JP3953259B2 - 基板取り出し機構および基板取り出し方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置(LCD)のガラス基板等の基板をカセット等の容器から取り出す基板取り出し機構および基板取り出し方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶ディスプレイ(LCD)の製造においては、ガラス製のLCD基板にフォトレジスト液を塗布してレジスト膜を形成し、回路パターンに対応してレジスト膜を露光し、これを現像処理するという、いわゆるフォトリソグラフィー技術により回路パターンが形成される。
【0003】
従来より、このような一連のレジスト塗布・現像処理は、これらの処理を行うための各処理ユニットを一体化したシステムにより行われている。このようなシステムは、洗浄処理、レジスト塗布処理、現像処理、加熱処理等の各処理を行うための複数の処理ユニットを備えた処理部と、複数の基板を収容するためのカセットを載置可能なカセットステーションとを有しており、カセットステーションと処理部との間に、これらの間で基板の受け渡しを行うための基板搬送装置が設けられている。
【0004】
このような基板搬送装置は、カセットステーションに並列に配置された複数のカセットに沿って設けられた搬送路を移動可能に構成されており、基板を支持する支持部材がベース部材により進退移動可能に支持されており、またベース部材を水平面内で旋回させることにより支持部材が旋回されるようになっている。さらに、ベース部材は昇降機構により昇降可能となっている。
【0005】
このような基板搬送装置により、カセットから基板を取り出す際には、カセット内で基板がずれた角度で収納されているような場合があり、このような場合にも基板が正しい姿勢で支持部材に支持されるように、適宜のセンサーを用いて基板の姿勢を検出して、これに基づいて支持部材の位置を制御するようにしている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このようにして支持部材の位置を制御して基板を載置した場合には、基板の姿勢によっては基板が載置された状態の支持部材をカセットから引き出す際に、基板がカセットの内壁に接触するおそれがある。基板がカセットの内壁に接触すると、パーティクルが発生したり、基板に欠け等が発生してしまう。
【0007】
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、基板が収納されている容器から基板を取り出す際に、基板が支持部材の所定の位置に載置され、かつ基板が容器に接触しないようにすることができる基板取り出し機構および基板取り出し方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は、基板が収納されている容器から基板を取り出す基板取り出し機構であって、
基板を支持する支持部材と、
前記支持部材を移動させる移動手段と、
前記支持部材に設けられ、2つの基板センサーを有しており、これら基板センサーによって基板のエッジを検出して基板の姿勢を検出する基板検出手段と、
前記基板検出手段の検出情報に基づいて前記容器に挿入された支持部材の適正位置に基板が載置されるように前記支持部材の姿勢を制御するとともに、支持部材上に基板が載置された後に、前記基板検出手段の検出情報に基づいて、支持部材上の基板が前記容器に対して適正位置になるように支持部材の姿勢を制御する制御手段と、を具備し、
前記制御手段は、前記2つの基板センサーによる基板のエッジの検出情報に基づいて仮想ラインに対する基板の傾き角度を演算し、前記傾き角度が所定値以上であるか否かを判断するとともに、前記傾き角度が前記所定値より小さい場合には、そのまま前記支持部材上に基板を載置し、その状態で前記支持部材を前記容器から抜き出し、
前記傾き角度が前記所定値以上である場合には、基板に合わせて前記支持部材と基板との相対位置が適正になるように前記支持部材の姿勢を制御し、適正な状態で前記支持部材上に基板を載置し、次に前記傾き角度の情報に基づいて前記支持部材上の基板が前記容器に対して適正位置になるように前記支持部材の姿勢を制御し、その状態で前記支持部材を前記容器から抜き出すように制御するものであることを特徴とする基板取り出し機構を提供する。
【0009】
前記基板取り出し機構において、前記制御手段は、前記演算された基板の傾き角度を、該傾き角度に応じて段階に分けて設定された固定値として把握し、該固定値分を補正することにより前記支持部材の姿勢制御を行なうことができる。
【0010】
また、前記基板取り出し機構において、前記支持部材に設けられ、前記容器の位置を検出する容器検出手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記支持部材上に基板が載置された後に、前記容器検出手段による検出情報に基づいて、前記支持部材上の基板が前記容器に対して適正位置になるように前記支持部材の姿勢を制御して前記容器から基板を取出すことができる。
【0011】
また、本発明は、基板が収納されている容器から支持部材に支持された状態で基板を取り出す基板取り出し方法であって、
前記支持部材に設けられ、2つの基板センサーを有する基板検出手段を用い、前記2つの基板センサーにより基板のエッジを検出し、その検出情報に基づいて仮想ラインに対する基板の傾き角度を演算し、前記傾き角度が所定値以上であるか否かを判断するとともに、前記傾き角度が前記所定値より小さい場合には、そのまま前記支持部材上に基板を載置し、その状態で前記支持部材を前記容器から抜き出し、前記傾き角度が前記所定値以上である場合には、基板に合わせて前記支持部材と基板との相対位置が適正になるように前記支持部材の姿勢を制御し、適正な状態で前記支持部材上に基板を載置し、次に、前記傾き角度の情報に基づいて前記支持部材上の基板が前記容器に対して適正位置になるように前記支持部材の姿勢を制御し、その状態で前記支持部材を前記容器から抜き出すように制御することを特徴とする基板取り出し方法を提供する。
【0012】
前記基板取り出し方法において、前記演算された基板の傾き角度を、該傾き角度に応じて段階に分けて設定された固定値として把握し、該固定値分を補正することにより前記支持部材の姿勢制御を行なうことができる。
【0013】
また、前記基板取り出し方法において、前記支持部材に設けられ、前記容器の位置を検出する容器検出手段を用いて前記容器の位置を検出し、前記支持部材上に基板が載置された後に、前記容器検出手段による検出情報に基づいて、前記支持部材上の基板が前記容器に対して適正位置になるように前記支持部材の姿勢を制御することができる。
【0014】
本発明によれば、支持部材に設けられた基板検出手段により基板の姿勢を検出し、その検出情報に基づいて容器に挿入された支持部材の適正位置に基板が載置されるように支持部材の姿勢を制御するとともに、支持部材上に基板が載置された後に、基板検出手段による検出情報に基づいて、または、容器検出手段による検出情報に基づいて、支持部材上の基板が前記容器に対して適正位置になるように支持部材の姿勢を制御するので、基板が支持部材の適正位置に載置された状態で、基板が容器に接触することなく基板を容器から取り出すことができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
図1は、本発明が適用されるLCD基板のレジスト塗布現像処理システムを示す平面図である。
【0016】
このレジスト塗布現像処理システムは、複数の基板Gを収容するカセットCを載置するカセットステーション1と、基板Gにレジスト塗布および現像を含む一連の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理部2と、露光装置(図示せず)との間で基板Gの受け渡しを行うためのインターフェイス部3とを備えており、処理部2の両端にそれぞれカセットステーション1およびインターフェイス部3が配置されている。
【0017】
カセットステーション1は、カセットCと処理部2との間でLCD基板Gの搬送を行うための基板搬送機構10を備えている。後述するように、この基板搬送機構10が本実施形態に係る基板取り出し機構を構成する。そして、このカセットステーション1において外部に対するカセットCの搬入出が行われる。
【0018】
処理部2は、前段部2aと中段部2bと後段部2cとに分かれており、それぞれ中央に搬送路12、13、14を有し、これら搬送路の両側に各処理ユニットが配設されている。そして、これらの間には中継部15、16が設けられている。
【0019】
前段部2aは、搬送路12に沿って移動可能な主搬送装置17を備えており、搬送路12の一方側には、2つの洗浄ユニット(SCR)21a、21bが配置されており、搬送路12の他方側には紫外線照射ユニット(UV)と冷却ユニット(COL)とが2段に重ねられた処理ブロック25、加熱処理ユニット(HP)が2段に重ねられてなる処理ブロック26および冷却ユニット(COL)が2段に重ねられてなる処理ブロック27が配置されている。
【0020】
また、中段部2bは、搬送路13に沿って移動可能な主搬送装置18を備えており、搬送路13の一方側には、レジスト塗布処理ユニット(CT)22および基板Gの周縁部のレジストを除去する周縁レジスト除去ユニット(ER)23が一体的に設けられており、搬送路13の他方側には、加熱処理ユニット(HP)が2段に重ねられてなる処理ブロック28、加熱処理ユニット(HP)と冷却処理ユニット(COL)が上下に重ねられてなる処理ブロック29、およびアドヒージョン処理ユニット(AD)と冷却ユニット(COL)とが上下に重ねられてなる処理ブロック30が配置されている。
【0021】
さらに、後段部2cは、搬送路14に沿って移動可能な主搬送装置19を備えており、搬送路14の一方側には、3つの現像処理ユニット24a、24b、24cが配置されており、搬送路14の他方側には加熱処理ユニット(HP)が2段に重ねられてなる処理ブロック31、およびともに加熱処理ユニット(HP)と冷却処理ユニット(COL)が上下に重ねられてなる処理ブロック32、33が配置されている。
【0022】
以上のように、処理部2は搬送路を挟んで一方の側に洗浄処理ユニット21a、レジスト処理ユニット22、現像処理ユニット24aのようなスピナー系ユニットのみを配置しており、他方の側に加熱処理ユニットや冷却処理ユニット等の熱系処理ユニットのみを配置する構造となっている。
【0023】
なお、中継部15、16のスピナー系ユニット配置側の部分には、薬液供給ユニット34が配置されており、さらに主搬送装置のメンテナンスを行うためのスペース35が設けられている。
【0024】
上記主搬送装置17は、基板搬送機構10との間で基板Gの受け渡しを行うとともに、前段部2aの各処理ユニットに対する基板Gの搬入・搬出、さらには中継部15との間で基板Gの受け渡しを行う機能を有している。また、主搬送装置18は中継部15との間で基板Gの受け渡しを行うとともに、中段部2bの各処理ユニットに対する基板Gの搬入・搬出、さらには中継部16との間の基板Gの受け渡しを行う機能を有している。さらに、主搬送装置19は中継部16との間で基板Gの受け渡しを行うとともに、後段部2cの各処理ユニットに対する基板Gの搬入・搬出、さらにはインターフェイス部3との間の基板Gの受け渡しを行う機能を有している。なお、中継部15、16は冷却プレートとしても機能する。
【0025】
上記主搬送装置17,18,19は、それぞれ水平面内の2方向のX軸駆動機構、Y軸駆動機構、および垂直方向のZ軸駆動機構を備え、さらにZ軸を中心に回転する回転駆動機構を備えており、それぞれ基板Gを支持するアーム17a,18a,19aを有している。
【0026】
インターフェイス部3は、処理部2との間で基板を受け渡しする際に一時的に基板を保持するエクステンション36と、さらにその両側に設けられた、バッファーカセットを配置する2つのバッファーステージ37と、これらと露光装置(図示せず)との間の基板Gの搬入出を行う搬送機構38とを備えている。搬送機構38はエクステンション36およびバッファーステージ37の配列方向に沿って設けられた搬送路38a上を移動可能な搬送アーム39を備え、この搬送アーム39により処理部2と露光装置との間で基板Gの搬送が行われる。
【0027】
このように各処理ユニットを集約して一体化することにより、省スペース化および処理の効率化を図ることができる。
【0028】
このように構成されたレジスト塗布・現像処理システムにおいては、カセットステーション1のカセットCから取り出された基板Gは、処理部2に搬送された後、主搬送装置17,18,19により搬送されて、処理部2の各ユニットにおいて紫外線照射処理、スクラバ洗浄処理、アドヒージョン処理、レジスト塗布処理、およびプリベーク処理等が施された後、インターフェイス部3を介して露光装置(図示せず)に基板Gを搬送して露光処理を行い、その後、インターフェイス部3を介して再び処理部2に搬入され、現像処理、ポストベーク処理等が施されて一連の処理が終了した後、カセットステーション1に戻され、いずれかのカセットCに収容される。
【0029】
次に、第1の実施形態に係る基板取り出し機構について図2から図4を参照して詳細に説明する。図2は図1のレジスト塗布現像処理システムのカセットステーション部分を示す平面図、図3は第1の実施形態に係る基板取り出し機構を構成する基板搬送機構を示す斜視図、図4は第1の実施形態の基板取り出し機構の要部を示す概略構成図である。
【0030】
図2に示すように、基板搬送機構10は、搬送路10aに沿って移動可能に構成されている。この基板搬送機構10は、図3にも示すように、基板Gの受け渡しを行うために基板を支持する支持部材41と、支持部材41を水平面内で進退移動可能に支持するベース部材42と、ベース部材42を水平面内で旋回可能に支持し、昇降可能に設けられた昇降部材43と、昇降部材43を支持し、かつ昇降部材43の昇降移動の際に昇降部材43をガイドするガイド部材44とを備えている。そして、ガイド部材44は、その脚部45が搬送路10aに設けられたレール46にガイドされた状態で図示しない駆動装置により搬送路12を移動可能となっており、所定のカセットCの位置にガイド部材44を移動させることにより、そのカセットCに対する基板の出し入れを行い、また主搬送装置17に対応する位置へ移動させることにより、処理部2との間で基板Gの受け渡しを行うようになっている。
【0031】
図3に示すように、昇降部材43は、ガイド部材44の中にある図示しないボールネジ等の動力伝達機構に連結されており、図示しないモータ等の駆動源を駆動することにより昇降される。ガイド部材44に形成された昇降部材43昇降用のスリットはベルト48により遮蔽されており、ベルト48は昇降部材43の移動とともに移動する。
【0032】
支持部材41は2つの支持部を有しており、それらの先端部および基端部にそれぞれ合計4個の基板Gを支持するパッド41aが設けられ、またそれらの基端部にはそれぞれ基板Gをガイドするガイド41bが設けられている。さらに、支持部材41の各支持部には基板Gを検出する基板検出手段としての基板センサー50が設けられている。これら基板センサー50は、例えばそれぞれ発光素子および受光素子からなる光透過型の光センサーであり、支持部材41をカセットCに挿入し、基板センサー50が基板Gのエッジ(端部)を通過したことが検出されるようになっている。なお、基板センサー50は、支持部材41に発光素子が設けられ、その上方の基板の搬入出の妨げにならない位置に受光素子が設けられるが、ここでは発光素子のみ図示し、受光素子は図示を省略している。
【0033】
図4に示すように、支持部材41に設けられた基板センサー50は、コントローラ52に電気的に接続されており、基板センサー50の信号がコントローラ52に出力され、この信号に基づいて基板搬送機構10の駆動機構51を制御して支持部材41の姿勢を制御する。
【0034】
具体的には、支持部材41を基板搬送機構10の移動方向に沿った仮想ラインL(図4に示す)に垂直にカセットCに向かって移動させた際に、2つの基板センサー50がそれぞれ基板Gのエッジを検出するタイミング、例えば検出位置、距離、検出までの時間差などによって、コントローラ52が基板Gの仮想ラインLに対する傾き角度θ(図4に示す)を演算し、これに基づいて支持部材41と基板Gとの相対位置が適正になるようにコントローラ52が駆動機構51を駆動させて支持部材41の姿勢を制御し、この状態で支持部材41に基板Gが載置された後、コントローラ52が基板Gの傾き角度の情報に基づいて、支持部材41上の基板GがカセットCに対して適正位置になるように支持部材41の姿勢を制御する。なお、基板センサー50によって、基板の傾き方向が正方向か逆方向かの情報も得ることができる。
【0035】
この際の基板の取り出し動作について、図5および図6を参照してさらに詳細に説明する。図5は基板取り出しの工程を説明するフローチャート、図6はその各工程を説明するための模式図である。
【0036】
まず、図6の(a)に示すように、支持部材41を基板Gを収納しているカセットCへ挿入する(STEP1)。このとき、2つの基板センサー50が基板Gのエッジを検出する(STEP2)。この検出結果に基づいてコントローラ52が基板Gの傾き角度θを演算する(STEP3)。
【0037】
その傾き角度θが所定値以上か否かを判断し(STEP4)、所定値以上であれば、図6の(b)に示すように、基板Gに合わせて支持部材41と基板Gとの相対位置が適正(傾き角度θが所定値より小さい)になるように支持部材41の姿勢を制御し(STEP5)、その適正な状態で支持部材41上に基板Gを載置する(STEP6)。
【0038】
続いて、図6の(c)に示すように、基板Gの傾き角度の情報に基づいて、支持部材41上の基板GがカセットCに対して適正位置になるように支持部材41の姿勢を制御し(STEP7)、その状態で支持部材41をカセットCから抜き出す(STEP9)。STEP7における支持部材41の姿勢制御は、演算された基板Gの傾き角度θを固定値として把握し、その固定値分の補正をかけることにより行うことができるが、この固定値を傾き角度に応じて何段階かに分けて設定することにより簡易に姿勢制御を行うことができる。
【0039】
一方、STEP4の結果、傾き角度θが所定値より小さい場合には、そのまま支持部材41上に基板Gを載置し(STEP8)、その状態で支持部材41をカセットCから抜き出す(STEP9)。
【0040】
このように、支持部材41に設けられた基板センサー50により基板Gの傾き角度θを検出し、その検出情報に基づいてカセットCに挿入された支持部材41の適正位置に基板Gが載置されるように支持部材41の姿勢を制御するとともに、支持部材41上に基板Gが載置された後に、演算された基板の傾き角度θに基づいて、支持部材41上の基板GがカセットCに対して適正位置になるように支持部材41の姿勢を制御するので、基板Gが支持部材41の適正位置に載置された状態で、基板GがカセットCに接触することなく基板GをカセットCから取り出すことができる。
【0041】
次に、第2の実施形態に係る基板取り出し機構について図7を参照して詳細に説明する。図7は第2の実施形態の基板取り出し機構の要部を示す概略構成図である。この実施形態では、第1の実施形態における支持部材41の代わりに、基板検出用の基板センサー50の他にカセット検出用の左右一対のカセットセンサー54を搭載した支持部材41′を用いる。カセットセンサー54は例えば光反射型で、多数の発光素子および受光素子を交互に突出部材53に配置して構成され、多数の発光素子から発せられた光のうちカセットCのエッジに当たって反射した光を検出することによりカセットの位置を把握する。なお、簡略化のため図7中、図4と同じものには同じ符号を付している。
【0042】
支持部材41′に設けられた基板センサー50およびカセットセンサー54は、コントローラ52に電気的に接続されており、基板センサー50およびカセットセンサー54の信号がコントローラ52に出力され、これらの信号に基づいて基板搬送機構10の駆動機構51を制御して支持部材41′の姿勢を制御する。
【0043】
具体的には、第1の実施形態と同様、支持部材41′を基板搬送機構10の移動方向に沿った仮想ラインL(図7に示す)に垂直にカセットCに向かって移動させた際に、2つの基板センサー50がそれぞれ基板Gのエッジを検出するタイミング、例えば検出位置、距離の差によって、コントローラ52が基板Gの仮想ラインLに対する傾き角度θ(図7に示す)を演算し、これに基づいて支持部材41′と基板Gとの相対位置が適正になるようにコントローラ52が駆動機構51を駆動させて支持部材41′の姿勢を制御する。そして、この状態で支持部材41′に基板Gが載置された後、コントローラ52がカセットセンサー54の検出結果に基づいて、支持部材41′上の基板GがカセットCに対して適正位置になるように支持部材41′の姿勢を制御する。
【0044】
この際の基板の取り出し動作について、図8および図9を参照してさらに詳細に説明する。図8は基板取り出しの工程を説明するフローチャート、図9はその各工程を説明するための模式図である。
【0045】
まず、図9の(a)に示すように、支持部材41′を基板Gを収納しているカセットCへ挿入する(STEP11)。このとき、2つの基板センサー50が基板Gのエッジを検出する(STEP12)。また、カセットセンサー54によりカセットCのエッジを検出する(STEP13)。そして、基板センサー50による検出結果に基づいてコントローラ52が基板Gの傾き角度θを演算する(STEP14)。
【0046】
その傾き角度θが所定値以上か否かを判断し(STEP15)、所定値以上であれば、図9の(b)に示すように、基板Gに合わせて支持部材41と基板Gとの相対位置が適正になるように支持部材41′の姿勢を制御し(STEP16)、その状態で支持部材41′上に基板Gを載置する(STEP17)。
【0047】
続いて、図9の(c)に示すように、カセットセンサー54によるカセットエッジの検出結果に基づいて、支持部材41′上の基板GがカセットCに対して適正位置になるように支持部材41′の姿勢を制御し(STEP18)、その状態で支持部材41′をカセットCから抜き出す(STEP20)。
【0048】
一方、STEP15の結果、傾き角度θが所定値より小さい場合には、そのまま支持部材41′上に基板Gを載置し(STEP19)、その状態で支持部材41′をカセットCから抜き出す(STEP20)。
【0049】
このように、支持部材41′に設けられた基板センサー50により基板Gの傾き角度θを検出し、その検出情報に基づいてカセットCに挿入された支持部材41′の適正位置に基板Gが載置されるように支持部材41′の姿勢を制御するとともに、支持部材41′上に基板Gが載置された後に、カセットセンサー54の検出結果に基づいて、支持部材41′上の基板GがカセットCに対して適正位置になるように支持部材41′の姿勢を制御するので、基板Gが支持部材41′の適正位置に載置された状態で、基板GがカセットCに接触することなく基板GをカセットCから取り出すことができる。なお、この第2の実施形態においては、カセットセンサー54によりカセットCの位置を検出するので、カセットCが所定位置に載置されているか否かの把握を行うことができるとともに、カセットCの位置制御をも行うことができる。
【0050】
なお、本発明は上記実施形態に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、基板検出手段として透過型の光センサーを用い、カセット(容器)検出手段として反射型の光センサーを用いたが、これに限らず静電容量センサー等、他の検出手段を用いることができる。また、上記実施形態では基板の角度を検出するようにしたが、角度とともに、または角度に変えて1方向もしくは直交する2方向の変位を検出するようにしてもよい。さらに、上記実施形態では、基板としてLCD基板を用いた場合について説明したが、これに限らず、液晶表示装置用のカラーフィルター基板、半導体ウエハ等、他の基板であってもよい。さらにまた、上記実施形態ではレジスト塗布現像処理システムにおけるカセットステーションに載置されたカセットから基板を取り出す場合について説明したが、これに限らず、容器から基板と取り出す場合であればどのような場合でも適用可能であることは言うまでもない。
【0051】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、支持部材に設けられた基板検出手段により基板の姿勢を検出し、その検出情報に基づいて容器に挿入された支持部材の適正位置に基板が載置されるように支持部材の姿勢を制御するとともに、支持部材上に基板が載置された後に、基板検出手段による検出情報に基づいて、または、容器検出手段による検出情報に基づいて、支持部材上の基板が前記容器に対して適正位置になるように支持部材の姿勢を制御するので、基板が支持部材の適正位置に載置された状態で、基板が容器に接触することなく基板を容器から取り出すことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明が適用されるLCD基板のレジスト塗布・現像処理システムを示す平面図。
【図2】 図1のレジスト塗布現像処理システムのカセットステーション部分を示す平面図。
【図3】 第1の実施形態に係る基板取り出し機構を構成する基板搬送機構を示す斜視図。
【図4】 第1の実施形態の基板取り出し機構の要部を示す概略構成図。
【図5】 第1の実施形態における基板取り出しの工程を説明するフローチャート。
【図6】 第1の実施形態における基板取り出しの際の各工程を説明するための模式図。
【図7】 第2の実施形態の基板取り出し機構の要部を示す概略構成図。
【図8】 第2の実施形態における基板取り出しの工程を説明するフローチャート。
【図9】 第2の実施形態における基板取り出しの際の各工程を説明するための模式図。
【符号の説明】
1;カセットステーション
10;基板搬送機構
41,41′;支持部材
42;ベース部材
43;昇降部材
44;ガイド部材
50;基板センサー(基板検出手段)
51;駆動機構
52;コントローラ(制御手段)
54;カセットセンサー(容器検出手段)
C;カセット
G;LCD基板
Claims (6)
- 基板が収納されている容器から基板を取り出す基板取り出し機構であって、
基板を支持する支持部材と、
前記支持部材を移動させる移動手段と、
前記支持部材に設けられ、2つの基板センサーを有しており、これら基板センサーによって基板のエッジを検出して基板の姿勢を検出する基板検出手段と、
前記基板検出手段の検出情報に基づいて前記容器に挿入された支持部材の適正位置に基板が載置されるように前記支持部材の姿勢を制御するとともに、支持部材上に基板が載置された後に、前記基板検出手段の検出情報に基づいて、支持部材上の基板が前記容器に対して適正位置になるように支持部材の姿勢を制御する制御手段と、を具備し、
前記制御手段は、前記2つの基板センサーによる基板のエッジの検出情報に基づいて仮想ラインに対する基板の傾き角度を演算し、前記傾き角度が所定値以上であるか否かを判断するとともに、前記傾き角度が前記所定値より小さい場合には、そのまま前記支持部材上に基板を載置し、その状態で前記支持部材を前記容器から抜き出し、
前記傾き角度が前記所定値以上である場合には、基板に合わせて前記支持部材と基板との相対位置が適正になるように前記支持部材の姿勢を制御し、適正な状態で前記支持部材上に基板を載置し、次に前記傾き角度の情報に基づいて前記支持部材上の基板が前記容器に対して適正位置になるように前記支持部材の姿勢を制御し、その状態で前記支持部材を前記容器から抜き出すように制御するものであることを特徴とする基板取り出し機構。 - 前記制御手段は、前記演算された基板の傾き角度を、該傾き角度に応じて段階に分けて設定された固定値として把握し、該固定値分を補正することにより前記支持部材の姿勢制御を行なうことを特徴とする、請求項1に記載の基板取り出し機構。
- 前記支持部材に設けられ、前記容器の位置を検出する容器検出手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記支持部材上に基板が載置された後に、前記容器検出手段による検出情報に基づいて、前記支持部材上の基板が前記容器に対して適正位置になるように前記支持部材の姿勢を制御して前記容器から基板を取出すことを特徴とする、請求項1または請求項2に記載の基板取り出し機構。 - 基板が収納されている容器から支持部材に支持された状態で基板を取り出す基板取り出し方法であって、
前記支持部材に設けられ、2つの基板センサーを有する基板検出手段を用い、前記2つの基板センサーにより基板のエッジを検出し、その検出情報に基づいて仮想ラインに対する基板の傾き角度を演算し、前記傾き角度が所定値以上であるか否かを判断するとともに、
前記傾き角度が前記所定値より小さい場合には、そのまま前記支持部材上に基板を載置し、その状態で前記支持部材を前記容器から抜き出し、
前記傾き角度が前記所定値以上である場合には、基板に合わせて前記支持部材と基板との相対位置が適正になるように前記支持部材の姿勢を制御し、適正な状態で前記支持部材上に基板を載置し、次に、前記傾き角度の情報に基づいて前記支持部材上の基板が前記容器に対して適正位置になるように前記支持部材の姿勢を制御し、その状態で前記支持部材を前記容器から抜き出すように制御することを特徴とする基板取り出し方法。 - 前記演算された基板の傾き角度を、該傾き角度に応じて段階に分けて設定された固定値として把握し、該固定値分を補正することにより前記支持部材の姿勢制御を行なうことを特徴とする、請求項4に記載の基板取り出し方法。
- 前記支持部材に設けられ、前記容器の位置を検出する容器検出手段を用いて前記容器の位置を検出し、前記支持部材上に基板が載置された後に、前記容器検出手段による検出情報に基づいて、前記支持部材上の基板が前記容器に対して適正位置になる ように前記支持部材の姿勢を制御することを特徴とする、請求項4または請求項5に記載の基板取り出し方法。
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