CN108196408B - Coa基板的测试键以及使用其的测试方法 - Google Patents

Coa基板的测试键以及使用其的测试方法 Download PDF

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Abstract

提供了一种COA基板的测试键和一种使用所述COA基板的测试键的测试方法。所述COA基板的测试键包括：第一测试键，包括红色色阻图案、形成在红色色阻图案中的第一过孔图案以及第一金属层图案；第二测试键，包括绿色色阻图案、形成在绿色色阻图案中的第二过孔图案以及第二金属层图案；第三测试键，包括蓝色色阻图案、形成在蓝色色阻图案中的第三过孔图案以及第三金属层图案，第一金属层图案、第二金属层图案和第三金属层图案由同一金属层形成。所述COA基板的测试键占用较小的空间并且能够同时测量色阻层相对于薄膜晶体管层的对位精度和色阻层中的过孔的线宽。

Description

COA基板的测试键以及使用其的测试方法
技术领域
本发明涉及液晶显示器技术领域，尤其涉及一种COA基板的测试键和一种使用所述COA基板的测试键的测试方法。
背景技术
现有的薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD，Thin Film Transistor LiquidCrystal Display)的COA(Color Filter on Array)基板是将彩色滤光片制作在薄膜晶体管阵列基板上。
目前，RGB色阻层中的过孔线宽的测试键和RGB色阻层与薄膜晶体管层的对位精度的测试键是独立设计的图案，这种设计占用的空间较大，而且在进行上述两种测量时，需要在测量RGB色阻层的过孔线宽的测试键之后，移动测试装置的镜头来测量RGB色阻层与薄膜晶体管层的对位精度的测试键，这样就导致生产节拍时间较长。
发明内容
本发明的目的在于提供一种占用空间小并且能够缩短生产节拍时间的COA基板的测试键以及一种使用所述COA基板的测试键的测试方法。
根据本发明的一方面，提供了一种COA基板的测试键，所述COA基板的测试键包括：第一测试键，包括红色色阻图案、形成在红色色阻图案中的第一过孔图案以及第一金属层图案，用于同时测量红色色阻图案相对于第一金属层图案的偏移量和红色色阻图案中的第一过孔图案的线宽；第二测试键，包括绿色色阻图案、形成在绿色色阻图案中的第二过孔图案以及第二金属层图案，用于同时测量绿色色阻图案相对于第二金属层图案的偏移量和绿色色阻图案中的第二过孔图案的线宽；第三测试键，包括蓝色色阻图案、形成在蓝色色阻图案中的第三过孔图案以及第三金属层图案，用于同时测量蓝色色阻图案相对于第三金属层图案的偏移量和绿色色阻图案中的第三过孔图案的线宽，其中，第一金属层图案、第二金属层图案和第三金属层图案由同一金属层形成。
包括在第一测试键中的红色色阻图案和第一金属层图案均为矩形，并且红色色阻层图案的四个边分别与第一金属层图案的四个边平行，包括在第二测试键中的绿色色阻图案和第二金属层图案均为矩形，并且绿色色阻层图案的四个边分别与第二金属层图案的四个边平行，包括在第三测试键中的蓝色色阻图案和第三金属层图案均为矩形，并且蓝色色阻层图案的四个边分别与第三金属层图案的四个边平行。
红色色阻图案相对于第一金属层图案的偏移量包括红色色阻图案在第一方向上相对于第一金属层图案的第一偏移量以及红色色阻图案在与第一方向垂直的第二方向上相对于第一金属层图案的第二偏移量，绿色色阻图案相对于第二金属层图案的偏移量包括绿色色阻图案在第一方向上相对于第二金属层图案的第三偏移量以及绿色色阻图案在与第一方向垂直的第二方向上相对于第二金属层图案的第四偏移量，蓝色色阻图案相对于第三金属层图案的偏移量包括蓝色色阻图案在第一方向上相对于第三金属层图案的第五偏移量以及蓝色色阻图案在与第一方向垂直的第二方向上相对于第三金属层图案的第六偏移量，其中，第一方向是红色色阻图案、绿色色阻图案和蓝色色阻图案中的彼此平行的边延伸的方向，第二方向与第一方向垂直。
第一偏移量为(f1-h1)/2，其中，f1和h1分别为红色色阻图案和第一金属层图案的彼此平行的四对边中的在第一方向上的两对之间的距离，第二偏移量为(g1-i1)/2，其中，g1和i1分别为红色色阻图案和第一金属层图案的彼此平行的四对边中的在第二方向上的两对之间的距离，第三偏移量为(f2-h2)/2，其中，f2和h2分别为绿色色阻图案和第二金属层图案的彼此平行的四对边中的在第一方向上的两对之间的距离，第四偏移量为(g2-i2)/2，其中，g2和i2分别为绿色色阻图案和第二金属层图案的彼此平行的四对边中的在第二方向上的两对之间的距离，第五偏移量为(f3-h3)/2，其中，f3和h3分别为蓝色色阻图案和第三金属层图案的彼此平行的四对边中的在第一方向上的两对之间的距离，第六偏移量为(g3-i3)/2，其中，g3和i3分别为蓝色色阻图案和第三金属层图案的彼此平行的四对边中的在第二方向上的两对之间的距离。
第一过孔图案与第一金属层图案叠置，第二过孔图案与第二金属层图案叠置，第三过孔图案与第三金属层图案叠置。
第一过孔图案的面积大于第一金属层图案的面积，第二过孔图案的面积大于第二金属层图案的面积，第三过孔图案的面积大于第三金属层图案的面积。
第一过孔图案、第二过孔图案和第三过孔图案均为矩形。
金属层的漏极区通过贯穿色阻层的过孔与像素电极连接。
根据本发明的另一方面，提供了一种同时测量COA基板的色阻图案相对于金属层图案的偏移量和色阻图案中的过孔图案的线宽的测试方法，所述方法使用所述COA基板的测试键。
本发明的有益效果：通过将RGB色阻层与薄膜晶体管层的对位精度的测试键和RGB色阻层中的过孔线宽的测试键设计在同一个图案上，这样与上述两种测试键为独立设计的图案的现有技术相比，占用的空间较小，面板的可利用空间增加，并且在测量RGB色阻图案的过孔线宽的同时可以测量其与薄膜晶体管层的对位精度，使得生产节拍时间减少。
附图说明
通过以下结合附图对示例性实施例的描述，本发明的各方面将变得更加容易理解，在附图中：
图1是示出现有技术的COA基板的RGB色阻层与薄膜晶体管层的对位精度的测试键和RGB色阻层中的过孔线宽的测试键的平面示意图；
图2是示出根据本发明的示例性实施例的COA基板的RGB色阻层与薄膜晶体管层的对位精度和RGB色阻层中的过孔线宽的测试键的平面示意图。
具体实施方式
在下文中，将通过参考附图对示例性实施例进行解释来详细描述本发明构思。然而，本发明构思可以按照多种不同形式具体实施，而不应当解释为限制为本文所阐述的各实施例；相反，提供这些实施例是为了使得本公开是清楚且完整的，并且将向本领域普通技术人员充分地传达本发明构思。在附图中，相同的附图标记表示相同的元件。此外，各个元件和区域是示意性示出的。因而，本发明构思不限于图中所示出的相对尺寸或距离。将要理解的是，尽管在这里会使用术语第一、第二等来描述各个元件和/或部件，但这些元件和/或部件不应当被这些术语限制。这些术语仅仅用于将一个元件和/或部件与另一个元件和/或部件区分开。因此，下面讨论的第一元件或第一部件可以被称为第二元件或第二部件，而没有背离本发明构思的教导。
图1是示出现有技术的COA基板的RGB色阻层与薄膜晶体管层的对位精度的测试键100和RGB色阻层中的过孔线宽的测试键200的平面示意图。
如图1中所示，现有技术的COA基板的RGB色阻层与薄膜晶体管层的对位精度的测试键100和RGB色阻层中的过孔线宽的测试键200是两个独立设计的图案。
如图1所示，RGB色阻层与薄膜晶体管层的对位精度的测试键100包括第一测试键101、第二测试键102和第三测试键103，其中，第一测试键101用于测量R色阻层与薄膜晶体管层的对位精度，第二测试键102用于测量G色阻层与薄膜晶体管层的对位精度，第三测试键103用于测量B色阻层与薄膜晶体管层的对位精度。
RGB色阻层与薄膜晶体管层的对位精度可定义为RGB色阻层图案相对于金属层图案的偏移量。金属层包括在薄膜晶体管层中，并且金属层的漏极区通过贯穿RGB色阻层的过孔与像素电极连接。
RGB色阻层图案包括红色色阻层图案(R色阻层图案)111、绿色色阻层图案(G色阻层图案)112和蓝色色阻层图案(B色阻层图案)113。金属层图案包括第一金属层图案121、第二金属层图案122和第三金属层图案123，第一金属层图案121、第二金属层图案122和第三金属层图案123由同一金属层形成。
如图1所示，R色阻层图案111和第一金属层图案121一起构成第一测试键101，G色阻层图案112和第二金属层图案122一起构成第二测试键102，B色阻层图案113和第三金属层图案123一起构成第三测试键103。
对于第一测试键101，如图1所示，R色阻层图案111和第一金属层图案121的形状均可设计为矩形，但不限于此。R色阻层图案111与第一金属层图案121叠置，R色阻层图案111的面积小于第一金属层图案121的面积，R色阻层图案111的四个边可分别与第一金属层图案121的四个边平行，即，R色阻层图案111的左边与第一金属层图案121的左边平行，R色阻层图案111的右边与第一金属层图案121的右边平行，R色阻层图案111的上边与第一金属层图案121的上边平行，R色阻层图案111的下边与第一金属层图案121的下边平行。
R色阻层图案111相对于第一金属层图案121的偏移量可包括R色阻层图案111在X方向上相对于第一金属层图案121的偏移量以及R色阻层图案111在Y方向上相对于第一金属层图案121的偏移量。
R色阻层图案111在X方向上相对于第一金属层图案121的偏移量为(a1-c1)/2，其中，a1为R色阻层图案111的左边与第一金属层图案121的左边之间的距离，c1为R色阻层图案111的右边与第一金属层图案121的右边之间的距离。
R色阻层图案111在Y方向上相对于第一金属层图案121的偏移量为(b1-d1)/2，其中，b1为R色阻层图案111的上边与第一金属层图案121的上边之间的距离，d1为R色阻层图案111的下边与第一金属层图案121的下边之间的距离。
对于第二测试键102，如图1所示，G色阻层图案112和第二金属层图案122的形状均可设计为矩形，但不限于此。G色阻层图案112与第二金属层图案122叠置，G色阻层图案112的面积小于第二金属层图案122的面积，G色阻层图案112的四个边可分别与第二金属层图案122的四个边平行，即，G色阻层图案112的左边与第二金属层图案122的左边平行，G色阻层图案112的右边与第二金属层图案122的右边平行，G色阻层图案112的上边与第二金属层图案122的上边平行，G色阻层图案112的下边与第二金属层图案122的下边平行。
G色阻层图案112相对于第二金属层图案122的偏移量可包括G色阻图案112在X方向上相对于第二金属层图案122的偏移量以及G色阻图案112在Y方向上相对于第二金属层图案122的偏移量。
G色阻层图案112在X方向上相对于第二金属层图案122的偏移量为(a2-c2)/2，其中，a2为G色阻层图案112的左边与第二金属层图案122的左边之间的距离，c2为G色阻层图案112的右边与第二金属层图案122的右边之间的距离。
G色阻层图案112在Y方向上相对于第二金属层图案122的偏移量为(b2-d2)/2，其中，b2为G色阻层图案112的上边与第二金属层图案122的上边之间的距离，d2为G色阻层图案112的下边与第二金属层图案122的下边之间的距离。
对于第三测试键103，如图1所示，B色阻层图案113和第三金属层图案123的形状均可设计为矩形，但不限于此，B色阻层图案113与第三金属层图案123叠置，B色阻层图案113的面积小于第三金属层图案123的面积，B色阻层图案113的四个边可分别与第三金属层图案123的四个边平行，即，B色阻层图案113的左边与第三金属层图案123的左边平行，B色阻层图案113的右边与第三金属层图案123的右边平行，B色阻层图案113的上边与第三金属层图案123的上边平行，B色阻层图案113的下边与第三金属层图案123的下边平行。
B色阻层图案113相对于第三金属层图案123的偏移量可包括G色阻图案112在X方向上相对于第三金属层图案123的偏移量以及G色阻图案112在Y方向上相对于第三金属层图案123的偏移量。
B色阻层图案113在X方向上相对于第三金属层图案123的偏移量为(a3-c3)/2，其中，a3为B色阻层图案113的左边与第三金属层图案123的左边之间的距离，c3为B色阻层图案113的右边与第三金属层图案123的右边之间的距离。
B色阻层图案113在Y方向上相对于第三金属层图案123的偏移量为(b3-d3)/2，其中，b3为B色阻层图案113的上边与第三金属层图案123的上边之间的距离，d3为B色阻层图案113的下边与第三金属层图案123的下边之间的距离。
再次参照图1，RGB色阻层中的过孔线宽的测试键200包括第四测试键201、第五测试键202和第六测试键203。其中，第四测试键201用于测量R色阻层中的过孔线宽，第五测试键202用于测量G色阻层中的过孔线宽，第六测试键203用于测量B色阻层中的过孔线宽。
第四测试键201包括红色色阻层图案(R色阻层图案)211和形成在R色阻层图案211中的第一过孔图案221，第五测试键202包括绿色色阻层图案(G色阻层图案)212和形成在其中的第二过孔图案222，第六测试键203包括蓝色色阻层图案(B色阻层图案)213和形成在其中的第三过孔图案223。
在图1中，第一过孔图案221、第二过孔图案222和第三过孔图案223的形状均为矩形，但不限于此。
如图1中所示，第一过孔图案221的线宽为第一过孔图案221的左边与右边之间的距离e1，第二过孔图案222的线宽为第二过孔图案222的左边与右边之间的距离e2，第三过孔图案223的线宽为第三过孔图案223的左边与右边之间的距离e3。
由于COA基板的RGB色阻层与薄膜晶体管层的对位精度的测试键100和RGB色阻层中的过孔线宽的测试键200是两个独立设计的图案，因此这种设计占用的空间较大，而且在进行上述两种测量时，需要移动测试装置的镜头来先后进行测量，这样就导致生产节拍时间较长。
图2是示出根据本发明的示例性实施例的COA基板的RGB色阻层与薄膜晶体管层的对位精度和RGB色阻层中的过孔线宽的测试键300的平面示意图。
在图2中，根据本发明的示例性实施例的COA基板的RGB色阻层与薄膜晶体管层的对位精度和RGB色阻层中的过孔线宽的测试键设计为一个测试图案，即，RGB色阻层与薄膜晶体管层的对位精度的测试键和RGB色阻层中的过孔线宽的测试键设计在同一个图案上。
如图2中所示，根据本发明的示例性实施例的COA基板的RGB色阻层与薄膜晶体管层的对位精度和RGB色阻层中的过孔线宽的测试键300包括第一测试键301、第二测试键302和第三测试键303，其中，第一测试键301用于测量R色阻层与薄膜晶体管层的对位精度和R色阻层中的过孔线宽，第二测试键302用于测量G色阻层与薄膜晶体管层的对位精度和G色阻层中的过孔线宽，第三测试键303用于测量B色阻层与薄膜晶体管层的对位精度和B色阻层中的过孔线宽。
RGB色阻层图案包括红色色阻层图案(R色阻层图案)311、绿色色阻层图案(G色阻层图案)312和蓝色色阻层图案(B色阻层图案)313。金属层图案包括第四金属层图案321、第五金属层图案322和第六金属层图案323，第四金属层图案321、第五金属层图案322和第六金属层图案323由同一金属层形成。形成在RGB色阻层图案中的过孔图案包括形成在R色阻层图案311中的第四过孔图案331、形成在G色阻层图案312中的第五过孔图案332和形成在B色阻层图案313中的第六过孔图案333。
如图2所示，R色阻层图案311、第四金属层图案321和第四过孔图案331一起构成第四测试键301，G色阻层图案312、第五金属层图案322和第五过孔图案332一起构成第五测试键302，B色阻层图案313、第六金属层图案323和第六过孔图案333一起构成第六测试键303。
对于第四测试键301，如图2所示，R色阻层图案311和第四金属层图案321的形状均可设计为矩形，但不限于此，R色阻层图案311的面积大于第四金属层图案321的面积，R色阻层图案311的四个边可分别与第四金属层图案321的四个边平行，即，R色阻层图案311的左边与第四金属层图案321的左边平行，R色阻层图案311的右边与第四金属层图案321的右边平行，R色阻层图案311的上边与第四金属层图案321的上边平行，R色阻层图案311的下边与第四金属层图案321的下边平行。
R色阻层图案311相对于第四金属层图案321的偏移量可包括R色阻层图案311在X方向上相对于第四金属层图案321的偏移量以及R色阻层图案311在Y方向上相对于第四金属层图案321的偏移量。
R色阻层图案311在X方向上相对于第四金属层图案321的偏移量为(f1-h1)/2，其中，f1为R色阻层图案311的左边与第四金属层图案321的左边之间的距离，h1为R色阻层图案311的右边与第四金属层图案321的右边之间的距离。
R色阻层图案311在Y方向上相对于第四金属层图案321的偏移量为(g1-i1)/2，其中，g1为R色阻层图案311的上边与第四金属层图案321的上边之间的距离，i1为R色阻层图案311的下边与第四金属层图案321的下边之间的距离。
此外，如图2中所示，形成在R色阻层图案311中的第四过孔图案331与第四金属层图案321叠置，并且第四过孔图案331的面积比第四金属层图案321的面积大。第四过孔图案331的线宽为第四过孔图案331的左边与右边之间的距离j1。
对于第五测试键302，如图2所示，G色阻层图案312和第五金属层图案322的形状均可设计为矩形，但不限于此，G色阻层图案312的面积大于第五金属层图案322的面积，G色阻层图案312的四个边可分别与第五金属层图案322的四个边平行，即，G色阻层图案312的左边与第五金属层图案322的左边平行，G色阻层图案312的右边与第五金属层图案322的右边平行，G色阻层图案312的上边与第五金属层图案322的上边平行，G色阻层图案312的下边与第五金属层图案322的下边平行。
G色阻层图案312相对于第五金属层图案322的偏移量可包括G色阻层图案312在X方向上相对于第五金属层图案322的偏移量以及G色阻层图案312在Y方向上相对于第五金属层图案322的偏移量。
G色阻层图案312在X方向上相对于第五金属层图案322的偏移量为(f2-h2)/2，其中，f2为G色阻层图案312的左边与第五金属层图案322的左边之间的距离，h2为G色阻层图案312的右边与第五金属层图案322的右边之间的距离。
G色阻层图案312在Y方向上相对于第五金属层图案322的偏移量为(g2-i2)/2，其中，g2为G色阻层图案312的上边与第五金属层图案322的上边之间的距离，i2为G色阻层图案312的下边与第五金属层图案322的下边之间的距离。
此外，如图2中所示，形成在G色阻层图案312中的第五过孔图案332与第五金属层图案322叠置，并且第五过孔图案332的面积比第五金属层图案322的面积大。第五过孔图案332的线宽为第五过孔图案332的左边与右边之间的距离j2。
对于第六测试键303，如图2所示，B色阻层图案313和第六金属层图案323的形状均可设计为矩形，但不限于此，B色阻层图案313的面积大于第六金属层图案323的面积，B色阻层图案313的四个边可分别与第六金属层图案323的四个边平行，即，B色阻层图案313的左边与第六金属层图案323的左边平行，B色阻层图案313的右边与第六金属层图案323的右边平行，B色阻层图案313的上边与第六金属层图案323的上边平行，B色阻层图案313的下边与第六金属层图案323的下边平行。
B色阻层图案313相对于第六金属层图案323的偏移量可包括B色阻层图案313在X方向上相对于第六金属层图案323的偏移量以及B色阻层图案313在Y方向上相对于第六金属层图案323的偏移量。
B色阻层图案313在X方向上相对于第六金属层图案323的偏移量为(f3-h3)/2，其中，f3为B色阻层图案313的左边与第六金属层图案323的左边之间的距离，h3为B色阻层图案313的右边与第六金属层图案323的右边之间的距离。
B色阻层图案313在Y方向上相对于第六金属层图案323的偏移量为(g3-i3)/2，其中，g3为B色阻层图案313的上边与第六金属层图案323的上边之间的距离，i3为B色阻层图案313的下边与第六金属层图案323的下边之间的距离。
此外，如图2中所示，形成在B色阻层图案313中的第六过孔图案333与第六金属层图案323叠置，并且第六过孔图案333的面积比第六金属层图案323的面积大。第六过孔图案333的线宽为第六过孔图案333的左边与右边之间的距离j3。
根据本发明的示例性实施例，通过在非显示区中利用第一测试键301、第二测试键302和第三测试键303来同时测量RGB色阻图案相对于金属层图案的偏移量和RGB色阻图案中的过孔图案的线宽，可以得到显示区中的RGB色阻层相对于薄膜晶体管层的对位精度和RGB色阻层中的过孔的线宽。
具体地，对于R色阻层，通过在非显示区中利用第一测试键301来同时测量R色阻图案311相对于第四金属层图案321的偏移量和R色阻图案311中的第四过孔图案331的线宽，可以得到显示区中的R色阻层相对于薄膜晶体管层的对位精度和R色阻层中的过孔的线宽。
对于G色阻层，通过在非显示区中利用第二测试键302来同时测量G色阻图案312相对于第五金属层图案322的偏移量和G色阻图案312中的第五过孔图案332的线宽，可以得到显示区中的G色阻层相对于薄膜晶体管层的对位精度和G色阻层中的过孔的线宽。
对于B色阻层，通过在非显示区中利用第三测试键303来同时测量B色阻图案相对于第六金属层图案323的偏移量和B色阻图案中的第六过孔图案333的线宽，可以得到显示区中的B色阻层相对于薄膜晶体管层的对位精度和B色阻层中的过孔的线宽。
根据本发明的示例性实施例，通过将RGB色阻层与薄膜晶体管层的对位精度的测试键和RGB色阻层中的过孔线宽的测试键设计在同一个图案上，这样与上述两种测试键为独立设计的图案的现有技术相比，占用的空间较小，面板的可利用空间增加，并且在测量RGB色阻图案的过孔线宽的同时可以测量其与薄膜晶体管层的对位精度，使得生产节拍时间减少。
虽然参照本发明的示例性实施例具体示出并描述了本发明，但是本领域技术人员应该理解，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，可做出形式上和细节上的各种改变。结合一个实施例描述的特征或方面可以适用于其他实施例。

Claims (9)

1.一种COA基板的测试键，其特征在于，所述COA基板的测试键包括：
第一测试键，包括红色色阻图案、形成在红色色阻图案中的第一过孔图案以及第一金属层图案，用于同时测量红色色阻图案相对于第一金属层图案的偏移量和红色色阻图案中的第一过孔图案的线宽；
第二测试键，包括绿色色阻图案、形成在绿色色阻图案中的第二过孔图案以及第二金属层图案，用于同时测量绿色色阻图案相对于第二金属层图案的偏移量和绿色色阻图案中的第二过孔图案的线宽；
第三测试键，包括蓝色色阻图案、形成在蓝色色阻图案中的第三过孔图案以及第三金属层图案，用于同时测量蓝色色阻图案相对于第三金属层图案的偏移量和绿色色阻图案中的第三过孔图案的线宽，
其中，第一金属层图案、第二金属层图案和第三金属层图案由同一金属层形成。
2.如权利要求1所述的COA基板的测试键，其特征在于，包括在第一测试键中的红色色阻图案和第一金属层图案均为矩形，并且红色色阻层图案的四个边分别与第一金属层图案的四个边平行，
包括在第二测试键中的绿色色阻图案和第二金属层图案均为矩形，并且绿色色阻层图案的四个边分别与第二金属层图案的四个边平行，
包括在第三测试键中的蓝色色阻图案和第三金属层图案均为矩形，并且蓝色色阻层图案的四个边分别与第三金属层图案的四个边平行。
3.如权利要求2所述的COA基板的测试键，其特征在于，红色色阻图案相对于第一金属层图案的偏移量包括红色色阻图案在第一方向上相对于第一金属层图案的第一偏移量以及红色色阻图案在与第一方向垂直的第二方向上相对于第一金属层图案的第二偏移量，
绿色色阻图案相对于第二金属层图案的偏移量包括绿色色阻图案在第一方向上相对于第二金属层图案的第三偏移量以及绿色色阻图案在与第一方向垂直的第二方向上相对于第二金属层图案的第四偏移量，
蓝色色阻图案相对于第三金属层图案的偏移量包括蓝色色阻图案在第一方向上相对于第三金属层图案的第五偏移量以及蓝色色阻图案在与第一方向垂直的第二方向上相对于第三金属层图案的第六偏移量，
其中，第一方向是红色色阻图案、绿色色阻图案和蓝色色阻图案中的彼此平行的边延伸的方向，第二方向与第一方向垂直。
4.如权利要求3所述的COA基板的测试键，其特征在于，第一偏移量为(f1-h1)/2，其中，f1和h1分别为红色色阻图案和第一金属层图案的彼此平行的四对边中的在第一方向上的两对之间的距离，
第二偏移量为(g1-i1)/2，其中，g1和i1分别为红色色阻图案和第一金属层图案的彼此平行的四对边中的在第二方向上的两对之间的距离，
第三偏移量为(f2-h2)/2，其中，f2和h2分别为绿色色阻图案和第二金属层图案的彼此平行的四对边中的在第一方向上的两对之间的距离，
第四偏移量为(g2-i2)/2，其中，g2和i2分别为绿色色阻图案和第二金属层图案的彼此平行的四对边中的在第二方向上的两对之间的距离，
第五偏移量为(f3-h3)/2，其中，f3和h3分别为蓝色色阻图案和第三金属层图案的彼此平行的四对边中的在第一方向上的两对之间的距离，
第六偏移量为(g3-i3)/2，其中，g3和i3分别为蓝色色阻图案和第三金属层图案的彼此平行的四对边中的在第二方向上的两对之间的距离。
5.如权利要求1所述的COA基板的测试键，其特征在于，第一过孔图案与第一金属层图案叠置，第二过孔图案与第二金属层图案叠置，第三过孔图案与第三金属层图案叠置。
6.如权利要求5所述的COA基板的测试键，其特征在于，第一过孔图案的面积大于第一金属层图案的面积，第二过孔图案的面积大于第二金属层图案的面积，第三过孔图案的面积大于第三金属层图案的面积。
7.如权利要求6所述的COA基板的测试键，其特征在于，第一过孔图案、第二过孔图案和第三过孔图案均为矩形。
8.如权利要求1所述的COA基板的测试键，其特征在于，金属层的漏极区通过贯穿色阻层的过孔与像素电极连接。
9.一种同时测量COA基板的色阻图案相对于金属层图案的偏移量和色阻图案中的过孔图案的线宽的测试方法，其特征在于，使用如权利要求1-8中的任何一个中所述的COA基板的测试键。
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