JP4038866B2 - 合成石英ガラス製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は、合成石英ガラスの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体装置の製造過程で半導体基板等に集積回路の微細パターンを露光・転写する光リソグラフィー技術において、ステッパーと呼ばれる露光装置が用いられている。このステッパーの光源には、近年、大規模集積回路(LSI)の高集積化に伴って可視光よりも波長の短い紫外域の光が用いられるようになった。このため、露光装置の光学系も、従来の光学ガラスに代えて、紫外域の光を透過する材料で構成することが必要となった。紫外域の光の透過率の高い光学材料としては、例えば、石英ガラスが知られている。
【0003】
また、露光装置の光学系は、収差補正のためにレンズ等の多数の光学部材で構成されている。このため、露光装置の光学系全体の透過率を高くするためには、個々の光学部材の透過率を高くすることが必要である。石英ガラスの透過率を高くするためには、石英ガラスを高純度にすることが必要である。高純度の石英ガラスが得られる製造方法としては、火炎加水分解法(「直接法」または「直接火炎加水分解法」とも称する。)が知られている。
【0004】
火炎加水分解法では、四塩化ケイ素(SiCl4 )などの高純度のケイ素化合物を原料に用いる。そして、この原料と、加熱および加水分解反応のための支燃ガス(例えば酸素ガス)および可燃性ガス(例えば水素ガス)とを、製造装置の合成炉内のターゲットに向けて、バーナーから噴射する。このターゲットは、合成炉内で回転、揺動、引き下げを行なっている。バーナーから噴射された原料は、酸素水素火炎で加水分解されて石英ガラス微粒子(スート)を形成する。スートは、ターゲット上で堆積、溶融、透明化して石英ガラスのインゴットを形成する。このようにして得られた石英ガラスは合成石英ガラスと呼ばれる。
【0005】
ところで、合成石英ガラス中の含有塩素濃度が高くなるほど、合成石英ガラスの紫外線に対する耐久性が低下する。このため、合成石英ガラス中の塩素濃度を低くするためには、合成石英ガラスの原料として、塩素化合物でないケイ素化合物を用いることが望ましい。
【0006】
また、塩素を含有しているケイ素化合物を原料として用いると、合成炉において、腐食性ガスである塩化水素が発生する。このため、塩化水素を発生させないためにも、合成石英ガラスの原料として、塩素を含有していないケイ素化合物を用いることが望ましい。
【0007】
この塩素を含有していないケイ素化合物として、有機ケイ素化合物を合成石英ガラスの原料として用いる技術の一例が、文献:「特開平4−270130号公報」に開示されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、SiCl4 の沸点が58〜59℃であるのに対して、多くの有機ケイ素化合物の沸点は、分子量が大きいために100℃以上となる。これに対して、ガスに用いられる市販のマスフローメータ(ガスマスフローメータ)の耐熱温度は、耐熱仕様のものでも高々80℃程度である。このため、一般に沸点温度の高いケイ素化合物の原料ガスの合成炉への導入量をガスマスフローメータを用いて制御することは困難であった。
【0009】
そこで、この出願に係る発明者は、「特願平9−277021号」において、液体マスフローメータを用いて合成石英ガラスを製造する技術を提案している。この技術によれば、ケイ素化合物を液体の原料として液体マスフローメータに導入して、流量制御を行った後、原料液を気化させて合成炉への導入を行うことができる。
【0010】
ところで、原料ボンベから原料液を液体マスフローメータを経て炉内まで圧送するため、原料液には、ヘリウムガスなどの圧送ガスによって圧力が印加される。このため、原料液にガス成分が溶解することは不可避である。そして、原料液に溶解したガス成分は、例えば配管内での圧力変動等の原因により溶解度が低下して、液体の原料中に気泡を発生させることがある。原料液中に気泡が発生すると、液体マスフローメータによる原料液の流量制御が困難になる。
【0011】
原料液の流量制御ができなくなると、その原料液を気化して得られる原料ガスの温度や合成炉への導入量が不安定となる。その結果、合成炉における合成石英ガラスの合成条件が不安定となる。このため、合成石英ガラスの品質が不均一となって低下する。
【0012】
従って、この発明の目的は、原料液を安定して気化器に供給することが可能な合成石英ガラスの製造方法の提供にある。
【0013】
【課題を解決するための手段】
この出願に係る発明者は、種々の検討を重ねた結果、原料液中の気泡を除去した上で原料液を液体マスフローメータに導けば、液体原料の流量制御の精度が向上し、原料液を安定して気化器に供給できることに想到した。
【0014】
ところが、種々の実験の結果、単に原料液中に既に発生していた気泡を除去しただけでは、流量制御の精度の向上が不十分であることが判明した。そこで、この発明者は、さらに検討を重ねた結果、原料液に溶解しているガス成分の気泡を強制的に発生させてから気泡を除去すれば、原料液の供給量が安定することを見出した。
【0015】
そこで、この発明の合成石英ガラス製造方法によれば、ケイ素化合物から成る原料液を気化器に導入し、この気化器において原料液を気化して得られた原料ガスを合成炉に導入して合成石英ガラスを製造するにあたり、
原料液中に含有されている気体の溶解度を低下させて、当該原料液に溶解していたガス成分の気泡を発生させる発泡工程と、
気泡を原料液から除去する脱泡工程と
を含むことを特徴とする。
【0016】
このように、この発明の合成石英ガラス製造方法によれば、発泡工程および脱泡工程を経て気泡が除去された原料液の流量制御を液体マスフローメータによって行う。その結果、原料液をその供給量を安定させて気化器に供給することができる。
【0017】
また、この発明の合成石英ガラス製造方法において、好ましくは、脱泡工程の後に、気泡が除去された原料液の気化器への導入量を液体マスフローメータで制御する流量制御工程をさらに含むのが良い。
【0018】
このようにすれば、液体マスフローメータにおける流量制御の精度の向上を図ることができる。
【0019】
また、この発明の合成石英ガラス製造方法において、好ましくは、発泡工程として、原料液に印加される圧力を低下させるのが良い。
【0020】
液体マスフローメータに導入される原料液には、原料ボンベから原料液を液体マスフローメータに圧送するため、圧送ガスにより圧力が印加されている。そこで、この原料液に印加される圧力を低下させれば、原料液中の気体の溶解度を低下させることができる。その結果、原料液中に溶解していた気体を気化させて気泡を発生させることができる。
【0021】
また、この発明の合成石英ガラス製造方法の実施にあたり、好ましくは、原料液に印加される圧力を低下させるにあたり、原料を流す配管の途中に逆止弁を設けておき、この逆止弁に原料液を流すと良い。
【0022】
原料液を流す配管の途中に逆止弁を設けておけば、この逆止弁によって配管中の流路が一時的に狭められる。その結果、原料液に圧力損失が生じるため、逆止弁通過後の原料液に印加される圧力は、逆止弁通過前の原料液に印加される圧力よりも低下する。このため、原料液中の気体の溶解度を低下させることができる。その結果、原料液中に溶解していた気体を気化させて気泡を発生させることができる。
【0023】
また、この発明の合成石英ガラス製造方法の実施にあたり、好ましくは、原料液に印加される圧力を低下させるにあたり、原料を流す配管の途中に多孔質フィルタを設けておき、この多孔質フィルタに原料液を流すと良い。
【0024】
原料液を流す配管の途中に多孔質フィルタを設けておけば、この多孔質フィルタによって配管中の流路が一時的に狭められる。その結果、原料液に圧力損失が生じるため、この多孔質フィルタ通過後の原料液に印加される圧力は、多孔質フィルタ通過前の原料液に印加される圧力よりも低下する。このため、原料液中の気体の溶解度を低下させることができる。その結果、原料液中に溶解していた気体を気化させて気泡を発生させることができる。
【0025】
また、この発明の合成石英ガラス製造方法において、好ましくは、発泡工程として、原料液を加熱するのが良い。
【0026】
このように、原料液を加熱して原料液の温度を上昇させれば、原料液中の気体の溶解度を低下させることができる。その結果、原料液中に溶解していた気体を気化させて気泡を発生させることができる。ただし、原料ガスを加熱するにあたっては、原料液の温度を液体マスフローメータの耐熱温度以下とすると良い。
【0027】
また、この発明の合成石英ガラス製造方法の実施にあたり、好ましくは、脱泡工程として、ガス成分を透過し、かつ、ケイ素化合物を透過しない半透膜を用いて原料液から気泡を除去するのが良い。
【0028】
このように、半透膜を用いれば、原料液中の気泡を原料液から除去することができる。
【0029】
また、この発明の合成石英ガラス製造方法の実施にあたり、好ましくは、半透膜の原料液側(内側)の圧力を、当該半透膜の原料液側の反対側(外側)の圧力よりも高くするのが良い。
【0030】
このように、半透膜の両側に、半透膜の外側が負圧となるように圧力差を与えれば、炭酸水中の気泡の如く発生した気泡を原料液から効率的に除去することができる。
【0031】
また、この発明の実施にあたり、好ましくは、半透膜の反対側を真空ポンプで吸引するのが良い。
【0032】
このように、真空ポンプを用いれば、半透膜の外側を容易に負圧とすることができる。
【0033】
また、この発明の実施にあたり、好ましくは、半透膜として、多孔質のチューブを用い、当該チューブの内側に原料液を流すのが良い。
【0034】
このように、多孔質のチューブを用いれば、チューブの長さを長くすることにより、半透膜の面積を容易に大きくすることができる。その結果、効率的に気泡を除去することができる。
【0035】
また、この発明の合成石英ガラス製造方法の実施にあたり、好ましくは、ケイ素化合物として、有機ケイ素化合物を用いるのが良い。
【0036】
また、この発明の実施にあたり、好ましくは、有機ケイ素化合物として、アルコキシシラン、アルキルシクロシロキサンおよびアルキルシロキサンのうちのいずれかを用いるのが良い。
【0037】
【発明の実施の形態】
以下、図を参照して、この発明の合成石英ガラス製造方法の例について説明する。尚、参照する図は、この発明が理解できる程度に各構成成分の大きさ、形状および配置関係を概略的に示してあるに過ぎない。従って、この発明は図示例にのみ限定されるものではない。また、以下に説明する数値的条件は単なる例示にすぎないことを理解されたい。
【0038】
先ず、図1を参照して、この発明の合成石英ガラス製造方法に用いる合成石英ガラス製造装置の構成について説明する。図1は、この実施の形態の合成石英ガラス製造方法に用いる合成石英ガラス製造装置の説明に供するブロック図である。
【0039】
この合成石英ガラス製造装置は、原料液10の入った原料ボンベ12と気化器14と合成炉16とを具えている。そして、原料ボンベ12には、圧送ガス用配管18が接続されている。
【0040】
また、原料ボンベ12と気化器14との間を、原料液用配管20でつないである。そして、この原料液用配管20の途中には、原料ボンベ12側から順に、発泡装置22、脱泡装置24および液体マスフローメータ26を設けてある。
【0041】
この実施の形態では、発泡装置22として、逆止弁や多孔質フィルタまたは加熱手段を設けると良い。多孔質フィルタとしては、例えば、多孔質の孔の直径が0.2μm程度のミリポアフィルター(商品名)を用いると良い。また、加熱手段は、例えば、原料液用配管20に、ラバーヒータや高周波誘導コイルを巻き付けて構成すると良い。また、発泡装置22には、例えば、逆止弁、多孔質フィルタおよび加熱手段のうちの2つ以上を組み合わせて用いても良い。
【0042】
また、この実施の形態では、脱泡装置24を多孔質のテフロン(商品名)のチューブ(不図示)をもって構成している。このチューブの内径は1mm程度、肉厚は、0.5mm程度である。そして、このチューブは、真空チャンバ(不図示)内に設置されている。
【0043】
また、液体マスフローメータ26として、ここでは、日本アエラ株式会社製のLX−1200(製品名)を用いる。
【0044】
また、気化器14には、キャリアガス用配管28も接続されている。キャリアガス用配管28の途中には、ガスマスフローメータ30を設けてある。
【0045】
また、気化器14と合成炉16との間は、原料ガス用配管32でつながれている。この原料ガス用配管32の合成炉16側の一端は、合成炉16のバーナー34に接続している。また、この合成炉16は、耐火物36で囲われている。
【0046】
尚、図1においては、原料ガス以外の支燃性ガス(例えば酸素)や可燃性ガス(例えば水素)を合成炉16に供給するための構造(例えば配管)の図示を省略する。
【0047】
そして、合成石英ガラスの製造にあたり、先ず、ケイ素化合物から成る原料液10を原料ボンベ12から気化器14へ導入する。そのため、原料液10が貯蔵された原料ボンベ12に、圧送ガス用配管18から圧送ガスを送り込んで、原料液10に圧力を印加する。
【0048】
ここでは、この原料液10を液体の有機ケイ素化合物とする。また、この有機ケイ素化合物の沸点は、50℃以上140℃以下のものを用いると良い。より好ましくは、ケイ素化合物の沸点は、70℃〜130℃以下であることが望ましい。
【0049】
また、圧送ガスには、原料液10に溶けにくいガスを用いるのが好ましい。ここでは、圧送ガスとしてヘリウムガスを用いる。
【0050】
そして、原料ボンベ12に圧送ガスが送り込まれると、原料液10は、原料ボンベ12から押し出される。押し出された原料液10は、発泡装置22、脱泡装置24および液体マスフローメータ26を順次に通って、気化器14に供給される。
【0051】
原料ボンベ12から送り出された原料液10は、先ず、発泡装置22に導入される。発泡装置22においては、原料液10中の気体の溶解度を低下させて、当該原料液10に溶解していたガス成分の気泡を発生させる(発泡工程)。
【0052】
溶解度を低下させるには、例えば、原料液に印加される圧力を低下させる方法と、原料液を加熱して原料液の温度を上昇させる方法とがある。
【0053】
このうち、原料に印加される圧力を低下させる一つの方法としては、例えば、発泡装置22として、原料液用配管20の途中に逆止弁(不図示)を設け、この逆止弁に原料液を通すと良い。逆止弁を通過した原料液には、圧力損失が生じる。このため、この逆止弁通過後の原料液に印加される圧力は、逆止弁通過前の原料液に印加される圧力よりも低下する。このため、原料液中の気体の溶解度を低下させることができる。
【0054】
また、原料に印加される圧力を低下させる他の方法としては、例えば、発泡装置22として、原料液用配管20の途中に多孔質フィルタ(不図示)を設け、この多孔質フィルタに原料液を通すと良い。多孔質フィルタを通過した原料液には、圧力損失が生じる。このため、この多孔質フィルタ通過後の原料液に印加される圧力は、多孔質フィルタ通過前の原料液に印加される圧力よりも低下する。このため、原料液中の気体の溶解度を低下させることができる。
【0055】
また、原料液を加熱する場合には、例えば、原料液用配管20に、ラバーヒータや高周波誘導コイルを巻き付けて発泡装置22を構成すると良い。このように、原料液を加熱して原料液の温度を上昇させれば、原料液中の気体の溶解度を低下させることができる。その結果、原料液中に溶解していた気体を気化させて気泡を発生させることができる。ただし、原料ガスを加熱するにあたり、原料液の温度は、液体マスフローメータの耐熱温度(例えば80℃程度)以下とすると良い。
【0056】
次に、発泡装置22を通過した原料液10は、脱泡装置24に導入される。脱泡装置24においては、原料液10中に発生した気泡を除去する(脱泡工程)。
【0057】
気泡の除去にあたっては、この実施の形態では、真空チャンバ内に設置した多孔質のテフロンチューブ内に原料液10を流す。そして、真空チャンバ内を真空ポンプ(例えばロータリーポンプ)で吸引して、テフロンチューブの内外で3kgf/m2 程度の圧力差を生じさせる。その結果、テフロンチューブの外側の圧力は内側の圧力よりも低くなる。この多孔質のテフロンチューブは、ガス成分を透過し、かつ、ケイ素化合物を透過しない半透膜として働くので、テフロンチューブ内を通る原料液10から気泡を効率的に除去することができる。
【0058】
次に、脱泡装置24を通過した原料液10は、液体マスフローメータ26に導入される。そして、液体マスフローメータ26において、原料液10の流量を制御する。原料液10は、発泡工程および脱泡工程を経て気泡が除去されているので、液体マスフローメータにおける流量制御の精度の向上を図ることができる。原料液10の温度は、沸点よりも低い室温程度であるので、通常の液体マスフローメータを用いて十分に制御することができる。
【0059】
続いて、気化器14において原料液10を気化させて原料ガスを生成する。原料ガスの生成にあたっては、気化器14において、霧状にした原料液10をキャリアガスと混合して加熱することにより、原料ガスを生成する。キャリアガスとしては、不活性ガス(窒素ガスを含む)を用いると良い。ここでは、キャリアガスとしてヘリウムガスを用いる。尚、圧送ガスの種類とキャリアガスの種類とを一致させる必要はない。また、キャリアガスは、例えば、1.5〜2.0SLM(スタンダード・リットル・パー・ミニッツ)程度供給すると良い。このキャリアガスの供給量は、ガスマスフローメータ30で制御される。
【0060】
また、この気化器14において、原料ガスを有機ケイ素化合物の沸点よりも10℃以上高い温度に加熱すると良い。この加熱には、例えばラバーヒータを用いると良い。また、この加熱には、例えば高周波誘導コイルを用いても良い。
【0061】
続いて、この発明では、原料ガスを合成炉16に導入する。気化器14で生成された原料ガスは、キャリアガスと共に、合成炉16のバーナー34に供給される。バーナー34に供給された原料ガスは、このバーナー34から合成炉16内のターゲット38上に形成されている合成石英ガラスのインゴット40に向けて噴射される。
【0062】
【実施例】
次に、この発明の合成石英ガラス製造方法を用いて、原料として種々の有機ケイ素化合物を用いて合成石英ガラスを製造した例について、実施例1〜4に説明する。
【0063】
尚、各実施例とも、合成石英ガラスの製造にあたっては、支燃性ガスとしての酸素ガス(O2 )および可燃性ガスとしての水素ガス(H2 )を流速2.6〜50m/sでバーナー34のそれぞれの噴射口から噴射する。ガスの流量は、噴射口毎に異なる。また、酸素ガス/水素ガスの流量の比率は、バーナー全体で、0.35とする。
【0064】
バーナー34から噴射された原料ガスは、スートを形成する。そして、このスートは、合成石英ガラスのインゴット40の合成面に堆積する。また、石英ガラスの合成時には、インゴット40の合成面の温度を均一化するために、インゴット40を載せたターゲット38を一定周期で回転および揺動させる。また、インゴット40の合成面とバーナー34の先端との距離を一定に保つため、ターゲット38を徐々に降下させる。このようにして、直径約240mm、長さ約600mmの合成石英ガラスのインゴットを得た。
【0065】
下記の表1に、実施例1〜4および比較例1および2の測定結果の一覧を示す。そして、各実施例および比較例について順次に説明する。
【0066】
【表1】
【0067】
(実施例1)
実施例1においては、原料として、アルコキシシランの一種であるテトラメトキシシラン(TMOS)を用いる。TMOSの沸点は132℃である。そして、原料ボンベ12から気化器14への、原料液のTMOSの供給量を、液体マスフローメータ26で制御する。実施例1では、原料液の供給量を5g/分に制御する。この供給量は、例えば四塩化ケイ素(SiCl4 )の12〜13g/分程度の流量に相当する。
【0068】
そして、気化器14に導入された原料液を気化器14において、原料の沸点よりも18℃高い150℃の温度に加熱する。そして、気化した原料ガスを合成炉16に供給する。
【0069】
実施例1において製造されたインゴットを目視により観察したところ、インゴット中に泡は発見されなかった。
【0070】
また、実施例1において製造されたインゴット中の不純物である炭素の含有量を、従来周知の燃焼法を用いて測定したところ、炭素含有量(残存炭素濃度)は、検出限界未満の10ppm未満であった。
【0071】
また、実施例1において製造されたインゴットの、波長193nmの紫外線の透過率を測定したところ、透過率は99.9%以上であった。従って、このインゴットから得られる光学素子は、紫外線用の光学素子として用いて好適であることが分かった。
【0072】
(実施例2)
次に、実施例2においては、原料として、アルキルシクロシロキサンの一種であるヘキサメチルジシロキサン(HMDS)を用いる。HMDSの沸点は99℃である。そして、原料ボンベ12から気化器14への、原料液のHMDSの供給量を、液体マスフローメータ26で制御する。実施例2では、原料液の供給量を5g/分に制御する。
【0073】
そして、気化器14に導入された原料液を気化器14において、沸点よりも16℃高い115℃の温度に加熱する。そして、気化した原料ガスを合成炉16に供給する。
【0074】
実施例2において製造されたインゴットを目視により観察したところ、インゴット中の泡は発見されなかった。また、このインゴットの炭素含有量(残存炭素濃度)は、検出限界未満の10ppm未満であった。また、波長193nmの紫外線に対するこのインゴットの透過率は99.9%よりも高かった。従って、このインゴットから得られる光学素子は、紫外線用の光学素子として用いて好適であることが分かった。
【0075】
尚、ヘキサメチルジシロキサンをはじめとするジシロキサンは、1分子あたりシリコン(Si)原子を2原子含んでいるので、合成石英ガラスの原料として用いて好適である。
【0076】
(実施例3)
次に、実施例3においては、原料として、アルコキシシランの一種であるメチルトリメトキシシラン(MTMS)を用いる。MTMSの沸点は103℃である。そして、原料ボンベ12から気化器14への、原料液のMTMSの供給量を、液体マスフローメータ26で制御する。実施例3では、原料液の供給量を5g/分に制御する。
【0077】
そして、気化器14に導入された原料液を気化器14において、沸点よりも12℃高い115℃の温度に加熱される。そして、気化した原料ガスを合成炉16に導入する。
【0078】
実施例3において製造されたインゴットを目視により観察したところ、インゴット中に泡は発見されなかった。また、インゴット中の炭素含有量(残存炭素濃度)は、検出限界未満の10ppm未満であった。また、このインゴットの波長193nmの紫外線の透過率を測定しところ、透過率は99.9%よりも高かった。従って、このインゴットから得られる光学素子は、紫外線用の光学素子として用いて好適であることが分かった。
【0079】
(実施例4)
実施例4においては、原料として、アルキルシロキサンの一種である2,4,6,8テトラメチルシクロテトラシロキサン(TMCTS)を用いる。TMCTSの沸点は135℃である。そして、原料ボンベ12から気化器14への、原料液のTMCTSの供給量を、液体マスフローメータ26で制御する。実施例4では、原料液の供給量を5g/分に制御する。
【0080】
そして、気化器14に導入された原料液を気化器14において、沸点よりも10℃高い145℃の温度に加熱する。そして、気化した原料ガスを合成炉16に供給する。
【0081】
実施例4において製造されたインゴットを目視により観察したところ、インゴット中に泡は発見されなかった。また、このインゴット中の炭素含有量(残存炭素濃度)は、検出限界未満の10ppm未満であった。また、波長193nmの紫外線に対するこのインゴットの透過率を測定しところ、透過率は99.9%よりも高かった。従って、このインゴットから得られる光学素子は、紫外線用の光学素子として用いて好適であることが分かった。
【0082】
次に、比較例について説明する。比較例においては、原料の種類および加熱温度を除いては、上述の各実施例と同一の条件で合成石英ガラスを製造する。
【0083】
(比較例1)
比較例1においては、原料として、アルキルシクロシロキサンの一種であるヘキサメチルジシロキサン(HMDS)を用いる。HMDSの沸点は99℃である。そして、原料ボンベ12から気化器14への、原料液のHMDSの供給量を、液体マスフローメータ26で制御する。比較例1では、原料液の供給量を5g/分に制御する。ただし、比較例1では、発泡工程を省略して、脱泡工程のみを経た原料液を液体マスフローメータに導入した。また、脱泡工程を経た原料液中には、気泡が若干残留していた。
【0084】
そして、比較例1では、気化器14に導入された原料液を気化器14において、沸点と同程度の100℃の温度に加熱した。そして、気化した原料ガスを合成炉16へ供給する。
【0085】
比較例1において製造されたインゴットを目視により観察したところ、インゴット中に多数の泡が発見された。また、比較例1において製造されたインゴット中の残存炭素濃度は、50ppm程度であった。また、波長193nmの紫外線に対するこのインゴットの透過率は98.5%であった。
【0086】
このように、比較例1において、得られた合成石英ガラスの品質が低下した理由は、脱泡工程だけでは、原料液中のガス成分の除去が不十分であり、このため液体マスフローメータにおける流量制御の精度が低下したためと考えられる。一方、気化器で、原料液を気化するために供給される熱量は、一定である。従って、原料液の流量が変動すると、気化器で原料液を気化して得られらる原料ガスの温度が変動する。さらに、原料液中にガス成分が含まれていると、このガス成分に気化器からの熱が奪われて、原料液に供給される熱量が減少することになる。その結果、比較例1では、気化器における原料液の気化が不十分なまま、原料ガスが合成炉16に供給されたものと考えられる。このため、得られたインゴット中に多数の泡が含まれ、かつ、残存炭素濃度が高くなったと考えられる。そして、残存炭素濃度が高くなった結果、インゴットの透過率が低下したものと考えられる。
【0087】
(比較例2)
次に、比較例2においては、原料として、アルコキシシランの一種であるテトラエトキシシラン(TEOS)を用いる。TEOSの沸点は168℃である。そして、原料ボンベ12から気化器14への、原料液のTEOSの供給量を、液体マスフローメータ26で制御する。比較例2では、原料液の供給量を5g/分に制御する。ただし、比較例1では、発泡工程を省略して、脱泡工程のみを経た原料液を液体マスフローメータに導入した。また、脱泡工程を経た原料液中には、気泡が若干残留していた。
【0088】
そして、気化器14に導入された原料液を気化器14において、沸点よりも12℃高い180℃の温度に加熱される。そして、気化した原料ガスを合成炉16に供給する。
【0089】
比較例2において製造されたインゴットを目視により観察したところ、インゴット中に多数の泡が発見された。また、このインゴット中の残存炭素濃度は、100ppm程度であった。また、波長193nmの紫外線に対するこのインゴットの透過率は97.5%であった。
【0090】
このように、比較例2において、得られた合成石英ガラスの品質が低下した理由は、比較例1の場合と同様に、脱泡工程だけでは、原料液中のガス成分の除去が不十分であり、このため液体マスフローメータにおける流量制御の精度が低下したためと考えられる。そして、流量が変動した結果、原料液の気化が不十分となったと考えられる。特に、比較例2の原料液はその沸点が168℃と高いため、原料ガスが原料ガス用配管32内部で再液化した可能性がある。このため、得られたインゴット中に多数の泡が含まれ、かつ、残存炭素濃度が高くなったと考えられる。そして、残存炭素濃度が高くなった結果、インゴットの透過率が低下したものと考えられる。
【0091】
上述した実施の形態および実施例では、これらの発明を特定の材料を用い、特定の条件で構成した例についてのみ説明したが、これらの発明は多くの変更および変形を行うことができる。例えば、上述した実施の形態および実施例では、原料液を霧状にした後にキャリアガスと混合したが、この発明では、原料ガスを霧状にする前にキャリアガスと混合しても良い。
【0092】
また、上述した実施の形態および実施例では、脱泡工程として、チューブ状の半透膜を用いたが、この発明では、半透膜の形状はチューブ状に限定されない。例えば、シート状の半透膜を用いて、原料液から気泡を除去しても良い。
【0093】
【発明の効果】
この発明の合成石英ガラス製造方法によれば、発泡工程および脱泡工程を経て気泡が除去された原料液を気化器に供給することにより、安定した供給が可能となる。また、発泡工程及び脱泡工程を経て気泡が除去された原料液の流量を液体マスフローメータにより制御することにより、液体マスフローメータにおける原料液の流量制御の精度の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態の合成石英ガラス製造方法に用いる合成石英ガラス製造装置の構成の説明に供するブロック図である。
【符号の説明】
10:原料液
12:原料ボンベ
14:気化器
16:合成炉
18:圧送ガス用配管
20:原料液用配管
22:発泡装置
24:脱泡装置
26:液体マスフローメータ
28:キャリアガス用配管
30:ガスマスフローメータ
32:原料ガス用配管
34:バーナー
36:耐火物
38:ターゲット
40:インゴット
Claims (6)
- ケイ素化合物から成る原料液を気化器に導入し、該気化器において前記原料液を気化して得られた原料ガスを合成炉に導入して合成石英ガラスを製造するにあたり、
前記原料液に含有される気体の溶解度を低下させて、当該原料液に溶解するガス成分の気泡を発生させる発泡工程と、
前記気泡を前記原料液から除去する脱泡工程と、
前記気泡が除去された原料液の前記気化器への導入量を液体マスフロメータで制御する流量制御工程と
を含むことを特徴とする合成石英ガラス製造方法。 - 請求項1に記載の合成石英ガラス製造方法において、
前記発泡工程において、前記原料液に印加される圧力を低下させる
ことを特徴とする合成石英ガラス製造方法。 - 請求項1に記載の合成石英ガラス製造方法において、
前記発泡工程として、前記原料液を加熱する
ことを特徴とする合成石英ガラス製造方法。 - 請求項1〜請求項3のいずれか1つの請求項に記載の合成石英ガラス製造方法において、
前記脱泡工程として、前記気泡を透過し、かつ、前記ケイ素化合物を透過しない半透膜を用いて前記原料液から前記気泡を除去する
ことを特徴とする合成石英ガラス製造方法。 - 請求項4に記載の合成石英ガラス製造方法において、
前記半透膜の原料液側の圧力を、当該半透膜の原料液側と反対側の圧力よりも高くする
ことを特徴とする合成石英ガラス製造方法。 - 請求項1から請求項5のいずれか1つの請求項に記載の合成石英ガラス製造方法において、
前記ケイ素化合物として、有機ケイ素化合物を用いる
ことを特徴とする合成石英ガラス製造方法。
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