JP4044387B2 - 磁気転写装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）といった磁気記憶装置に組み込まれる磁気ディスクにサーボパターンを書き込む磁気転写装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）といった磁気ディスク駆動装置の分野では磁気転写装置は広く知られる。磁気転写装置の働きで磁気ディスクにはサーボパターンが下書きされる。その後、磁気ディスクはＨＤＤに組み込まれる。ＨＤＤではサーボパターンに沿って磁気ヘッドが磁化を上書きする。このとき、磁気ヘッドはサーボパターンの下書きに基づき適切に位置決めされる。こうして明瞭なサーボパターンは確立される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
以上のような書き込み方法では、組み込みに先立って磁気ディスクにサーボパターンが下書きされなければ、明瞭なサーボパターンの確立にあたって磁気ヘッドは適切に位置決めされることはできない。その一方で、このように書き込みが繰り返されると、書き込みの手間や作業時間は増大してしまう。磁気転写装置だけで確実に明瞭なサーボパターンが確立されれば、書き込みの手間や作業時間は著しく縮小されることが予想される。
【０００４】
本発明は、上記実状に鑑みてなされたもので、単独で磁気ディスク上に明瞭なサーボパターンを確立することができる磁気転写装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明によれば、磁気ディスクを支持する支持機構と、規定のサーボパターンに基づき、磁気ディスクの半径方向位置に応じて異なる強度で磁気ディスクに磁界を作用させる着磁機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置が提供される。
【０００６】
こういった磁気転写装置は、磁気ディスクの半径方向位置に応じて適切な強度で磁気ディスクに磁界を作用させることができる。磁気ディスクの表面では、半径方向位置に拘わらず均一な強度で磁化は確立されることができる。磁気ディスク上には、磁気転写装置単独で十分に明瞭なサーボパターンは確立されることができる。その結果、磁気ディスクが磁気記憶装置内に組み込まれた後に例えば電磁変換素子でサーボパターンに磁化が上書きされる必要はない。サーボパターンの書き込みの手間や作業時間は著しく縮小されることができる。
【０００７】
着磁機構は、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、少なくともマスタ磁性体に向かって磁界を作用させ、窪み内に書き込み磁界を形成する磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿って磁石の位置を検出する位置センサとを備えればよい。
【０００８】
サーボパターンの書き込みにあって磁石は磁気ディスクの半径方向に移動する。磁石の半径方向位置は位置センサで検知される。したがって、磁石からマスタ磁性体に作用する磁界の強度は位置センサの検知信号に基づき調整されることができる。供給電流に基づき磁性を発揮する電磁石が磁石に用いられる場合には、磁界の強度の調整にあたって供給電力の大きさは調整されればよい。材料固有の性質に基づき磁性を発揮する永久磁石が磁石に用いられる場合には、磁界の強度の調整にあたって永久磁石とマスタ磁性体との距離が調整されればよい。
【０００９】
マスタ磁性体の窪みは磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる。こういった広がりは窪み内で向き合う壁面同士の間隔すなわち書き込みギャップを増大させる。こうした書き込みギャップの増大は書き込み磁界の減少を招く。磁石から作用する磁界の大きさが書き込みギャップの増大に応じて増大すれば、窪み内の書き込み磁界の強度は磁気ディスクの半径方向位置に拘わらず一定に維持されることができる。こうして磁気ディスクの表面では均一に磁化は確立されることができる。磁気ディスクには明瞭なサーボパターンが確実に確立されることができる。
【００１０】
こういった磁気転写装置は、位置センサで検出される磁石の位置に応じて、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁石の回転を生み出す磁界強度調整機構をさらに備えてもよい。
【００１１】
例えばマスタ磁性体では、磁気ディスクの半径方向位置に応じて窪みと磁気ディスクの半径線との間で傾斜角は変化する。傾斜角の変化に応じて磁界強度調整機構は垂直軸回りに磁石の姿勢を変化させる。磁石の姿勢が磁気ディスクの半径線と窪みとの傾斜角に追従すれば、磁石から漏れ出る磁力線は最短距離で窪みを横切ることができる。窪み内には確実に最大値の書き込み磁界は形成されることができる。窪み内ではさらに高い精度で書き込み磁界の強度は調整されることができる。
【００１２】
前述の支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、位置センサで検出される磁石の位置に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えてもよい。
【００１３】
一般に、磁気ディスクが一定の速度で回転すると、磁気ディスクの半径方向外側に向かうにつれて磁気ディスクと磁石との相対移動速度は上昇する。磁石からマスタ磁性体に作用する磁界には相対移動速度に起因して磁界強度の誤差（以下「磁界オフセット」という）が引き起こされる。この磁気転写装置では、制御機構の働きで、磁気ディスクと磁石との相対移動速度は一定に維持されることができる。こうして全ての半径方向位置にわたって両者の相対移動速度が一定に維持されると、磁気ディスクの半径方向位置に拘わらず磁石の磁力線に対して磁界オフセットの影響は均一化されることができる。こうして磁気ディスクの表面では一層確実に磁化は均一化されることができる。相対移動速度が変化すると、磁界オフセットの影響で磁化の強さにばらつきが生じることが予想される。
【００１４】
また、着磁機構は、前述のマスタ磁性体と、供給電力に基づき磁界を生成し、マスタ磁性体の窪み内に書き込み磁界を形成する電磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿った電磁石の変位に応じて供給電力の大きさを調整する磁界強度調整機構とを備えてもよい。
【００１５】
こういった磁気転写装置では、磁気ディスクの半径方向外側に向かうにつれて電磁石の磁界は増強されることができる。内周側よりも外周側で窪みが周方向に大きく広がっても、その広がりに応じて電磁石の磁界の強度は強められることができる。こうして全ての半径方向位置で書き込み磁界の強度は均一化されることができる。この磁気転写装置では、前述と同様に、磁界強度調整機構の働きで、磁気ディスクの半径方向に沿った電磁石の変位に応じて、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに電磁石の回転が生み出されてもよい。しかも、支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った電磁石の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えてもよい。
【００１６】
さらに、着磁機構は、前述のマスタ磁性体と、少なくともマスタ磁性体に向かって磁界を作用させ、窪み内に書き込み磁界を形成する磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて、磁気ディスクの表面に直交する垂直方向に磁石の変位を生み出す磁界強度調整機構とを備えてもよい。
【００１７】
こういった磁気転写装置では、磁石の変位に基づき磁石とマスタ磁性体との距離は調整されることができる。こういった距離の調整に基づき、磁気ディスクの半径方向外側に向かうにつれて磁石の磁界は増強されることができる。内周側よりも外周側で窪みが周方向に大きく広がっても、その広がりに応じて磁石の磁界の強度は強められることができる。こうして全ての半径方向位置で書き込み磁界の強度は均一化されることができる。この磁気転写装置では、前述と同様に、磁界強度調整機構の働きで、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁石の回転が生み出されてもよい。しかも、支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えてもよい。ここで、磁石には、材料固有の性質に基づき磁性を発揮する永久磁石が用いられてもよく、供給電流に基づき磁性を発揮する電磁石が用いられてもよい。
【００１８】
さらにまた、着磁機構は、前述のマスタ磁性体と、少なくともマスタ磁性体に向かって磁界を作用させ、窪み内に書き込み磁界を形成する磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁石の回転を生み出す磁界強度調整機構とを備えてもよい。
【００１９】
例えばマスタ磁性体では、磁気ディスクの半径方向位置に応じて窪みと磁気ディスクの半径線との間で傾斜角は変化する。傾斜角の変化に応じて磁界強度調整機構は垂直軸回りに磁石の姿勢を変化させる。磁石の姿勢が磁気ディスクの半径線と窪みとの傾斜角に追従すれば、磁石から漏れ出る磁力線は最短距離で窪みを横切ることができる。窪み内には確実に最大値の書き込み磁界は形成されることができる。窪み内では高い精度で書き込み磁界の強度は調整されることができる。ここで、磁石には、材料固有の性質に基づき磁性を発揮する永久磁石が用いられてもよく、供給電流に基づき磁性を発揮する電磁石が用いられてもよい。前述と同様に、支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えてもよい。
【００２０】
さらにまた、着磁機構は、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、磁気ディスクの半径方向位置に応じて異なる距離でマスタ磁性体に向き合わせられる１対の磁極とを備えてもよい。
【００２１】
こういった磁気転写装置では、磁極とマスタ磁性体との距離に基づき、磁気ディスクの半径方向外側に向かうにつれてマスタ磁性体に作用する磁界は増強されることができる。内周側よりも外周側で窪みが周方向に大きく広がっても、その広がりに応じて磁界の強度は強められることができる。こうして全ての半径方向位置で書き込み磁界の強度は均一化されることができる。この磁気転写装置は、前述と同様に、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁極の回転を生み出す磁界強度調整機構をさらに備えてもよい。しかも、支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁極の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えてもよい。磁極の構成にあたって、材料固有の性質に基づき磁性を発揮する永久磁石が用いられてもよく、供給電流に基づき磁性を発揮する電磁石が用いられてもよい。
【００２２】
さらにまた、着磁機構は、前述のマスタ磁性体と、磁気ディスクの半径方向位置に応じて異なる距離で相互に向き合わせられる１対の磁極とを備えてもよい。
【００２３】
こういった磁気転写装置では、磁極同士の距離に基づき、磁気ディスクの半径方向外側に向かうにつれてマスタ磁性体に作用する磁界は増強されることができる。内周側よりも外周側で窪みが周方向に大きく広がっても、その広がりに応じて磁界の強度は強められることができる。こうして全ての半径方向位置で書き込み磁界の強度は均一化されることができる。この磁気転写装置は、前述と同様に、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁極の回転を生み出す磁界強度調整機構をさらに備えてもよい。しかも、支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁極の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えてもよい。磁極に構成にあたって、材料固有の性質に基づき磁性を発揮する永久磁石が用いられてもよく、供給電流に基づき磁性を発揮する電磁石が用いられてもよい。
【００２４】
さらにまた、着磁機構は、前述のマスタ磁性体と、磁気ディスクの表面を含む１平面内で、少なくとも第１および第２方向に沿って磁力線を生成する１対の磁極とを備えてもよい。
【００２５】
例えばマスタ磁性体では、磁気ディスクの半径方向位置に応じて窪みと磁気ディスクの半径線との間で傾斜角は変化する。磁極の間には傾斜角に応じて磁力線の向きは設定されることができる。磁気ディスクの半径線と窪みとの傾斜角が変化しても、磁極の姿勢の変化を伴わずに磁力線は最短距離で窪みを横切ることができる。窪み内には確実に最大値の書き込み磁界は形成されることができる。
【００２６】
こういった磁極の実現にあたって、少なくとも一方の磁極には他方の磁極に向き合わせられる湾曲面が形成されればよい。こういった湾曲面に基づき磁極の間には磁力線は生成される。少なくとも第１および第２方向の間で連続的に磁力線の向きは変えられることができる。
【００２７】
このとき、支持機構は、前述と同様に、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁極の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えてもよい。磁極の構成にあたって、材料固有の性質に基づき磁性を発揮する永久磁石が用いられてもよく、供給電流に基づき磁性を発揮する電磁石が用いられてもよい。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照しつつ本発明の一実施形態を説明する。
【００２９】
図１は磁気記録媒体駆動装置の一具体例すなわちハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）１１の内部構造を概略的に示す。このＨＤＤ１１は、例えば平たい直方体の内部空間を区画する箱形の筐体本体１２を備える。収容空間には、記録媒体としての１枚以上の磁気ディスク１３が収容される。磁気ディスク１３はスピンドルモータ１４の回転軸に装着される。スピンドルモータ１４は例えば７２００ｒｐｍや１００００ｒｐｍといった高速度で磁気ディスク１３を回転させることができる。筐体本体１２には、筐体本体１２との間で収容空間を密閉する蓋体すなわちカバー（図示されず）が結合される。
【００３０】
収容空間にはヘッドアクチュエータ１５がさらに収容される。このヘッドアクチュエータ１５は、垂直方向に延びる支軸１６に回転自在に支持されるアクチュエータブロック１７を備える。アクチュエータブロック１７には、支軸１６から水平方向に延びる剛体のアクチュエータアーム１８が規定される。アクチュエータアーム１８は磁気ディスク１３の表面および裏面ごとに配置される。アクチュエータブロック１７は例えば鋳造に基づきアルミニウムから成型されればよい。
【００３１】
アクチュエータアーム１８の先端にはヘッドサスペンション１９が取り付けられる。ヘッドサスペンション１９は、アクチュエータアーム１８の先端から前方に向かって延びる。周知の通り、ヘッドサスペンション１９の前端には浮上ヘッドスライダ２１が支持される。こうして浮上ヘッドスライダ２１はアクチュエータブロック１７に連結される。浮上ヘッドスライダ２１は磁気ディスク１３の表面に向き合わせられる。
【００３２】
浮上ヘッドスライダ２１にはいわゆる磁気ヘッドすなわち電磁変換素子（図示されず）が搭載される。この電磁変換素子は、例えば、スピンバルブ膜やトンネル接合膜の抵抗変化を利用して磁気ディスク１３から情報を読み出す巨大磁気抵抗効果素子（ＧＭＲ）やトンネル接合磁気抵抗効果素子（ＴＭＲ）といった読み出し素子（図示されず）と、薄膜コイルパターンで生成される磁界を利用して磁気ディスク１３に情報を書き込む薄膜磁気ヘッドといった書き込み素子（図示されず）とで構成されればよい。
【００３３】
浮上ヘッドスライダ２１には、磁気ディスク１３の表面に向かってヘッドサスペンション１９から押し付け力が作用する。磁気ディスク１３の回転に基づき磁気ディスク１３の表面で生成される気流の働きで浮上ヘッドスライダ２１には浮力が作用する。ヘッドサスペンション１９の押し付け力と浮力とのバランスで磁気ディスク１３の回転中に比較的に高い剛性で浮上ヘッドスライダ２１は浮上し続けることができる。
【００３４】
アクチュエータブロック１７には例えばボイスコイルモータ（ＶＣＭ）といった動力源２２が接続される。この動力源２２の働きでアクチュエータブロック１７は支軸１６回りで回転することができる。こうしたアクチュエータブロック１６の回転に基づきアクチュエータアーム１７およびヘッドサスペンション１９の揺動は実現される。浮上ヘッドスライダ２１の浮上中に、支軸１６回りでアクチュエータアーム１８が揺動すると、浮上ヘッドスライダ２１は半径方向に磁気ディスク１３の表面を横切ることができる。周知の通り、複数枚の磁気ディスク１３が筐体本体１２内に組み込まれる場合には、隣接する磁気ディスク１３同士の間で２本のアクチュエータアーム１８すなわち２つのヘッドサスペンション１９が配置される。
【００３５】
図２に示されるように、磁気ディスク１３の表裏面には、磁気ディスク１３の半径方向に沿って湾曲しつつ延びる複数筋（例えば６０本）のサーボセクタ領域２３が規定される。サーボセクタ領域２３にはサーボパターンが確立される。サーボパターンに書き込まれる磁気情報は浮上ヘッドスライダ２１上の電磁変換素子で読み取られる。サーボパターンから読み出される情報に基づき浮上ヘッドスライダ２１は磁気ディスク１３の半径方向に位置決めされる。サーボパターンの詳細は後述される。サーボセクタ領域２３の湾曲は電磁変換素子の移動経路に基づき設定される。
【００３６】
隣接するサーボセクタ領域２３の間にはデータ領域２４が確保される。磁気ディスク１３の回転中に磁気ディスク１３の半径方向に浮上ヘッドスライダ２１が位置決めされると、浮上ヘッドスライダ２１上の電磁変換素子は所定の１記録トラック上を辿り続けることができる。電磁変換素子の書き込み素子は記録トラックに沿ってデータ領域２４に情報を書き込む。同様に、電磁変換素子の読み出し素子は、データ領域２４の記録トラックに書き込まれるビットデータ列を読み取る。
【００３７】
各サーボセクタ領域２３には、例えば図３に示されるように、所定のサーボパターン２５が形成される。このサーボパターン２５は、例えば、磁気ディスク１３の半径線に沿って延びる複数筋の基準磁化領域２６と、規定の交差角αで半径線に交差する傾斜方向に沿って延びる複数筋の位相差磁化領域２７とを備える。基準磁化領域２６や位相差磁化領域２７では磁気ディスク１３の周方向ＣＲに沿って規定の向きに磁化が確立される。これら基準磁化領域２６および位相差磁化領域２７の周囲では規定の向きに反対向きに磁化が確立される。ここでは、例えば基準磁化領域２６や位相差磁化領域２７の上流側輪郭線２６ａ、２７ａで磁化方向は突き合わせられる。反対に、基準磁化領域２６や位相差磁化領域２７の下流側輪郭線２６ｂ、２７ｂで磁化方向は相反する。「上流」や「下流」は、磁気ディスク１３の回転中に規定される浮上ヘッドスライダ２１の走行方向を基準に定義される。
【００３８】
個々の基準磁化領域２６では、磁気ディスク１３の周方向に沿って上流側輪郭線２６ａおよび下流側輪郭線２６ｂの間隔は均一値ＣＬに設定される。しかも、隣接する基準磁化領域２６同士の間隔は均一値ＣＬに設定される。したがって、電磁変換素子の読み出し素子が周方向ＣＲに基準磁化領域２６上を通過すると、読み出し素子から読み出される再生信号には均一な時間間隔で最大ピーク値および最小ピーク値が交互に現れる。パルス信号は生成される。各ピーク値は１単位の記録トラック群２８に対して同一タイミングで現れる。ここで、記録トラック群２８の１単位には複数本（例えば４本）の記録トラック２８ａ〜２８ｄが含まれる。
【００３９】
同様に、個々の位相差磁化領域２７では、磁気ディスク１３の周方向ＣＲに沿って上流側輪郭線２７ａおよび下流側輪郭線２７ｂの間隔は均一値ＣＬに設定される。しかも、隣接する位相差磁化領域２７同士の間隔は均一値ＣＬに設定される。したがって、電磁変換素子の読み出し素子が周方向ＣＲに位相差磁化領域２７上を通過すると、読み出し素子から読み出される再生信号には均一な時間間隔で最大ピーク値および最小ピーク値が交互に現れる。パルス信号は生成される。ただし、各ピーク値は、１記録トラック群２８に含まれる個々の記録トラック２８ａ〜２８ｄに対して異なるタイミング（位相）で現れる。こうしたタイミング（位相）のずれに基づき１記録トラック群２８内で個々の記録トラック２８ａ〜２８ｄは識別されることができる。例えば、１記録トラック群２８に４本の記録トラック２８ａ〜２８ｄが含まれる場合には、隣接する記録トラック２８ａ〜２８ｄ同士の間にπ／２の位相ずれが生成される。
【００４０】
図３および図４から明らかなように、均一値ＣＬはサーボパターン２５の半径方向位置に基づき決定される。すなわち、基準磁化領域２６や位相差磁化領域２７では、磁気ディスク１３の回転中心からの距離ｒに比例して均一値ＣＬは設定される。したがって、磁気ディスク１３の内周側では比較的に小さな均一値Ｌ１は設定される。その一方で、磁気ディスク１３の外周側では比較的に大きな均一値Ｌ２は設定される。その結果、磁気ディスク１３の中心から外縁に向かうにつれて、位相差磁化領域２７の傾斜方向を決定する交差角αは増大していく。このように均一値ＣＬが設定されると、磁気ディスク１３の半径方向位置に拘わらず、基準磁化領域２６や位相差磁化領域２７上を通過する電磁変換素子の再生信号では特定の時間間隔で各ピーク値は現れる。
【００４１】
いま、磁気ディスク１３の回転中にサーボパターン２５からパルス信号が読み出される場面を想定する。まず、電磁変換素子は目標の１記録トラック群２８に対して位置決めされる。続いて、電磁変換素子は、当該１記録トラック群２８中から１記録トラックに位置決めされる。このとき、基準磁化領域２６で生成されるパルス信号と、位相差磁化領域２７で生成されるパルス信号との時間間隔が検出される。例えば図３や図４から明らかなように、１記録トラック群２８内で最内周記録トラック２８ａが選択される場合には、基準磁化領域２６から位相差磁化領域２７にわたって均一な時間間隔（＝２π）で最大ピーク値および最小ピーク値は繰り返される。そういった再生信号が検出された時点で電磁変換素子の位置決めは完了する。最内周記録トラック２８ａの外周側に隣接する内周寄り記録トラック２８ｂが選択される場合には、基準磁化領域２６と位相差磁化領域２７との間に（２π＋π／２）の時間間隔が確保されればよい。そういった再生信号が検出された時点で電磁変換素子の位置決めは完了する。同様に、内周寄り記録トラック２８ｂの外周側に隣接する外周寄り記録トラック２８ｃが選択される場合には、基準磁化領域２６と位相差磁化領域２７との間に（３π）の時間間隔が確保されればよい。最外周記録トラック２８ｄが選択される場合には、基準磁化領域２６と位相差磁化領域２７との間に（３π＋π／２）の時間間隔が確保されればよい。
【００４２】
図５は、以上のようなサーボパターン２５の確立にあたって利用される磁気転写装置３１を概略的に示す。本発明の第１実施形態に係る磁気転写装置３１は、磁気ディスク３２を支持する支持機構３３を備える。支持機構３３では、例えば鉛直方向に延びる回転駆動軸３４に磁気ディスク３２は受け止められる。磁気ディスク３２は回転駆動軸３４の回転に伴い任意の水平面内で回転することができる。
【００４３】
支持機構３３には着磁機構３５が関連付けられる。この着磁機構３５は、電流の供給に応じて磁界を生成する電磁石３６を備える。周知の通りに、電磁石３６は、磁性コア３７と、磁性コア３７に巻き付けられるコイル（図示されず）とから構成されればよい。磁気ディスク３２が回転駆動軸３４に装着されると、電磁石３６は、磁性コア３７の両端すなわち１対の磁極３７ａ、３７ｂで磁気ディスク３２の表面に向き合わせられる。磁極３７ａ、３７ｂ同士を行き交う磁力線に基づき磁界は生成される。
【００４４】
電磁石３６には変位機構３８が連結される。この変位機構３８は、例えば鉛直方向に延びる回転軸回りで電磁石３６を回転自在に支持する支持部材３９と、支持部材３９の水平移動を案内するガイドレール４１とを備える。電磁石３６の回転は例えば支持部材３９に組み込まれる電動モータやギアの働きに基づき生み出されればよい。磁気ディスク３２が回転駆動軸３４に装着されると、電磁石３６は、磁気ディスク３２の表面に直交する回転軸回りで姿勢を変化させることができる。
【００４５】
支持部材３９の移動は、例えばラックおよびピニオンで構成される駆動機構の働きで生み出されればよい。支持部材３９の移動量は、例えばピニオンに連結される電動モータの回転量に基づき決定されることができる。ガイドレール４１に沿って支持部材３９が移動すると、回転駆動軸３４の中心を通過する１直線に沿って電磁石３６の水平移動は生み出される。磁気ディスク３２が回転駆動軸３４に装着されると、変位機構３８の働きで電磁石３６は磁気ディスク３２の半径線に沿って水平移動することができる。
【００４６】
着磁機構３５には制御回路４２が接続される。この制御回路４２には、ガイドレール４１に案内される支持部材３９の動きを制御する変位制御回路４３や、支持部材３９に対して回転軸回りで電磁石３６の姿勢を制御する角度制御回路４４が組み込まれる。変位制御回路４３は、例えば変位機構３８に組み込まれる電動モータに所定の電気信号を供給する。角度制御回路４４は、例えば支持部材３９に組み込まれる電動モータに所定の電気信号を供給する。これらの制御回路４３、４４は所定の処理プログラムに従って支持部材３９の動きや電磁石３６の姿勢を制御する。
【００４７】
同様に、制御回路４２には、電磁石３６に供給される電流の大きさや向きを制御する電流制御回路４５や、磁気ディスク３２すなわち回転駆動軸３４の回転速度を制御する回転制御回路４６が組み込まれる。回転制御回路４６は、例えば回転駆動軸３４に連結されるスピンドルモータ（図示されず）に所定の電気信号を供給する。これらの制御回路４５、４６は所定の処理プログラムに従って電流の大きさや向き、回転駆動軸３４の回転速度を制御する。
【００４８】
電磁石３６には位置センサ４７が関連付けられる。この位置センサ４７は、ガイドレール４１に沿って変位する電磁石３６の位置を検出する。すなわち、磁気ディスク３２が回転駆動軸３４に装着されると、位置センサ４７の働きで、磁気ディスク３２の半径方向に沿って電磁石３６の位置は特定されることができる。位置センサ４７は、電磁石３６の半径方向位置を特定する検知信号を出力する。出力された検知信号は電流制御回路４５や回転制御回路４６に送り込まれる。ここで、位置センサ４７は、直接的に電磁石３６の位置を検出してもよく、電磁石３６の変位を生み出す変位機構３８の動きに基づき電磁石３６の位置を検出してもよい。その他、電磁石３６の位置の検出にあたってはいかなる手法が用いられてもよい。
【００４９】
サーボパターン２５の書き込みにあたって着磁機構３５にはマスタ磁性体４８が組み込まれる。このマスタ磁性体４８は、回転駆動軸３４に装着された磁気ディスク３２の表面に重ね合わせられる。図６に示されるように、マスタ磁性体４８の表面には、基準磁化領域２６の形状を反映する第１窪み４９と、位相差磁化領域２７の形状を反映する第２窪み５１とが形成される。磁気ディスク３２の表面にマスタ磁性体４８が重ね合わせられると、マスタ磁性体４８は、第１および第２窪み４９、５１の周囲すなわち接触面５２で満遍なく磁気ディスク３２の表面に接触する。第１および第２窪み４９、５１の形状は各基準磁化領域２６や各位相差磁化領域２７のそれを反映することから、第１および第２窪み４９、５１は磁気ディスク３２の内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる。しかも、第２窪み５１の傾斜方向は位相差磁化領域２７の傾斜方向を反映する。したがって、第１および第２窪み４９、５１の間には、前述と同様に、磁気ディスク３２の外縁に向かうにつれて増大する交差角αが規定される。
【００５０】
いま、磁気ディスク３２にサーボパターン２５が書き込まれる場面を想定する。まず、支持機構３３の回転駆動軸３４に真っ新な磁気ディスク３２が装着される。磁気ディスク３２の表面では全く磁化は確立されていない。電磁石３６は変位機構３８の働きで例えば磁気ディスク３２の最内周位置に位置決めされる。この位置決めにあたって変位機構３８には変位制御回路４３から指令信号が供給される。
【００５１】
続いて、回転制御回路４６から供給される指令信号に基づき回転駆動軸３４は回転し始める。磁気ディスク３２は回転する。磁気ディスク３２の回転速度は例えば６０ｒｐｍ程度に設定されればよい。電流制御回路４５は電磁石３６に電流を供給し始める。
【００５２】
電磁石３６に電流が供給されると、例えば図７に示されるように、電磁石３６の磁極３７ａ、３７ｂ同士の間には磁気ディスク３２の周方向に沿って磁力線５４が生成される。磁力線５４の働きで磁気ディスク３２上では前述の規定の向きと反対向きに磁化５５は確立される。磁気ディスク３２の回転は持続されると同時に、変位機構３８の働きで電磁石３６は半径方向に沿って磁気ディスク３２の外縁に向かって移動する。こうして磁気ディスク３２の表面では全面にわたって画一的に磁化５５は確立される。
【００５３】
このとき、回転駆動軸３４では、電磁石３６が半径方向外側に向かうにつれて回転速度は減速されてもよい。電磁石３６の半径方向位置は位置センサ４７で検知される。回転制御回路４６は位置センサ４７の検知信号に基づき回転駆動軸３４の回転速度を制御する。こうした減速に基づき磁気ディスク３２と電磁石３６との相対移動速度は一定に維持されることができる。全ての半径方向位置にわたって両者の相対移動速度が一定に維持されると、磁気ディスク３２の半径方向位置に拘わらず電磁石３６の磁力線５４に対して磁界オフセットの影響は均一化されることができる。磁気ディスク３２の表面では一面に均一に磁化５５は確立されることができる。相対移動速度が変化すると、磁界オフセットの影響で磁化の強さにばらつきが生じることが予想される。
【００５４】
その後、磁気ディスク３２の表面にはマスタ磁性体４８が重ね合わせられる。電磁石３６は変位機構３８の働きで再び磁気ディスク３２の最内周位置に位置決めされる。続いて回転駆動軸３４は回転し始める。磁気ディスク３２は回転する。磁気ディスク３２の回転速度は、前述と同様に、例えば６０ｒｐｍ程度に設定されればよい。
【００５５】
電磁石３６には前述とは反対向きに電流が供給される。電磁石３６の磁極３７ａ、３７ｂ同士の間には、図８に示されるように、周方向に沿って反対向きに磁力線５６が生成される。磁力線５６の影響下でマスタ磁性体４８の窪み４９、５１には書き込み磁界が形成される。したがって、窪み４９、５１で露出する磁気ディスク３２の表面では磁力線５６の働きで磁化５７が上書きされる。その結果、周方向に沿って前述の規定の向きに磁化５７が確立される。その一方で、窪み４９、５１の周囲ではマスタ磁性体４８と磁気ディスク３２とは完全に接触する。この接触に基づき磁界の形成は阻止される。窪み４９、５１の周囲で磁化５７の確立は阻止される。窪み４９、５１の周囲では最初の磁化５５は維持される。
【００５６】
電磁石３６は磁気ディスク３２の半径方向に沿って移動する。電磁石３６の半径方向位置は位置センサ４７で検知される。電流制御回路４５は、位置センサ４７の検知信号に基づき、電磁石３６に供給する電流の大きさを調整する。こうした調整に基づき窪み４９、５１内の書き込み磁界の強度は磁気ディスク３２の半径方向位置に拘わらず一定に維持されることができる。
【００５７】
前述のように、窪み４９、５１の形状は基準磁化領域２６や位相差磁化領域２７の形状を反映する。図９に示されるように、窪み４９、５１は磁気ディスク３２の内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる。こういった広がりは窪み４９、５１内で向き合う壁面同士の間隔すなわち書き込みギャップを増大させる。こうした書き込みギャップの増大は書き込み磁界の減少を招く。書き込みギャップの増大に応じて電磁石３６に供給される電流が増大すれば、窪み４９、５１内の書き込み磁界の強度は磁気ディスク３２の半径方向位置に拘わらず一定に維持されることができる。こうして磁気ディスク３２の表面では基準磁化領域２６や位相差磁化領域２７で均一に磁化５７は確立されることができる。電磁石３６に供給される電流の大きさや窪み４９、５１内の書き込み磁界の強さは実測に基づき決定されてもよく所定の計算式に基づき決定されてもよい。
【００５８】
同時に、角度制御回路４４は、位置センサ４７の検知信号に基づき電磁石３６の姿勢を調整してもよい。こうした調整によれば、窪み４９、５１内ではさらに高い精度で書き込み磁界の強度は調整されることができる。前述のように、窪み４９、５１の形状は基準磁化領域２６や位相差磁化領域２７の形状を反映する。基準磁化領域２６に対応する第１窪み４９は磁気ディスク３２の半径線に対して傾斜角を変化させる。しかも、位相差磁化領域２７に対応する第２窪み５１の傾斜方向は磁気ディスク３２の内周側よりも外周側で交差角αを増大させる。基準磁化領域２６に対応する第１窪み４９に対して交差角αは大きく広がっていく。図１０に示されるように、電磁石３６の姿勢が磁気ディスク３２の半径線５８と窪み４９、５１との傾斜角βに追従すれば、磁力線５６は最短距離で窪み４９、５１を横切ることができる。窪み４９、５１内には確実に最大値の書き込み磁界は形成されることができる。ここでは、まず、最内周から最外周に向かって電磁石３６が移動する間に基準磁化領域２６の傾斜角βに合わせて電磁石３６の姿勢は制御される。続いて、再び最内周から最外周に向かって電磁石３６が移動する間に位相差磁化領域２７の傾斜角βに合わせて電磁石３６の姿勢は制御される。
【００５９】
しかも、回転駆動軸３４では、前述と同様に、電磁石３６が半径方向外側に向かうにつれて回転速度は減速されてもよい。電磁石３６の半径方向位置は位置センサ４７で検知される。回転制御回路４６は位置センサ４７の検知信号に基づき回転駆動軸３４の回転速度を制御する。こうした減速に基づき磁気ディスク３２と電磁石３６との相対移動速度は一定に維持されることができる。全ての半径方向位置にわたって両者の相対移動速度が一定に維持されると、磁気ディスク３２の半径方向位置に拘わらず電磁石３６の磁力線５６に対して磁界オフセットの影響は均一化されることができる。
【００６０】
以上のように、前述の磁気転写装置３１によれば、磁気ディスク３２の表面では基準磁化領域２６や位相差磁化領域２７で確実に均一な強さの磁化５７は確立されることができる。磁気ディスク３２上には、磁気転写装置３１単独で十分に明瞭なサーボパターン２５は確立されることができる。その結果、磁気ディスク３２がＨＤＤ１１内に組み込まれた後に電磁変換素子でサーボパターン２５に磁化が上書きされる必要はない。サーボパターン２５の書き込みの手間や作業時間は著しく縮小されることができる。
【００６１】
図１１は本発明の第２実施形態に係る磁気転写装置３１ａを概略的に示す。この第２実施形態では、変位機構３８の働きで電磁石３６の上下動は許容される。電磁石３６の上下動は、例えば支持部材３９に組み込まれるラックおよびピニオン、電動モータなどで実現されればよい。この磁気転写装置３１ａでは、磁気ディスク３２が回転駆動軸３４に装着されると、電磁石３６は、磁気ディスク３２の表面に直交する垂直方向に変位することができる。このとき、制御回路４２には、そういった電磁石３６の垂直変位を制御する垂直変位制御回路６１が組み込まれる。この垂直変位制御回路６１は所定の処理プログラムに従って電磁石３６の垂直変位を制御する。垂直変位制御回路６１には位置センサ４７の検知信号が供給される。図中、前述の第１実施形態と均等な構成には同一の参照符号が付される。
【００６２】
この第２実施形態では、電磁石３６とマスタ磁性体４８との距離に基づき窪み４９、５１内の書き込み磁界の強度は調整されることができる。すなわち、電磁石３６が垂直方向に沿ってマスタ磁性体４８から離れれば離れるほど窪み４９、５１内の書き込み磁界は弱まっていく。したがって、電磁石３６が磁気ディスク３２の半径方向外側に向かうにつれて、電磁石３６はマスタ磁性体４８に接近すればよい。ここでは、電磁石３６に供給される電流の大きさは一定に維持されればよい。その他、着磁機構３５には、こういった電磁石３６に代えて、材料固有の性質に基づき磁性を発揮する永久磁石が組み込まれてもよい。
【００６３】
図１２は本発明の第３実施形態に係る磁気転写装置３１ｂを概略的に示す。この第３実施形態では、磁気ディスク３２の回転中心から外縁に至る長尺の電磁石６２が着磁機構３５に組み込まれる。この電磁石６２は、磁気ディスク３２の半径方向位置に応じて異なる距離でマスタ磁性体４８に向き合わせられる１対の磁極６２ａ、６２ｂを備える。電磁石６２では、磁気ディスク３２の半径方向外側に向かうにつれて磁極６２ａ、６２ｂはマスタ磁性体４８に接近する。こうして磁気ディスク３２の半径方向外側に向かうにつれて窪み４９、５１内の書き込み磁界は強められていく。電磁石６２に供給される電流の大きさは一定に維持されればよい。こういった構成によれば、支持部材３９はガイドレール４１に沿って水平移動する必要はなく、しかも、位置センサ４７で半径方向に沿って電磁石６２の位置が検知される必要もない。磁気転写装置３１ｂの構造は簡素化される。その他、着磁機構３５には、こういった電磁石６２に代えて、材料固有の性質に基づき磁性を発揮する永久磁石が組み込まれてもよい。電磁石６２の磁極６２ａ、６２ｂは、必ずしも平面でマスタ磁性体４８に向き合わせられる必要はなく、所定の湾曲面でマスタ磁性体４８に向き合わせられてもよい。湾曲面の形状は、各半径方向位置で要求されるマスタ磁性体４８および磁極６２ａ、６２ｂの距離に基づき設定されればよい。いずれの場合でも、磁極６２ａ、６２ｂ同士との間には磁気ディスク３２の半径方向にわたって均一な間隔が確立されればよい。図中、前述の第１および第２実施形態と均等な構成には同一の参照符号が付される。
【００６４】
こういった磁気転写装置３１ｂでは、例えば図１３に示されるように、磁気ディスク３２の半径方向位置に応じて磁極６２ａ、６２ｂ同士の間隔が増大してもよい。こういった構成によれば、電磁石６２は単純に水平姿勢でマスタ磁性体４８に向き合わせられることができる。磁気転写装置３１ｂの構造はさらに簡素化される。
【００６５】
図１４は本発明の第４実施形態に係る磁気転写装置３１ｃを概略的に示す。この第４実施形態では、前述の第１および第２実施形態と同様に、電磁石６３は、ガイドレール４１に案内される支持部材３９に支持される。ただし、電磁石６３は、鉛直方向に延びる回転軸回りに相対回転不能に支持部材３９に取り付けられる。図中、前述の第１および第２実施形態と均等な構成には同一の参照符号が付される。
【００６６】
図１５に示されるように、電磁石６３は磁気ディスク３２の半径方向に沿って並列する１対の第１および第２磁極６４、６５を備える。第１磁極６４には、任意の曲率で湾曲する湾曲面６４ａが形成される。第２磁極６５には、同様に、任意の曲率で湾曲する湾曲面６５ａが形成される。湾曲面６４ａ、６５ａ同士は例えば等間隔で向き合わせられる。第１および第２磁極６４、６５の間には、磁気ディスク３２の表面を含む平面内で多数の方向に磁力線６６が生成される。こういった電磁石６３によれば、その全体にわたって曲率中心を通る直線に沿って磁力線６６は生成されることができる。したがって、前述のように磁気ディスク３２の半径線と窪み４９、５１との傾斜角βが変化しても、電磁石６３の姿勢の変化を伴わずに磁力線６６は最短距離で窪み４９、５１を横切ることができる。しかも、磁気ディスク３２の半径方向に沿って１度だけ電磁石６３が移動すれば、窪み４９、５１の傾斜角βに拘わらず基準磁化領域２６および位相差磁化領域２７で十分な強度の磁化は確立されることができる。その他、着磁機構３５には、こういった電磁石６３に代えて、材料固有の性質に基づき磁性を発揮する永久磁石が組み込まれてもよい。
【００６７】
（付記１） 磁気ディスクを支持する支持機構と、規定のサーボパターンに基づき、磁気ディスクの半径方向位置に応じて異なる強度で磁気ディスクに磁界を作用させる着磁機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００６８】
（付記２） 付記１に記載の磁気転写装置において、前記着磁機構は、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、少なくともマスタ磁性体に向かって磁界を作用させ、窪み内に書き込み磁界を形成する磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿って磁石の位置を検出する位置センサとを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００６９】
（付記３） 付記２に記載の磁気転写装置において、位置センサで検出される磁石の位置に応じて、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁石の回転を生み出す磁界強度調整機構をさらに備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００７０】
（付記４） 付記３に記載の磁気転写装置において、前記支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、位置センサで検出される磁石の位置に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００７１】
（付記５） 付記１に記載の磁気転写装置において、前記着磁機構は、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、供給電力に基づき磁界を生成し、マスタ磁性体の窪み内に書き込み磁界を形成する電磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿った電磁石の変位に応じて供給電力の大きさを調整する磁界強度調整機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００７２】
（付記６） 付記５に記載の磁気転写装置において、前記磁界強度調整機構は、磁気ディスクの半径方向に沿った電磁石の変位に応じて、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに電磁石の回転を生み出すことを特徴とする磁気転写装置。
【００７３】
（付記７） 付記６に記載の磁気転写装置において、前記支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った電磁石の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００７４】
（付記８） 付記１に記載の磁気転写装置において、前記着磁機構は、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、少なくともマスタ磁性体に向かって磁界を作用させ、窪み内に書き込み磁界を形成する磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて、磁気ディスクの表面に直交する垂直方向に磁石の変位を生み出す磁界強度調整機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００７５】
（付記９） 付記８に記載の磁気転写装置において、前記磁界強度調整機構は、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁石の回転を生み出すことを特徴とする磁気転写装置。
【００７６】
（付記１０） 付記９に記載の磁気転写装置において、前記支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００７７】
（付記１１） 付記１に記載の磁気転写装置において、前記着磁機構は、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、少なくともマスタ磁性体に向かって磁界を作用させ、窪み内に書き込み磁界を形成する磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁石の回転を生み出す磁界強度調整機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００７８】
（付記１２） 付記１１に記載の磁気転写装置において、前記支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００７９】
（付記１３） 付記１に記載の磁気転写装置において、前記着磁機構は、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、磁気ディスクの半径方向位置に応じて異なる距離でマスタ磁性体に向き合わせられる１対の磁極とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００８０】
（付記１４） 付記１３に記載の磁気転写装置において、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁極の回転を生み出す磁界強度調整機構をさらに備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００８１】
（付記１５） 付記１４に記載の磁気転写装置において、前記支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁極の回転に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００８２】
（付記１６） 付記１に記載の磁気転写装置において、前記着磁機構は、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、磁気ディスクの半径方向位置に応じて異なる距離で相互に向き合わせられる１対の磁極とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００８３】
（付記１７） 付記１６に記載の磁気転写装置において、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁極の回転を生み出す磁界強度調整機構をさらに備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００８４】
（付記１８） 付記１７に記載の磁気転写装置において、前記支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁極の回転に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００８５】
（付記１９） 付記１に記載の磁気転写装置において、前記着磁機構は、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、磁気ディスクの表面を含む１平面内で、少なくとも第１および第２方向に沿って磁力線を生成する１対の磁極とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００８６】
（付記２０） 付記１９に記載の磁気転写装置において、少なくとも一方の磁極には、他方の磁極に向き合わせられる湾曲面が形成されることを特徴とする磁気転写装置。
【００８７】
（付記２１） 付記２０に記載の磁気転写装置において、前記支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁極の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００８８】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、単独で磁気ディスク上に明瞭なサーボパターンを確立することができる磁気転写装置は提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】 磁気記録媒体駆動装置の一具体例すなわちハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）の構造を概略的に示す平面図である。
【図２】 磁気記録媒体すなわち磁気ディスクの構造を概略的に示す部分拡大平面図である。
【図３】 磁気ディスクの内周側で確立されるサーボトラックの様子を概略的に示す概念図である。
【図４】 磁気ディスクの外周側で確立されるサーボトラックの様子を概略的に示す概念図である。
【図５】 本発明の第１実施形態に係る磁気転写装置の構造を概略的に示す斜視図である。
【図６】 マスタ磁性体の構造を概略的に示す部分拡大斜視図である。
【図７】 磁気ディスクに真っ先に確立される磁化の様子を概略的に示す概念図である。
【図８】 マスタ磁性体の窪み内で確立される磁化の様子を概略的に示す概念図である。
【図９】 磁気ディスクの内周側および外周側で窪み内に確立される書き込み磁界の様子を概略的に示す概念図である。
【図１０】 磁気ディスクの半径線と窪みとの傾斜角に基づき制御される書き込み磁界すなわち磁極の様子を概略的に示す概念図である。
【図１１】 本発明の第２実施形態に係る磁気転写装置の構造を概略的に示す斜視図である。
【図１２】 本発明の第３実施形態に係る磁気転写装置の構造を概略的に示す斜視図である。
【図１３】 一変形例に係る電磁石を概略的に示す拡大平面図である。
【図１４】 本発明の第４実施形態に係る磁気転写装置の構造を概略的に示す斜視図である。
【図１５】 磁極の構造を概略的に示す概念図である。
【符号の説明】
１３ 磁気ディスク、２５ サーボパターン、３１（３１ａ、３１ｂ、３１ｃ） 磁気転写装置、３２ 磁気ディスク、３３ 支持機構、３４ 回転駆動軸、３５ 着磁機構、３６ 磁石（電磁石）、５２ 接触面、４４ 磁界強度調整機構を構成する角度制御回路、４５ 磁界強度調整機構を構成する電流制御回路、４６ 制御回路を構成する回転制御回路、４７ 位置センサ、４８ マスタ磁性体、４９ 窪み、５１ 窪み、５６ 磁界、６１ 磁界強度調整機構を構成する垂直変位制御回路、６２ 磁石（電磁石）、６２ａ（６２ｂ） 磁極、６３ 磁石（電磁石）、６４ 磁極、６４ａ 湾曲面、６５ 磁極、６５ａ 湾曲面、６６ 磁力線。
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）といった磁気記憶装置に組み込まれる磁気ディスクにサーボパターンを書き込む磁気転写装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）といった磁気ディスク駆動装置の分野では磁気転写装置は広く知られる。磁気転写装置の働きで磁気ディスクにはサーボパターンが下書きされる。その後、磁気ディスクはＨＤＤに組み込まれる。ＨＤＤではサーボパターンに沿って磁気ヘッドが磁化を上書きする。このとき、磁気ヘッドはサーボパターンの下書きに基づき適切に位置決めされる。こうして明瞭なサーボパターンは確立される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
以上のような書き込み方法では、組み込みに先立って磁気ディスクにサーボパターンが下書きされなければ、明瞭なサーボパターンの確立にあたって磁気ヘッドは適切に位置決めされることはできない。その一方で、このように書き込みが繰り返されると、書き込みの手間や作業時間は増大してしまう。磁気転写装置だけで確実に明瞭なサーボパターンが確立されれば、書き込みの手間や作業時間は著しく縮小されることが予想される。
【０００４】
本発明は、上記実状に鑑みてなされたもので、単独で磁気ディスク上に明瞭なサーボパターンを確立することができる磁気転写装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明によれば、磁気ディスクを支持する支持機構と、規定のサーボパターンに基づき、磁気ディスクの半径方向位置に応じて異なる強度で磁気ディスクに磁界を作用させる着磁機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置が提供される。
【０００６】
こういった磁気転写装置は、磁気ディスクの半径方向位置に応じて適切な強度で磁気ディスクに磁界を作用させることができる。磁気ディスクの表面では、半径方向位置に拘わらず均一な強度で磁化は確立されることができる。磁気ディスク上には、磁気転写装置単独で十分に明瞭なサーボパターンは確立されることができる。その結果、磁気ディスクが磁気記憶装置内に組み込まれた後に例えば電磁変換素子でサーボパターンに磁化が上書きされる必要はない。サーボパターンの書き込みの手間や作業時間は著しく縮小されることができる。
【０００７】
着磁機構は、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、少なくともマスタ磁性体に向かって磁界を作用させ、窪み内に書き込み磁界を形成する磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿って磁石の位置を検出する位置センサとを備えればよい。
【０００８】
サーボパターンの書き込みにあって磁石は磁気ディスクの半径方向に移動する。磁石の半径方向位置は位置センサで検知される。したがって、磁石からマスタ磁性体に作用する磁界の強度は位置センサの検知信号に基づき調整されることができる。供給電流に基づき磁性を発揮する電磁石が磁石に用いられる場合には、磁界の強度の調整にあたって供給電力の大きさは調整されればよい。材料固有の性質に基づき磁性を発揮する永久磁石が磁石に用いられる場合には、磁界の強度の調整にあたって永久磁石とマスタ磁性体との距離が調整されればよい。
【０００９】
マスタ磁性体の窪みは磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる。こういった広がりは窪み内で向き合う壁面同士の間隔すなわち書き込みギャップを増大させる。こうした書き込みギャップの増大は書き込み磁界の減少を招く。磁石から作用する磁界の大きさが書き込みギャップの増大に応じて増大すれば、窪み内の書き込み磁界の強度は磁気ディスクの半径方向位置に拘わらず一定に維持されることができる。こうして磁気ディスクの表面では均一に磁化は確立されることができる。磁気ディスクには明瞭なサーボパターンが確実に確立されることができる。
【００１０】
こういった磁気転写装置は、位置センサで検出される磁石の位置に応じて、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁石の回転を生み出す磁界強度調整機構をさらに備えてもよい。
【００１１】
例えばマスタ磁性体では、磁気ディスクの半径方向位置に応じて窪みと磁気ディスクの半径線との間で傾斜角は変化する。傾斜角の変化に応じて磁界強度調整機構は垂直軸回りに磁石の姿勢を変化させる。磁石の姿勢が磁気ディスクの半径線と窪みとの傾斜角に追従すれば、磁石から漏れ出る磁力線は最短距離で窪みを横切ることができる。窪み内には確実に最大値の書き込み磁界は形成されることができる。窪み内ではさらに高い精度で書き込み磁界の強度は調整されることができる。
【００１２】
前述の支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、位置センサで検出される磁石の位置に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えてもよい。
【００１３】
一般に、磁気ディスクが一定の速度で回転すると、磁気ディスクの半径方向外側に向かうにつれて磁気ディスクと磁石との相対移動速度は上昇する。磁石からマスタ磁性体に作用する磁界には相対移動速度に起因して磁界強度の誤差（以下「磁界オフセット」という）が引き起こされる。この磁気転写装置では、制御機構の働きで、磁気ディスクと磁石との相対移動速度は一定に維持されることができる。こうして全ての半径方向位置にわたって両者の相対移動速度が一定に維持されると、磁気ディスクの半径方向位置に拘わらず磁石の磁力線に対して磁界オフセットの影響は均一化されることができる。こうして磁気ディスクの表面では一層確実に磁化は均一化されることができる。相対移動速度が変化すると、磁界オフセットの影響で磁化の強さにばらつきが生じることが予想される。
【００１４】
また、着磁機構は、前述のマスタ磁性体と、供給電力に基づき磁界を生成し、マスタ磁性体の窪み内に書き込み磁界を形成する電磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿った電磁石の変位に応じて供給電力の大きさを調整する磁界強度調整機構とを備えてもよい。
【００１５】
こういった磁気転写装置では、磁気ディスクの半径方向外側に向かうにつれて電磁石の磁界は増強されることができる。内周側よりも外周側で窪みが周方向に大きく広がっても、その広がりに応じて電磁石の磁界の強度は強められることができる。こうして全ての半径方向位置で書き込み磁界の強度は均一化されることができる。この磁気転写装置では、前述と同様に、磁界強度調整機構の働きで、磁気ディスクの半径方向に沿った電磁石の変位に応じて、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに電磁石の回転が生み出されてもよい。しかも、支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った電磁石の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えてもよい。
【００１６】
さらに、着磁機構は、前述のマスタ磁性体と、少なくともマスタ磁性体に向かって磁界を作用させ、窪み内に書き込み磁界を形成する磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて、磁気ディスクの表面に直交する垂直方向に磁石の変位を生み出す磁界強度調整機構とを備えてもよい。
【００１７】
こういった磁気転写装置では、磁石の変位に基づき磁石とマスタ磁性体との距離は調整されることができる。こういった距離の調整に基づき、磁気ディスクの半径方向外側に向かうにつれて磁石の磁界は増強されることができる。内周側よりも外周側で窪みが周方向に大きく広がっても、その広がりに応じて磁石の磁界の強度は強められることができる。こうして全ての半径方向位置で書き込み磁界の強度は均一化されることができる。この磁気転写装置では、前述と同様に、磁界強度調整機構の働きで、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁石の回転が生み出されてもよい。しかも、支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えてもよい。ここで、磁石には、材料固有の性質に基づき磁性を発揮する永久磁石が用いられてもよく、供給電流に基づき磁性を発揮する電磁石が用いられてもよい。
【００１８】
さらにまた、着磁機構は、前述のマスタ磁性体と、少なくともマスタ磁性体に向かって磁界を作用させ、窪み内に書き込み磁界を形成する磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁石の回転を生み出す磁界強度調整機構とを備えてもよい。
【００１９】
例えばマスタ磁性体では、磁気ディスクの半径方向位置に応じて窪みと磁気ディスクの半径線との間で傾斜角は変化する。傾斜角の変化に応じて磁界強度調整機構は垂直軸回りに磁石の姿勢を変化させる。磁石の姿勢が磁気ディスクの半径線と窪みとの傾斜角に追従すれば、磁石から漏れ出る磁力線は最短距離で窪みを横切ることができる。窪み内には確実に最大値の書き込み磁界は形成されることができる。窪み内では高い精度で書き込み磁界の強度は調整されることができる。ここで、磁石には、材料固有の性質に基づき磁性を発揮する永久磁石が用いられてもよく、供給電流に基づき磁性を発揮する電磁石が用いられてもよい。前述と同様に、支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えてもよい。
【００２０】
さらにまた、着磁機構は、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、磁気ディスクの半径方向位置に応じて異なる距離でマスタ磁性体に向き合わせられる１対の磁極とを備えてもよい。
【００２１】
こういった磁気転写装置では、磁極とマスタ磁性体との距離に基づき、磁気ディスクの半径方向外側に向かうにつれてマスタ磁性体に作用する磁界は増強されることができる。内周側よりも外周側で窪みが周方向に大きく広がっても、その広がりに応じて磁界の強度は強められることができる。こうして全ての半径方向位置で書き込み磁界の強度は均一化されることができる。この磁気転写装置は、前述と同様に、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁極の回転を生み出す磁界強度調整機構をさらに備えてもよい。しかも、支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁極の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えてもよい。磁極の構成にあたって、材料固有の性質に基づき磁性を発揮する永久磁石が用いられてもよく、供給電流に基づき磁性を発揮する電磁石が用いられてもよい。
【００２２】
さらにまた、着磁機構は、前述のマスタ磁性体と、磁気ディスクの半径方向位置に応じて異なる距離で相互に向き合わせられる１対の磁極とを備えてもよい。
【００２３】
こういった磁気転写装置では、磁極同士の距離に基づき、磁気ディスクの半径方向外側に向かうにつれてマスタ磁性体に作用する磁界は増強されることができる。内周側よりも外周側で窪みが周方向に大きく広がっても、その広がりに応じて磁界の強度は強められることができる。こうして全ての半径方向位置で書き込み磁界の強度は均一化されることができる。この磁気転写装置は、前述と同様に、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁極の回転を生み出す磁界強度調整機構をさらに備えてもよい。しかも、支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁極の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えてもよい。磁極に構成にあたって、材料固有の性質に基づき磁性を発揮する永久磁石が用いられてもよく、供給電流に基づき磁性を発揮する電磁石が用いられてもよい。
【００２４】
さらにまた、着磁機構は、前述のマスタ磁性体と、磁気ディスクの表面を含む１平面内で、少なくとも第１および第２方向に沿って磁力線を生成する１対の磁極とを備えてもよい。
【００２５】
例えばマスタ磁性体では、磁気ディスクの半径方向位置に応じて窪みと磁気ディスクの半径線との間で傾斜角は変化する。磁極の間には傾斜角に応じて磁力線の向きは設定されることができる。磁気ディスクの半径線と窪みとの傾斜角が変化しても、磁極の姿勢の変化を伴わずに磁力線は最短距離で窪みを横切ることができる。窪み内には確実に最大値の書き込み磁界は形成されることができる。
【００２６】
こういった磁極の実現にあたって、少なくとも一方の磁極には他方の磁極に向き合わせられる湾曲面が形成されればよい。こういった湾曲面に基づき磁極の間には磁力線は生成される。少なくとも第１および第２方向の間で連続的に磁力線の向きは変えられることができる。
【００２７】
このとき、支持機構は、前述と同様に、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁極の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えてもよい。磁極の構成にあたって、材料固有の性質に基づき磁性を発揮する永久磁石が用いられてもよく、供給電流に基づき磁性を発揮する電磁石が用いられてもよい。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照しつつ本発明の一実施形態を説明する。
【００２９】
図１は磁気記録媒体駆動装置の一具体例すなわちハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）１１の内部構造を概略的に示す。このＨＤＤ１１は、例えば平たい直方体の内部空間を区画する箱形の筐体本体１２を備える。収容空間には、記録媒体としての１枚以上の磁気ディスク１３が収容される。磁気ディスク１３はスピンドルモータ１４の回転軸に装着される。スピンドルモータ１４は例えば７２００ｒｐｍや１００００ｒｐｍといった高速度で磁気ディスク１３を回転させることができる。筐体本体１２には、筐体本体１２との間で収容空間を密閉する蓋体すなわちカバー（図示されず）が結合される。
【００３０】
収容空間にはヘッドアクチュエータ１５がさらに収容される。このヘッドアクチュエータ１５は、垂直方向に延びる支軸１６に回転自在に支持されるアクチュエータブロック１７を備える。アクチュエータブロック１７には、支軸１６から水平方向に延びる剛体のアクチュエータアーム１８が規定される。アクチュエータアーム１８は磁気ディスク１３の表面および裏面ごとに配置される。アクチュエータブロック１７は例えば鋳造に基づきアルミニウムから成型されればよい。
【００３１】
アクチュエータアーム１８の先端にはヘッドサスペンション１９が取り付けられる。ヘッドサスペンション１９は、アクチュエータアーム１８の先端から前方に向かって延びる。周知の通り、ヘッドサスペンション１９の前端には浮上ヘッドスライダ２１が支持される。こうして浮上ヘッドスライダ２１はアクチュエータブロック１７に連結される。浮上ヘッドスライダ２１は磁気ディスク１３の表面に向き合わせられる。
【００３２】
浮上ヘッドスライダ２１にはいわゆる磁気ヘッドすなわち電磁変換素子（図示されず）が搭載される。この電磁変換素子は、例えば、スピンバルブ膜やトンネル接合膜の抵抗変化を利用して磁気ディスク１３から情報を読み出す巨大磁気抵抗効果素子（ＧＭＲ）やトンネル接合磁気抵抗効果素子（ＴＭＲ）といった読み出し素子（図示されず）と、薄膜コイルパターンで生成される磁界を利用して磁気ディスク１３に情報を書き込む薄膜磁気ヘッドといった書き込み素子（図示されず）とで構成されればよい。
【００３３】
浮上ヘッドスライダ２１には、磁気ディスク１３の表面に向かってヘッドサスペンション１９から押し付け力が作用する。磁気ディスク１３の回転に基づき磁気ディスク１３の表面で生成される気流の働きで浮上ヘッドスライダ２１には浮力が作用する。ヘッドサスペンション１９の押し付け力と浮力とのバランスで磁気ディスク１３の回転中に比較的に高い剛性で浮上ヘッドスライダ２１は浮上し続けることができる。
【００３４】
アクチュエータブロック１７には例えばボイスコイルモータ（ＶＣＭ）といった動力源２２が接続される。この動力源２２の働きでアクチュエータブロック１７は支軸１６回りで回転することができる。こうしたアクチュエータブロック１６の回転に基づきアクチュエータアーム１７およびヘッドサスペンション１９の揺動は実現される。浮上ヘッドスライダ２１の浮上中に、支軸１６回りでアクチュエータアーム１８が揺動すると、浮上ヘッドスライダ２１は半径方向に磁気ディスク１３の表面を横切ることができる。周知の通り、複数枚の磁気ディスク１３が筐体本体１２内に組み込まれる場合には、隣接する磁気ディスク１３同士の間で２本のアクチュエータアーム１８すなわち２つのヘッドサスペンション１９が配置される。
【００３５】
図２に示されるように、磁気ディスク１３の表裏面には、磁気ディスク１３の半径方向に沿って湾曲しつつ延びる複数筋（例えば６０本）のサーボセクタ領域２３が規定される。サーボセクタ領域２３にはサーボパターンが確立される。サーボパターンに書き込まれる磁気情報は浮上ヘッドスライダ２１上の電磁変換素子で読み取られる。サーボパターンから読み出される情報に基づき浮上ヘッドスライダ２１は磁気ディスク１３の半径方向に位置決めされる。サーボパターンの詳細は後述される。サーボセクタ領域２３の湾曲は電磁変換素子の移動経路に基づき設定される。
【００３６】
隣接するサーボセクタ領域２３の間にはデータ領域２４が確保される。磁気ディスク１３の回転中に磁気ディスク１３の半径方向に浮上ヘッドスライダ２１が位置決めされると、浮上ヘッドスライダ２１上の電磁変換素子は所定の１記録トラック上を辿り続けることができる。電磁変換素子の書き込み素子は記録トラックに沿ってデータ領域２４に情報を書き込む。同様に、電磁変換素子の読み出し素子は、データ領域２４の記録トラックに書き込まれるビットデータ列を読み取る。
【００３７】
各サーボセクタ領域２３には、例えば図３に示されるように、所定のサーボパターン２５が形成される。このサーボパターン２５は、例えば、磁気ディスク１３の半径線に沿って延びる複数筋の基準磁化領域２６と、規定の交差角αで半径線に交差する傾斜方向に沿って延びる複数筋の位相差磁化領域２７とを備える。基準磁化領域２６や位相差磁化領域２７では磁気ディスク１３の周方向ＣＲに沿って規定の向きに磁化が確立される。これら基準磁化領域２６および位相差磁化領域２７の周囲では規定の向きに反対向きに磁化が確立される。ここでは、例えば基準磁化領域２６や位相差磁化領域２７の上流側輪郭線２６ａ、２７ａで磁化方向は突き合わせられる。反対に、基準磁化領域２６や位相差磁化領域２７の下流側輪郭線２６ｂ、２７ｂで磁化方向は相反する。「上流」や「下流」は、磁気ディスク１３の回転中に規定される浮上ヘッドスライダ２１の走行方向を基準に定義される。
【００３８】
個々の基準磁化領域２６では、磁気ディスク１３の周方向に沿って上流側輪郭線２６ａおよび下流側輪郭線２６ｂの間隔は均一値ＣＬに設定される。しかも、隣接する基準磁化領域２６同士の間隔は均一値ＣＬに設定される。したがって、電磁変換素子の読み出し素子が周方向ＣＲに基準磁化領域２６上を通過すると、読み出し素子から読み出される再生信号には均一な時間間隔で最大ピーク値および最小ピーク値が交互に現れる。パルス信号は生成される。各ピーク値は１単位の記録トラック群２８に対して同一タイミングで現れる。ここで、記録トラック群２８の１単位には複数本（例えば４本）の記録トラック２８ａ〜２８ｄが含まれる。
【００３９】
同様に、個々の位相差磁化領域２７では、磁気ディスク１３の周方向ＣＲに沿って上流側輪郭線２７ａおよび下流側輪郭線２７ｂの間隔は均一値ＣＬに設定される。しかも、隣接する位相差磁化領域２７同士の間隔は均一値ＣＬに設定される。したがって、電磁変換素子の読み出し素子が周方向ＣＲに位相差磁化領域２７上を通過すると、読み出し素子から読み出される再生信号には均一な時間間隔で最大ピーク値および最小ピーク値が交互に現れる。パルス信号は生成される。ただし、各ピーク値は、１記録トラック群２８に含まれる個々の記録トラック２８ａ〜２８ｄに対して異なるタイミング（位相）で現れる。こうしたタイミング（位相）のずれに基づき１記録トラック群２８内で個々の記録トラック２８ａ〜２８ｄは識別されることができる。例えば、１記録トラック群２８に４本の記録トラック２８ａ〜２８ｄが含まれる場合には、隣接する記録トラック２８ａ〜２８ｄ同士の間にπ／２の位相ずれが生成される。
【００４０】
図３および図４から明らかなように、均一値ＣＬはサーボパターン２５の半径方向位置に基づき決定される。すなわち、基準磁化領域２６や位相差磁化領域２７では、磁気ディスク１３の回転中心からの距離ｒに比例して均一値ＣＬは設定される。したがって、磁気ディスク１３の内周側では比較的に小さな均一値Ｌ１は設定される。その一方で、磁気ディスク１３の外周側では比較的に大きな均一値Ｌ２は設定される。その結果、磁気ディスク１３の中心から外縁に向かうにつれて、位相差磁化領域２７の傾斜方向を決定する交差角αは増大していく。このように均一値ＣＬが設定されると、磁気ディスク１３の半径方向位置に拘わらず、基準磁化領域２６や位相差磁化領域２７上を通過する電磁変換素子の再生信号では特定の時間間隔で各ピーク値は現れる。
【００４１】
いま、磁気ディスク１３の回転中にサーボパターン２５からパルス信号が読み出される場面を想定する。まず、電磁変換素子は目標の１記録トラック群２８に対して位置決めされる。続いて、電磁変換素子は、当該１記録トラック群２８中から１記録トラックに位置決めされる。このとき、基準磁化領域２６で生成されるパルス信号と、位相差磁化領域２７で生成されるパルス信号との時間間隔が検出される。例えば図３や図４から明らかなように、１記録トラック群２８内で最内周記録トラック２８ａが選択される場合には、基準磁化領域２６から位相差磁化領域２７にわたって均一な時間間隔（＝２π）で最大ピーク値および最小ピーク値は繰り返される。そういった再生信号が検出された時点で電磁変換素子の位置決めは完了する。最内周記録トラック２８ａの外周側に隣接する内周寄り記録トラック２８ｂが選択される場合には、基準磁化領域２６と位相差磁化領域２７との間に（２π＋π／２）の時間間隔が確保されればよい。そういった再生信号が検出された時点で電磁変換素子の位置決めは完了する。同様に、内周寄り記録トラック２８ｂの外周側に隣接する外周寄り記録トラック２８ｃが選択される場合には、基準磁化領域２６と位相差磁化領域２７との間に（３π）の時間間隔が確保されればよい。最外周記録トラック２８ｄが選択される場合には、基準磁化領域２６と位相差磁化領域２７との間に（３π＋π／２）の時間間隔が確保されればよい。
【００４２】
図５は、以上のようなサーボパターン２５の確立にあたって利用される磁気転写装置３１を概略的に示す。本発明の第１実施形態に係る磁気転写装置３１は、磁気ディスク３２を支持する支持機構３３を備える。支持機構３３では、例えば鉛直方向に延びる回転駆動軸３４に磁気ディスク３２は受け止められる。磁気ディスク３２は回転駆動軸３４の回転に伴い任意の水平面内で回転することができる。
【００４３】
支持機構３３には着磁機構３５が関連付けられる。この着磁機構３５は、電流の供給に応じて磁界を生成する電磁石３６を備える。周知の通りに、電磁石３６は、磁性コア３７と、磁性コア３７に巻き付けられるコイル（図示されず）とから構成されればよい。磁気ディスク３２が回転駆動軸３４に装着されると、電磁石３６は、磁性コア３７の両端すなわち１対の磁極３７ａ、３７ｂで磁気ディスク３２の表面に向き合わせられる。磁極３７ａ、３７ｂ同士を行き交う磁力線に基づき磁界は生成される。
【００４４】
電磁石３６には変位機構３８が連結される。この変位機構３８は、例えば鉛直方向に延びる回転軸回りで電磁石３６を回転自在に支持する支持部材３９と、支持部材３９の水平移動を案内するガイドレール４１とを備える。電磁石３６の回転は例えば支持部材３９に組み込まれる電動モータやギアの働きに基づき生み出されればよい。磁気ディスク３２が回転駆動軸３４に装着されると、電磁石３６は、磁気ディスク３２の表面に直交する回転軸回りで姿勢を変化させることができる。
【００４５】
支持部材３９の移動は、例えばラックおよびピニオンで構成される駆動機構の働きで生み出されればよい。支持部材３９の移動量は、例えばピニオンに連結される電動モータの回転量に基づき決定されることができる。ガイドレール４１に沿って支持部材３９が移動すると、回転駆動軸３４の中心を通過する１直線に沿って電磁石３６の水平移動は生み出される。磁気ディスク３２が回転駆動軸３４に装着されると、変位機構３８の働きで電磁石３６は磁気ディスク３２の半径線に沿って水平移動することができる。
【００４６】
着磁機構３５には制御回路４２が接続される。この制御回路４２には、ガイドレール４１に案内される支持部材３９の動きを制御する変位制御回路４３や、支持部材３９に対して回転軸回りで電磁石３６の姿勢を制御する角度制御回路４４が組み込まれる。変位制御回路４３は、例えば変位機構３８に組み込まれる電動モータに所定の電気信号を供給する。角度制御回路４４は、例えば支持部材３９に組み込まれる電動モータに所定の電気信号を供給する。これらの制御回路４３、４４は所定の処理プログラムに従って支持部材３９の動きや電磁石３６の姿勢を制御する。
【００４７】
同様に、制御回路４２には、電磁石３６に供給される電流の大きさや向きを制御する電流制御回路４５や、磁気ディスク３２すなわち回転駆動軸３４の回転速度を制御する回転制御回路４６が組み込まれる。回転制御回路４６は、例えば回転駆動軸３４に連結されるスピンドルモータ（図示されず）に所定の電気信号を供給する。これらの制御回路４５、４６は所定の処理プログラムに従って電流の大きさや向き、回転駆動軸３４の回転速度を制御する。
【００４８】
電磁石３６には位置センサ４７が関連付けられる。この位置センサ４７は、ガイドレール４１に沿って変位する電磁石３６の位置を検出する。すなわち、磁気ディスク３２が回転駆動軸３４に装着されると、位置センサ４７の働きで、磁気ディスク３２の半径方向に沿って電磁石３６の位置は特定されることができる。位置センサ４７は、電磁石３６の半径方向位置を特定する検知信号を出力する。出力された検知信号は電流制御回路４５や回転制御回路４６に送り込まれる。ここで、位置センサ４７は、直接的に電磁石３６の位置を検出してもよく、電磁石３６の変位を生み出す変位機構３８の動きに基づき電磁石３６の位置を検出してもよい。その他、電磁石３６の位置の検出にあたってはいかなる手法が用いられてもよい。
【００４９】
サーボパターン２５の書き込みにあたって着磁機構３５にはマスタ磁性体４８が組み込まれる。このマスタ磁性体４８は、回転駆動軸３４に装着された磁気ディスク３２の表面に重ね合わせられる。図６に示されるように、マスタ磁性体４８の表面には、基準磁化領域２６の形状を反映する第１窪み４９と、位相差磁化領域２７の形状を反映する第２窪み５１とが形成される。磁気ディスク３２の表面にマスタ磁性体４８が重ね合わせられると、マスタ磁性体４８は、第１および第２窪み４９、５１の周囲すなわち接触面５２で満遍なく磁気ディスク３２の表面に接触する。第１および第２窪み４９、５１の形状は各基準磁化領域２６や各位相差磁化領域２７のそれを反映することから、第１および第２窪み４９、５１は磁気ディスク３２の内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる。しかも、第２窪み５１の傾斜方向は位相差磁化領域２７の傾斜方向を反映する。したがって、第１および第２窪み４９、５１の間には、前述と同様に、磁気ディスク３２の外縁に向かうにつれて増大する交差角αが規定される。
【００５０】
いま、磁気ディスク３２にサーボパターン２５が書き込まれる場面を想定する。まず、支持機構３３の回転駆動軸３４に真っ新な磁気ディスク３２が装着される。磁気ディスク３２の表面では全く磁化は確立されていない。電磁石３６は変位機構３８の働きで例えば磁気ディスク３２の最内周位置に位置決めされる。この位置決めにあたって変位機構３８には変位制御回路４３から指令信号が供給される。
【００５１】
続いて、回転制御回路４６から供給される指令信号に基づき回転駆動軸３４は回転し始める。磁気ディスク３２は回転する。磁気ディスク３２の回転速度は例えば６０ｒｐｍ程度に設定されればよい。電流制御回路４５は電磁石３６に電流を供給し始める。
【００５２】
電磁石３６に電流が供給されると、例えば図７に示されるように、電磁石３６の磁極３７ａ、３７ｂ同士の間には磁気ディスク３２の周方向に沿って磁力線５４が生成される。磁力線５４の働きで磁気ディスク３２上では前述の規定の向きと反対向きに磁化５５は確立される。磁気ディスク３２の回転は持続されると同時に、変位機構３８の働きで電磁石３６は半径方向に沿って磁気ディスク３２の外縁に向かって移動する。こうして磁気ディスク３２の表面では全面にわたって画一的に磁化５５は確立される。
【００５３】
このとき、回転駆動軸３４では、電磁石３６が半径方向外側に向かうにつれて回転速度は減速されてもよい。電磁石３６の半径方向位置は位置センサ４７で検知される。回転制御回路４６は位置センサ４７の検知信号に基づき回転駆動軸３４の回転速度を制御する。こうした減速に基づき磁気ディスク３２と電磁石３６との相対移動速度は一定に維持されることができる。全ての半径方向位置にわたって両者の相対移動速度が一定に維持されると、磁気ディスク３２の半径方向位置に拘わらず電磁石３６の磁力線５４に対して磁界オフセットの影響は均一化されることができる。磁気ディスク３２の表面では一面に均一に磁化５５は確立されることができる。相対移動速度が変化すると、磁界オフセットの影響で磁化の強さにばらつきが生じることが予想される。
【００５４】
その後、磁気ディスク３２の表面にはマスタ磁性体４８が重ね合わせられる。電磁石３６は変位機構３８の働きで再び磁気ディスク３２の最内周位置に位置決めされる。続いて回転駆動軸３４は回転し始める。磁気ディスク３２は回転する。磁気ディスク３２の回転速度は、前述と同様に、例えば６０ｒｐｍ程度に設定されればよい。
【００５５】
電磁石３６には前述とは反対向きに電流が供給される。電磁石３６の磁極３７ａ、３７ｂ同士の間には、図８に示されるように、周方向に沿って反対向きに磁力線５６が生成される。磁力線５６の影響下でマスタ磁性体４８の窪み４９、５１には書き込み磁界が形成される。したがって、窪み４９、５１で露出する磁気ディスク３２の表面では磁力線５６の働きで磁化５７が上書きされる。その結果、周方向に沿って前述の規定の向きに磁化５７が確立される。その一方で、窪み４９、５１の周囲ではマスタ磁性体４８と磁気ディスク３２とは完全に接触する。この接触に基づき磁界の形成は阻止される。窪み４９、５１の周囲で磁化５７の確立は阻止される。窪み４９、５１の周囲では最初の磁化５５は維持される。
【００５６】
電磁石３６は磁気ディスク３２の半径方向に沿って移動する。電磁石３６の半径方向位置は位置センサ４７で検知される。電流制御回路４５は、位置センサ４７の検知信号に基づき、電磁石３６に供給する電流の大きさを調整する。こうした調整に基づき窪み４９、５１内の書き込み磁界の強度は磁気ディスク３２の半径方向位置に拘わらず一定に維持されることができる。
【００５７】
前述のように、窪み４９、５１の形状は基準磁化領域２６や位相差磁化領域２７の形状を反映する。図９に示されるように、窪み４９、５１は磁気ディスク３２の内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる。こういった広がりは窪み４９、５１内で向き合う壁面同士の間隔すなわち書き込みギャップを増大させる。こうした書き込みギャップの増大は書き込み磁界の減少を招く。書き込みギャップの増大に応じて電磁石３６に供給される電流が増大すれば、窪み４９、５１内の書き込み磁界の強度は磁気ディスク３２の半径方向位置に拘わらず一定に維持されることができる。こうして磁気ディスク３２の表面では基準磁化領域２６や位相差磁化領域２７で均一に磁化５７は確立されることができる。電磁石３６に供給される電流の大きさや窪み４９、５１内の書き込み磁界の強さは実測に基づき決定されてもよく所定の計算式に基づき決定されてもよい。
【００５８】
同時に、角度制御回路４４は、位置センサ４７の検知信号に基づき電磁石３６の姿勢を調整してもよい。こうした調整によれば、窪み４９、５１内ではさらに高い精度で書き込み磁界の強度は調整されることができる。前述のように、窪み４９、５１の形状は基準磁化領域２６や位相差磁化領域２７の形状を反映する。基準磁化領域２６に対応する第１窪み４９は磁気ディスク３２の半径線に対して傾斜角を変化させる。しかも、位相差磁化領域２７に対応する第２窪み５１の傾斜方向は磁気ディスク３２の内周側よりも外周側で交差角αを増大させる。基準磁化領域２６に対応する第１窪み４９に対して交差角αは大きく広がっていく。図１０に示されるように、電磁石３６の姿勢が磁気ディスク３２の半径線５８と窪み４９、５１との傾斜角βに追従すれば、磁力線５６は最短距離で窪み４９、５１を横切ることができる。窪み４９、５１内には確実に最大値の書き込み磁界は形成されることができる。ここでは、まず、最内周から最外周に向かって電磁石３６が移動する間に基準磁化領域２６の傾斜角βに合わせて電磁石３６の姿勢は制御される。続いて、再び最内周から最外周に向かって電磁石３６が移動する間に位相差磁化領域２７の傾斜角βに合わせて電磁石３６の姿勢は制御される。
【００５９】
しかも、回転駆動軸３４では、前述と同様に、電磁石３６が半径方向外側に向かうにつれて回転速度は減速されてもよい。電磁石３６の半径方向位置は位置センサ４７で検知される。回転制御回路４６は位置センサ４７の検知信号に基づき回転駆動軸３４の回転速度を制御する。こうした減速に基づき磁気ディスク３２と電磁石３６との相対移動速度は一定に維持されることができる。全ての半径方向位置にわたって両者の相対移動速度が一定に維持されると、磁気ディスク３２の半径方向位置に拘わらず電磁石３６の磁力線５６に対して磁界オフセットの影響は均一化されることができる。
【００６０】
以上のように、前述の磁気転写装置３１によれば、磁気ディスク３２の表面では基準磁化領域２６や位相差磁化領域２７で確実に均一な強さの磁化５７は確立されることができる。磁気ディスク３２上には、磁気転写装置３１単独で十分に明瞭なサーボパターン２５は確立されることができる。その結果、磁気ディスク３２がＨＤＤ１１内に組み込まれた後に電磁変換素子でサーボパターン２５に磁化が上書きされる必要はない。サーボパターン２５の書き込みの手間や作業時間は著しく縮小されることができる。
【００６１】
図１１は本発明の第２実施形態に係る磁気転写装置３１ａを概略的に示す。この第２実施形態では、変位機構３８の働きで電磁石３６の上下動は許容される。電磁石３６の上下動は、例えば支持部材３９に組み込まれるラックおよびピニオン、電動モータなどで実現されればよい。この磁気転写装置３１ａでは、磁気ディスク３２が回転駆動軸３４に装着されると、電磁石３６は、磁気ディスク３２の表面に直交する垂直方向に変位することができる。このとき、制御回路４２には、そういった電磁石３６の垂直変位を制御する垂直変位制御回路６１が組み込まれる。この垂直変位制御回路６１は所定の処理プログラムに従って電磁石３６の垂直変位を制御する。垂直変位制御回路６１には位置センサ４７の検知信号が供給される。図中、前述の第１実施形態と均等な構成には同一の参照符号が付される。
【００６２】
この第２実施形態では、電磁石３６とマスタ磁性体４８との距離に基づき窪み４９、５１内の書き込み磁界の強度は調整されることができる。すなわち、電磁石３６が垂直方向に沿ってマスタ磁性体４８から離れれば離れるほど窪み４９、５１内の書き込み磁界は弱まっていく。したがって、電磁石３６が磁気ディスク３２の半径方向外側に向かうにつれて、電磁石３６はマスタ磁性体４８に接近すればよい。ここでは、電磁石３６に供給される電流の大きさは一定に維持されればよい。その他、着磁機構３５には、こういった電磁石３６に代えて、材料固有の性質に基づき磁性を発揮する永久磁石が組み込まれてもよい。
【００６３】
図１２は本発明の第３実施形態に係る磁気転写装置３１ｂを概略的に示す。この第３実施形態では、磁気ディスク３２の回転中心から外縁に至る長尺の電磁石６２が着磁機構３５に組み込まれる。この電磁石６２は、磁気ディスク３２の半径方向位置に応じて異なる距離でマスタ磁性体４８に向き合わせられる１対の磁極６２ａ、６２ｂを備える。電磁石６２では、磁気ディスク３２の半径方向外側に向かうにつれて磁極６２ａ、６２ｂはマスタ磁性体４８に接近する。こうして磁気ディスク３２の半径方向外側に向かうにつれて窪み４９、５１内の書き込み磁界は強められていく。電磁石６２に供給される電流の大きさは一定に維持されればよい。こういった構成によれば、支持部材３９はガイドレール４１に沿って水平移動する必要はなく、しかも、位置センサ４７で半径方向に沿って電磁石６２の位置が検知される必要もない。磁気転写装置３１ｂの構造は簡素化される。その他、着磁機構３５には、こういった電磁石６２に代えて、材料固有の性質に基づき磁性を発揮する永久磁石が組み込まれてもよい。電磁石６２の磁極６２ａ、６２ｂは、必ずしも平面でマスタ磁性体４８に向き合わせられる必要はなく、所定の湾曲面でマスタ磁性体４８に向き合わせられてもよい。湾曲面の形状は、各半径方向位置で要求されるマスタ磁性体４８および磁極６２ａ、６２ｂの距離に基づき設定されればよい。いずれの場合でも、磁極６２ａ、６２ｂ同士との間には磁気ディスク３２の半径方向にわたって均一な間隔が確立されればよい。図中、前述の第１および第２実施形態と均等な構成には同一の参照符号が付される。
【００６４】
こういった磁気転写装置３１ｂでは、例えば図１３に示されるように、磁気ディスク３２の半径方向位置に応じて磁極６２ａ、６２ｂ同士の間隔が増大してもよい。こういった構成によれば、電磁石６２は単純に水平姿勢でマスタ磁性体４８に向き合わせられることができる。磁気転写装置３１ｂの構造はさらに簡素化される。
【００６５】
図１４は本発明の第４実施形態に係る磁気転写装置３１ｃを概略的に示す。この第４実施形態では、前述の第１および第２実施形態と同様に、電磁石６３は、ガイドレール４１に案内される支持部材３９に支持される。ただし、電磁石６３は、鉛直方向に延びる回転軸回りに相対回転不能に支持部材３９に取り付けられる。図中、前述の第１および第２実施形態と均等な構成には同一の参照符号が付される。
【００６６】
図１５に示されるように、電磁石６３は磁気ディスク３２の半径方向に沿って並列する１対の第１および第２磁極６４、６５を備える。第１磁極６４には、任意の曲率で湾曲する湾曲面６４ａが形成される。第２磁極６５には、同様に、任意の曲率で湾曲する湾曲面６５ａが形成される。湾曲面６４ａ、６５ａ同士は例えば等間隔で向き合わせられる。第１および第２磁極６４、６５の間には、磁気ディスク３２の表面を含む平面内で多数の方向に磁力線６６が生成される。こういった電磁石６３によれば、その全体にわたって曲率中心を通る直線に沿って磁力線６６は生成されることができる。したがって、前述のように磁気ディスク３２の半径線と窪み４９、５１との傾斜角βが変化しても、電磁石６３の姿勢の変化を伴わずに磁力線６６は最短距離で窪み４９、５１を横切ることができる。しかも、磁気ディスク３２の半径方向に沿って１度だけ電磁石６３が移動すれば、窪み４９、５１の傾斜角βに拘わらず基準磁化領域２６および位相差磁化領域２７で十分な強度の磁化は確立されることができる。その他、着磁機構３５には、こういった電磁石６３に代えて、材料固有の性質に基づき磁性を発揮する永久磁石が組み込まれてもよい。
【００６７】
（付記１） 磁気ディスクを支持する支持機構と、規定のサーボパターンに基づき、磁気ディスクの半径方向位置に応じて異なる強度で磁気ディスクに磁界を作用させる着磁機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００６８】
（付記２） 付記１に記載の磁気転写装置において、前記着磁機構は、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、少なくともマスタ磁性体に向かって磁界を作用させ、窪み内に書き込み磁界を形成する磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿って磁石の位置を検出する位置センサとを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００６９】
（付記３） 付記２に記載の磁気転写装置において、位置センサで検出される磁石の位置に応じて、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁石の回転を生み出す磁界強度調整機構をさらに備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００７０】
（付記４） 付記３に記載の磁気転写装置において、前記支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、位置センサで検出される磁石の位置に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００７１】
（付記５） 付記１に記載の磁気転写装置において、前記着磁機構は、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、供給電力に基づき磁界を生成し、マスタ磁性体の窪み内に書き込み磁界を形成する電磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿った電磁石の変位に応じて供給電力の大きさを調整する磁界強度調整機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００７２】
（付記６） 付記５に記載の磁気転写装置において、前記磁界強度調整機構は、磁気ディスクの半径方向に沿った電磁石の変位に応じて、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに電磁石の回転を生み出すことを特徴とする磁気転写装置。
【００７３】
（付記７） 付記６に記載の磁気転写装置において、前記支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った電磁石の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００７４】
（付記８） 付記１に記載の磁気転写装置において、前記着磁機構は、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、少なくともマスタ磁性体に向かって磁界を作用させ、窪み内に書き込み磁界を形成する磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて、磁気ディスクの表面に直交する垂直方向に磁石の変位を生み出す磁界強度調整機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００７５】
（付記９） 付記８に記載の磁気転写装置において、前記磁界強度調整機構は、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁石の回転を生み出すことを特徴とする磁気転写装置。
【００７６】
（付記１０） 付記９に記載の磁気転写装置において、前記支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００７７】
（付記１１） 付記１に記載の磁気転写装置において、前記着磁機構は、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、少なくともマスタ磁性体に向かって磁界を作用させ、窪み内に書き込み磁界を形成する磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁石の回転を生み出す磁界強度調整機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００７８】
（付記１２） 付記１１に記載の磁気転写装置において、前記支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００７９】
（付記１３） 付記１に記載の磁気転写装置において、前記着磁機構は、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、磁気ディスクの半径方向位置に応じて異なる距離でマスタ磁性体に向き合わせられる１対の磁極とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００８０】
（付記１４） 付記１３に記載の磁気転写装置において、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁極の回転を生み出す磁界強度調整機構をさらに備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００８１】
（付記１５） 付記１４に記載の磁気転写装置において、前記支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁極の回転に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００８２】
（付記１６） 付記１に記載の磁気転写装置において、前記着磁機構は、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、磁気ディスクの半径方向位置に応じて異なる距離で相互に向き合わせられる１対の磁極とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００８３】
（付記１７） 付記１６に記載の磁気転写装置において、磁気ディスクの表面に交差する回転軸回りに磁極の回転を生み出す磁界強度調整機構をさらに備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００８４】
（付記１８） 付記１７に記載の磁気転写装置において、前記支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁極の回転に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００８５】
（付記１９） 付記１に記載の磁気転写装置において、前記着磁機構は、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、磁気ディスクの表面を含む１平面内で、少なくとも第１および第２方向に沿って磁力線を生成する１対の磁極とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００８６】
（付記２０） 付記１９に記載の磁気転写装置において、少なくとも一方の磁極には、他方の磁極に向き合わせられる湾曲面が形成されることを特徴とする磁気転写装置。
【００８７】
（付記２１） 付記２０に記載の磁気転写装置において、前記支持機構は、磁気ディスクを受け止める回転駆動軸と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁極の変位に応じて回転駆動軸の回転速度を変化させる制御機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
【００８８】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、単独で磁気ディスク上に明瞭なサーボパターンを確立することができる磁気転写装置は提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】 磁気記録媒体駆動装置の一具体例すなわちハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）の構造を概略的に示す平面図である。
【図２】 磁気記録媒体すなわち磁気ディスクの構造を概略的に示す部分拡大平面図である。
【図３】 磁気ディスクの内周側で確立されるサーボトラックの様子を概略的に示す概念図である。
【図４】 磁気ディスクの外周側で確立されるサーボトラックの様子を概略的に示す概念図である。
【図５】 本発明の第１実施形態に係る磁気転写装置の構造を概略的に示す斜視図である。
【図６】 マスタ磁性体の構造を概略的に示す部分拡大斜視図である。
【図７】 磁気ディスクに真っ先に確立される磁化の様子を概略的に示す概念図である。
【図８】 マスタ磁性体の窪み内で確立される磁化の様子を概略的に示す概念図である。
【図９】 磁気ディスクの内周側および外周側で窪み内に確立される書き込み磁界の様子を概略的に示す概念図である。
【図１０】 磁気ディスクの半径線と窪みとの傾斜角に基づき制御される書き込み磁界すなわち磁極の様子を概略的に示す概念図である。
【図１１】 本発明の第２実施形態に係る磁気転写装置の構造を概略的に示す斜視図である。
【図１２】 本発明の第３実施形態に係る磁気転写装置の構造を概略的に示す斜視図である。
【図１３】 一変形例に係る電磁石を概略的に示す拡大平面図である。
【図１４】 本発明の第４実施形態に係る磁気転写装置の構造を概略的に示す斜視図である。
【図１５】 磁極の構造を概略的に示す概念図である。
【符号の説明】
１３ 磁気ディスク、２５ サーボパターン、３１（３１ａ、３１ｂ、３１ｃ） 磁気転写装置、３２ 磁気ディスク、３３ 支持機構、３４ 回転駆動軸、３５ 着磁機構、３６ 磁石（電磁石）、５２ 接触面、４４ 磁界強度調整機構を構成する角度制御回路、４５ 磁界強度調整機構を構成する電流制御回路、４６ 制御回路を構成する回転制御回路、４７ 位置センサ、４８ マスタ磁性体、４９ 窪み、５１ 窪み、５６ 磁界、６１ 磁界強度調整機構を構成する垂直変位制御回路、６２ 磁石（電磁石）、６２ａ（６２ｂ） 磁極、６３ 磁石（電磁石）、６４ 磁極、６４ａ 湾曲面、６５ 磁極、６５ａ 湾曲面、６６ 磁力線。
Claims (4)
- 磁気ディスクを支持する支持機構と、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、少なくともマスタ磁性体に向かって磁気ディスクの半径方向位置に応じて異なる強度で磁界を作用させ、窪み内に書き込み磁界を形成する磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿って磁石の位置を検出する位置センサとを備えることを特徴とする磁気転写装置。
- 磁気ディスクを支持する支持機構と、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、供給電力に基づき磁界を生成し、マスタ磁性体の窪み内に書き込み磁界を形成する電磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿った電磁石の変位に応じて供給電力の大きさを調整する磁界強度調整機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
- 磁気ディスクを支持する支持機構と、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、少なくともマスタ磁性体に向かって磁界を作用させ、窪み内に書き込み磁界を形成する磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて、磁気ディスクの表面に直交する垂直方向に磁石の変位を生み出す磁界強度調整機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
- 磁気ディスクを支持する支持機構と、サーボパターンに対応する輪郭で規定される接触面で磁気ディスクに接触し、接触面同士の間で、磁気ディスクの内周側よりも外周側で周方向に大きく広がる窪みを区画するマスタ磁性体と、少なくともマスタ磁性体に向かって磁気ディスクの半径方向位置に応じて異なる強度で磁界を作用させ、窪み内に書き込み磁界を形成する磁石と、磁気ディスクの半径方向に沿った磁石の変位に応じて、磁気ディスクの表面に直交する回転軸回りに磁石の回転を生み出す磁界強度調整機構とを備えることを特徴とする磁気転写装置。
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