JP3957695B2 - リソグラフィツールにおいて使用されるガスをリサイクルするための方法及び装置 - Google Patents
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Description
本出願は2002年11月21日に出願された米国特許出願第10/300898号に関連する。
本発明の実施形態は、リソグラフィツールにおいてガスをリサイクルするために使用されるシステム及び方法を提供する。第1のチャンバは、第1のガスに基づき光を放射するエレメントを有している。第2のチャンバは、放射された光を使用してプロセスを行い、第2のガスを含んでいる。これらのチャンバ内の圧力は比較的低い(即ち完全真空に近い)ことが理解されるべきであり、したがって、この実施形態における“ガス”という用語はこの真空において見られるガスの部分圧力を意味することができる。第1及び第2のガスは2つのチャンバの間で合流され、少なくとも一方のガスは貯蔵装置へ圧送される。貯蔵装置から、2つのガスの少なくとも一方がシステム内又はシステムから離れてリサイクルされ、場合によってはシステム内で再利用される。ガスロックは第1のチャンバを第2のチャンバに接続することができる。このようなガスロックにおいて、ガス源はガスロックにおける第1及び第2のガスの間に第3のガスを供給し、第1のガスがガスロックにおいて第2のガスから分離される。第1、第2及び/又は第3のガスは、貯蔵装置へ圧送され、リサイクル装置へ案内されることができる。第1、第2及び/又は第3のガスは、再利用のためにリサイクルされることができる。
図1は、本発明の実施形態による、ウェハ又は基板102上にパターンを形成するためのシステム100を示している。光源104(例えばEUV光源)は光ビームを放射し、この光ビームは、ビームコンディショナ106及び照明光学系108を通過した後、レチクル又はマスク110から反射される。レチクル又はマスク110から反射された後、光ビームは投影光学系112を通過し、この投影光学系は、レチクル又はマスク110の表面114からウェハ又は基板102の表面116へパターンを転移させるために使用される。これらのエレメントのその他の構成を、本発明の思想及び範囲から逸脱することなく使用することができる。
図4は、本発明の実施形態による、ガスロックを有さないシステム200の断面図を示している。この実施形態において、第1のガス204と第2のガス210とが合流する箇所に第3のガスは付加されない。第1及び第2のガス208,210は、第1及び第2のガス源400,402を介して第1及び第2のチャンバ202,204に供給される。両ガスは、真空ポンプ408を使用して、合流する領域から、導管404を通って、貯蔵装置406へ除去される。次いで、制御装置410に基づき、ガスは、リサイクル装置412を使用してシステム200内で又はリサイクル装置414を使用してシステム200の外部においてリサイクルされる。両リサイクル装置412,414は、前記リサイクル装置314と同様に機能することができる。第1及び第2のガス208,210が個々にリサイクル装置414を使用して“オフサイト”でリサイクルされるならば、貯蔵装置406はリサイクル装置414へ搬送されるか、又は第1及び第2のガス208,210は個々に貯蔵装置406から、リサイクル装置414へ搬送される別の容器へ抜き出される。リサイクルは、前記プロセスと同様に生じることができる。第1のガス208が最も再利用されるが、第2のガス210は、通常は比較的安価なガスであるので廃棄されるか又は供給部402に戻されることができる。
図5は、本発明の実施形態による方法500を示すフローチャートを示している。ステップ502において、光(極紫外光)が第1のガス(例えば、キセノン、リチウム蒸気、すず、クリプトン、及び水蒸気)を用いて生ぜしめられる。ステップ504において、光学系が第2のガス(例えば、ヘリウム、アルゴン、水素、及び窒素)を用いて処理される(例えば、クリーニング、保護等)。ステップ506において、第1のガスが第2のガスから、第3のガス(例えば、これらの間を流れるヘリウム、ネオン、及び窒素)によって分離される(例えば、隔離される)。
本発明の様々な実施形態が上に説明されたが、これらの実施形態は限定としてではなく例としてのみ示されていることが理解されるべきである。発明の思想及び範囲から逸脱することなく構成及び詳細の様々な変更を行うことができることは当業者に明らかとなるであろう。つまり、本発明の広さ及び範囲は、上記の典型的な実施形態の何れによっても限定されるべきではなく、請求項及びその均等物に基づいてのみ定義されるべきである。
Claims (34)
- 第1のガスを使用して光を発生させるエレメントを有し、ガスの供給口及びガスの排出口を有する第1のチャンバと、
放射された光を使用してリソグラフィプロセスを行いかつ第2のガスを有する第2のチャンバと、
前記第1のガスと前記第2のガスとが合流する領域においてこれらのガスの間を流れる第3のガスによって形成されるガスロックと、
前記第3のガスとともに前記第1のチャンバに移動した前記第1のガス、及び該第3のガスを該第1のチャンバから貯蔵装置へ圧送するために、該第1のチャンバの前記排出口に設けられたポンプと、
前記貯蔵装置に接続されたリサイクル装置と、
前記圧送された前記第1のガスと前記第3のガスとを、前記貯蔵装置から前記リサイクル装置へ案内する制御装置と、
を備えており、
前記リサイクル装置は、前記第1のガスを前記第3のガスから分離し、分離された該第1のガスを前記第1のチャンバの前記ガス供給口へ供給し、
前記分離された第1のガスは、前記第1のチャンバにおいて光を形成するために再利用される、
システム。 - 前記第1のガスが、キセノン、リチウム蒸気、すず、クリプトン及び水蒸気から成るグループから選択されている、請求項1記載のシステム。
- 前記第2のガスが、ヘリウム、アルゴン、水素及び窒素から成るグループから選択されている、請求項1記載のシステム。
- 前記ポンプ及び前記リサイクル装置が前記第1のチャンバの外部に位置決めされている、請求項1記載のシステム。
- 前記リサイクル装置が当該システムの外部に配置されている、請求項1記載のシステム。
- 前記エレメントが極紫外光を放射する、請求項1記載のシステム。
- 前記第1のチャンバがプラズマ光源を収納している、請求項1記載のシステム。
- 前記プラズマ光源が極紫外光を発生する、請求項7記載のシステム。
- 前記第1及び前記第2のガスがリサイクル及び再利用される、請求項1記載のシステム。
- 前記第3のガスが、ヘリウム、ネオン及び窒素から成るグループから選択されている、請求項1記載のシステム。
- 前記ポンプ及び前記リサイクル装置が前記第1のチャンバの外部に位置決めされている、請求項1記載のシステム。
- 前記リサイクル装置が当該システムの外部に位置決めされている、請求項1記載のシステム。
- 第1のガスを使用して光を発生させるエレメントを有し、ガスの供給口及びガスの排出口を有する光源チャンバと、
第2のガスを有するリソグラフィ光学系チャンバと、
前記第1のガスと前記第2のガスとが合流する領域においてこれらのガスの間を流れる第3のガスによって形成されるガスロックと、
前記第3のガスとともに前記第1のチャンバに移動した前記第1のガス、及び該第3のガスを該第1のチャンバから貯蔵装置へ圧送するために、該第1のチャンバの前記排出口に設けられた手段と、
前記貯蔵装置に接続されたリサイクル装置と、
前記圧送された前記第1のガスと前記第3のガスとを、前記貯蔵装置から前記リサイクル装置へ案内する手段と、
を備えており、
前記リサイクル装置は、前記第1のガスを前記第3のガスから分離し、分離された該第1のガスを前記第1のチャンバの前記ガス供給口へ供給し、
前記分離された第1のガスは、前記第1のチャンバにおいて光を形成するために再利用される、
システム。 - 前記第1のガスが、キセノン、リチウム蒸気、すず、クリプトン及び水蒸気から成るグループから選択されている、請求項13記載のシステム。
- 前記第2のガスが、ヘリウム、アルゴン、水素及び窒素から成るグループから選択されている、請求項13記載のシステム。
- 前記圧送するための手段及び前記リサイクル装置が第1のチャンバの外部に位置決めされている、請求項13記載のシステム。
- 前記リサイクル装置が当該システムの外部に配置されている、請求項13記載のシステム。
- 前記エレメントが極紫外光を放射する、請求項13記載のシステム。
- 前記光源チャンバがプラズマ光源を収納している、請求項13記載のシステム。
- 前記プラズマ光源が極紫外光を発生する、請求項19記載のシステム。
- 前記第1及び前記第2のガスがリサイクル及び再利用される、請求項13記載のシステム。
- 前記第3のガスが、ヘリウム、ネオン及び窒素から成るグループから選択されている、請求項13記載のシステム。
- 前記圧送するための手段と前記リサイクル装置とが、前記光源チャンバの外部に位置決めされている、請求項13記載のシステム。
- 前記リサイクル装置が当該システムの外部に位置決めされている、請求項13記載のシステム。
- 方法において、
(a)第1のガスを用いて光を発生し、
(b)第2のガスを用いて光学系を処理し、
(c)前記第1のガスと前記第2のガスとの間を流れる第3のガスを用いて該第1のガスを該第2のガスから分離させ、
(d)前記第3のガスとともに前記第1のガスを回収し、
(e)前記第1のガスを前記第3のガスから分離し、該第1のガスを、光を形成するために再利用する、
方法。 - 前記第1のガスが、キセノン、リチウム蒸気、すず、クリプトン、及び水蒸気から成るグループから選択されている、請求項25記載の方法。
- 前記第2のガスが、ヘリウム、アルゴン、水素及び窒素から成るグループから選択されている、請求項25記載の方法。
- 前記第3のガスが、ヘリウム、ネオン及び窒素から成るグループから選択されている、請求項25記載の方法。
- 前記第3のガスを貯蔵装置に貯蔵する、請求項25記載の方法。
- 前記発生ステップ(a)が、極紫外光を発生する、請求項25記載の方法。
- 前記処理ステップ(b)が、光学系チャンバにおける汚染物を低減する、請求項25記載の方法。
- 前記処理ステップ(b)が、光学系チャンバ内の光学系を保護する、請求項25記載の方法。
- 前記第1のガスを前記第2のガスから分離させ、該第1のガスをリサイクルする、請求項25記載の方法。
- 処理ステップが、第2のガスの部分的圧力を使用すること含む、請求項25記載の方法。
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