CN105140242B - 一种显示基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种显示基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，为解决因显示基板的盒厚不均匀而导致显示装置的画面显示品质降低的问题。所述显示基板包括相对设置的第一基板和第二基板，第一基板包括第一区域和第二区域，第一基板上位于第一区域内的功能层的总厚度比位于第二区域内的功能层的总厚度薄；在第一基板与第二基板之间设有厚度补偿层，厚度补偿层与第一区域对应，厚度补偿层和第一区域内的功能层的总厚度与第二区域内的功能层的总厚度相等。本发明通过在第一基板与第二基板之间设置与第一区域对应的厚度补偿层，使显示基板的各个区域的盒厚均匀，以改善显示装置的画面显示质量。

Description

一种显示基板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。
背景技术
目前，显示装置的主体结构包括显示基板，如图1所示，显示基板包括相对设置的第一基板11和第二基板21；其中，第一基板11上设置有多个功能层。在第一基板11上形成功能层时，由于制作工艺的影响，易造成功能层的总厚度不均匀。
例如，在第一基板11上形成金属功能层如栅线层时，首先采用磁控溅射的方式在第一基板11上沉积金属薄膜，然后通过构图工艺形成栅线层，而对于大尺寸的显示装置的阵列基板(例如，尺寸大于等于32寸的显示装置)，通过磁控溅射的方式在第一基板11上沉积金属薄膜时，所使用的金属靶材通常由多个条状靶材单元拼接而成，在第一基板11上沉积金属薄膜时，第一基板11上与金属靶材上相邻的两个条状靶材单元的拼接区对应的区域为第一区域，第一基板11上与金属靶材上的非拼接区对应的区域为第二区域。由于金属靶材上相邻的两个条状靶材单元的拼接区的成膜速度比金属靶材上的非拼接区的成膜速度低，因而在进行磁控溅射后，位于第一区域内的金属薄膜的厚度要小于位于第二区域内的金属薄膜的厚度，因此，通过构图工艺形成的栅线层中，位于第一区域内的栅线层的厚度小于位于第二区域内的栅线层的厚度。
由上可知，由于第一基板11上位于第一区域内的栅线层的厚度小于位于第二区域内的栅线层的厚度，因而在位于第一区域内的其它功能层的厚度与位于第二区域内的其它功能层的厚度相同的情况下，第一基板11上位于第一区域内的功能层的总厚度比位于第二区域内的功能层的总厚度薄，即造成第一基板11上的功能层的总厚度不均匀，即图1中d1和d2不相同，使得将第一基板11与第二基板21对盒后形成的显示基板的盒厚不均匀，导致显示装置的画面显示品质降低。
发明内容
本发明的目的在于提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，用于解决因阵列基板的功能层的总厚度不均引起显示基板的盒厚不均匀，导致显示装置的画面显示品质降低的技术问题。
为了实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一方面，本发明提供一种显示基板，一种显示基板，包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板包括第一区域和第二区域，所述第一基板上位于所述第一区域内的功能层的总厚度比位于所述第二区域内的功能层的总厚度薄；
在所述第一基板与所述第二基板之间设有厚度补偿层，所述厚度补偿层与所述第一区域对应，所述厚度补偿层和所述第一区域内的功能层的总厚度与所述第二区域内的功能层的总厚度相等。
另一方面，本发明提供一种显示装置，所述显示装置设置有如上述技术方案所述的显示基板。
再一方面，本发明提供一种显示基板的制作方法，包括：
提供第一基板与第二基板，所述第一基板包括第一区域和第二区域，所述第一基板上位于所述第一区域内的功能层的总厚度比位于所述第二区域内的功能层的总厚度薄；
在所述第一基板上的所述第一区域内形成厚度补偿层，或/和，在所述第二基板上与所述第一区域对应的区域内形成所述厚度补偿层，所述厚度补偿层和所述第一区域内的功能层的总厚度与所述第二区域内的功能层的总厚度相等。
在本发明提供的显示基板中，由于在第一基板与第二基板之间设置有厚度补偿层，厚度补偿层与第一区域对应，且厚度补偿层和第一区域内的功能层的总厚度与第二区域内的功能层的总厚度相等，因而将第一基板与第二基板对盒后，厚度补偿层可以对显示基板上与第一区域对应的盒厚进行补偿，以使显示基板上与第一区域对应的盒厚和显示基板上与第二区域对应的盒厚相同，即使显示基板的各个区域的盒厚相同，从而可以防止因位于第一基板上的功能层的总厚度不均匀而导致显示基板的盒厚不均匀，进而改善显示装置的画面显示品质。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
图1为现有技术中的一种显示基板的截面图；
图2为本发明实施例提供的一种显示基板的截面图；
图3为本发明实施例提供的另一种显示基板的截面图；
图4为本发明实施例提供的再一种显示基板的截面图；
图5为本发明实施例提供的又一种显示基板的截面图；
图6为本发明实施例提供的一种显示基板的制作方法；
图7为本发明实施例提供的另一种显示基板的制作方法；
图8为本发明实施例提供的再一种显示基板的制作方法；
图9为本发明实施例提供的又一种显示基板的制作方法。
附图标记：
11-第一基板， 12-栅线，
13-公共电极层， 14-隔垫物枕垫，
15-钝化层， 16-像素电极层，
21-第二基板， 22-黑矩阵层，
23-隔垫物， 30-厚度补偿层，
31-第一补偿层， 32-第二补偿层。
具体实施方式
为了进一步说明本发明实施例提供的显示基板及其制作方法、显示装置，下面结合说明书附图进行详细描述。
请参阅图2，本发明实施例提供的显示基板包括相对设置的第一基板11和第二基板21，第一基板11包括第一区域和第二区域，第一基板11上位于第一区域内的功能层的总厚度比位于第二区域内的功能层的总厚度薄；在第一基板11与第二基板21之间设有厚度补偿层30，厚度补偿层30与第一区域对应，厚度补偿层30和第一区域内的功能层的总厚度与第二区域内的功能层的总厚度相等。
在本发明实施例提供的显示基板中，由于在第一基板11与第二基板21之间设置有厚度补偿层30，厚度补偿层30与第一区域对应，且厚度补偿层30和第一区域内的功能层的总厚度与第二区域内的功能层的总厚度相等，即图2、图3和图4中d2和d3相等，因而将第一基板11与第二基板21对盒后，厚度补偿层30可以对显示基板上与第一区域对应的区域和显示基板上与第二区域对应的区域之间的盒厚差进行补偿，以使显示基板上与第一区域对应的盒厚和显示基板上与第二区域对应的盒厚相同，即使显示基板的各个区域的盒厚相同，从而可以防止因位于第一基板11上的金属功能层的厚度不均匀而导致显示基板的盒厚不均匀，进而改善显示装置的画面显示品质。
值得指出的是，为了进一步对显示基板的各个区域的盒厚进行控制，在第一基板11上和第二基板21上分别对应形成功能层后，还可以在第一基板11的上方或/和第二基板21的上方设置平坦化层，以使将第一基板11与第二基板21对盒后形成的显示基板的各个区域的盒厚均匀，从而进一步对显示基板的各个区域的盒厚进行控制，改善显示装置的画面显示品质。
在上述实施例中，厚度补偿层30可以设置在第一基板11上，也可以设置在第二基板21上，也可以同时在第一基板11和第二基板21上分别进行设置，在本发明实施例中，示例性列举了以下几种方式：
方式一，请参阅图2，第一基板11上依次叠加设置有图形化的公共电极层13和栅线层，厚度补偿层30位于第一区域内的栅线12与第一基板11之间，厚度补偿层30与公共电极层13同层设置但互不相连。在第一基板11上的第一区域内设置与公共电极层13同层但不相连的厚度补偿层30，以对第一基板11上的第一区域内的功能层的总厚度进行补偿，使图2中的d3与d2相等，将第一基板11和第二基板21对盒后，显示基板的各个区域的盒厚相同，从而改善显示装置的画面显示品质。
另外，将厚度补偿层30与公共电极层13同层设置，当制作阵列基板时，在第一基板11上沉积公共电极薄膜层后，通过一次构图工艺即可同时形成厚度补偿层30和公共电极层13，与单独在第一基板11上形成厚度补偿层30相比，可以减少制作阵列基板的工艺步骤和掩膜板的使用数量，从而节约了时间，并节省了成本。再者，厚度补偿层30与公共电极层13不相连，因而，厚度补偿层30不会对在公共电极层13上传递的信号产生影响和干扰。
值得一提的是，请继续参阅图2，在方式一中，厚度补偿层30位于第一区域内的栅线12与第一基板11之间，且厚度补偿层30与栅线12接触。如此设计，可以减小栅线12的电阻，从而降低信号在栅线12上传递时的衰减。
方式二，请参阅图3，第一基板11上依次叠加设置有图形化的公共电极层13、栅线层、栅极绝缘层、有源层、源漏极层、钝化层15和像素电极层17，厚度补偿层30位于第一区域内的钝化层15上，且厚度补偿层30与像素电极层17同层设置但互不相连。具体实施时，像素电极层17位于公共电极层13的上方，并与位于第一基板11上的公共电极层13相对，厚度补偿层30位于第一基板11上第一区域内钝化层15上，且位于第一区域内的栅线12的正上方，厚度补偿层30与像素电极层17同层设置但互不相连，将第一基板11与第二基板21对盒时，彩膜基板20上对应于第一区域的区域内的隔垫物23与厚度补偿层30接触。在第一基板11上第一区域内设置与像素电极层17同层但不相连的厚度补偿层30，以对第一基板11上第一区域内的功能层的总厚度进行补偿，使图3中的d3与d2相等，将第一基板11与第二基板21对盒后，显示基板的各个区域的盒厚均匀，从而改善显示装置的画面显示品质。另外，厚度补偿层30与像素电极层17不相连，可以防止厚度补偿层30产生干扰电场，从而可以防止对像素电极层17产生影响和干扰。
值得指出的是，将厚度补偿层30与像素电极层17同层设置，当制作阵列基板10时，在第一基板11上沉积像素电极薄膜层后，通过一次构图工艺即可同时形成厚度补偿层30和像素电极层17，与单独在第一基板11上形成厚度补偿层30相比，可以减少制作阵列基板10的工艺步骤和掩膜板的使用数量，从而节约了时间，并节省了成本。
另外，将厚度补偿层30与像素电极层17同层设置，像素电极薄膜层的厚度可以在第一基板11上完成钝化层15的形成后，对第一基板11上各个区域内已完成的功能层的总厚度进行测量之后得到，以选择合适的像素电极薄膜层的厚度，使通过构图工艺后获得的厚度补偿层30的厚度与需要补偿的厚度相匹配，与采用方式一形成厚度补偿层30相比，采用方式二形成的厚度补偿层30的厚度与需要补偿的厚度更加匹配，因而可以更准确地对第一基板11上第一区域内的功能层的总厚度进行补偿，从而进一步改善显示装置所显示的画面的品质。
方式三，请参阅图4，第一基板11上依次叠加设置有图形化的公共电极层13、栅线层、栅极绝缘层、有源层、源漏极层、钝化层15和像素电极层17；厚度补偿层30包括：第一补偿层31和第二补偿层32，其中，第一补偿层31位于第一区域内的栅线12与第一基板11之间，且第一补偿层31分别与栅线12和第一基板11接触，第一补偿层31与公共电极层13同层设置但互不相连，第二补偿层32位于第一区域内的钝化层15上，且第二补偿层32与像素电极层17同层设置但互不相连。举例来说，公共电极层13位于第一基板11上，像素电极层17位于公共电极层13的上方，且像素电极层17与公共电极层13相对，厚度补偿层30包括与公共电极层13同层设置但不相连的第一补偿层31，以及与像素电极层17同层设置但不相连的第二补偿层32，其中，第一补偿层31位于第一区域内的栅线12与第一基板11之间，第二补偿层32位于第一区域内的栅线12的正上方的钝化层16上，将第一基板11与第二基板21对盒后，第二基板21上对应于第一区域的区域内的隔垫物23与第二补偿层32接触。
通过设置与公共电极层13同层的第一补偿层31以及与像素电极层17同层的第二补偿层32，以对第一基板11上第一区域内的功能层的厚总度进行补偿，使图4中的d3与d2相等，因而将第一基板11与第二基板21对盒后，显示基板的各个区域的盒厚相同，从而防止因第一基板11上的功能层的总厚度不均匀而导致显示基板的盒厚不均匀，进而改善显示装置的画面显示品质。
值得一提的是，在方式三中，当在第一基板11上完成钝化层15的沉积后，通过构图工艺形成与像素电极层17同层的第二补偿层32，以对第一基板11上第一区域内的功能层的总厚度进行补偿，此时，第二补偿层32不只是可以补偿第一基板11上第一区域内的功能层的总厚度，还可以补偿位于第一基板11上第二区域内需要进行厚度补偿的功能层的总厚度，以使显示基板的各个区域的盒厚相同。
在上述实施例中，厚度补偿层30的设置方式均以在ADS型阵列基板的第一基板11上进行设置为例来说明，但本发明实施例并不只是适用于ADS型阵列基板。另外，厚度补偿层30的设置方式包括但不限于上述实施例列举的三种方式，厚度补偿层30还可以与有源层等功能层同层设置。
在方式一、方式二和方式三中，厚度补偿层30设置在第一基板11上，厚度补偿层30还可以设置在与第一基板11相对的第二基板21上。
方式四，请参阅图5，第二基板21上依次叠加设置有图形化的黑矩阵层22、彩膜层和隔垫物层，厚度补偿层30位于第二基板21上与第一区域对应的区域内的隔垫物层上。具体实施时，第二基板21上的黑矩阵层22与第一基板11上的栅线12对应，隔垫物层包括设置在黑矩阵层22上的多个隔垫物23，厚度补偿层30位于第二基板21上与第一区域对应的区域内的隔垫物23上，当将第一基板11与第二基板21对盒时，厚度补偿层30和第一基板11上第一区域内的功能层的总厚度与第一基板11上第二区域内的功能层的总厚度相等，即使显示基板的各个区域的盒厚相等，从而改善显示装置的画面显示品质。设置在第二基板21上的厚度补偿层30的材料可以与隔垫物23的材料相同，也可以与隔垫物23的材料不同。
值得指出的是，当将厚度补偿层30设置在第二基板21上时，厚度补偿层30可以设置在第二基板21上与第一区域对应的区域内的隔垫物23上；还可以设置在第二基板21上与第一区域对应的区域内，且位于黑矩阵层22与隔垫物层之间；也可以设置在第二基板21上与第一区域对应的区域内，且位于黑矩阵层22与第二基板21之间。
在上述实施例中，厚度补偿层30设置在第一基板11上或第二基板21上，在实际应用中，厚度补偿层30可以在第一基板11上和第二基板21上同时设置。当厚度补偿层30在第一基板11上和第二基板21上同时设置时，厚度补偿层30在第一基板11上的设置方式可以采用方式一、方式二或方式三中的任意一种，也可以采用其它类似的方式进行设置，厚度补偿层30在第二基板21上的设置方式可以采用方式四，也可以采用其它类似的方式进行设置，在此不再一一列举。
在上述实施例中，位于第一基板11上的功能层包括公共电极层13、栅线层、栅极绝缘层、有源层、源漏极层、钝化层15以及像素电极层16等，其中，栅线层、源漏电极层为金属功能层。
在本发明实施例中，请继续参阅图2至图5，第一基板11的上方设置有多个隔垫物枕垫14，多个隔垫物枕垫14与源漏极层同层设置但互不相连，厚度补偿层30包括与位于第一区域内的隔垫物枕垫14一一对应的厚度补偿垫，且位于第一区域内的隔垫物枕垫14在第一基板11上的正投影落入对应的厚度补偿垫在第一基板11上的正投影内。
举例来说，请参阅图2，第一区域内的每个隔垫物枕垫14的正下方均设置有一个厚度补偿垫，且每个隔垫物枕垫14的正下方的厚度补偿垫与其它隔垫物枕垫14的正下方的厚度补偿垫均不相连，且隔垫物枕垫14在第一基板11上的正投影落入对应的厚度补偿垫在第一基板11上的正投影内；请参阅图3，第一区域内的每个隔垫物枕垫14的正上方均设置有一个厚度补偿垫，且每个隔垫物枕垫14的正上方的厚度补偿垫与其它隔垫物枕垫14的正上方的厚度补偿垫均不相连，且隔垫物枕垫14在第一基板11上的正投影落入对应的厚度补偿垫在第一基板11上的正投影内；请参阅图4，厚度补偿层30包括：位于第一区域内的每个隔垫物枕垫14的正下方的第一补偿层31，以及位于第一区域内的每个隔垫物枕垫14的正上方的第二补偿层32，第一补偿层31包括与位于第一区域内的隔垫物枕垫14一一对应的第一补偿垫，第二补偿层32包括与位于第一区域内的隔垫物枕垫14一一对应的第二补偿垫，每个隔垫物枕垫14的正下方的第一补偿垫与其它隔垫物枕垫14的正下方的第一补偿垫均不相连，每个隔垫物枕垫14的正上方的第二补偿垫与其它隔垫物枕垫14的正上方的第二补偿垫均不相连，隔垫物枕垫14在第一基板11上的正投影落入对应的第一补偿垫和第二补偿垫在第一基板11上的正投影内；请参阅图5，位于第二基板21上与第一区域对应的区域内的每个隔垫物23上均设置有厚度补偿垫，且每个隔垫物23上的厚度补偿垫与其它隔垫物23上的厚度补偿垫均不相连，隔垫物枕垫14在第一基板11上的正投影落入对应的厚度补偿垫在第一基板11上的正投影内。
将厚度补偿层30设置在第一基板11的第一区域内或/和第二基板21上与第一区域对应的区域内，并使第一区域内的隔垫物枕垫14在第一基板11上的正投影落入对应的厚度补偿垫在第一基板11上的正投影内，由于隔垫物枕垫14位于栅线12的正上方，且栅线12与黑矩阵层22对应，因此，厚度补偿层30与栅线12对应，且与黑矩阵层22对应，即厚度补偿层30不会占用显示基板的像素区的空间，从而可以防止显示基板的开口率降低。
本发明实施例还提供一种显示装置，所述显示装置设置有如上述实施例提供的显示基板。所述显示装置与上述显示基板相对于现有技术所具有的优势相同，在此不再赘述。
本发明实施例还提供一种显示基板的制作方法，用于制作上述实施例提供的显示基板，包括：
提供第一基板与第二基板，第一基板包括第一区域和第二区域，第一基板上位于第一区域内的功能层的总厚度比位于第二区域内的功能层的总厚度薄；
在第一基板上的第一区域内形成厚度补偿层，或/和，在第二基板上与第一区域对应的区域内形成厚度补偿层，厚度补偿层和第一区域内的功能层的总厚度与第二区域内的功能层的总厚度相等。
本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，各个实施例之间相同或相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其，对于方法实施例而言，由于其基本相似于产品实施例，所以描述得比较简单，相关之处参见产品实施例的部分说明即可。
请参阅图6，厚度补偿层设置在第一基板上，在第一基板上的第一区域内形成厚度补偿层包括：
步骤101、在第一基板上沉积公共电极薄膜层；
步骤102、通过一次构图工艺，形成互不相连的公共电极层和厚度补偿层，其中，厚度补偿层位于第一区域内的栅线与第一基板之间。
上述实施例中，厚度补偿层与公共电极层同层设置，在实际应用中，厚度补偿层还可以与像素电极层同层设置。
请参阅图7，在第一基板上的第一区域内形成厚度补偿层包括：
步骤201、在第一基板上依次形成图形化的公共电极层、栅线层、栅极绝缘层、有源层、源漏极层以及钝化层；
步骤202、在钝化层上沉积像素电极薄膜层；
步骤203、通过一次构图工艺，形成互不相连的像素电极层和厚度补偿层。
上述实施例中，厚度补偿层与公共电极层同层设置，或者，厚度补偿层与像素电极层同层设置，厚度补偿层还可以包括与公共电极层同层设置的第一补偿和与像素电极层同层设置的第二补偿层。
请参阅图8，在第一基板上的第一区域内形成厚度补偿层包括：
步骤301、在第一基板上沉积公共电极薄膜层；
步骤302、经过一次构图工艺，形成互不相连的公共电极层和第一补偿层，其中，第一补偿层位于第一区域内的栅线与第一基板之间；
步骤303、在第一基板上形成图形的栅线层、栅极绝缘层、有源层、源漏极层以及钝化层；
步骤304、在钝化层上沉积像素电极薄膜层；
步骤305、通过一次构图工艺，形成互不相连的像素电极层和第二补偿层，厚度补偿层包括第一补偿层和第二补偿层。
上述实施例中，厚度补偿层设置在第一基板上，具体实施时，厚度补偿层还可以设置在第二基板上，请参阅图9，在第二基板上与第一区域对应的区域内形成厚度补偿层包括：
步骤401、在第二基板上依次形成图形化的黑矩阵层、彩膜层和隔垫物层，隔垫物层包括位于黑矩阵层上的多个隔垫物；
步骤402、在隔垫物层上沉积补偿薄膜层；
步骤403、通过一次构图工艺，在位于第二基板上与第一区域对应的区域内的隔垫物上形成厚度补偿层。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (13)

1.一种显示基板，包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板包括第一区域和第二区域，所述第一基板上位于所述第一区域内的功能层的总厚度比位于所述第二区域内的功能层的总厚度薄；其特征在于，
在所述第一基板与所述第二基板之间设有厚度补偿层，所述厚度补偿层与所述第一区域对应，所述厚度补偿层和所述第一区域内的功能层的总厚度与所述第二区域内的功能层的总厚度相等；
所述第二基板上设置有隔垫物层，所述隔垫物层与所述第一基板的所述第一区域和/或所述第二区域接触。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一基板上依次叠加设置有图形化的公共电极层和栅线层，所述厚度补偿层位于所述第一区域内的栅线与所述第一基板之间，所述厚度补偿层与所述公共电极层同层设置但互不相连。
3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一基板上依次叠加设置有图形化的公共电极层、栅线层、栅极绝缘层、有源层、源漏极层、钝化层和像素电极层，所述厚度补偿层位于所述第一区域内的所述钝化层上，且所述厚度补偿层与所述像素电极层同层设置但互不相连。
4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一基板上依次叠加设置有图形化的公共电极层、栅线层、栅极绝缘层、有源层、源漏极层、钝化层和像素电极层；
所述厚度补偿层包括：第一补偿层和第二补偿层，其中，所述第一补偿层位于所述第一区域内的栅线与所述第一基板之间，所述第一补偿层与所述公共电极层同层设置但互不相连，所述第二补偿层位于所述第一区域内的所述钝化层上，且所述第二补偿层与所述像素电极层同层设置但互不相连。
5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二基板上依次叠加设置有图形化的黑矩阵层、彩膜层和隔垫物层，所述厚度补偿层位于所述第二基板上与所述第一区域对应的区域内的隔垫物层上。
6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述功能层包括金属功能层。
7.根据权利要求1-6任一所述的显示基板，其特征在于，所述第一基板的上方设置有多个隔垫物枕垫，多个所述隔垫物枕垫与源漏极层同层设置但互不相连，所述厚度补偿层包括与位于第一区域内的所述隔垫物枕垫一一对应的厚度补偿垫，且位于所述第一区域内的所述隔垫物枕垫在所述第一基板上的正投影落入对应的所述厚度补偿垫在所述第一基板上的正投影内。
8.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置设置有如权利要求1-7任一所述的显示基板。
9.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：
提供第一基板与第二基板，所述第一基板包括第一区域和第二区域，所述第一基板上位于所述第一区域内的功能层的总厚度比位于所述第二区域内的功能层的总厚度薄；
在所述第一基板上的所述第一区域内形成厚度补偿层，或/和，在所述第二基板上与所述第一区域对应的区域内形成所述厚度补偿层，所述厚度补偿层和所述第一区域内的功能层的总厚度与所述第二区域内的功能层的总厚度相等；
在所述第二基板上形成隔垫物层，所述隔垫物层与所述第一基板的所述第一区域和/或所述第二区域接触。
10.根据权利要求9所述的显示基板的制作方法，其特征在于，在所述第一基板上的所述第一区域内形成所述厚度补偿层包括：
在所述第一基板上沉积公共电极薄膜层；
通过一次构图工艺，形成互不相连的所述公共电极层和所述厚度补偿层，其中，所述厚度补偿层位于所述第一区域内的栅线与所述第一基板之间。
11.根据权利要求9所述的显示基板的制作方法，其特征在于，在所述第一基板上的所述第一区域内形成所述厚度补偿层包括：
在所述第一基板上依次叠加形成图形化的公共电极层、栅线层、栅极绝缘层、有源层、源漏极层以及钝化层；
在所述钝化层上沉积像素电极薄膜层；
通过一次构图工艺，形成互不相连的所述像素电极层和所述厚度补偿层。
12.根据权利要求9所述的显示基板的制作方法，其特征在于，在所述第一基板上的所述第一区域内形成所述厚度补偿层包括：
在所述第一基板上沉积公共电极薄膜层；
经过一次构图工艺，形成互不相连的所述公共电极层和第一补偿层，其中，所述第一补偿层位于所述第一区域内的栅线与所述第一基板之间，且所述第一补偿层分别与所述栅线和所述第一基板接触；
在所述第一基板上依次叠加形成图形化的栅线层、栅极绝缘层、有源层、源漏极层以及钝化层；
在所述钝化层上沉积像素电极薄膜层；
通过一次构图工艺，形成互不相连的所述像素电极层和第二补偿层，所述厚度补偿层包括所述第一补偿层和所述第二补偿层。
13.根据权利要求9所述的显示基板的制作方法，其特征在于，在所述第二基板上与所述第一区域对应的区域内形成所述厚度补偿层包括：
在所述第二基板上依次叠加形成图形化的黑矩阵层、彩膜层和隔垫物层，所述隔垫物层包括位于所述黑矩阵层上的多个隔垫物；
在所述隔垫物层上沉积补偿薄膜层；
通过一次构图工艺，在位于所述第二基板上与所述第一区域对应的区域内的所述隔垫物上形成所述厚度补偿层。
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