JP3938845B2 - 光ビーム加熱方法および装置 - Google Patents

光ビーム加熱方法および装置 Download PDF

Info

Publication number
JP3938845B2
JP3938845B2 JP2001043741A JP2001043741A JP3938845B2 JP 3938845 B2 JP3938845 B2 JP 3938845B2 JP 2001043741 A JP2001043741 A JP 2001043741A JP 2001043741 A JP2001043741 A JP 2001043741A JP 3938845 B2 JP3938845 B2 JP 3938845B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hot air
light beam
irradiated
irradiated portion
time
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2001043741A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002239717A (ja
Inventor
通雄 櫻井
公紀 佐野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP2001043741A priority Critical patent/JP3938845B2/ja
Publication of JP2002239717A publication Critical patent/JP2002239717A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3938845B2 publication Critical patent/JP3938845B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザ、ランプ等からの光を集光することによって局部加熱を可能にした光ビーム加熱方法および装置であって、糸はんだを使用したはんだ付け等に適した光ビーム加熱方法および装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、レーザ、ランプ光を集光して被加熱物を加熱する光ビーム加熱装置は、非接触加熱としてはんだ付け用の加熱、あるいは様々な物質の加熱溶融などに広く採用されている。
【0003】
以下に図面を参照しながら従来の光ビーム加熱装置について説明する。図3は、第1の従来例である光ビーム加熱装置の構成図を示す。図3において、光ビーム照射手段21は、被照射部5を加熱する光ビーム照射光3を発生させる光ビーム発生装置10と、その光ビームを通す光ファイバー1と、その光ファイバー1の終端部から照射する光ビームを集光するレンズ2とを備えている。
【0004】
はんだ送給手段22は、糸はんだ8を巻き取る糸はんだ巻き取り部8aと、糸はんだ8を送給する送給装置9とを備え、送給装置9は、糸はんだ8を送給する駆動部7と、糸はんだ8を被照射部5まで導くガイド6とを有している。
【0005】
この光ビーム照射手段21によって被照射部5を加熱した後、はんだ送給手段22によって糸はんだ8を被照射部5まで送給し、はんだ付けを行う。
光ファイバー1の終端部から照射された光は、レンズ2で集光され光ビーム照射光3として被照射物4上の被照射部5に照射される。光ビーム照射光3の照射出力は、光ファイバー1で伝達される光出力を変更することによって変更可能である。
【0006】
図4は、図3に示す光ビーム加熱装置のタイミング図である。図4において、光ビーム加熱装置の加熱工程は、被照射部5を予熱する予熱工程と、予熱された被照射部5に糸はんだ8を送給する本照射工程と、本照射後の被照射部5の余冷等をおこなう後熱工程からなる。
【0007】
まず、予熱出力P1で予熱時間t1の間照射すると、被照射部温度Tは周囲温度Taから上昇し、予熱到達温度T1に達する。予熱出力P1と予熱時間t1は被照射部5の予熱到達温度T1が適正温度範囲ΔTになるように設定される。
【0008】
糸はんだ8の供給量が所望の値になるように本照射時間t2と正送給F2とは予め決定され、駆動部7によって被照射部5に糸はんだ8は送給される。本照射到達温度T2も適正温度範囲ΔTになるように本照射出力P2は設定される。
【0009】
その後、糸はんだ8の正送給は停止され、駆動部7は逆送給F3にて逆送給して糸はんだ8を被照射部5から離脱させて糸はんだ8の供給を停止する。後熱照射到達温度T3も適正温度範囲ΔTにあるように後熱照射出力P3と後熱時間t3は設定される。
【0010】
このように被照射部温度Tは、予熱照射時間t1、本照射時間t2、後熱照射時間t3の各時間と、予熱照射出力P1、本照射出力P2、後熱照射出力P3の各照射出力、ならびに糸はんだ8の正送給F2等の複数の施工条件設定値にて制御され、はんだ付けを実施する。
【0011】
しかしながら、被加熱物4の熱容量が大きい場合にはタクトタイムが長くなる。そこで、タクトタイムの短縮を図る場合に、被照射部5の予熱到達温度T1を適正温度範囲ΔTに早く到達させるため、光ビーム加熱装置の他にホットエアー装置を併用し、ホットエアー装置を補助熱源として、はんだ付けが行われていた。
【0012】
以下に、ホットエアー装置を併用した、第2の従来例の光ビーム加熱装置について説明する。
【0013】
図5は、第2の従来例である光ビーム加熱装置の構成図を示す。図5において、光ビーム照射手段21とはんだ送給手段22とは、前述した図3に示す光ビーム加熱装置のそれらと同じ構成であり、その構成に加えて、ホットエアーを吹き付けるノズル11を備えたホットエアー吹き付け手段23を有する。ホットエアー吹き付け手段23は、図5のように光ビーム照射手段21が被照射部5を照射する位置のときに、ノズル11のエアー吹き付け方向が被照射部5を向くように、光ビーム照射手段21のレンズ2の枠部分にホルダ(図示せず)により取り付けられ固定されている。
【0014】
このホットエアー吹き付け手段23によって被照射部5を予熱しつつ、光ビーム照射手段21によって被照射部5を加熱し、それから、はんだ送給手段22によって被照射部5にはんだを送給し、はんだ付けを行う。
【0015】
従来、ホットエアー吹き付け手段23を併用してはんだ付けを実施する場合、ホットエアー吹き付け手段23がエアーを高温度にするのに時間を要したので、高温度のホットエアーを吹き付けることができるようになるまで時間を要した。そのため、はんだ付け実施前にホットエアー吹き付け手段23の電源を入れ、設定温度のホットエアーが吹き出すまで待機させる。設定温度に達したら、被加熱物4上に移動し、被照射部5に、光ビーム加熱装置10による照射とホットエアー吹き付け手段23による吹き付けとを実施する。
【0016】
この場合に、光ビーム照射手段21単体のみでの被照射部の適正温度到達時間と、光ビーム照射手段21とホットエアー吹き付け手段23を併用したときの適正温度到達時間とを比べると、後者の方の予熱時間t1が短い。
【0017】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ホットエアーの設定温度は、光ビーム加熱装置の予備熱源であること、また、はんだ付け周囲の部品の熱影響を極力緩和させる必要があることから、通常被照射部5の温度において、はんだ溶融温度より低い温度(100℃から150℃)にて使用する。そのため、図6のタイミング図のように、ホットエアー位置P0が、予熱時間t1、本照射時間t2および後熱時間t3の間、はんだ付け位置P02にあるため、本照射時間t2のある時点にて、本照射到達温度T2が適正温度範囲ΔTより低くなり、ホットエアーによる冷却効果が現れ、被照射部温度Tが低下または、上昇し難くなる。そのため、本照射時間t2が長くなり、はんだ付け外観品質が劣るという問題があった。
【0018】
本発明はかかる課題に鑑みてなされたもので、ホットエアーによる冷却効果を抑制して、加熱時間の短縮と、加工後の外観品質の向上とを実現できる光ビーム加熱方法および装置を提供することを目的とする。
【0019】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本発明の請求項1記載の光ビーム加熱方法は、糸はんだ溶融温度より低い温度を設定温度とするホットエアーが設定温度に達した後にホットエアー吹き付け方向を被加熱物上の被照射部に向け、同時に光ビーム照射光で被照射部を照射加熱して予熱し、予熱が完了後、光ビームを被照射部に照射したままで被照射部にホットエアーの影響が無くなる位置までホットエアー吹き付け方向を変更し、その後、糸はんだを送給してはんだ付けを実施することを特徴とする。
【0020】
請求項1記載の光ビーム加熱方法によれば、光ビーム照射の予熱時間に相当する時間のみホットエアー吹き付けにて予備加熱を実施することにより、光ビーム照射の予熱時間の短縮が図れるとともに、予熱時間の後に続く光ビームの本照射時にはホットエアー吹き付けを行わないため、従来のようなホットエアーによる冷却効果をなくし、加熱時間の短縮が図れ、また、外観品質への影響を避け品質向上を実現できる。
【0021】
請求項2に記載の光ビーム加熱装置は、被加熱物上の被照射部を加熱する光ビーム照射手段と、糸はんだ溶融温度より低い温度を設定温度とするホットエアー吹き付けるホットエアー手段とを備え、ホットエアーのエアー吹き付け方向を変更するノズルを制御するホットエアー制御装置と、ホットエアー制御装置と光ビーム照射手段を連動するシーケンサを設け、シーケンサは、糸はんだ溶融温度より低い温度を設定温度とするホットエアーが設定温度に達した後にホットエアー吹き付け方向を被加熱物上の被照射部に向け、同時に光ビーム照射光で被照射部を照射加熱して予熱し、予熱が完了後、光ビームを被照射部に照射したままで被照射部にホットエアーの影響が無くなる位置までホットエアー吹き付け方向を変更することを特徴とする。
【0022】
請求項2記載の光ビーム加熱装置によれば、ホットエアー手段により光ビーム照射手段の予熱時間にあたる一定時間のみホットエアーを被照射部に吹き付けることにより、光ビーム照射手段の予熱時間の短縮が図れるほか、予熱時間の後に続く光ビームの本照射時にはホットエアー吹き付けを行わないため、従来のようなホットエアーによる冷却効果をなくし、加熱時間の短縮が図れるとともに、被照射部の外観品質への影響を避け外観品質の向上を実現できる。
【0024】
また、光ビーム照射手段の予熱時間にあたる一定時間のみホットエアーを被照射部に吹き付け、予熱時間の後に続く光ビームの本照射時にはホットエアーを被照射部からそらし、被照射部への吹き付けを行わないようにできる。
【0025】
請求項記載の光ビーム加熱装置は、請求項記載の発明において、ホットエアー手段は、ホットエアーを被照射部に吹き付ける時間を設定する吹き付け時間設定手段を有し、吹き付け時間設定手段で設定した時間以外はホットエアー手段の吹き付け方向を被照射部以外の方向に変更するようにしたことを特徴とする。
【0026】
請求項記載の光ビーム加熱装置によれば、請求項記載の発明と同様な効果を発揮するほか、光ビーム照射手段の予熱時間のタイミングに合わせて、被照射部へのホットエアーの吹き付け時間を設定することが可能となる。このように、必要な時に、必要な時間だけ、被照射部へ吹き付けることが可能となる。
【0027】
請求項記載の光ビーム加熱装置は、請求項記載の光ビーム加熱装置において、ホットエアー手段は、被照射部方向および被照射部方向以外のホットエアーの吹き付け方向を任意に設定可能な吹き付け方向設定手段を設けている。
【0028】
請求項記載の光ビーム加熱装置によれば、例えば、流れ作業で多数の被照射部を順次照射加熱する場合において、ホットエアーの吹き付け方向を先行の被照射部の次に後続の被照射部を設定することにより、先行する被照射部のホットエアーによる予熱を終了した直後に、後続の被照射部の予熱を素早く開始することができる。
【0029】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図1は、本発明の実施の形態である光ビーム加熱装置の構成図である。図1において、12はエアホース、13は第1および第2のホットエアー駆動モータ14,15からなるホットエアー駆動部である。16はホットエアー吹き付け手段23の本体19を支持するためのホルダである。17はホットエアーの温度、エアー流量、エアー圧力およびホットエアー駆動モータ14,15を制御するホットエアー制御装置である。18は光ビーム発生装置10とホットエアー吹き付け手段23を連動させるためのシーケンサである。なお、光ビーム照射手段21およびはんだ送給手段22は、図5と同様の構成であり、その説明を省略する。
【0030】
本実施の形態では、ホットエアー吹き付け手段23に、ホットエアー駆動部13を設け、ノズル11からのエアーの吹き付け方向を自在に変更できるように構成している。ホットエアー制御装置17にて、第1のホットエアー駆動モータ14を制御することによりノズル11が前後方向に動き、第2のホットエアー駆動モータ15を制御することにより本体19が駆動モータ15の軸心を中心に回動してノズル11の向きを変える。
【0031】
図2は、図1に示す光ビーム加熱装置のタイミング図である。ホットエアー吹き付け手段23は、当初、その吹き付け方向を被照射部5から外れた方向に向けており、シーケンサ18からホットエアー制御装置17へ予熱に適切な温度のエアーを吹き出させるよう指令が伝達される。
【0032】
エアーが予熱に適切な温度HT1に達した後、シーケンサ18から光ビーム発生装置10に指令が出され、光ビーム発生装置10より照射出力Pの任意の光が発せられる。
【0033】
この照射出力Pの任意の光を光ファイバー1で経由し、これをレンズ2にて集光させ、光ビーム照射光3として、被加熱物4上の被照射部5を照射加熱すると同時に、シーケンサ18からホットエアー制御装置17へホットエアー吹き付け方向を被照射部5に向けるよう指令が伝達される。
【0034】
そして図2のタイミング図に示した条件において、予熱時間t1の間、ホットエアーにより被照射物4上の被照射部5を予熱するために、ノズル11が退避位置P0A1からはんだ付け位置P0A2に移動し、予熱を実施する。
【0035】
予熱時間t1の予熱が完了後、ホットエアー制御装置17の制御により、ホットエアー吹き付け方向を変更する。すなわち、図2に示すように、被照射物4上の被照射部5にホットエアーの影響がなくなる位置(退避位置P0A3)まで、ノズル11を退避させる。その後は図2に示したタイミングにてはんだ付けを実施する。
【0036】
以上のように本実施の形態によれば、ホットエアー吹き付け方向を変更できることにより、必要な時に、必要な時間だけ、被照射部5にホットエアーを吹き付けることができ、はんだ付け時において、ホットエアーの影響を受けたくない時に、ホットエアーを任意の位置に退避できる。すなわち、ホットエアー吹き付け手段23(ホットエアー手段)により光ビーム照射手段21の予熱時間t1にあたる時間のみホットエアーを被照射部5に吹き付けることにより、予熱時間t1の短縮が図れるほか、予熱時間t1の後に続く光ビームの本照射時間t2以降にホットエアー吹き付けを被照射部5へ行わないため、従来のようなホットエアーによる影響(冷却効果)をなくし、はんだ付け性に悪影響を及ぼさなくなる。その結果、良好なはんだ付けが可能となり、外観不良もなくなる。また、従来のようなホットエアーによる影響(冷却効果)をなくすことで、本照射時間t2を短縮でき、その結果、短時間のはんだ付けが可能となる。
【0037】
なお、予熱完了後にホットエアー制御装置17によりホットエアー位置を、P0A2からP0A3へ変更するタイミングは、光ビーム発生装置10と連動させ、その照射出力をP1からP2へ変更するタイミングと合わせるようにする。あるいは、ホットエアー制御装置17に、例えばホットエアー位置をP0A2としている時間を設定できる手段(吹き付け時間設定手段)を設け、あらかじめその時間をホットエアー制御装置17に設定しておくことで、ホットエアー位置がP0A1からP0A2になってから設定時間経過すると自動的に、ホットエアー位置をP0A3へ変更するようにしてもよい。このように吹き付け時間設定手段により、光ビーム照射の予熱時間等のタイミングに合わせて、ホットエアー吹き付け時間を任意に設定することが可能となる。
【0038】
また、ホットエアー制御装置17に、ノズル11のホットエアーの吹き付け方向を設定するための吹き付け方向設定手段を設け、ホットエアー位置がP0A1、P0A2、P0A3のそれぞれの場合の吹き付け方向を任意に設定できるように構成してもよい。例えば、流れ作業で多数の被照射部を順次照射加熱する場合において、先行する被照射部(現在のはんだ付け箇所)のホットエアーによる予熱を終了した直後に、後続の被照射部(次のはんだ付け箇所)の予熱を素早く開始することができる。または、ホットエアーの退避に伴う、周辺の障害物への干渉を防ぐことが可能となる。
【0039】
なお、従来、本照射時にホットエアーによる冷却効果を抑えるために、ホットエアー吹き付け手段23の電源を切る方法があるが、本実施の形態によれば、本照射時にホットエアー位置を被照射部5を避けて例えば退避位置P0A3とすることにより再度ホットエアー吹き付け手段23の電源を入れ、エアーの温度をHT1まで上昇させる必要がなくなり、これにより、ホットエアー吹き付け手段23の電源を切ったり、次の処理のために再度ホットエアー吹き付け手段23の電源を入れてエアーの温度をHT1まで上昇させる必要がなく、ホットエアーの温度を上下するためにかかっていた時間をなくすことができる。
【0040】
また、本実施の形態では、被照射部へのホットエアーの吹き付けを予熱時間t1のみ行うとしたが、本照射時間t2や後熱時間t3にホットエアーを被照射部に吹き付けることもある。
【0041】
【発明の効果】
請求項1記載の光ビーム加熱方法によれば、光ビーム照射の予熱時間に相当する時間のみホットエアー吹き付けにて予備加熱を実施することにより、光ビーム照射の予熱時間の短縮が図れるとともに、予熱時間の後に続く光ビームの本照射時にはホットエアー吹き付けを行わないため、従来のようなホットエアーによる冷却効果をなくし、加熱時間の短縮が図れ、また、外観品質への影響を避け品質向上を実現できる。
【0042】
請求項2記載の光ビーム加熱装置によれば、ホットエアー手段により光ビーム照射手段の予熱時間にあたる一定時間のみホットエアーを被照射部に吹き付けることにより、光ビーム照射手段の予熱時間の短縮が図れるほか、予熱時間の後に続く光ビームの本照射時にはホットエアー吹き付けを行わないため、従来のようなホットエアーによる冷却効果をなくし、加熱時間の短縮が図れるとともに、被照射部の外観品質への影響を避け外観品質の向上を実現できる。
【0043】
また、光ビーム照射手段の予熱時間にあたる一定時間のみホットエアーを被照射部に吹き付け、予熱時間の後に続く光ビームの本照射時にはホットエアーを被照射部からそらし、被照射部への吹き付けを行わないようにできる。
【0044】
請求項記載の光ビーム加熱装置によれば、請求項記載の発明と同様な効果を発揮するほか、光ビーム照射手段の予熱時間のタイミングに合わせて、被照射部へのホットエアーの吹き付け時間を設定することが可能となる。このように、必要な時に、必要な時間だけ、被照射部へ吹き付けることが可能となる。
【0045】
請求項記載の光ビーム加熱装置によれば、請求項記載の発明と同様な効果を発揮するほか、例えば、流れ作業で多数の被照射部を順次照射加熱する場合において、ホットエアーの吹き付け方向を先行の被照射部の次に後続の被照射部を設定することにより、先行する被照射部のホットエアーによる予熱を終了した直後に、後続の被照射部の予熱を素早く開始することができる。または、ホットエアーの退避に伴う、周辺の障害物への干渉を防ぐことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態を示す光ビーム加熱装置の構成図。
【図2】本発明の実施の形態を示す光ビーム加熱装置のタイミング図。
【図3】第1の従来例を示す光ビーム加熱装置の構成図。
【図4】第1の従来例を示す光ビーム加熱装置のタイミング図。
【図5】第2の従来例を示す光ビーム加熱装置の構成図。
【図6】第2の従来例を示す光ビーム加熱装置のタイミング図。
【符号の説明】
1 光ファイバー
2 レンズ
3 照射光
4 被加熱物
5 被照射部
6 ガイド
7 駆動部
8a 糸はんだ巻き取り部
8 糸はんだ
9 送給装置
10 光ビーム発生装置
11 ノズル
12 エアーホース
13 ホットエアー駆動部
14 第1のホットエアー駆動モータ
15 第2のホットエアー駆動モータ
16 ホルダ
17 ホットエアー制御装置
18 シーケンサ
19 本体
21 光ビーム照射手段
22 はんだ送給手段
23 ホットエアー吹き付け手段

Claims (4)

  1. 糸はんだ溶融温度より低い温度を設定温度とするホットエアーが前記設定温度に達した後に前記ホットエアー吹き付け方向を被加熱物上の被照射部に向け、同時に光ビーム照射光で前記被照射部を照射加熱して予熱し、前記予熱が完了後、光ビームを前記被照射部に照射したままで前記被照射部にホットエアーの影響が無くなる位置までホットエアー吹き付け方向を変更し、その後、糸はんだを送給してはんだ付けを実施する光ビーム加熱方法。
  2. 被加熱物上の被照射部を加熱する光ビーム照射手段と、糸はんだ溶融温度より低い温度を設定温度とするホットエアー吹き付けるホットエアー手段とを備え、前記ホットエアーのエアー吹き付け方向を変更するノズルを制御するホットエアー制御装置と、前記ホットエアー制御装置と前記光ビーム照射手段を連動するシーケンサを設け、前記シーケンサは、糸はんだ溶融温度より低い温度を設定温度とするホットエアーが前記設定温度に達した後に前記ホットエアー吹き付け方向を被加熱物上の被照射部に向け、同時に光ビーム照射光で前記被照射部を照射加熱して予熱し、前記予熱が完了後、光ビームを前記被照射部に照射したままで前記被照射部にホットエアーの影響が無くなる位置までホットエアー吹き付け方向を変更する光ビーム加熱装置。
  3. ホットエアー手段は、ホットエアーを被照射部に吹き付ける時間を設定する吹き付け時間設定手段を有し、前記吹き付け時間設定手段で設定した時間以外は前記ホットエアー手段の吹き付け方向を前記被照射部以外の方向に変更するようにした請求項記載の光ビーム加熱装置。
  4. ホットエアー手段は、被照射部方向および前記被照射部方向以外のホットエアーの吹き付け方向を任意に設定可能な吹き付け方向設定手段を設けた請求項記載の光ビーム加熱装置。
JP2001043741A 2001-02-20 2001-02-20 光ビーム加熱方法および装置 Expired - Fee Related JP3938845B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001043741A JP3938845B2 (ja) 2001-02-20 2001-02-20 光ビーム加熱方法および装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001043741A JP3938845B2 (ja) 2001-02-20 2001-02-20 光ビーム加熱方法および装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002239717A JP2002239717A (ja) 2002-08-28
JP3938845B2 true JP3938845B2 (ja) 2007-06-27

Family

ID=18905859

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001043741A Expired - Fee Related JP3938845B2 (ja) 2001-02-20 2001-02-20 光ビーム加熱方法および装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3938845B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105965119A (zh) * 2016-05-27 2016-09-28 华侨大学 超声波辅助感应预热激光钎焊制备磨粒砂轮的方法和装置
CN106964899A (zh) * 2017-06-02 2017-07-21 长沙理工大学 一种激光深熔‑钎焊连接异种材料的方法

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4450578B2 (ja) * 2003-07-30 2010-04-14 東海東洋アルミ販売株式会社 接合方法及び接合装置
US8303738B2 (en) 2003-10-03 2012-11-06 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Metal heating apparatus, metal heating method, and light source apparatus
JP2007118072A (ja) * 2005-10-31 2007-05-17 Shinka Jitsugyo Kk 半田付け方法及び装置
JP4345033B1 (ja) * 2008-04-28 2009-10-14 株式会社大進工業研究所 高周波ろう付け装置および高周波ろう付け方法
JP6902778B2 (ja) * 2017-04-18 2021-07-14 株式会社ジャパンユニックス レーザー式はんだ付け方法及びレーザー式はんだ付け装置
CN107030382B (zh) * 2017-05-31 2018-10-02 长沙理工大学 一种镀锌钢板激光叠接焊接方法
CN107052582B (zh) * 2017-06-02 2018-11-02 长沙理工大学 一种激光穿透焊接板材的方法
CN113664316B (zh) * 2021-08-20 2022-06-14 东莞市沃德精密机械有限公司 激光锡球焊接设备

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105965119A (zh) * 2016-05-27 2016-09-28 华侨大学 超声波辅助感应预热激光钎焊制备磨粒砂轮的方法和装置
CN106964899A (zh) * 2017-06-02 2017-07-21 长沙理工大学 一种激光深熔‑钎焊连接异种材料的方法
CN106964899B (zh) * 2017-06-02 2018-08-07 长沙理工大学 一种激光深熔-钎焊连接异种材料的方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP2002239717A (ja) 2002-08-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10888944B2 (en) Method and system of using consumable with weld puddle
JP3938845B2 (ja) 光ビーム加熱方法および装置
JPH03193282A (ja) Smd―要素のためのレーザはんだ付け装置
JP7170142B2 (ja) 3d金属印刷方法およびかかる方法のための装置
JP2005515895A (ja) 高アスペクト比溶接部のための溶接速度を高める方法及び装置
JP6744686B1 (ja) レーザー式ハンダ付け方法とその装置
JPH05115993A (ja) レーザ加工装置
JP2019037997A (ja) レーザクラッディング装置
JP2001105163A (ja) レーザ溶接方法
US20040065116A1 (en) Device and method for producing a syringe for medical purposes
JP5617416B2 (ja) レーザ溶接方法とレーザ溶接装置
JP2006289464A (ja) レーザ加熱制御方法およびレーザ加熱装置
JP4024068B2 (ja) 電子部品のはんだ付け方法及びその装置
JPH06246475A (ja) レーザ溶接方法
EP3431221A1 (en) Method and system of using multiple consumables with weld puddle
JP2001269782A (ja) クラッディングまたは溶接速度の上昇方法および装置
JPH0783947B2 (ja) レーザクラッディング用給粉装置
JP3240831B2 (ja) 半田バンプの形成装置および形成方法
JP3739900B2 (ja) テープ状基板のバンプ形成方法
JPS62176695A (ja) レ−ザ加工装置
JPH03184668A (ja) レーザ半田付装置
JPH0292479A (ja) レーザ肉盛方法
JP2023092232A (ja) 膜形成装置及び膜形成方法
JPS61232059A (ja) ろう付け方法
JPS62173074A (ja) 微細半田付方法および装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041203

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20061221

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061226

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070222

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070320

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20070326

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110406

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120406

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130406

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130406

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140406

Year of fee payment: 7

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees