JP4055602B2 - 高周波加熱調理装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高周波及び蒸気によって被加熱物を加熱調理する高周波加熱調理装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、この種の高周波加熱調理装置としては、種々のものが知られている(例えば、特許文献1、2参照)。
【0003】
これらの一つは、図5に示すように、水を入れるための溝1を有する被加熱物の載置台2を備え、マグネトロン3を動作させることで、加熱室4内に水蒸気を発生させながら被加熱物を加熱するものである。また、他のものとしては、図6に示すように、ミストを発生させる超音波加湿装置5を備え、超音波加湿手段5を動作させることで、ミストを発生しながらマグネトロン6を動作させ、乾燥を防止しながら加熱室7内の被加熱物を加熱するものである。
【0004】
【特許文献1】
特開平6−249445号公報
【0005】
【特許文献2】
特開平5−52342号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の高周波加熱調理装置において、蒸気生成にマグネトロンを用いたものでは、エネルギー効率が悪いうえ、高周波の出力条件や被加熱物の条件により、蒸気発生に至る前に被加熱物に熱が入ることもあり、被加熱物が最適な水分量を保持する調理はできなかった。また、この構成では冷凍食品の蒸気を用いた加熱調理を行うためには解凍動作後に水を補う動作が必要となるか、調理時間が大幅に長くなるという課題があった。
【0007】
また、超音波加湿装置でミストを発生させながらマグネトロンを動作させるものでは、ミストに高周波が作用しにくいため、被加熱物に付着した水分を高周波で加熱する様になっており、スチームの有する熱エネルギーを被加熱物の外部から与えるようにはなっておらず、調理時間が長くなるうえ、「しっとり」、「ふっくら」というイメージの最適な調理方法とはいえなかった。
【0008】
本発明は、上記従来の課題を解決するもので、最適な調理方法で被加熱物の美味しさを引き出すとともに短時間調理が可能な高周波加熱調理装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明の高周波加熱調理装置は、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室に供給する電波を発生する高周波発生手段と、前記加熱室に蒸気を供給し蒸発部及びこの蒸発部を加熱する加熱部をそれぞれ設けた複数の蒸気発生手段と、前記高周波発生手段及び前記複数の蒸気発生手段の制御を行う制御手段とを備え、前記制御手段は、前記高周波発生手段と前記複数の蒸気発生手段の併用使用による加熱調理、複数の蒸気発生手段による加熱調理、複数の蒸気発生手段の単独による加熱調理を行わせる構成とし、前記各加熱調理は前記複数の蒸気発生手段をそれぞれ動作制御して被加熱物に供給する蒸気供給量や蒸気供給場所を可変できるものである。
【0010】
これにより、被加熱物への蒸気供給量や供給場所等を制御すること、つまり高周波発生手段と蒸気発生手段の併用使用による加熱調理と、複数の蒸気発生手段使用による加熱調理と、複数の蒸気発生手段のうちの単独による加熱調理を実現し、最適な調理方法で被加熱物の美味しさを引き出すとともに、被加熱物の内外からの加熱により短時間調理が可能となるものである。
【0011】
【発明の実施の形態】
請求項1に記載の発明は、被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室に供給する電波を発生する高周波発生手段と、前記加熱室に蒸気を供給し蒸発部及びこの蒸発部を加熱する加熱部をそれぞれ設けた複数の蒸気発生手段と、前記高周波発生手段及び前記複数の蒸気発生手段の制御を行う制御手段とを備え、前記制御手段は、前記高周波発生手段と前記複数の蒸気発生手段の併用使用による加熱調理、複数の蒸気発生手段による加熱調理、複数の蒸気発生手段の単独による加熱調理を行わせる構成とし、前記各加熱調理は前記複数の蒸気発生手段をそれぞれ動作制御して被加熱物に供給する蒸気供給量や蒸気供給場所を可変できることにより、被加熱物への蒸気供給量や供給場所等を制御すること、つまり高周波発生手段と蒸気発生手段の併用使用による加熱調理と、複数の蒸気発生手段使用による加熱調理と、複数の蒸気発生手段のうちの単独による加熱調理を実現し、最適な調理方法で被加熱物の美味しさを引き出すとともに、被加熱物の内外からの加熱により短時間調理が可能となるものである。
【0012】
請求項2に記載の発明は、蒸気発生手段は、水を加熱しながら搬送する湯水搬送部と、前記湯水搬送部で搬送した湯水を気化させる蒸発部と、蒸発部を加熱する加熱部とを有する請求項1に記載の高周波加熱調理装置とすることにより、水を加熱しながら搬送するため、滞留させながら加熱する場合と比較して、加熱側と受熱側の温度差の関係から熱伝達効率が向上する。また、蒸発部では予め昇温させた熱エネルギー分だけ、伝達量が減少できるうえ、水の粘性が低減するため蒸発部と水の接触面積が増大し熱の伝達効率が向上する。また、蒸発部の表面積や蒸発部の熱容量を小さくすることが可能となり、放熱ロスも低減される。よって、蒸気発生の熱効率向上に加え、短時間での蒸気発生が可能となる。
【0013】
請求項3に記載の発明は、複数の蒸気発生手段は、一つの貯水手段から給水される構成とした請求項1または2に記載の高周波加熱調理装置とすることにより、合理的な構成により、使用者は水を供給するわずらわしさを感じることなく、満足する調理性能が得られる。
【0014】
請求項4に記載の発明は、湯水搬送部の内部で局部沸騰を発生させて水を搬送する請求項2または3に記載の高周波加熱調理装置とすることにより、湯水搬送部の水は局部沸騰により蒸発部側に移動する。蒸発部では、加熱手段で予め加熱されており、湯が蒸発部に少量滴下されることで直ちに蒸気となり、被加熱物の最適調理ができるようになる。
【0015】
請求項5に記載の発明は、蒸発部には、蒸気を吐出する開口部を有する着脱可能な蒸発部カバーを備えた請求項2〜4のいずれか1項に記載の高周波加熱調理装置とすることにより、水を気化させる際に水滴が飛散することや、蒸発部にカルシウムやマグネシウム等のスケール成分が析出し、気化の際に加熱室内に拡散することが、蒸発部カバーにより阻止される。また、析出するスケールなどの蒸発残さが、直接見えないために、清潔感を保つことができるし、簡単に取外しできることで、清掃も可能となる。
【0016】
請求項6に記載の発明は、蒸気を吐出する開口部には、吐出する蒸気の噴出方向が可変可能な噴出ガイドを備えた請求項5に記載の高周波加熱調理装置とすることにより、被加熱物の種類や形状に応じて噴出ガイドで蒸気の噴出方向を変更し、被加熱物の周囲に蒸気を充満させた状態とすることができ、加熱室全体に蒸気を充満させることなく、加熱調理が可能となる。つまり、加熱室の大きさ等の要因に影響されることなく、効率よく被加熱物の蒸気による美味しい加熱調理ができる。さらには、高周波調理との組み合わせで、調理時間の短縮化も実現できる。
【0017】
請求項7に記載の発明は、噴出ガイドには、蒸気の噴出状態を被加熱物の形状や調理方法に応じて変更できるように噴出部アタッチメントを着脱自在に取り付けた請求項6に記載の高周波加熱調理装置とすることにより、被加熱物の表面に強く蒸気を噴射させたり、加熱室内に均一に拡散させたりすることができることとなり、調理メニューに応じた蒸気の使用が可能となる。よって、最適な調理のできばえとなる。また、簡単に噴出ガイドを取り外すことで清掃が簡単に行える。
【0018】
【実施例】
以下、本発明の実施例について、図面を参照して説明する。
【0019】
図1において、10は高周波加熱調理装置の本体であり、その内部には、被加熱物を収納する加熱室11と、加熱室11に供給する電波を発生する高周波発生手段12と、加熱室11に蒸気を供給する第1の蒸気発生手段13及び第2の蒸気発生手段14(図2参照)と、貯水手段である一つの貯水タンク15などが組み込まれている。前記本体10には、加熱室11の前面の開口を開閉する扉体(図示せず)が開閉自在に枢支され、加熱室11へ被加熱物16を出し入れする際に開閉操作される。
【0020】
また、高周波発生手段12は、加熱室11の外側に配設された、出力アンテナ17を有するマグネトロン18と、マグネトロン18を動作させるためのインバーター電源19と、加熱室11の底面側に配設されたアンテナ20と、マグネトロン18で発生した電波をアンテナ20に給電する導波管21とで構成されており、マグネトロン18は送風機22で強制空冷されている。
【0021】
また、貯水タンク15は、本体10から着脱可能な構成となっており、自由に取り出して給水ができるようになっている。なお、貯水タンク15の底部には、スプリング15aと、これにより弁座15bに付勢され閉止されている弁体15cと、貯水タンク15のセット時に弁体15cをスプリング15aに抗して弁座15bから押し上げて開成するピン15dから構成された弁部を有している。
【0022】
そして、図2に詳細を示しているように、第1の蒸気発生手段13は、シーズヒーターよりなり後記の蒸発部を加熱する加熱部23と、加熱部23を被覆したアルミダイキャストで形成され湯水を気化させ加熱室11に供給する凹状の蒸発部24と、貯水タンク15から逆止弁25を介して蒸発部24に湯水を搬送する配管からなる湯水搬送部26とで形成されている。なお、湯水搬送部26の中間には、貯水タンク15の最高水位より上方側で大気開放される開放口27が設けられている。
【0023】
さらに、貯水タンク15と開放口27の間に位置する湯水搬送部26の一部には、アルミダイキャストを貫通或いはアルミダイキャストに接続するように接続部28が設けられるとともに、この接続部28は加熱部23で発生した発生熱を効率よく受熱できるように銅やアルミニウムなどの熱伝導率の大きい材料で構成されている。これにより、湯水搬送部26は水を加熱しながら、かつ湯水搬送部26内部で局部沸騰をさせて蒸発部24に搬送している。
【0024】
また、第2の蒸気発生手段14も、第1の蒸気発生手段13と同様な構成の、加熱部29と、蒸発部30と、逆止弁31を介して蒸発部30に湯水を搬送する湯水搬送部32と、開放口33と、接続部34が設けられている。作用及び動作も第1の蒸気発生手段13と同様である。
【0025】
そしてまた、図3に示すように、第1の蒸気発生手段13の蒸発部24には、蒸気を吐出する開口部35を有する着脱可能な蒸発部カバー36を備えており、開口部35には、吐出する蒸気の噴出方向が可変可能な、例えば蛇腹ホースなどよりなる噴出ガイド37を備えている。蒸発部カバー36は、蒸発部24からの水滴飛散を防止する水滴飛散防止手段となるものであり、噴出ガイド37は加熱室11内に位置していて、被加熱物16への蒸気の噴出方向が自由に変えられるものである。
【0026】
また、噴出ガイド37の先端には、蒸気の噴出状態を被加熱物16の形状や調理方法に応じて変更できるように噴出部アタッチメント38を着脱自在に取り付けている。この噴出部アタッチメント38は、図4に示すように、複数種類(A)(B)(C)が用意されており、それぞれのアタッチメントにより蒸気の吐出状態が異なるものである。なお、図3、図4に示した構成は、第1の蒸気発生手段13について代表して説明したものであり、第2の蒸気発生手段14も同様な構成を採用しているものである。
【0027】
39はインバーター電源19、第1、第2の蒸気発生手段13、14等の動作制御を行うための制御手段で、被加熱物16への蒸気供給量や供給場所等を制御すること、つまり高周波発生手段12と第1、第2の蒸気発生手段13、14の併用使用による加熱調理と、複数の蒸気発生手段13、14の使用による加熱調理と、蒸気発生手段13、14の単独による加熱調理(少なくともいずれかの手段による)を実現している。
【0028】
次に、加熱室11内に載置した被加熱物16を第1の蒸気発生手段13を用いて蒸気で加熱調理する動作、作用について説明する。
【0029】
貯水タンク15に水を入れ、本体10に貯水タンク15をセットすると、スプリング15aにより、弁座15bに付勢され閉止されていた弁体15cが、ピン15dにより押されて開成される。このようになると、貯水タンク15内の水位と同水位にまで湯水搬送部26、32内部に水が流れ込む。この状態で、加熱室11内に蒸気を発生させるために操作ボタン(図示せず)を操作すると、制御手段39で第1の蒸気発生手段13が動作する。
【0030】
つまり、加熱部23に通電が開始され、その発生熱が蒸発部24及び接続部28を介して湯水搬送部26内に伝熱される。特に、接続部28近辺の湯水搬送部26内部では水の一部分が局部沸騰を起こし、急激に体積膨張する。しかし、湯水搬送部26の貯水タンク15には逆止弁25が設けられており、湯水搬送部26の内圧により逆止弁25が閉止することで逆流が阻止され、湯水搬送部26内の湯水は開放口27側にのみ移動する。ここで開放口27が大気圧に開放されているため、蒸発部24を下方側に位置させても連続して湯水が蒸発部24に供給されないようになっている。
【0031】
また、蒸発部24はアルミダイキャストで構成しているため、加熱部23の発生熱により予め100℃を超える温度に昇温されている。よって、湯水搬送部26から間欠的に蒸発部24に滴下供給された湯水は、極短時間で水蒸気に変化する。また、接続部28と蒸発部24は熱伝導性の大きいアルミダイキャストで接続されていることで、蒸発部24に湯水がある場合は気化に必要なエネルギーが多くなり、湯水搬送部26への伝熱量が若干減少し、蒸発部24への湯水の供給間隔が自動的に長くなる。
【0032】
逆に、蒸発部24の湯水が減少すれば、接続部28への伝熱量が若干増加し、蒸発部24への湯水の供給が自動的に促進される。つまり、設計的な要素を含むがアルミダイキャストのような熱伝導性の大きい材料を介して加熱部23の発生熱を蒸気発生と熱搬送ポンプに使用することで、蒸発及び湯水の供給がバランスする状態となる。
【0033】
また、常にアルミダイキャストを介して水或いは湯を接触させていることで、アルミダイキャストからの放熱ロスが非常に少なくなっている。また、アルミダイキャストで蒸発部24を形成しているために、加熱部23への通電を停止しても、若干の蓄熱が可能あり、繰り返し加熱部23に通電しながら調理する際の立ち上がり性能を早くすることもできる。
【0034】
このように、蒸発部24で蒸気が発生すると、蒸発部24の表面温度や湯水の量により、気化の際に高温の水滴が飛散する場合があるが、蒸発部カバー36により蒸発部24が覆われていることで、加熱室11内部に高温の水滴が飛散することなく蒸気を発生させることができる。
【0035】
また、噴出ガイド37を取り付けた場合には、噴出ガイド37からのみ、さらに噴出部アタッチメント38を取り付けた場合には、噴出部アタッチメント38から蒸気が吐出し、加熱室11内に充満する。また噴出ガイド37は蒸気の噴出方向が可変できるうえ、噴出部アタッチメント38を交換或いは着脱することにより、蒸気の吐出形態を変えることができる。よって、加熱室11内の被加熱物16の大きさに応じてその表面に直接噴出したり、間接的に噴出することはもちろんのこと、噴出距離等を変えることができる。よって、加熱室11内に蒸気を充満させる以前から蒸気の保有する熱エネルギーにより被加熱物16の調理することも可能となる。
【0036】
また、加熱室11内に載置した被加熱物16を蒸気で加熱調理する際、第2の蒸気発生手段14のみを用いた場合、第1、第2の蒸気発生手段13、14の両方を用いた場合の動作、作用については、先の説明と同様であり、説明を省略する。
【0037】
なお、本実施例においては、加熱部23、29としてシーズヒーターを用いているが、線ヒーター、セラミックヒーターなどでも可能である。また、本実施例においては、加熱部23、29から蒸発部24、30へ直接伝熱する構成となっているが、ミラクロンヒーターやハロゲンヒーターのような輻射熱を伝熱する構成とすることも可能である。さらに、本実施例においては、加熱部23、29の伝熱により湯水搬送部26に局部沸騰をさせるようにしているが、湯水搬送部26に専用の加熱手段を設けても良い。
【0038】
次に、加熱室11内に載置した被加熱物16を高周波で加熱調理する動作、作用について説明する。
【0039】
加熱室11内に高周波を発生させるため、操作ボタン(図示せず)を操作すると、制御手段39で高周波発生手段12が動作する。つまり、マグネトロン18が動作すると共に、送風機22がマグネトロン18を冷却するように動作する。マグネトロン18が動作すると、マグネトロンの出力アンテナ17から発生したマイクロ波が金属材料で作られた導波管21内を通って誘電材料で作られた底面11aから加熱室11内に入り込む。この際、アンテナ20によりマイクロ波はその電波の進行方向が変化し、加熱室11内に載置した被加熱物16に対して、マイクロ波が様々な方向から照射され、被加熱物16が最適に調理される。
【0040】
また、高周波発生手段12と第1の蒸気発生手段13または第2の蒸気発生手段14を同時に動作させる場合、高周波発生手段12と第1、第2の蒸気発生手段13のいずれか一方或いは両方を交互に動作させる場合は、上記した内容が同時に或いは交互に動作することであり、それぞれの被加熱物16の料理に応じた調理シーケンスに応じて加熱が実行される。
【0041】
さらに、蒸気の吐出において、噴出部アタッチメント38を、図4(A)のようにすれば、蒸気の噴出角度が広く大きな表面を有する被加熱物16に、(B)は蒸気の噴出角度が狭く小さな被加熱物16に、(C)はできる限り直接噴出をさけたい被加熱物16を調理する場合にそれぞれ適しているものである。
【0042】
なお、本実施例においては、図に示すように、第1、第2の蒸気発生手段13、14を加熱室11の底面奥側に設けているが、設置高さ、設置場所を非対称にしたり、蒸気発生量や蒸気温度を異なる仕様にすることで、2つの蒸気発生手段の特徴を変えることも可能である。
【0043】
以上のように、本実施例の高周波加熱調理装置によれば、高周波発生手段と蒸気発生手段の併用使用による「ふっくら」「しっとり感」のある短時間加熱、複数の蒸気発生手段使用による蒸し調理が可能となる。また、それぞれの蒸気発生手段の動作を制御することで蒸気供給量や蒸気の供給場所が可変できる。つまり、手間がかからず、被加熱物に最適な調理方法で被加熱物の美味しさを引き出す最適な調理方法を実現できるものである。
【0044】
【発明の効果】
以上のように、本発明の高周波加熱調理装置は、高周波発生手段と複数の蒸気発生手段を併せ持つことで、被加熱物への蒸気供給量や供給場所等を制御すること、つまり高周波発生手段と蒸気発生手段の併用使用による加熱調理と、複数の蒸気発生手段使用による加熱調理と、複数の蒸気発生手段のうちの単独による加熱調理を実現し、最適な調理方法で被加熱物の美味しさを引き出すとともに、被加熱物の内外からの加熱により短時間調理が可能となるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施例における高周波加熱調理装置の構成を示す断面図
【図2】 同高周波加熱調理装置における第1、第2の蒸気発生手段及び貯水手段の構成を示す斜視図
【図3】 同高周波加熱調理装置の蒸気発生手段における蒸発部の分解斜視図
【図4】 同高周波加熱調理装置の蒸気発生手段における噴出部アタッチメントと噴出状態を示す斜視図
【図5】 従来例における蒸気発生手段を備えた高周波加熱調理装置の断面図
【図6】 従来例におけるミスト発生手段を備えた高周波加熱調理装置の断面図
【符号の説明】
11 加熱室
12 高周波発生手段
13 第1の蒸気発生手段
14 第2の蒸気発生手段
15 貯水タンク(貯水手段)
16 被加熱物
23、29 加熱部
24、30 蒸発部
35 開口部
36 蒸発部カバー
37 噴出ガイド
38 噴出部アタッチメント
39 制御手段

Claims (7)

  1. 被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室に供給する電波を発生する高周波発生手段と、前記加熱室に蒸気を供給し蒸発部及びこの蒸発部を加熱する加熱部をそれぞれ設けた複数の蒸気発生手段と、前記高周波発生手段及び前記複数の蒸気発生手段の制御を行う制御手段とを備え、前記制御手段は、前記高周波発生手段と前記複数の蒸気発生手段の併用使用による加熱調理、複数の蒸気発生手段による加熱調理、複数の蒸気発生手段の単独による加熱調理を行わせる構成とし、前記各加熱調理は前記複数の蒸気発生手段をそれぞれ動作制御して被加熱物に供給する蒸気供給量や蒸気供給場所を可変できることを特徴とした高周波加熱調理装置。
  2. 蒸気発生手段は、水を加熱しながら搬送する湯水搬送部と、前記湯水搬送部で搬送した湯水を気化させる蒸発部と、蒸発部を加熱する加熱部とを有する請求項1に記載の高周波加熱調理装置。
  3. 複数の蒸気発生手段は、一つの貯水手段から給水される構成とした請求項1または2に記載の高周波加熱調理装置。
  4. 湯水搬送部の内部で局部沸騰を発生させて水を搬送する請求項2または3に記載の高周波加熱調理装置。
  5. 蒸発部には、蒸気を吐出する開口部を有する着脱可能な蒸発部カバーを備えた請求項2〜4のいずれか1項に記載の高周波加熱調理装置。
  6. 蒸気を吐出する開口部には、吐出する蒸気の噴出方向が可変可能な噴出ガイドを備えた請求項5に記載の高周波加熱調理装置。
  7. 噴出ガイドには、蒸気の噴出状態を被加熱物の形状や調理方法に応じて変更できるように噴出部アタッチメントを着脱自在に取り付けた請求項6に記載の高周波加熱調理装置。
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