JP3985460B2 - 熱処理炉 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、未焼成のセラミック素子などの被熱処理物を、所定の雰囲気中で熱処理する場合などに用いられる熱処理炉に関し、特に、そのガス供給管の構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
セラミック電子部品などの製造工程において、未焼成のセラミック素子などの被熱処理物を焼成する場合、通常は、バッチ式の熱処理炉やトンネル式の熱処理炉を用いて、炉内に被熱処理物を載置した熱処理匣を多段に積み上げ、被熱処理物の周囲の雰囲気を所定の条件に制御するために、炉内に雰囲気ガスを供給しながら熱処理を行う。
【０００３】
図５（ａ）、（ｂ）は、炉床回転式のバッチ式熱処理炉１の断面構造および炉内に雰囲気ガスを供給している状態を示す図であり、（ａ）は縦断面図、（ｂ）は横断面図である。バッチ式熱処理炉１は、炉本体２と、炉本体下部に設けられた炉床３と、炉本体２内部に固定された２本のヒータ４、４と、炉本体２の上部から略鉛直方向に挿入された２本のガス供給管５、５と、同じく炉本体２の上部から略鉛直方向に挿入されたガス排気管６と、を備え、炉床３の回転床３ａには、被熱処理物を載置した匣７が多段に積み上げられている。なお、炉本体２内部の焼成空間の周りには断熱材８が取りつけられている。
【０００４】
ガス供給管５は、図６に示すように、ガス供給管５の長さ方向に沿って略全長に複数のガス噴出口９が設けられており、ガス噴出口９が匣７に向くように炉内に配設される。通常、ガス供給管５は匣７の周囲に複数本配設され、図５（ａ）、（ｂ）に矢印で示すように、周囲から匣７に向かって雰囲気ガスが供給される仕組みになっている。
【０００５】
すなわち、図示されていないガス供給装置から雰囲気ガスが所定の圧力をもってガス供給管５に供給されると、ガス噴出口９からは、室温で数ｍ／ｓに達する速度で雰囲気ガスが噴出される。この雰囲気ガスが、炉内の遠方や積み上げられた匣７の隙間に入りこむことにより、雰囲気の偏りが防止され、均一な雰囲気中で熱処理が行われる。なお、炉床３の回転床３ａの回転によっても、被熱処理物とガス供給管５の相互位置が変化し、被熱処理物に対する雰囲気ガスの噴出状態に偏りが生じるのを抑制している。
【０００６】
【発明が解決しようする課題】
従来の熱処理炉１では、ガス供給管５のガス噴出口９から数ｍ／ｓ程度の噴出ガス流速を得るためには、１本のガス供給管５に２０〜５０ＬＭものガスを供する必要がある。ガス供給管５へのガス供給量が多いと、雰囲気ガスが流れこむガス供給管５開口部５ａ近傍の温度が低下し、ガス供給管５先端部５ｂとの温度差が大きくなり、熱膨張の差により、ガス供給管５が折損しやすかった。
【０００７】
焼成途中に少なくとも一本のガス供給管５が折損すると、折損部より雰囲気ガスが放出してしまうため、他のガス供給管５は、圧力低下が生じてガス噴出口９から雰囲気ガスが噴出されなくなる。その結果、匣７内部への雰囲気ガスの供給不足から、焼成後の被熱処理物の特性に不良が発生したり、バラツキが大きくなるという問題があった。
【０００８】
さらに、上述のように、従来のガス供給管５は折損しやすく、そのライフは約半年であり、ガス供給管５の頻繁な取替えは、焼成コストアップの要因となっていた。
【０００９】
この発明の目的は、ガス供給管のライフを向上させ、焼成による特性不良、ばらつきを低減し、さらに焼成コストを削減した熱処理炉を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
この発明にかかる熱処理炉は、内部に熱処理空間を有する炉本体と、前記炉本体下部に設けられた炉床と、前記炉本体内部に設けられたヒータと、前記炉本体内部に略鉛直方向に挿入された２本以上のガス供給管と、同じく前記炉本体内部に挿入されたガス排気管と、を備え、前記２本以上のガス供給管は、それぞれ長さ方向の略全領域が長さ方向に２以上の領域に分割され、そのいずれかの領域にガス噴出口が形成されており、前記２本以上のガス供給管によるガス噴出領域は、少なくとも炉床の上に配置された被熱処理物の全高さ領域を含むことを特徴とする。
【００１１】
前記２本以上のガス供給管は、分割されたそれぞれの領域にガス噴出口が形成されたガス供給管を一組として、炉内に配設され、前記一組のガス供給管によるガス噴出領域は、少なくとも炉床の上に配置された被熱処理物の全高さ領域を含むことが好ましい。
【００１２】
例えば、２本のガス供給管をそれぞれ長さ方向に上下２つの領域に分割し、それぞれ上下いずれかの領域にガス噴出口を形成し、その２本のガス供給管を１組として用いることにより、略全長にガス噴出口が形成された１本のガス供給管と比較して、ガス噴出速度および全体のガス供給量を維持しつつ、ガス供給管１本あたりのガス供給量を１／２に低減できる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の1つの実施の形態について、図１、図２を用いて説明する。ただし、従来例のバッチ式熱処理炉１と同一のものについては同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。
【００１４】
図１（ａ）、（ｂ）は、炉床回転式のバッチ式熱処理炉１１の断面構造および炉内に雰囲気ガスを供給している状態を示す図であり、（ａ）は縦断面図、（ｂ）は横断面図である。バッチ式熱処理炉１１は、炉本体２と、炉本体下部に設けられた炉床３と、炉本体２内部に固定された２本のヒータ４と、炉本体２の上部から略鉛直方向に挿入された４本のガス供給管１５、１６、１５、１６と、同じく炉本体２の上部から略鉛直方向に挿入されたガス排気管６と、を備え、炉床３の回転床３ａには、被熱処理物を載置した匣７が多段に積み上げられている。
【００１５】
ガス供給管１５、１６は、高純度緻密質アルミナからなり、図２に示すように、一端が雰囲気ガス供給口１５ａ、１６ａとして開口し、他端である先端部１５ｂ、１６ｂが閉塞された筒状構造を有している。ガス供給管１５、１６の外径は２０ｍｍ、内径は１５ｍｍ、長さは７５ｍｍである。
【００１６】
ガス供給管１５とガス供給管１６とは、筒状部におけるガス噴出口９の形成領域が異なっている。すなわち、ガス供給管１５は、長さ方向に２つの領域に分割した下半部にガス噴出口９が形成され、ガス供給管１６は、上半部にガス噴出口９が形成されている。ガス噴出口９の直径は０．５ｍｍ、ピッチは１ｍｍである。
【００１７】
そして、ガス供給管１５とガス供給管１６各１本ずつを一組として、計４本二組が、それぞれ匣７を挟んで対向するように炉内に配設される。これにより、図１（ａ）、（ｂ）に矢印で示すように、匣７の周囲から匣７の全高さ領域に雰囲気ガスが供給される。
【００１８】
すなわち、バッチ式熱処理炉１１では、従来のバッチ式熱処理炉１で用いていた１本のガス供給管５のガス噴出領域を上下２分割し、それぞれ２本のガス供給管１５、１６に別々にガス噴出領域を形成している。これにより、ガス供給管１５、１６、１本あたりのガス噴出領域が従来例の１／２となり、全体のガス供給量を維持しつつ、従来の１／２のガス流量で従来どおりのガス噴出速度を得ることができる。
【００１９】
上記実施例によれば、ガス供給管１５、１６、１本当たりのガス流量を１／２に低減することにより、ガス供給管のライフは約半年から１．５年〜２年へと飛躍的に向上した。
【００２０】
なお、上記実施例においては、ガス供給管１５、１６の材質は、高純度緻密質アルミナに限らず、熱処理炉の温度と雰囲気に耐え得る材質であれば、ＳｉＣなどの他のセラミック材料、あるいはインコネルなどの金属質でも可能であるが、熱膨張差で折損しやすいセラミック製のガス供給管に特に有効である。
【００２１】
また、上記実施例において、ガス噴出口９は、直径０．５ｍｍの円形、ピッチは１ｍｍとしたが、被熱処理物の周囲の雰囲気を所定の条件に制御できる範囲で、ガス噴出口の形状やピッチを任意に選択することができる。例えば、ガス噴出口の孔形状はスリット状や楕円形状であってもよい。
【００２２】
また、上記実施例においては、従来例の１本のガス供給管５に形成されたガス噴出領域を上下に２分割し、２本のガス供給管１５、１６にそれぞれガス噴出領域を設けているが、より多数の領域に分割して、より多数のガス噴出領域を設けてもよい。例えば、図３に示す他の実施例は、従来例の１本のガス供給管５に形成されたガス噴出領域を上中下に３分割し、３本のガス供給管１７、１８、１９にそれぞれのガス噴出領域を設け、この３本のガス供給管１７、１８、１９を一組として用いるものである。これによれば、ガス供給管１７、１８、１９、１本あたりのガス流量は従来例のガス供給管５の１本あたりのガス流量の１／３に低減される。
【００２３】
さらに、この発明は、上記実施例であるバッチ式焼成炉に限定されるものではなく、図４に示すように、連続式炉に用いてもよい。
【００２４】
【発明の効果】
この発明によれば、２本以上のガス供給管を、それぞれ長さ方向に２以上の領域に分割し、そのいずれかの領域にのみガス噴出口を形成し、それぞれ異なる領域にガス噴出口が形成された複数のガス供給管を一組として炉内に配設することにより、長さ方向の略全領域にガス噴出口を形成した従来のガス供給管１本と比較して、ガス噴出口からのガス噴出速度および全体のガス流量を維持しつつ、ガス供給管１本あたりのガス供給量を低減することができる。
【００２５】
これにより、ガス供給管のライフを向上させ、焼成における特性不良、ばらつきを低減し、さらに焼成コストを削減できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の1つの実施の形態の熱処理炉を示しており、（ａ）は縦断面図、（ｂ）は横断面図である。
【図２】図１の熱処理炉に用いられるガス供給管を示す斜視図である。
【図３】この発明の他の実施の形態に係るガス供給管を示す斜視図である。
【図４】この発明の他の実施の形態に係る熱処理炉を示す概略図である。
【図５】従来例の熱処理炉を示しており、（ａ）は縦断面図、（ｂ）は横断面図である。
【図６】図５の熱処理炉に用いられるガス供給管を示す斜視図である。
【符号の説明】
１１ バッチ式熱処理炉
２ 炉本体
３ 炉床
４ ヒータ
１５、１６、１７、１８、１９ ガス供給管
６ ガス排気管
７ 匣
９ ガス噴出口
【発明の属する技術分野】
この発明は、未焼成のセラミック素子などの被熱処理物を、所定の雰囲気中で熱処理する場合などに用いられる熱処理炉に関し、特に、そのガス供給管の構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
セラミック電子部品などの製造工程において、未焼成のセラミック素子などの被熱処理物を焼成する場合、通常は、バッチ式の熱処理炉やトンネル式の熱処理炉を用いて、炉内に被熱処理物を載置した熱処理匣を多段に積み上げ、被熱処理物の周囲の雰囲気を所定の条件に制御するために、炉内に雰囲気ガスを供給しながら熱処理を行う。
【０００３】
図５（ａ）、（ｂ）は、炉床回転式のバッチ式熱処理炉１の断面構造および炉内に雰囲気ガスを供給している状態を示す図であり、（ａ）は縦断面図、（ｂ）は横断面図である。バッチ式熱処理炉１は、炉本体２と、炉本体下部に設けられた炉床３と、炉本体２内部に固定された２本のヒータ４、４と、炉本体２の上部から略鉛直方向に挿入された２本のガス供給管５、５と、同じく炉本体２の上部から略鉛直方向に挿入されたガス排気管６と、を備え、炉床３の回転床３ａには、被熱処理物を載置した匣７が多段に積み上げられている。なお、炉本体２内部の焼成空間の周りには断熱材８が取りつけられている。
【０００４】
ガス供給管５は、図６に示すように、ガス供給管５の長さ方向に沿って略全長に複数のガス噴出口９が設けられており、ガス噴出口９が匣７に向くように炉内に配設される。通常、ガス供給管５は匣７の周囲に複数本配設され、図５（ａ）、（ｂ）に矢印で示すように、周囲から匣７に向かって雰囲気ガスが供給される仕組みになっている。
【０００５】
すなわち、図示されていないガス供給装置から雰囲気ガスが所定の圧力をもってガス供給管５に供給されると、ガス噴出口９からは、室温で数ｍ／ｓに達する速度で雰囲気ガスが噴出される。この雰囲気ガスが、炉内の遠方や積み上げられた匣７の隙間に入りこむことにより、雰囲気の偏りが防止され、均一な雰囲気中で熱処理が行われる。なお、炉床３の回転床３ａの回転によっても、被熱処理物とガス供給管５の相互位置が変化し、被熱処理物に対する雰囲気ガスの噴出状態に偏りが生じるのを抑制している。
【０００６】
【発明が解決しようする課題】
従来の熱処理炉１では、ガス供給管５のガス噴出口９から数ｍ／ｓ程度の噴出ガス流速を得るためには、１本のガス供給管５に２０〜５０ＬＭものガスを供する必要がある。ガス供給管５へのガス供給量が多いと、雰囲気ガスが流れこむガス供給管５開口部５ａ近傍の温度が低下し、ガス供給管５先端部５ｂとの温度差が大きくなり、熱膨張の差により、ガス供給管５が折損しやすかった。
【０００７】
焼成途中に少なくとも一本のガス供給管５が折損すると、折損部より雰囲気ガスが放出してしまうため、他のガス供給管５は、圧力低下が生じてガス噴出口９から雰囲気ガスが噴出されなくなる。その結果、匣７内部への雰囲気ガスの供給不足から、焼成後の被熱処理物の特性に不良が発生したり、バラツキが大きくなるという問題があった。
【０００８】
さらに、上述のように、従来のガス供給管５は折損しやすく、そのライフは約半年であり、ガス供給管５の頻繁な取替えは、焼成コストアップの要因となっていた。
【０００９】
この発明の目的は、ガス供給管のライフを向上させ、焼成による特性不良、ばらつきを低減し、さらに焼成コストを削減した熱処理炉を提供することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
この発明にかかる熱処理炉は、内部に熱処理空間を有する炉本体と、前記炉本体下部に設けられた炉床と、前記炉本体内部に設けられたヒータと、前記炉本体内部に略鉛直方向に挿入された２本以上のガス供給管と、同じく前記炉本体内部に挿入されたガス排気管と、を備え、前記２本以上のガス供給管は、それぞれ長さ方向の略全領域が長さ方向に２以上の領域に分割され、そのいずれかの領域にガス噴出口が形成されており、前記２本以上のガス供給管によるガス噴出領域は、少なくとも炉床の上に配置された被熱処理物の全高さ領域を含むことを特徴とする。
【００１１】
前記２本以上のガス供給管は、分割されたそれぞれの領域にガス噴出口が形成されたガス供給管を一組として、炉内に配設され、前記一組のガス供給管によるガス噴出領域は、少なくとも炉床の上に配置された被熱処理物の全高さ領域を含むことが好ましい。
【００１２】
例えば、２本のガス供給管をそれぞれ長さ方向に上下２つの領域に分割し、それぞれ上下いずれかの領域にガス噴出口を形成し、その２本のガス供給管を１組として用いることにより、略全長にガス噴出口が形成された１本のガス供給管と比較して、ガス噴出速度および全体のガス供給量を維持しつつ、ガス供給管１本あたりのガス供給量を１／２に低減できる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の1つの実施の形態について、図１、図２を用いて説明する。ただし、従来例のバッチ式熱処理炉１と同一のものについては同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。
【００１４】
図１（ａ）、（ｂ）は、炉床回転式のバッチ式熱処理炉１１の断面構造および炉内に雰囲気ガスを供給している状態を示す図であり、（ａ）は縦断面図、（ｂ）は横断面図である。バッチ式熱処理炉１１は、炉本体２と、炉本体下部に設けられた炉床３と、炉本体２内部に固定された２本のヒータ４と、炉本体２の上部から略鉛直方向に挿入された４本のガス供給管１５、１６、１５、１６と、同じく炉本体２の上部から略鉛直方向に挿入されたガス排気管６と、を備え、炉床３の回転床３ａには、被熱処理物を載置した匣７が多段に積み上げられている。
【００１５】
ガス供給管１５、１６は、高純度緻密質アルミナからなり、図２に示すように、一端が雰囲気ガス供給口１５ａ、１６ａとして開口し、他端である先端部１５ｂ、１６ｂが閉塞された筒状構造を有している。ガス供給管１５、１６の外径は２０ｍｍ、内径は１５ｍｍ、長さは７５ｍｍである。
【００１６】
ガス供給管１５とガス供給管１６とは、筒状部におけるガス噴出口９の形成領域が異なっている。すなわち、ガス供給管１５は、長さ方向に２つの領域に分割した下半部にガス噴出口９が形成され、ガス供給管１６は、上半部にガス噴出口９が形成されている。ガス噴出口９の直径は０．５ｍｍ、ピッチは１ｍｍである。
【００１７】
そして、ガス供給管１５とガス供給管１６各１本ずつを一組として、計４本二組が、それぞれ匣７を挟んで対向するように炉内に配設される。これにより、図１（ａ）、（ｂ）に矢印で示すように、匣７の周囲から匣７の全高さ領域に雰囲気ガスが供給される。
【００１８】
すなわち、バッチ式熱処理炉１１では、従来のバッチ式熱処理炉１で用いていた１本のガス供給管５のガス噴出領域を上下２分割し、それぞれ２本のガス供給管１５、１６に別々にガス噴出領域を形成している。これにより、ガス供給管１５、１６、１本あたりのガス噴出領域が従来例の１／２となり、全体のガス供給量を維持しつつ、従来の１／２のガス流量で従来どおりのガス噴出速度を得ることができる。
【００１９】
上記実施例によれば、ガス供給管１５、１６、１本当たりのガス流量を１／２に低減することにより、ガス供給管のライフは約半年から１．５年〜２年へと飛躍的に向上した。
【００２０】
なお、上記実施例においては、ガス供給管１５、１６の材質は、高純度緻密質アルミナに限らず、熱処理炉の温度と雰囲気に耐え得る材質であれば、ＳｉＣなどの他のセラミック材料、あるいはインコネルなどの金属質でも可能であるが、熱膨張差で折損しやすいセラミック製のガス供給管に特に有効である。
【００２１】
また、上記実施例において、ガス噴出口９は、直径０．５ｍｍの円形、ピッチは１ｍｍとしたが、被熱処理物の周囲の雰囲気を所定の条件に制御できる範囲で、ガス噴出口の形状やピッチを任意に選択することができる。例えば、ガス噴出口の孔形状はスリット状や楕円形状であってもよい。
【００２２】
また、上記実施例においては、従来例の１本のガス供給管５に形成されたガス噴出領域を上下に２分割し、２本のガス供給管１５、１６にそれぞれガス噴出領域を設けているが、より多数の領域に分割して、より多数のガス噴出領域を設けてもよい。例えば、図３に示す他の実施例は、従来例の１本のガス供給管５に形成されたガス噴出領域を上中下に３分割し、３本のガス供給管１７、１８、１９にそれぞれのガス噴出領域を設け、この３本のガス供給管１７、１８、１９を一組として用いるものである。これによれば、ガス供給管１７、１８、１９、１本あたりのガス流量は従来例のガス供給管５の１本あたりのガス流量の１／３に低減される。
【００２３】
さらに、この発明は、上記実施例であるバッチ式焼成炉に限定されるものではなく、図４に示すように、連続式炉に用いてもよい。
【００２４】
【発明の効果】
この発明によれば、２本以上のガス供給管を、それぞれ長さ方向に２以上の領域に分割し、そのいずれかの領域にのみガス噴出口を形成し、それぞれ異なる領域にガス噴出口が形成された複数のガス供給管を一組として炉内に配設することにより、長さ方向の略全領域にガス噴出口を形成した従来のガス供給管１本と比較して、ガス噴出口からのガス噴出速度および全体のガス流量を維持しつつ、ガス供給管１本あたりのガス供給量を低減することができる。
【００２５】
これにより、ガス供給管のライフを向上させ、焼成における特性不良、ばらつきを低減し、さらに焼成コストを削減できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の1つの実施の形態の熱処理炉を示しており、（ａ）は縦断面図、（ｂ）は横断面図である。
【図２】図１の熱処理炉に用いられるガス供給管を示す斜視図である。
【図３】この発明の他の実施の形態に係るガス供給管を示す斜視図である。
【図４】この発明の他の実施の形態に係る熱処理炉を示す概略図である。
【図５】従来例の熱処理炉を示しており、（ａ）は縦断面図、（ｂ）は横断面図である。
【図６】図５の熱処理炉に用いられるガス供給管を示す斜視図である。
【符号の説明】
１１ バッチ式熱処理炉
２ 炉本体
３ 炉床
４ ヒータ
１５、１６、１７、１８、１９ ガス供給管
６ ガス排気管
７ 匣
９ ガス噴出口
Claims (2)
- 内部に熱処理空間を有する炉本体と、前記炉本体下部に設けられた炉床と、前記炉本体内部に設けられたヒータと、前記炉本体内部に略鉛直方向に挿入された２本以上のガス供給管と、同じく前記炉本体内部に挿入されたガス排気管と、を備え、
前記２本以上のガス供給管は、それぞれ長さ方向の略全領域が長さ方向に２以上の領域に分割され、そのいずれかの領域にガス噴出口が形成されており、
前記２本以上のガス供給管によるガス噴出領域は、少なくとも炉床の上に配置された被熱処理物の全高さ領域を含むことを特徴とする熱処理炉。 - 前記２本以上のガス供給管は、分割されたそれぞれの領域にガス噴出口が形成されたガス供給管を一組として、炉内に配設され、前記一組のガス供給管によるガス噴出領域は、少なくとも炉床の上に配置された被熱処理物の全高さ領域を含むことを特徴とする請求項１記載の熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001090298A JP3985460B2 (ja) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | 熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001090298A JP3985460B2 (ja) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | 熱処理炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002286372A JP2002286372A (ja) | 2002-10-03 |
| JP3985460B2 true JP3985460B2 (ja) | 2007-10-03 |
Family
ID=18945100
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001090298A Expired - Lifetime JP3985460B2 (ja) | 2001-03-27 | 2001-03-27 | 熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3985460B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006308173A (ja) * | 2005-04-27 | 2006-11-09 | Takasago Ind Co Ltd | バッチ式ロータリキルン |
| JP2012013256A (ja) * | 2010-06-29 | 2012-01-19 | Tdk Corp | バッチ炉 |
| JP5716734B2 (ja) * | 2012-12-28 | 2015-05-13 | 株式会社村田製作所 | 熱処理炉 |
| JP6873071B2 (ja) * | 2018-03-06 | 2021-05-19 | エスペック株式会社 | 環境形成装置、環境形成ユニット及び熱処理装置 |
| CN108955256A (zh) * | 2018-09-27 | 2018-12-07 | 佛山市威玛客机械有限公司 | 一种电磁辐射式模具加热炉 |
-
2001
- 2001-03-27 JP JP2001090298A patent/JP3985460B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2002286372A (ja) | 2002-10-03 |
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| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070426 |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100720 Year of fee payment: 3 |
|
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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