JP4041122B2 - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
この中で、前記液晶表示装置は低電圧駆動、低消費電力、軽量スリム(lightweight and slim profile)、フルカラー等の長所を持つ。これによって、液晶表示装置は時計及び電卓の表示窓、コンピューターのモニター、テレビ受信機能を持つモニター、 TV、携帯端末(hand-held terminal)等に活発に使用されている。
そして、図1Cには図示されなかったが、前記オーバーコート層(9)上に共通電圧を印加するための共通電極が形成される。
MMG(Multi Mode On Glass)モデルは一つの硝子基板上に解像度が相違しているパネル等を製造する。
図2に図示されたように、前記MMGモデルの一例で硝子基板上にVGAパネルとXGAパネルが具備される。
図3に図示されたように、MMGモデル液晶表示装置でお互いに相違する解像度を持つパネル等が具備される。このために、前記各パネル等にはスピンコーティング方式によってカラーレジストが塗布される。このような場合、前記カラーレジストがブラックマトリクス上に広がって行くようになる。前に説明したように、解像度が相違するパネル等に形成されたブラックマトリクス間の間隔はお互いに相違するようになる。従って、前記カラーレジストがこのようなお互いに相違するブラックマトリクス間の間隔によって広がる程度が変わるようになって結局形成されたカラーフィルター等の厚さが変わるようになる。即ちVGAパネルのカラーフィルター等の厚さよりXGAパネルのカラーフィルター等の厚さがもっと大きくなる。これはVGAパネルのカラーフィルター基板の厚さよりXGAパネルのカラーフィルター基板の厚さがもっと大きくなるようになることを意味する。従って、このようにお互いに相違する解像度を持つパネル等それぞれのカラーフィルター等の厚さの差によってMMGモデル液晶表示装置でVGAパネルとXGAパネルのセルギャップ等が均一ではなくなる。
前記補償パターンは前記アレイ基板のゲートバスライン上に形成されることができる。
前記補償パターンは前記アレイ基板のアクティブ層と同一層に形成されることができる。
前記補償パターンは前記アレイ基板のアクティブ層と等しい材質を含むことができる。
前記補償パターンは前記アレイ基板のソース/ドレイン電極と同一層に形成されることができる。
前記補償パターンは前記アレイ基板のソース/ドレイン電極と等しい材質を含むことができる。
本発明はアクティブ層又はソース/ドレイン電極を形成する時に補償パターンを同時に形成することで追加工程が必要なくなって工程費用が追加されない長所がある。
本発明は前記した実施例に限定されないで、以下請求の範囲で請求する本発明の要旨に外れることなく当該発明が属する分野で通常の知識を持った者なら誰でも多様な変更の実施が可能なはずである。
図4は本発明の望ましい一実施例によるMMGモデル液晶表示装置の画素構造をした図面である。MMGモデルは一つの硝子基板上にお互いに解像度が相違したVGAパネルとXGAパネルが具備される。VGAパネルとXGAパネル全部はアレイ基板とカラーフィルター基板が液晶層を間に置いて合着されて作られるようになる。解像度は通常カラーフィルター基板にマトリクス形態に配列されたR、G、Bカラーフィルター等のサイズによって決定される。従って、解像度が相対的に低いVGAパネルでのカラーフィルター等はサイズが大きくて、解像度が相対的に高いXGAパネルでのカラーフィルター等はサイズが小さい。このような場合、このようなカラーフィルター等は通常スピンコーティング方式によって形成されるのに、このようにカラーフィルター等のサイズが大きいか小さいかによってカラーフィルターの厚さが相違するようになる。即ち、VGAパネルのカラーフィルター等の厚さよりXGAパネルのカラーフィルター等の厚さがもっと大きくなる。このように解像度がお互いに相違したパネル等のカラーフィルター等の厚さの差によってアレイ基板とカラーフィルター基板が合着される時、セルギャップが均一に維持されなくなる。
MMGモデルにはVGAパネルとXGAパネルが具備される。前記VGAパネルには図5に図示されたように、カラーフィルター基板(200a)に形成されたカラーフィルター層(210)の厚さがXGAパネルに形成されたカラーフィルター層の厚さに比べて相対的に小さい。このようにVGAパネルにはカラーフィルター基板(200a)のカラーフィルター層(210)に対応されるアレイ基板(200b)上に補償パターン(120)が形成される。
即ち、ゲート金属膜が前記アレイ基板(200b)上に増着されて腐刻されゲート電極とゲートバスライン(101)が形成される。ゲート絶縁層(203)が前記ゲート電極とゲートバスライン(101)が形成された前記アレイ基板(200b)の全領域上に形成される。非晶質シリコン膜とドーピングされた非晶質シリコン膜は前記ゲート絶縁層(203)が形成されたアレイ基板(200b)上に塗布されて腐刻されチャンネル層とオーミックコンタクト層で成り立ったアクティブ層が形成される。この時、VGAパネルのカラーフィルター基板(200a)で発生されたカラーフィルター層(210)の厚さの偏差を償うために前記補償パターン(120)が前記ゲートバスライン(101)上に形成される。ここで、前記補償パターン(120)は前記アクティブ層と同時に形成される。これによって、前記補償パターンの厚さは前記アクティブ層の厚さと等しくておおよそ1μm〜1.5μm程度になる。ゆえに、前記補償パターン(120)が形成された領域が相対的に高く突出されるようになって、このように突出された領域にカラムスペーサー(220)が置かれる場合1μm〜1.5μm程度の高さの補償によって前記突出された領域とカラムスペーサー(220)と接触するようになってセルギャップが維持される。
図6は本発明の望ましい一実施例によるMMGモデル液晶表示装置でVGAパネルとXGAパネル間にセルギャップが均一に維持される形態を図示した図面である。
図6に図示されたように、 MMGモデルに同時に具備されたVGAパネル及びXGAパネル全部にカラーフィルター基板(200a)上にカラーフィルター層(210, 215)及びオーバーコート層(230)が形成されて、アレイ基板(200b)上にゲートバスライン(101)、ゲート絶縁層(203)及び保護膜(205)が形成される。前記VGAパネル及び前記XGAパネルは相違したサイズを持つことができる。
101:ゲートバスライン
103 :データバスライン
106a, 106b:ソース/ドレイン電極
109 :画素電極
120 :補償パターン
200a :カラーフィルター基板
200b :アレイ基板
203 :ゲート絶縁層
205 :保護膜
210, 215 :カラーフィルター層
220, 225 :カラムスペーサー
Claims (18)
- 第1解像度を持つ第1パネルと、前記第1解像度より高い第2解像度を持つ第2パネルと、セルギャップを維持するために前記第1パネルのアレイ基板上に形成された補償パターンとを含み、
前記第1パネルと前記第2パネルのカラーフィルター基板の格子構造のブラックマトリクスの間の間隔が相違し、
前記格子構造のブラックマトリクスの間隔が広い前記第1パネルのカラーフィルター層の厚さが、前記格子構造のブラックマトリクスの間隔が狭い前記第2パネルのカラーフィルター層の厚さよりも薄く、
前記第1パネルと前記第2パネルの前記カラーフィルター層上に形成されたカラムスペーサーの高さが等しく、
前記第1パネルの前記カラムスペーサーに対応する位置の前記アレイ基板上に補償パターンが形成されており、前記第2パネルの前記カラムスペーサーに対応する位置のアレイ基板上に補償パターンが形成されていないことを特徴とする液晶表示装置。 - 前記補償パターンは前記アレイ基板のゲートバスライン上に形成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記補償パターンは前記アレイ基板のアクティブ層と同一層に形成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記補償パターンは前記アレイ基板のアクティブ層と等しい材質を含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記補償パターンは前記アレイ基板のソース/ドレイン電極と同一層に形成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記補償パターンは前記アレイ基板のソース/ドレイン電極と等しい材質を含むことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記補償パターンは四角形、円形、三角形及び多角形の中の一つを持つように形成されることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記第1及び第2パネルは相違しているサイズを持つことを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 解像度が相違している第1及び第2パネルが具備された液晶表示装置を製造する方法において、前記第1パネルの第1基板及び前記第2パネルの第2基板上にゲート電極とゲートバスラインを形成する段階と、前記ゲートバスラインが形成された前記第1及び第2基板上にゲート絶縁層を形成する段階と、前記ゲート絶縁層が形成された前記第1及び第2基板上にチャンネル層とオミックコンタック層で成り立ったアクティブ層を形成すると同時に前記第1パネルの前記第1基板上に補償パターンを形成する段階と、前記アクティブ層が形成された前記第1及び第2基板上にソース/ドレイン電極とデータバスラインを形成する段階と、前記ソース/ドレイン電極が形成された前記第1及び第2基板上に画素電極を形成する段階を含み、
前記第1パネルは前記第2パネルより解像度が低く、
前記第1パネルと前記第2パネルのカラーフィルター基板の格子構造のブラックマトリクスの間の間隔が相違し、
前記格子構造のブラックマトリクスの間隔が広い前記第1パネルのカラーフィルター層の厚さが、前記格子構造のブラックマトリクスの間隔が狭い前記第2パネルのカラーフィルター層の厚さよりも薄く、
前記第1パネルと前記第2パネルの前記カラーフィルター層上に形成されたカラムスペーサーの高さが等しく、
前記第1パネルの前記カラムスペーサーに対応する位置の前記アレイ基板上に補償パターンが形成されており、前記第2パネルの前記カラムスペーサーに対応する位置のアレイ基板上に補償パターンが形成されていないことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記補償パターンは前記ゲートバスライン上に形成されることを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記補償パターンは前記アクティブ層と同一層に形成されることを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記補償パターンは前記アクティブ層と等しい材質を含むことを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記補償パターンは四角形、円形、三角形及び多角形の中の一つを持つように形成されることを特徴とする請求項9に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 解像度が相違している第1及び第2パネルが具備された液晶表示装置を製造する方法において、前記第1パネルの第1基板及び前記第2パネルの第2基板上にゲート電極とゲートバスラインを形成する段階と、前記ゲートバスラインが形成された前記第1及び第2基板上にゲート絶縁層を形成する段階と、前記ゲート絶縁層が形成された前記第1及び第2基板上にチャンネル層とオミックコンタック層で成り立ったアクティブ層を形成する段階と、前記アクティブ層が形成された前記第1及び第2基板上にソース/ドレイン電極とデータバスラインを形成すると同時に前記第1パネルの前記第1基板上に補償パターンを形成する段階と、前記ソース/ドレイン電極が形成された第1及び第2基板上に画素電極を形成する段階を含み、
前記第1パネルは前記第2パネルより解像度が低く、
前記第1パネルと前記第2パネルのカラーフィルター基板の格子構造のブラックマトリクスの間の間隔が相違し、
前記格子構造のブラックマトリクスの間隔が広い前記第1パネルのカラーフィルター層の厚さが、前記格子構造のブラックマトリクスの間隔が狭い前記第2パネルのカラーフィルター層の厚さよりも薄く、
前記第1パネルと前記第2パネルの前記カラーフィルター層上に形成されたカラムスペーサーの高さが等しく、
前記第1パネルの前記カラムスペーサーに対応する位置の前記アレイ基板上に補償パターンが形成されており、前記第2パネルの前記カラムスペーサーに対応する位置のアレイ基板上に補償パターンが形成されていないことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記補償パターンは前記ゲートバスライン上に形成されることを特徴とする請求項14に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記補償パターンは前記ソース/ドレイン電極と同一層に形成されることを特徴とする請求項14に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記補償パターンは前記アレイ基板のソース/ドレイン電極と等しい材質を含むことを特徴とする請求項14に記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記補償パターンは四角形、円形、三角形及び多角形の中の一つを持つように形成されることを特徴とする請求項14に記載の液晶表示装置の製造方法。
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