JP4040803B2 - レジストマスクの除去方法と除去装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、サンドブラスト処理後のレジストマスクを粘着シ―ト類を用いて剥離除去するレジストマスクの除去方法と除去装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ダイオ―ドの製造においては、シリコンウエハにレジスト材を塗布し、通常のフオトプロセスにより所定の画像（レジストパタ―ン）を形成するか、またはレジストパタ―ンをあらかじめ形成したシ―トを貼り付け、これをマスクとしてサンドブラスト処理を施すことにより、シリコンウエハを所定パタ―ンに加工している。上記サンドブラスト処理後、シリコンウエハ上の不要となつたレジストマスクは、溶剤（剥離液）や薬品などにより除去している。しかしながら、レジストマスクの除去に溶剤や薬品を用いると、作業環境を損なう問題があり、また除去作業に長時間を要するという問題もあつた。
【０００３】
このため、最近では、粘着シ―ト類（シ―ト、テ―プ）を使用し、これをレジストマスク上に貼り付けて剥離操作することにより、レジストマスクを粘着シ―ト類と一体に剥離除去する方法が提案されている。この粘着シ―ト類を使用する方法は、溶剤や薬品が不要のため、作業環境を悪化させる心配がなく、しかも除去作業を短時間に行えるなどの利点があり、その実用化が期待されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、粘着シ―ト類を使用する方法では、レジストマスクとシリコンウエハとの密着強度が大きく、またサンドブラスト処理によりレジストマスクの表面が変質していることもあつて、剥離操作後にレジストマスクの一部がシリコンウエハ上に残つて、完全に剥離除去できない場合があつた。
【０００５】
本発明は、このような事情に照らし、サンドブラスト処理後のレジストマスクが存在する物品上から上記マスクを粘着シ―ト類を使用して確実に剥離除去する除去方法と除去装置を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記目的を達成するため、鋭意検討した結果、サンドブラスト処理後のレジストマスク上に粘着シート類を貼り付けて剥離操作するにあたり、粘着シート類の剥離を、この粘着シート類を物品上に押圧した状態および剥離角度を一定に保持した状態で行うようにしたときに、レジストマスクを物品上から確実に除去できることを見い出し、本発明を完成した。
【０００７】
本発明は、サンドブラスト処理後のレジストマスクが存在する物品上に粘着シート類を貼り付け、この粘着シート類を剥離して上記物品上からレジストマスクを剥離除去するにあたり、上記粘着シート類の剥離を、この粘着シート類を押圧剥離角度固定プレートを用いて物品上に押圧した状態および剥離角度を一定に保持した状態で行うようにしたことを特徴とするレジストマスクの除去方法（請求項１）に係るものである。
【０００８】
また、本発明は、上記レジストマスクの除去方法に基づく除去装置として、サンドブラスト処理後のレジストマスクが存在する物品上に粘着シート類を貼り付ける機構と、この粘着シート類を剥離して上記物品上からレジストマスクを剥離除去する機構を備えてなり、かつ上記粘着シート類の剥離時にこの粘着シート類を物品上に押圧する機構および剥離角度を一定に保持する機構として押圧剥離角度固定プレートを設けたことを特徴とするレジストマスクの除去装置（請求項２）に係るものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参考にして、説明する。
図１は、本発明のレジストマスクの除去方法とこれに基づく除去装置の一例を示す概略図である。
同図において、物品１は、ガラスなどの台座１０上にシリコンウエハ１１が固定されてなり、水平方向（図中、左側から右側への矢印方向）に一定速度で移動する搬送ベルト２上の真空チヤツクテ―ブル３に装着されている。上記のウエハ１１は、その上に形成したレジストマスク４の存在下、常法により、サンドブラスト処理、つまり微細サンドを強力に噴射する処理を施して、露出部分（マスク４が存在しない部分）だけを削落し、非露出部分（マスク４が存在する部分）はそのまま残すことにより、所定パタ―ンに加工してある。
【００１０】
本発明においては、まず、（ａ）で示す工程で、上記サンドブラスト処理後のレジストマスク４が存在する物品１上に、貼り付けロ―ラ５により、粘着シ―ト類６を貼り付ける。つまり、この工程では、装置構成的に、一定の速度で供給される粘着シ―ト類６の粘着面を貼り付けロ―ラ５により物品１上に押圧し、この物品１上のレジストマスク４に粘着シ―ト類６を貼り付ける機構を備えている。粘着シ―ト類６には、たとえば、プラスチツクフイルム、紙、不織布、布などの基材の片面にアクリル系、ゴム系などの粘着剤を塗着したものが用いられる。粘着剤は紫外線照射などにより硬化するタイプ、非硬化タイプのいずれでもよい。硬化タイプでは（ｂ）に示す工程で紫外線照射装置７により硬化処理して、粘着剤層とレジストマスク４との接着強度を大きくすることができる。
【００１１】
つぎに、（ｃ）で示す工程において、物品１上に貼り付けた上記粘着シ―ト類６を押圧剥離角度固定プレ―ト８を介して剥離操作することにより、この粘着シ―ト類６とレジストマスク４とを一体に剥離除去し、回収ロ―ラ９に巻き取る。上記の押圧剥離角度固定プレ―ト８は、粘着シ―ト類６に対して所定幅の接触面８ａを有して、この接触面８ａにより粘着シ―ト類６を物品１に押圧（たとえば２Kg／cm2 程度の圧で押圧）しており、これにより粘着シ―ト類６の粘着剤層とレジストマスク４との密着性を向上させている。また、上記プレ―ト８は、搬送ベルト２の移動方向に沿う断面三角形の形状に成形されて、このプレ―ト８に沿つて粘着シ―ト類６を剥離することで、剥離角度αを一定（たとえば１５０°）に保持しており、これにより物品１上のレジストマスク４が存在する部分と存在しない部分とによる剥離角度の変化をなくすようにしている。
【００１２】
つまり、この工程では、装置構成的に、物品１上に貼り付けた粘着シ―ト類６を剥離して、この粘着シ―ト類６とレジストマスク４とを一体に剥離除去して、回収ロ―ラ９に巻き取る機構を備えているとともに、上記粘着シ―ト類６の剥離時に、粘着シ―ト類６を物品１上に押圧する機構と剥離角度αを一定に保持する機構を兼備した押圧剥離角度固定プレ―ト８を設けたものであり、これにより、粘着シ―ト類６の粘着剤層とレジストマスク４との密着性が向上し、また剥離角度のばらつきがなくなり、とくに剥離力を一定箇所に集中して伝達させることができる結果、レジストマスク４がサンドブラスト処理により変質していても、またこのマスク４とシリコンウエハ１１との密着強度が大きくても、このマスク４を粘着シ―ト類６と一体に確実に剥離除去でき、従来のように上記マスク４の一部がシリコンウエハ１１上に残ることはない。
【００１３】
このようにしてレジストマスク４が除去された、台座１０上に所定パタ―ンのシリコンウエハ１１を有する物品１は、公知の各種処理工程を経て、半導体装置の製造のためのピツクアツプ工程に供される。
【００１４】
なお、上記の実施例においては、粘着シ―ト類６の剥離に際して、押圧剥離角度固定プレ―ト８として、粘着シ―ト類６に対して所定幅の接触面８ａを有する形状のものを使用するようにしているが、図２に示すように、上記プレ―ト８に代えて、搬送ベルト２の移動方向に沿う断面棒状のプレ―ト８０を使用することもでき、この場合、上記プレ―ト８０の先端部分のみで押圧し、この先端部分を起点にして剥離操作するようにしてもよい。図２は、上記プレ―ト８０以外は、図１と同じであるため、図１と同一番号を付して、その説明を省略する。また、押圧する手段は、上記のようなプレ―ト８，８０によるのではなく、テ―ブル３を上方に押し上げるなどの別の方法をとることもできる。
【００１５】
また、これらのプレ―トにあつては、粘着シ―ト類６を物品１上に押圧しかつ剥離角度αを一定に保持する構成としたものであるが、場合によつて、押圧するだけの機構、または剥離角度αを一定に保持するだけの機構としてもよく、たとえば、後者の場合では、上記の各プレ―トに対して特別な押圧力を加えないで、剥離角度αを一定にして剥離操作することができる。なお、本発明に適用する剥離角度αとしては、とくに限定はないが、通常は１２０〜１５０°の範囲内とするのがよい。また、上記剥離時の押圧力は、これもとくに限定はないが、通常では２〜４Kg／cm2 の範囲内とするのがよい。
【００１６】
【発明の効果】
以上のように、本発明では、サンドブラスト処理後のレジストマスク上に粘着シート類を貼り付けて剥離操作するにあたり、上記粘着シート類の剥離を、この粘着シート類を押圧剥離角度固定プレートを用いて物品上に押圧した状態および剥離角度を一定に保持した状態で行う構成としたことにより、上記のレジストマスクを物品上から確実に剥離除去できる除去方法と除去装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のレジストマスクの除去方法と除去装置の一例を示す概略図である。
【図２】本発明のレジストマスクの除去方法と除去装置の他の例を示す概略図である。
【符号の説明】
１ 物品
１１ シリコンウエハ
４ レジストマスク
５ 貼り付けロ―ラ
６ 粘着シ―ト類
８，８０ 押圧剥離角度固定プレ―ト
８ａ 押圧面
９ 回収ロ―ラ
α 剥離角度
【発明の属する技術分野】
本発明は、サンドブラスト処理後のレジストマスクを粘着シ―ト類を用いて剥離除去するレジストマスクの除去方法と除去装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ダイオ―ドの製造においては、シリコンウエハにレジスト材を塗布し、通常のフオトプロセスにより所定の画像（レジストパタ―ン）を形成するか、またはレジストパタ―ンをあらかじめ形成したシ―トを貼り付け、これをマスクとしてサンドブラスト処理を施すことにより、シリコンウエハを所定パタ―ンに加工している。上記サンドブラスト処理後、シリコンウエハ上の不要となつたレジストマスクは、溶剤（剥離液）や薬品などにより除去している。しかしながら、レジストマスクの除去に溶剤や薬品を用いると、作業環境を損なう問題があり、また除去作業に長時間を要するという問題もあつた。
【０００３】
このため、最近では、粘着シ―ト類（シ―ト、テ―プ）を使用し、これをレジストマスク上に貼り付けて剥離操作することにより、レジストマスクを粘着シ―ト類と一体に剥離除去する方法が提案されている。この粘着シ―ト類を使用する方法は、溶剤や薬品が不要のため、作業環境を悪化させる心配がなく、しかも除去作業を短時間に行えるなどの利点があり、その実用化が期待されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、粘着シ―ト類を使用する方法では、レジストマスクとシリコンウエハとの密着強度が大きく、またサンドブラスト処理によりレジストマスクの表面が変質していることもあつて、剥離操作後にレジストマスクの一部がシリコンウエハ上に残つて、完全に剥離除去できない場合があつた。
【０００５】
本発明は、このような事情に照らし、サンドブラスト処理後のレジストマスクが存在する物品上から上記マスクを粘着シ―ト類を使用して確実に剥離除去する除去方法と除去装置を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記目的を達成するため、鋭意検討した結果、サンドブラスト処理後のレジストマスク上に粘着シート類を貼り付けて剥離操作するにあたり、粘着シート類の剥離を、この粘着シート類を物品上に押圧した状態および剥離角度を一定に保持した状態で行うようにしたときに、レジストマスクを物品上から確実に除去できることを見い出し、本発明を完成した。
【０００７】
本発明は、サンドブラスト処理後のレジストマスクが存在する物品上に粘着シート類を貼り付け、この粘着シート類を剥離して上記物品上からレジストマスクを剥離除去するにあたり、上記粘着シート類の剥離を、この粘着シート類を押圧剥離角度固定プレートを用いて物品上に押圧した状態および剥離角度を一定に保持した状態で行うようにしたことを特徴とするレジストマスクの除去方法（請求項１）に係るものである。
【０００８】
また、本発明は、上記レジストマスクの除去方法に基づく除去装置として、サンドブラスト処理後のレジストマスクが存在する物品上に粘着シート類を貼り付ける機構と、この粘着シート類を剥離して上記物品上からレジストマスクを剥離除去する機構を備えてなり、かつ上記粘着シート類の剥離時にこの粘着シート類を物品上に押圧する機構および剥離角度を一定に保持する機構として押圧剥離角度固定プレートを設けたことを特徴とするレジストマスクの除去装置（請求項２）に係るものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参考にして、説明する。
図１は、本発明のレジストマスクの除去方法とこれに基づく除去装置の一例を示す概略図である。
同図において、物品１は、ガラスなどの台座１０上にシリコンウエハ１１が固定されてなり、水平方向（図中、左側から右側への矢印方向）に一定速度で移動する搬送ベルト２上の真空チヤツクテ―ブル３に装着されている。上記のウエハ１１は、その上に形成したレジストマスク４の存在下、常法により、サンドブラスト処理、つまり微細サンドを強力に噴射する処理を施して、露出部分（マスク４が存在しない部分）だけを削落し、非露出部分（マスク４が存在する部分）はそのまま残すことにより、所定パタ―ンに加工してある。
【００１０】
本発明においては、まず、（ａ）で示す工程で、上記サンドブラスト処理後のレジストマスク４が存在する物品１上に、貼り付けロ―ラ５により、粘着シ―ト類６を貼り付ける。つまり、この工程では、装置構成的に、一定の速度で供給される粘着シ―ト類６の粘着面を貼り付けロ―ラ５により物品１上に押圧し、この物品１上のレジストマスク４に粘着シ―ト類６を貼り付ける機構を備えている。粘着シ―ト類６には、たとえば、プラスチツクフイルム、紙、不織布、布などの基材の片面にアクリル系、ゴム系などの粘着剤を塗着したものが用いられる。粘着剤は紫外線照射などにより硬化するタイプ、非硬化タイプのいずれでもよい。硬化タイプでは（ｂ）に示す工程で紫外線照射装置７により硬化処理して、粘着剤層とレジストマスク４との接着強度を大きくすることができる。
【００１１】
つぎに、（ｃ）で示す工程において、物品１上に貼り付けた上記粘着シ―ト類６を押圧剥離角度固定プレ―ト８を介して剥離操作することにより、この粘着シ―ト類６とレジストマスク４とを一体に剥離除去し、回収ロ―ラ９に巻き取る。上記の押圧剥離角度固定プレ―ト８は、粘着シ―ト類６に対して所定幅の接触面８ａを有して、この接触面８ａにより粘着シ―ト類６を物品１に押圧（たとえば２Kg／cm2 程度の圧で押圧）しており、これにより粘着シ―ト類６の粘着剤層とレジストマスク４との密着性を向上させている。また、上記プレ―ト８は、搬送ベルト２の移動方向に沿う断面三角形の形状に成形されて、このプレ―ト８に沿つて粘着シ―ト類６を剥離することで、剥離角度αを一定（たとえば１５０°）に保持しており、これにより物品１上のレジストマスク４が存在する部分と存在しない部分とによる剥離角度の変化をなくすようにしている。
【００１２】
つまり、この工程では、装置構成的に、物品１上に貼り付けた粘着シ―ト類６を剥離して、この粘着シ―ト類６とレジストマスク４とを一体に剥離除去して、回収ロ―ラ９に巻き取る機構を備えているとともに、上記粘着シ―ト類６の剥離時に、粘着シ―ト類６を物品１上に押圧する機構と剥離角度αを一定に保持する機構を兼備した押圧剥離角度固定プレ―ト８を設けたものであり、これにより、粘着シ―ト類６の粘着剤層とレジストマスク４との密着性が向上し、また剥離角度のばらつきがなくなり、とくに剥離力を一定箇所に集中して伝達させることができる結果、レジストマスク４がサンドブラスト処理により変質していても、またこのマスク４とシリコンウエハ１１との密着強度が大きくても、このマスク４を粘着シ―ト類６と一体に確実に剥離除去でき、従来のように上記マスク４の一部がシリコンウエハ１１上に残ることはない。
【００１３】
このようにしてレジストマスク４が除去された、台座１０上に所定パタ―ンのシリコンウエハ１１を有する物品１は、公知の各種処理工程を経て、半導体装置の製造のためのピツクアツプ工程に供される。
【００１４】
なお、上記の実施例においては、粘着シ―ト類６の剥離に際して、押圧剥離角度固定プレ―ト８として、粘着シ―ト類６に対して所定幅の接触面８ａを有する形状のものを使用するようにしているが、図２に示すように、上記プレ―ト８に代えて、搬送ベルト２の移動方向に沿う断面棒状のプレ―ト８０を使用することもでき、この場合、上記プレ―ト８０の先端部分のみで押圧し、この先端部分を起点にして剥離操作するようにしてもよい。図２は、上記プレ―ト８０以外は、図１と同じであるため、図１と同一番号を付して、その説明を省略する。また、押圧する手段は、上記のようなプレ―ト８，８０によるのではなく、テ―ブル３を上方に押し上げるなどの別の方法をとることもできる。
【００１５】
また、これらのプレ―トにあつては、粘着シ―ト類６を物品１上に押圧しかつ剥離角度αを一定に保持する構成としたものであるが、場合によつて、押圧するだけの機構、または剥離角度αを一定に保持するだけの機構としてもよく、たとえば、後者の場合では、上記の各プレ―トに対して特別な押圧力を加えないで、剥離角度αを一定にして剥離操作することができる。なお、本発明に適用する剥離角度αとしては、とくに限定はないが、通常は１２０〜１５０°の範囲内とするのがよい。また、上記剥離時の押圧力は、これもとくに限定はないが、通常では２〜４Kg／cm2 の範囲内とするのがよい。
【００１６】
【発明の効果】
以上のように、本発明では、サンドブラスト処理後のレジストマスク上に粘着シート類を貼り付けて剥離操作するにあたり、上記粘着シート類の剥離を、この粘着シート類を押圧剥離角度固定プレートを用いて物品上に押圧した状態および剥離角度を一定に保持した状態で行う構成としたことにより、上記のレジストマスクを物品上から確実に剥離除去できる除去方法と除去装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のレジストマスクの除去方法と除去装置の一例を示す概略図である。
【図２】本発明のレジストマスクの除去方法と除去装置の他の例を示す概略図である。
【符号の説明】
１ 物品
１１ シリコンウエハ
４ レジストマスク
５ 貼り付けロ―ラ
６ 粘着シ―ト類
８，８０ 押圧剥離角度固定プレ―ト
８ａ 押圧面
９ 回収ロ―ラ
α 剥離角度
Claims (2)
- サンドブラスト処理後のレジストマスクが存在する物品上に粘着シート類を貼り付け、この粘着シート類を剥離して上記物品上からレジストマスクを剥離除去するにあたり、上記粘着シート類の剥離を、この粘着シート類を押圧剥離角度固定プレートを用いて物品上に押圧した状態および剥離角度を一定に保持した状態で行うようにしたことを特徴とするレジストマスクの除去方法。
- サンドブラスト処理後のレジストマスクが存在する物品上に粘着シート類を貼り付ける機構と、この粘着シート類を剥離して上記物品上からレジストマスクを剥離除去する機構を備えてなり、かつ上記粘着シート類の剥離時にこの粘着シート類を物品上に押圧する機構および剥離角度を一定に保持する機構として押圧剥離角度固定プレートを設けたことを特徴とするレジストマスクの除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23255399A JP4040803B2 (ja) | 1999-08-19 | 1999-08-19 | レジストマスクの除去方法と除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23255399A JP4040803B2 (ja) | 1999-08-19 | 1999-08-19 | レジストマスクの除去方法と除去装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001060541A JP2001060541A (ja) | 2001-03-06 |
| JP4040803B2 true JP4040803B2 (ja) | 2008-01-30 |
Family
ID=16941140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23255399A Expired - Fee Related JP4040803B2 (ja) | 1999-08-19 | 1999-08-19 | レジストマスクの除去方法と除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4040803B2 (ja) |
-
1999
- 1999-08-19 JP JP23255399A patent/JP4040803B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP2001060541A (ja) | 2001-03-06 |
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