
Ｂ、１Ｃおよび１Ｄが液晶パネルに用いられ、かかる液
晶パネルがガラス基板２以外のガラス基板（例えば後述
するガラス基板１７１等）を有する場合には、ガラス基
板２やガラス層３の熱膨張係数は、かかる液晶パネルが
有する他のガラス基板の熱膨張係数とほぼ等しいもので
あることが好ましい。このように、ガラス基板２やガラ
ス層３の熱膨張係数と液晶パネルが有する他のガラス基
板の熱膨張係数とをほぼ等しいものとすると、得られる
液晶パネルでは、温度が変化したときに二者の熱膨張係
数が違うことにより生じるそり、たわみ等が防止され
る。

【００７４】かかる観点からは、ガラス基板２やガラス
層３と、液晶パネルが有する他のガラス基板とは、同じ
材質で構成されていることが好ましい。これにより、温
度変化時の熱膨張係数の相違によるそり、たわみ等が効
果的に防止される。

【００７５】特に、マイクロレンズ基板１Ａ、１Ｂ、１
Ｃおよび１Ｄを高温ポリシリコンのＴＦＴ液晶パネルに
用いる場合には、ガラス基板２およびガラス層３は、石
英ガラスで構成されていることが好ましい。ＴＦＴ液晶
パネルは、液晶駆動基板としてＴＦＴ基板を有してい
る。かかるＴＦＴ基板には、製造時の環境により特性が
変化しにくい石英ガラスが好ましく用いられる。このた
め、これに対応させて、ガラス基板２およびガラス層３
を石英ガラスで構成することにより、そり、たわみ等の
生じにくい、安定性に優れたＴＦＴ液晶パネルを得るこ
とができる。

【００７６】樹脂層４は、例えば、ガラス基板２の屈折
率よりも高い屈折率の光学接着剤などで構成されている
ことが好ましい。

【００７７】ガラス基板２の厚さは、ガラス基板２を構
成する材料、屈折率等の種々の条件により異なるが、通
常、０．３〜３mm程度とされ、より好ましくは０．５〜
２mm程度とされる。

【００７８】ガラス層３の厚さは、マイクロレンズ基板
１Ａ、１Ｂ、１Ｃおよび１Ｄが液晶パネルに用いられる
場合、必要な光学特性を得る観点からは、通常、１０〜
１０００μm 程度とされ、より好ましくは２０〜１５０
μm 程度とされる。

【００７９】樹脂層４の厚さ、より具体的には、ガラス
基板２（本来の厚みを有しているところ）とガラス層３
の互いに対向する端面間の距離は、０．１〜１００μm
程度が好ましく、１〜２０μm 程度がより好ましい。

【００８０】マイクロレンズ７の曲率半径は、マイクロ
レンズ基板１Ａ、１Ｂ、１Ｃおよび１Ｄが液晶パネルに
用いられる場合、必要な光学特性を得る観点からは、通
常、３〜５０μm とされ、より好ましくは５〜２０μm
とされる。

【００８１】マイクロレンズ基板１Ｃは、例えば以下の
ようにして製造することができる。

【００８２】まず、用意した未加工のガラス基板２の
表面にマスク層を形成する。このとき、ガラス基板２の
裏面に、ガラス基板２の裏面を保護する層を設けてもよ
い。マスク層および裏面を保護する層は、例えば、ＣＶ
Ｄ法等により、ガラス基板２上にポリシリコン等の層を
形成することにより設けることができる。

【００８３】次に、前記マスク層に凹部６および小凹
部８３１に対応した形状、パターンの開口を形成する。
これは、例えば、マスク層上に、開口に対応するパター
ンのレジスト層を形成し、次いで、エッチング（例えば
ＣＦガス等によるドライエッチング）を行ない、次い
で、前記レジスト層を除去することにより行うことがで
きる。

【００８４】次に、ガラス基板２に、凹部６および小
凹部８３１を形成する。これは、例えばフッ酸系エッチ
ング液等によるウエットエッチングなどにより行なうこ
とができる。

【００８５】次に、前記マスク層を除去する。これ
は、例えばフッ酸＋硝酸水溶液等によるウエットエッチ
ングなどにより行なうことができる。また、このとき、
前記裏面を保護する層も除去することができる。

【００８６】次に、ガラス層３を、光学接着剤などの
樹脂を介して、ガラス基板２の凹部６が形成された面に
接合する。

【００８７】次に、必要に応じて、ガラス層３の厚さ
を例えば研削、研磨等により調整する。

【００８８】このようにマイクロレンズ基板１Ｃを製造
すると、小凹部８３１は、凹部６の形成と同時に形成さ
れるので、工程数を特段に増やさずに、凸部８３に対応
する部分を形成することができる。

【００８９】なお、マイクロレンズ基板１Ｄも、マイク
ロレンズ基板１Ｃと同様に製造することができる。この
とき、マイクロレンズ基板１Ｄのように、凸部８４の配
設密度がマイクロレンズ基板１Ｄの縁部に向かって漸減
する傾向を有していると、マイクロレンズ基板１Ｄの縁
部近傍では、凸部８４同士の間隔が大きくなる。このた
め、マイクロレンズ基板１Ｄでは、凸部８４の直径等
を、非常に正確かつ容易に測定できるようになる。とこ
ろで、マイクロレンズ基板１Ｄを連続して多数製造する
ときに、同一のエッチング液を使用し続けて、凹部６お
よび小凹部８３１を形成すると（前記工程参照）、エ
ッチング液が徐々に劣化する。このため、エッチングレ
ートが徐々に低下し、所定の大きさの凹部６および小凹
部８３１を形成するためのエッチング時間が、徐々に変
化する。このとき、マイクロレンズ基板１Ｄのように、
小凹部８３１の直径等を正確に測定することができる
と、次のバッチ（新たなマイクロレンズ基板１Ｄを製造
する際の凹部６および小凹部８３１を形成する工程（前
記工程参照））におけるエッチング時間を正確に決め
ることが可能となる。

【００９０】マイクロレンズ基板１Ａは、例えば、ガラ
ス層３をガラス基板２に接合する前に（直前の工程でな
くてもよい）、ガラス基板２の均一厚さ部分８１となる
ところの厚さを調整することにより（例えば研削、研磨
等を行なうことにより）、前記と同様に製造することが
できる。

【００９１】また、マイクロレンズ基板１Ｂは、例え
ば、ガラス層３をガラス基板２に接合する前に（直前の
工程でなくてもよい）、ガラス層３の均一厚さ部分８２
となるところの厚さを調整することにより（例えば研
削、研磨、エッチング等を行なうことにより）、前記と
同様に製造することができる。

【００９２】なお、本発明のマイクロレンズ基板は、本
発明の技術思想を逸脱しない範囲内であれば、上述した
実施形態に限定されないことは言うまでもない。

【００９３】例えば、マイクロレンズ非形成領域で、ガ
ラス基板およびガラス層の双方の厚さをそれぞれ調整す
ることにより、前述した式（Ｉ）を満足する部分を形成
してもよい。

【００９４】また、例えば、ガラス基板またはガラス層
の厚さを調整するとともに、前述したような凸部を設け
て前述した式（Ｉ）を満足する部分を形成してもよい。

【００９５】本発明のマイクロレンズ基板は、以下に述
べる液晶パネル用対向基板および液晶パネル以外にも、
ＣＣＤ用マイクロレンズ基板、光通信素子用マイクロレ
ンズ基板等の各種基板、各種用途に用いることができる
ことは言うまでもない。

【００９６】以上述べたようなマイクロレンズ基板１
Ａ、１Ｂ、１Ｃおよび１Ｄのガラス層３上に、例えば、
開口１１１を有するブラックマトリックス（遮光膜）１
１を形成し、次いで、かかるブラックマトリックス１１
を覆うように透明導電膜１２を形成することにより、液
晶パネル用対向基板１０を製造することができる（図６
参照）。

【００９７】ブラックマトリックス１１は、例えば、C
r、Al、Al合金、Ni、Zn、Ti等の金属、カーボンやチタ
ン等を分散した樹脂などで構成されている。

【００９８】透明導電膜１２は、例えば、インジウムテ
ィンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムオキサイド（Ｉ
Ｏ）、酸化スズ（SnO₂）などで構成されている。

【００９９】ブラックマトリックス１１は、例えば、ガ
ラス層３上に気相成膜法（例えば蒸着、スパッタリング
等）によりブラックマトリックス１１となる薄膜を成膜
し、次いで、かかる薄膜上に開口１１１のパターンを有
するレジスト膜を形成し、次いで、ウエットエッチング
を行い前記薄膜に開口１１１を形成し、次いで、前記レ
ジスト膜を除去することにより設けることができる。

【０１００】また、透明導電膜１２は、例えば、蒸着、
スパッタリング等の気相成膜法により設けることができ
る。

【０１０１】なお、ブラックマトリックス１１は、設け
なくてもよい。

【０１０２】以下、このような液晶パネル用対向基板を
用いた液晶パネル（液晶光シャッター）について、図６
に基づいて説明する。

【０１０３】図６に示すように、本発明の液晶パネル
（ＴＦＴ液晶パネル）１６は、ＴＦＴ基板（液晶駆動基
板）１７と、ＴＦＴ基板１７に接合された液晶パネル用
対向基板１０と、ＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向基
板１０との空隙に封入された液晶よりなる液晶層１８と
を有している。

【０１０４】液晶パネル用対向基板１０は、マイクロレ
ンズ基板１Ａと、かかるマイクロレンズ基板１Ａのガラ
ス層３上に設けられ、開口１１１が形成されたブラック
マトリックス１１と、ガラス層３上にブラックマトリッ
クス１１を覆うように設けられた透明導電膜（共通電
極）１２とを有している。

【０１０５】ＴＦＴ基板１７は、液晶層１８の液晶を駆
動するための基板であり、ガラス基板１７１と、かかる
ガラス基板１７１上に設けられた多数の個別電極１７２
と、かかる個別電極１７２の近傍に設けられ、各個別電
極１７２に対応する多数の薄膜トランジスター（ＴＦ
Ｔ）１７３とを有している。なお、図では、シール材、
配向膜、配線などの記載は省略した。

【０１０６】この液晶パネル１６では、液晶パネル用対
向基板１０の透明導電膜１２と、ＴＦＴ基板１７の個別
電極１７２とが対向するように、ＴＦＴ基板１７と液晶
パネル用対向基板１０とが、一定距離離間して接合され
ている。

【０１０７】ガラス基板１７１は、前述したような理由
から、石英ガラスで構成されていることが好ましい。

【０１０８】個別電極１７２は、透明導電膜（共通電
極）１２との間で充放電を行うことにより、液晶層１８
の液晶を駆動する。この個別電極１７２は、例えば、前
述した透明導電膜１２と同様の材料で構成されている。

【０１０９】薄膜トランジスター１７３は、近傍の対応
する個別電極１７２に接続されている。また、薄膜トラ
ンジスター１７３は、図示しない制御回路に接続され、
個別電極１７２へ供給する電流を制御する。これによ
り、個別電極１７２の充放電が制御される。

【０１１０】液晶層１８は液晶分子（図示せず）を含有
しており、個別電極１７２の充放電に対応して、かかる
液晶分子、すなわち液晶の配向が変化する。

【０１１１】この液晶パネル１６では、通常、１個のマ
イクロレンズ７と、かかるマイクロレンズ７の光軸Ｑに
対応したブラックマトリックス１１の１個の開口１１１
と、１個の個別電極１７２と、かかる個別電極１７２に
接続された１個の薄膜トランジスター１７３とが、１画
素に対応している。

【０１１２】液晶パネル用対向基板１０側から入射した
入射光Ｌは、ガラス基板２を通り、マイクロレンズ７を
通過する際に集光されつつ、樹脂層４、ガラス層３、ブ
ラックマトリックス１１の開口１１１、透明導電膜１
２、液晶層１８、個別電極１７２、ガラス基板１７１を
透過する。なお、このとき、マイクロレンズ基板１Ａの
入射側には通常偏光板（図示せず）が配置されているの
で、入射光Ｌが液晶層１８を透過する際に、入射光Ｌは
直線偏光となっている。その際、この入射光Ｌの偏光方
向は、液晶層１８の液晶分子の配向状態に対応して制御
される。したがって、液晶パネル１６を透過した入射光
Ｌを、偏光板（図示せず）に透過させることにより、出
射光の輝度を制御することができる。

【０１１３】なお、偏光板は、例えば、ベース基板と、
かかるベース基板に積層された偏光基材とで構成され、
かかる偏光基材は、例えば、偏光素子（ヨウ素錯体、二
色性染料等）を添加した樹脂よりなる。

【０１１４】このように、液晶パネル１６は、マイクロ
レンズ７を有しており、しかも、マイクロレンズ７を通
過した入射光Ｌは、集光されてブラックマトリックス１
１の開口１１１を通過する。一方、ブラックマトリック
ス１１の開口１１１が形成されていない部分では、入射
光Ｌは遮光される。したがって、液晶パネル１６では、
画素以外の部分から不要光が漏洩することが防止され、
かつ、画素部分での入射光Ｌの減衰が抑制される。この
ため、液晶パネル１６は、画素部で高い光の透過率を有
し、比較的小さい光量で明るく鮮明な画像を形成するこ
とができる。

【０１１５】この液晶パネル１６は、例えば、公知の方
法により製造されたＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向
基板１０とを配向処理した後、シール材（図示せず）を
介して両者を接合し、次いで、これにより形成された空
隙部の封入孔（図示せず）より液晶を空隙部内に注入
し、次いで、かかる封入孔を塞ぐことにより製造するこ
とができる。その後、必要に応じて、液晶パネル１６の
入射側や出射側に偏光板を貼り付けてもよい。

【０１１６】なお、上記液晶パネル１６では、液晶駆動
基板としてＴＦＴ基板を用いたが、液晶駆動基板にＴＦ
Ｔ基板以外の他の液晶駆動基板、例えば、ＴＦＤ基板、
ＳＴＮ基板などを用いてもよい。

【０１１７】以下、上記液晶パネル１６を用いた投射型
表示装置について説明する。

【０１１８】図７は、本発明の投射型表示装置の光学系
を模式的に示す図である。

【０１１９】同図に示すように、投射型表示装置３００
は、光源３０１と、複数のインテグレータレンズを備え
た照明光学系と、複数のダイクロイックミラー等を備え
た色分離光学系（導光光学系）と、赤色に対応した（赤
色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）
２４と、緑色に対応した（緑色用の）液晶ライトバルブ
（液晶光シャッターアレイ）２５と、青色に対応した
（青色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレ
イ）２６と、赤色光のみを反射するダイクロイックミラ
ー面２１１および青色光のみを反射するダイクロイック
ミラー面２１２が形成されたダイクロイックプリズム
（色合成光学系）２１と、投射レンズ（投射光学系）２
２とを有している。

【０１２０】また、照明光学系は、インテグレータレン
ズ３０２および３０３を有している。色分離光学系は、
ミラー３０４、３０６、３０９、青色光および緑色光を
反射する（赤色光のみを透過する）ダイクロイックミラ
ー３０５、緑色光のみを反射するダイクロイックミラー
３０７、青色光のみを反射するダイクロイックミラー
（または青色光を反射するミラー）３０８、集光レンズ
３１０、３１１、３１２、３１３および３１４とを有し
ている。

【０１２１】液晶ライトバルブ２５は、前述した液晶パ
ネル１６と、液晶パネル１６の入射面側（マイクロレン
ズ基板が位置する面側、すなわちダイクロイックプリズ
ム２１と反対側）に接合された第１の偏光板（図示せ
ず）と、液晶パネル１６の出射面側（マイクロレンズ基
板と対向する面側、すなわちダイクロイックプリズム２
１側）に接合された第２の偏光板（図示せず）とを備え
ている。液晶ライトバルブ２４および２６も、液晶ライ
トバルブ２５と同様の構成となっている。これら液晶ラ
イトバルブ２４、２５および２６が備えている液晶パネ
ル１６は、図示しない駆動回路にそれぞれ接続されてい
る。

【０１２２】なお、投射型表示装置３００では、ダイク
ロイックプリズム２１と投射レンズ２２とで、光学ブロ
ック２０が構成されている。また、この光学ブロック２
０と、ダイクロイックプリズム２１に対して固定的に設
置された液晶ライトバルブ２４、２５および２６とで、
表示ユニット２３が構成されている。

【０１２３】以下、投射型表示装置３００の作用を説明
する。

【０１２４】光源３０１から出射された白色光（白色光
束）は、インテグレータレンズ３０２および３０３を透
過する。この白色光の光強度（輝度分布）は、インテグ
レータレンズ３０２および３０３により均一にされる。

【０１２５】インテグレータレンズ３０２および３０３
を透過した白色光は、ミラー３０４で図７中左側に反射
し、その反射光のうちの青色光（Ｂ）および緑色光
（Ｇ）は、それぞれダイクロイックミラー３０５で図７
中下側に反射し、赤色光（Ｒ）は、ダイクロイックミラ
ー３０５を透過する。

【０１２６】ダイクロイックミラー３０５を透過した赤
色光は、ミラー３０６で図７中下側に反射し、その反射
光は、集光レンズ３１０により整形され、赤色用の液晶
ライトバルブ２４に入射する。

【０１２７】ダイクロイックミラー３０５で反射した青
色光および緑色光のうちの緑色光は、ダイクロイックミ
ラー３０７で図７中左側に反射し、青色光は、ダイクロ
イックミラー３０７を透過する。

【０１２８】ダイクロイックミラー３０７で反射した緑
色光は、集光レンズ３１１により整形され、緑色用の液
晶ライトバルブ２５に入射する。

【０１２９】また、ダイクロイックミラー３０７を透過
した青色光は、ダイクロイックミラー（またはミラー）
３０８で図７中左側に反射し、その反射光は、ミラー３
０９で図７中上側に反射する。前記青色光は、集光レン
ズ３１２、３１３および３１４により整形され、青色用
の液晶ライトバルブ２６に入射する。

【０１３０】このように、光源３０１から出射された白
色光は、色分離光学系により、赤色、緑色および青色の
三原色に色分離され、それぞれ、対応する液晶ライトバ
ルブに導かれ、入射する。

【０１３１】この際、液晶ライトバルブ２４が有する液
晶パネル１６の各画素（薄膜トランジスター１７３とこ
れに接続された個別電極１７２）は、赤色用の画像信号
に基づいて作動する駆動回路（駆動手段）により、スイ
ッチング制御（オン／オフ）、すなわち変調される。

【０１３２】同様に、緑色光および青色光は、それぞ
れ、液晶ライトバルブ２５および２６に入射し、それぞ
れの液晶パネル１６で変調され、これにより緑色用の画
像および青色用の画像が形成される。この際、液晶ライ
トバルブ２５が有する液晶パネル１６の各画素は、緑色
用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッ
チング制御され、液晶ライトバルブ２６が有する液晶パ
ネル１６の各画素は、青色用の画像信号に基づいて作動
する駆動回路によりスイッチング制御される。

【０１３３】これにより赤色光、緑色光および青色光
は、それぞれ、液晶ライトバルブ２４、２５および２６
で変調され、赤色用の画像、緑色用の画像および青色用
の画像がそれぞれ形成される。

【０１３４】前記液晶ライトバルブ２４により形成され
た赤色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２４からの
赤色光は、面２１３からダイクロイックプリズム２１に
入射し、ダイクロイックミラー面２１１で図７中左側に
反射し、ダイクロイックミラー面２１２を透過して、出
射面２１６から出射する。

【０１３５】また、前記液晶ライトバルブ２５により形
成された緑色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２５
からの緑色光は、面２１４からダイクロイックプリズム
２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１１および２
１２をそれぞれ透過して、出射面２１６から出射する。

【０１３６】また、前記液晶ライトバルブ２６により形
成された青色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ２６
からの青色光は、面２１５からダイクロイックプリズム
２１に入射し、ダイクロイックミラー面２１２で図７中
左側に反射し、ダイクロイックミラー面２１１を透過し
て、出射面２１６から出射する。

【０１３７】このように、前記液晶ライトバルブ２４、
２５および２６からの各色の光、すなわち液晶ライトバ
ルブ２４、２５および２６により形成された各画像は、
ダイクロイックプリズム２１により合成され、これによ
りカラーの画像が形成される。この画像は、投射レンズ
２２により、所定の位置に設置されているスクリーン３
２０上に投影（拡大投射）される。

【０１３８】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、そ
り、たわみ、剥離等の欠陥が生じにくいマイクロレンズ
基板を提供することができる。

【０１３９】さらには、本発明によれば、マイクロレン
ズ基板を構成する各層の密着性が高いマイクロレンズ基
板を提供することができる。

【０１４０】さらには、本発明によれば、画像を好適に
投射できる液晶パネルおよび投射型表示装置を提供する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のマイクロレンズ基板の第１実施形態を
示す模式的な縦断面図である。

【図２】本発明のマイクロレンズ基板の第２実施形態を
示す模式的な縦断面図である。

【図３】本発明のマイクロレンズ基板の第３実施形態を
示す模式的な縦断面図である。

【図４】本発明のマイクロレンズ基板の第４実施形態を
示す模式的な縦断面図である。

【図５】本発明のマイクロレンズ基板の実施形態を説明
するための模式的な平面図である。

【図６】本発明の液晶パネルの実施例を示す模式的な縦
断面図である。

【図７】本発明の実施例における投射型表示装置の光学
系を模式的に示す図である。

【図８】従来のマイクロレンズ基板を示す模式的な縦断
面図である。

【符号の説明】 １Ａ、１Ｂ、１Ｃ、１Ｄ マイクロレンズ基板 ９９ マイクロレンズ形成領域 １００ マイクロレンズ非形成領域 ２ ガラス基板 ３ ガラス層 ４ 樹脂層 ６ 凹部 ７ マイクロレンズ ８１、８２ 均一厚さ部分 ８３、８４ 凸部 ８３１、８４１ 小凹部 ８９ 枠 １０ 液晶パネル用対向基板 １１ ブラックマトリックス １１１ 開口 １２ 透明導電膜 １６ 液晶パネル １７ ＴＦＴ基板 １７１ ガラス基板 １７２ 個別電極 １７３ 薄膜トランジスター １８ 液晶層 ２０ 光学ブロック ２１ ダイクロイックプリズム ２１１、２１２ ダイクロイックミラー面 ２１３〜２１５ 面 ２１６ 出射面 ２２ 投射レンズ ２３ 表示ユニット ２４〜２６ 液晶ライトバルブ ３００ 投射型表示装置 ３０１ 光源 ３０２、３０３ インテグレータレンズ ３０４、３０６、３０９ ミラー ３０５、３０７、３０８ ダイクロイックミラー ３１０〜３１４ 集光レンズ ３２０ スクリーン ９００ マイクロレンズ基板 ９０２ ガラス基板 ９０３ ガラス層 ９０４ 樹脂層 ９０６ 凹部 ９０７ マイクロレンズ ９０８ マイクロレンズ非形成領域 ９０９ マイクロレンズ形成領域

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｂ 33/12 Ｇ０３Ｂ 33/12 (72)発明者 四谷 真一 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 2H088 EA14 HA08 HA13 HA14 HA18 HA21 HA24 HA25 HA28 MA20 2H089 QA01 QA12 TA06 TA09 TA12 TA13 TA15 TA16 TA17 TA18 UA05 2H090 JB02 JD18 LA04 LA05 LA09 LA12 LA15 LA16 LA20 2H091 FA05Z FA08X FA08Z FA14Z FA26X FA26Z FA29Z FA35Y FA41Z FB02 FD14 GA03 GA13 LA01 LA12 MA07

Claims (22)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 多数の凹部が設けられたガラス基板と、
   該ガラス基板に樹脂層を介して接合されたガラス層とを
   有し、前記凹部内に充填された樹脂によりマイクロレン
   ズが構成されたマイクロレンズ基板であって、 マイクロレンズ形成領域内における樹脂層の最大厚さを
   Ｔ_max 、マイクロレンズ形成領域内における樹脂層の最
   小厚さをＴ_min としたとき、 マイクロレンズ形成領域外における樹脂層の厚さＴが、
   Ｔ_min ＜Ｔ≦Ｔ_max なる関係を満足する部分を有するこ
   とを特徴とするマイクロレンズ基板。
2. 【請求項２】 前記マイクロレンズ形成領域外の全面積
   をＳ₁ 、前記マイクロレンズ形成領域外において、前記
   式Ｔ_min ＜Ｔ≦Ｔ_max を満足する部分の面積をＳ₂ とし
   たとき、 ０．２≦Ｓ₂ ／Ｓ₁ ≦１なる関係を満足する請求項１に
   記載のマイクロレンズ基板。
3. 【請求項３】 前記マイクロレンズ形成領域外における
   前記樹脂層の平均厚さをＴ_avr としたとき、 Ｔ_min ＜Ｔ_avr ≦Ｔ_max なる関係を満足する請求項１ま
   たは２に記載のマイクロレンズ基板。
4. 【請求項４】 前記マイクロレンズ形成領域外における
   前記樹脂層の平均厚さをＴ_avr としたとき、 １．１Ｔ_min ≦Ｔ_avr ≦０．９Ｔ_max なる関係を満足す
   る請求項１または２に記載のマイクロレンズ基板。
5. 【請求項５】 前記マイクロレンズ形成領域は、マイク
   ロレンズ基板の中央部に形成され、かつ、四角形をなし
   ており、 その四角形の各辺の近傍に、前記式Ｔ_min ＜Ｔ≦Ｔ_max
   を満足する部分を有する請求項１ないし４のいずれかに
   記載のマイクロレンズ基板。
6. 【請求項６】 前記マイクロレンズ形成領域外における
   前記樹脂層の局所的な平均厚さをΔＴ_avr としたとき、
   該ΔＴ_avr がマイクロレンズ基板の縁部に向かって漸減
   する傾向を有する部位を有する請求項１ないし５のいず
   れかに記載のマイクロレンズ基板。
7. 【請求項７】 前記Ｔ_max と前記Ｔ_min とが、１．３≦
   Ｔ_max ／Ｔ_min ≦３０なる関係を満足する請求項１ない
   し６のいずれかに記載のマイクロレンズ基板。
8. 【請求項８】 前記マイクロレンズ形成領域外に、前記
   樹脂層の厚さが均一な部分を有する請求項１ないし７の
   いずれかに記載のマイクロレンズ基板。
9. 【請求項９】 前記マイクロレンズ形成領域外の前記式
   Ｔ_min ＜Ｔ≦Ｔ_maxを満足する領域内に、前記樹脂層の
   厚さが均一な部分を有する請求項１ないし８のいずれか
   に記載のマイクロレンズ基板。
10. 【請求項１０】 前記樹脂層の厚さが均一な部分の面積
    は、前記マイクロレンズ形成領域外の面積の３０％以上
    を占める請求項８または９に記載のマイクロレンズ基
    板。
11. 【請求項１１】 前記樹脂層は、前記マイクロレンズ形
    成領域外に、前記マイクロレンズとほぼ相似形状の凸部
    を有する請求項１ないし１０のいずれかに記載のマイク
    ロレンズ基板。
12. 【請求項１２】 前記凸部は、前記マイクロレンズ形成
    領域外のほぼ全域にわたって多数設けられている請求項
    １１に記載のマイクロレンズ基板。
13. 【請求項１３】 前記式Ｔ_min ＜Ｔ≦Ｔ_max を満足する
    部分は、前記マイクロレンズ形成領域外における前記ガ
    ラス基板の厚さを調整することによって形成されている
    請求項１ないし１２のいずれかに記載のマイクロレンズ
    基板。
14. 【請求項１４】 前記式Ｔ_min ＜Ｔ≦Ｔ_max を満足する
    部分は、前記マイクロレンズ形成領域外における前記ガ
    ラス層の厚さを調整することによって形成されている請
    求項１ないし１３のいずれかに記載のマイクロレンズ基
    板。
15. 【請求項１５】 前記式Ｔ_min ＜Ｔ≦Ｔ_max を満足する
    部分は、前記凹部を形成する際に同時に形成されたもの
    である請求項１ないし１４のいずれかに記載のマイクロ
    レンズ基板。
16. 【請求項１６】 請求項１ないし１５のいずれかに記載
    のマイクロレンズ基板と、前記ガラス層上に設けられた
    透明導電膜とを有することを特徴とする液晶パネル用対
    向基板。
17. 【請求項１７】 請求項１ないし１５のいずれかに記載
    のマイクロレンズ基板と、前記ガラス層上に設けられた
    ブラックマトリックスと、該ブラックマトリックスを覆
    う透明導電膜とを有することを特徴とする液晶パネル用
    対向基板。
18. 【請求項１８】 請求項１６または１７に記載の液晶パ
    ネル用対向基板を備えたことを特徴とする液晶パネル。
19. 【請求項１９】 個別電極を備えた液晶駆動基板と、該
    液晶駆動基板に接合された請求項１６または１７に記載
    の液晶パネル用対向基板と、前記液晶駆動基板と前記液
    晶パネル用対向基板との空隙に封入された液晶とを有す
    ることを特徴とする液晶パネル。
20. 【請求項２０】 前記液晶駆動基板はＴＦＴ基板である
    請求項１９に記載の液晶パネル。
21. 【請求項２１】 請求項１８ないし２０のいずれかに記
    載の液晶パネルを備えたライトバルブを有し、該ライト
    バルブを少なくとも１個用いて画像を投射することを特
    徴とする投射型表示装置。
22. 【請求項２２】 画像を形成する赤色、緑色および青色
    に対応した３つのライトバルブと、光源と、該光源から
    の光を赤色、緑色および青色の光に分離し、前記各光を
    対応する前期ライトバルブに導く色分離光学系と、前記
    各画像を合成する色合成光学系と、前記合成された画像
    を投射する投射光学系とを有する投射型表示装置であっ
    て、 前記ライトバルブは、請求項１８ないし２０のいずれか
    に記載の液晶パネルを備えたことを特徴とする投射型表
    示装置。