JP3912324B2 - 弾性表面波デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、弾性表面波デバイスに関し、特にパッケージサイズを小型化にした弾性表面波デバイスの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、弾性表面波(Surface Acoustic Wave:以下、SAW)デバイスは移動体通信分野で幅広く用いられ、高性能、小型、量産性等の点で優れた特徴を有することから特に携帯電話等に多く用いられている。 また、半導体部品においてCSP(Chip Size Package)と呼ばれる小型パッケージングが一般化するのに伴って、SAWデバイスにおいてのフィルタの小型化の容易化とバッチ式の製造方法による生産性の向上という観点から、CSP技術を用いた生産方法が導入されるようになっている。
【0003】
前述したCSP技術を用いた生産方法において、本願発明者が特願2002−293110号にてラミネート工程、プレス成形工程、後硬化工程の3つの工程からなるSAWデバイスの樹脂封止工程を提案している。以下、図8から図12に基づいて前記樹脂封止工程を詳細に説明する。図8は、実装基板母材140上にSAWチップ115をフリップチップ実装する工程を示す断面図である。実装基板母材140は、絶縁基板103の底部に外部電極104を上部に配線パターン105を備え、内部に外部電極104と配線パターン105とを導通する内部導体106を備え、SAWチップ115は圧電基板118の主面上にSAWを励振する為のIDT117と該IDT117に導通した接続パッド116を備えている。そして、実装基板母材140の配線パターン105上にSAWチップ115の接続パッド116を、導体バンプ110を用いて接続することによりフリップチップ実装が行われる。
【0004】
次に、図9に示すように、図8の実装基板母材140上に実装した複数のSAWチップ115の圧電基板118の上面に跨るように、樹脂シート130を載置する。この樹脂シート130は、樹脂シート本体131の一方の面に離型性を有する保護フィルム132を剥離可能に貼付している。
【0005】
次に、図10は各SAWチップ115上に載置された樹脂シート130を、ラミネート装置150によりSAWチップ115に対してラミネートする熱ローララミネート工程を示した断面図である。熱ローララミネート工程を実施するためのラミネート装置150は、SAWチップ115を搭載した実装基板母材140を矢印で示す方向へ所定のラミネート速度で移動させる移動手段と、SAWチップ115上の樹脂シート130の上面に圧接して矢印方向へ回転駆動される熱ローラとしての押圧ローラ151と、実装基板母材140の下面を支持して押圧ローラ151との間で加圧力を発生するガイド部材としての支持ローラ152とを備えている。押圧ローラ151は、ヒータにより所要温度に加熱制御されると共に、駆動源により実装基板母材140をラミネート方向へ送るように回転駆動される。そして、支持ローラ152は、矢印方向へ連れ回り、或いは回転駆動される。この熱ローララミネート工程では、以下の条件を満たすことが求められる。
(a)押圧ローラ151の加熱温度を樹脂シート130の軟化(又は溶融)温度以上、且つ硬化温度未満に設定すること。
(b)押圧ローラ151によって樹脂シート130を押圧ローラ151にて加熱しながら加圧することにより軟化(又は溶融)させること。
(c)軟化(又は溶融)した樹脂シート130を押圧ローラ151にて加熱しながら加圧することによって、樹脂シート本体131をSAWチップの谷間に充填、浸透させて、気密空間Sを保持しながらSAWチップ115を樹脂にて被覆すること。
複数のSAWチップ115上に跨って載置された樹脂シート130を、図10に示した熱ローララミネート工程により、その樹脂シート130が、SAWチップ115外面から実装基板母材140上面にかけて充填されることによりラミネートする。なお、熱ローララミネート法においては、SAWチップ115と実装基板母材140との間の気密空間Sが必要以上に拡張されないよう、樹脂シート130の一端側から他端側へ向けて順次加圧してエアーを抜きながらラミネートできる利点がある。
【0006】
ラミネート工程だけでは樹脂シート130の硬化は完了しないので、樹脂にて外面をラミネートしたSAWチップを加圧しながら加熱することにより、気密空間S内の気体の膨張を抑制しながら樹脂を硬化させるプレス成形工程を行い、更に樹脂を完全に硬化させる為に雰囲気温度を樹脂硬化温度に設定した恒温槽中に実装基板母材を配置し加熱する後硬化工程を行う。以上の工程が完了した状態が図11である。そして、保護フィルム132を剥離し図11に示されているダイシング切り代に沿って実装基板母材140をダイシングブレードにてダイシングすることにより図12のような個片のSAWデバイス100が完成する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前述したようなラミネート工程、プレス成形工程、後硬化工程の3つの工程からなるSAWデバイスの樹脂封止工程において、ラミネート工程でのエアーの膨張(ボイド)の発生や気密空間Sへの樹脂侵入が問題となっている。この問題は、樹脂シートの厚さを実装基板母材の中央部のSAWチップにて最適となるように設定すると、実装基板母材の最外周部に配置されているSAWチップにおいて、図13のSAWデバイス101に示すようなダイシング切り代に到達してしまう程の著しいボイドが発生してしまい、逆に樹脂シートの厚さを実装基板母材の最外周部に配置されているSAWチップにて最適となるように設定すると、実装基板母材の中央部のSAWチップにて気密空間Sへの樹脂侵入が発生してしまう。即ち、実装基板母材の中央部と最外周部とで封止樹脂の侵入状態にばらつきが生じてしまうという問題が発生する。
【0008】
そこで、上記問題を解決する為に、特開平11−214955号公報や特開2002−261177号公報(以下、これらを先行技術1と称す)にて開示されているキャビティー型実装基板の適用を検討した。図14は、先行技術1にて開示されているキャビティー型実装基板を用いたSAWデバイスの断面図を示したものである。圧電基板202の主面上にIDT203と該IDT203に導通した接続パッド204を設けたSAWチップ201と、ガラスセラミックスやアルミナからなる基体205a、及び基体205aと同様な部材で構成されSAWチップ201の周縁外周部を載置する環状の積層部材205b、及び基体205aと同様な部材で積層部材205bより広い空間を形成する環状の枠体205cから構成され、基体205aの上面に実装用パッド207を設けた実装基板205を備えており、SAWチップ201上に設けた接続パッド204と実装基板205の基体205aに設けた実装用パッド207とを金属バンプ210を介して導通固着し、圧電基板202の上面及び側面を完全に封止樹脂211で覆った構造である。
【0009】
前記先行技術1に記載されているキャビティー型実装基板においては、溶融して液化した樹脂をキャビティ内に充填し硬化して封止樹脂としているが、このキャビティ型実装基板に上述したラミネート方式を採用した場合を検討する。図14から明らかなように、SAWチップ201外周部に配置されている枠体205cがSAWチップ201の上面よりも高くなっている為、樹脂211をラミネートした際にエアーの逃げ場がなくなりボイドが発生しやすいという欠点を有する。従来技術で説明したように、ラミネート工程においてボイド発生を防止する為に余分なエアーを抜きながらラミネートする必要があり、先行技術1に記載のキャビティ型実装基板を用いてラミネート工程を行うと余分なエアーを抜きながらのラミネートが困難となる。
【0010】
次に特開平10−22763号公報(以下、先行技術2と称す)にて開示されている微小エアギャップ構造へのラミネート工程の適用を検討した。図15は先行技術2に記載されている微小エアギャップ構造のSAWデバイスの縦断面図を示したものである。圧電基板302の主面上にIDT303及び該IDT303に導通された接続パッド304を配置したSAWチップ301と、表面に実装用パッド306及び該実装用パッド306の部分にホールを設けた絶縁層307を形成した実装基板305を備えており、SAWチップ301に設けた接続パッド304と、実装基板305に設けた実装用パッド306とを金属バンプ310にてフリップチップ実装した後、封止剤311で封止しエアギャップ320を設けた構造である。先行技術2の特徴としては、実装基板305とSAWチップ301との間に絶縁層307を設けることによって、SAWチップ301と実装基板305との間隙を限りなく零に近づけ、封止剤311がエアギャップ320へ流れ込まないようにしたことである。
【0011】
前記先行技術2は、SAWチップと実装基板との間の気密空間を微小ギャップとすることで封止樹脂が気密空間に浸入しにくくなるという効果が期待できる。しかしながら、先行技術2記載のSAWデバイスの構造は、実装基板305上に絶縁層307を形成した上で、実装用パッド306の部分にホールを形成する工程が必要となるが、デバイスの小型化に伴ない、実装用パッド306の面積も微小となるので実装用パッド306とホールとの位置合わせには精度の高い厳密な作業が必要となり煩雑であった。更に、絶縁層307上に設けたホールが極めて微小であるため、実装基板305に金属バンプ310を形成する際にも煩雑な作業が要求されるといった製造上の問題がある。
【0012】
本発明は、以上の問題を解決するためになされたものであり、SAWチップを実装基板母材にフリップチップ実装し表面を樹脂で封止したSAWデバイスにおいて、容易に気密空間を形成し、且つ、樹脂をラミネートする際にボイド発生や気密空間への樹脂浸入を防いだSAWデバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するための本発明に係る弾性表面波デバイスの製造方法は以下のとおりである。
【0015】
請求項1に記載の発明は、複数の実装基板を複数個シート状に連結した実装基板母材のダイシング切り代に沿って該ダイシング切り代を覆うように枠体を形成する枠形成工程と、弾性表面波チップを前記実装基板母材に導体バンプを用いてフリップチップ実装する工程と、前記実装基板母材に実装した弾性表面波チップの上面に樹脂シートを載置する工程と、実装基板の一端から他端に向けて前記樹脂シートを軟化又は溶融させながら加圧することにより前記弾性表面波チップの外面を樹脂にて覆うラミネート工程と、ラミネートした前記樹脂を加圧しながら加熱硬化させるプレス成形工程と、前記ダイシング切り代に沿って前記弾性表面波チップを個片に切り分ける切断工程とを備え、前記枠体形成工程において、前記枠体が弾性表面波チップの周縁部と重複し、且つ、フリップチップ実装した弾性表面波チップと実装基板母材との間隙よりも薄い厚みを有するように形成することを特徴とする弾性表面波デバイスの製造方法である。
【0017】
請求項2に記載の発明は、前記枠体形成工程において、前記枠体(第一の枠体)の上面に第二の枠体を積層し、該第二の枠体は各辺の幅は第一の枠体よりも小さく、且つ、第一の枠体と第二の枠体とを合わせた厚みが前記弾性表面波チップの上面よりも低くなるように形成することを特徴とする請求項1に記載の弾性表面波デバイスの製造方法である。
【0019】
請求項3に記載の発明は、前記ラミネート工程は、前記樹脂シートに圧接しながら回転する所定温度に加熱した押圧ローラと前記実装基板母材下面に添設したガイド部材との間で実装基板母材及び弾性表面波チップを加圧する熱ローララミネート工程からなり、前記熱ローララミネート工程は、押圧ローラの加熱温度を樹脂シートの軟化温度又は溶融温度以上、且つ硬化温度未満に設定し、前記押圧ローラによって前記樹脂シート上面を加熱しながら加圧することにより軟化又は溶融させ、軟化又は溶融した樹脂シートを押圧ローラにて加熱しながら加圧することによって気密空間を確保しながら弾性表面波チップを樹脂にて被覆することを特徴とする請求項1又は2に記載の弾性表面波デバイスの製造方法である。
【0020】
請求項4に記載の発明は、前記ラミネート工程は、前記樹脂シート上面に先端で圧接しながら一方向へ移動する所定温度に加熱したブレードと、前記実装基板母材下面に添設したガイド部材との間で実装基板母材及び弾性表面波チップを加圧するブレードラミネート工程からなり、前記ブレードラミネート工程は、ブレードの加熱温度を樹脂シートの軟化温度又は溶融温度以上、且つ硬化温度未満に設定し、ブレードによって樹脂シートの上面を加熱しながら加圧することにより軟化又は溶融させ、軟化又は溶融した樹脂シートをブレードにて加熱しながら加圧することによって気密空間を確保しながら弾性表面波チップを樹脂にて被覆することを特徴とする請求項1又は2に記載の弾性表面波デバイスの製造方法である。
【0021】
請求項5に記載の発明は、前記ラミネート工程は、減圧雰囲気にて実施することを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の弾性表面波デバイスの製造方法である。
【0022】
請求項6に記載の発明は、前記ラミネート工程は、不活性ガス雰囲気中にて実施することを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の弾性表面波デバイスの製造方法である。
【0023】
請求項7に記載の発明は、前記プレス成形工程は、前記実装基板母材の下面側に接する第一のプレート治具と前記実装基板母材上面の樹脂シートに接する第二のプレート治具との間に前記実装基板母材を挟んだ状態で加圧しながら加熱硬化するものであって、前記第二のプレート治具の下面には、前記樹脂シート周縁部を前記実装基板母材上面に押さえつけるための押さえフレームが形成されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の弾性表面波デバイスの製造方法である。
【0024】
請求項8に記載の発明は、前記プレス成形工程は、前記第一のプレート治具の上面には、前記第二のプレート治具の下面と当接して両者の間隙を制限するためのスペーサ部材が形成されていることを特徴とする請求項7に記載の弾性表面波デバイスの製造方法である。
【0025】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図面に示した実施の形態により詳細に説明する。図1から図5は本発明の第一の実施例に係るSAWデバイスの製造方法について示したものである。まず、図1(a)及び(b)は実装基板2をシート状に連結した構造の複数個の実装基板母材40にSAWチップ15をフリップチップ実装する工程を示す平面図、及び断面図である。実装基板2は、絶縁基板3の底部に表面実装用の外部電極4を、上部にSAWチップ15と導通をとる為の配線パターン5を備え、内部に外部電極4と配線パターン5を導通する内部導体6を備えている。また、SAWチップ15は圧電基板18の主面上にSAWを励振するためのIDT17と該IDT17と導通した接続パッド16を備えている。そして、実装基板2上の配線パターン5とSAWチップ15上の接続パッド16とを導体バンプ10を用いて接続することによりフリップチップ実装を行う。本発明の特徴としては、図1に示すように実装基板母材40の各個片SAWチップの周囲に枠体20を設けたことである。ここで前記枠体20は以下の全ての条件を満たすように設置されている。
(a)枠体20は、SAWチップ15と実装基板母材40との間の空間Sの外周に設けられ、実装基板母材40上面から圧電基板18底面までの間隙よりも小さい厚みであること。
(b)枠体20の各辺の幅は、ダイシング切り代Dより大きいこと。
(c)枠体20は、ダイシング切り代Dを覆うように実装基板母材40上に設けられていること。
(d)枠体20の少なくとも一部が圧電基板18と実装基板母材40上との間に挟まれていること。即ち、SAWチップ15の周縁部と重複するように枠体20を設定すること。
【0026】
次に、図2に示すように、図1の実装基板母材40上に実装した複数のSAWチップ15の上面を跨るように樹脂シート30を載置する。この樹脂シート30は、樹脂シート本体31の一方の面に離型性を有する保護フィルム32を剥離可能に貼付している。
【0027】
ここで、樹脂シート本体31の厚みをtrとすると、trを以下の条件で設定する。
L/{(X+Gx)(Y+Gy)}≦tr
但し、L=(X+Gx)(Y+Gy)(H+T+A)−XYT−XYA−{XVyA+YVxA+(4VxVyA)/3}
(L:一つのSAWチップ外面を封止するのに必要な樹脂シートの体積、X:SAWチップの一辺の長さ、Y:SAWチップの他辺の長さ、Gx:X方向に隣接し合うSAWチップの間隔、Vx:Y方向へ延びるダイシング切り代から直近のSAWチップ側面までの距離、Gy:Y方向に隣接し合うSAWチップ間の間隔、Vy:X方向へ延びるダイシング切り代から直近のSAWチップ側面までの距離、H:一つのSAWチップ外面を樹脂シートにて被覆完了した後のSAWチップ上面に位置する樹脂の厚さ、T:圧電基板の厚さ、A:実装基板母材上面から圧電基板底面までの間隔)
これは、SAWチップ間の裾部に樹脂が行き渡るのに必要な樹脂シートの体積を求め、この体積の値をSAWチップ一個当りの実装基板の面積で割った式であり、最低限必要な樹脂シート本体31の厚みを算出できる。なお、樹脂シート本体の厚さtrの上限値については、樹脂が気密空所内に入り込み過ぎて、SAW伝搬領域に樹脂が付着しないような値を選択すればよい。
以上のように、樹脂シート本体31の厚みを設定することで、後にSAWデバイスに樹脂をラミネートした際に、樹脂の厚みが不足し気密空間Sに穴が空いてSAWデバイスの防塵・防湿性を低下させてしまう虞がなくなる。
【0028】
樹脂シート30をSAWチップ15上に載置後、図3に示すようにラミネート工程を行う。なお、本実施例においては従来技術と同様に熱ローララミネート方法を用いた例について説明する。熱ローララミネート工程を実施するためのラミネート装置50は、SAWチップ15を搭載した実装基板母材40を矢印で示す方向へ所定のラミネート速度で移動させる移動手段と、SAWチップ15上の樹脂シート30の上面に圧接して矢印方向へ回転駆動される熱ローラとしての押圧ローラ51と、実装基板母材40の下面を支持して押圧ローラ51との間で加圧力を発生するガイド部材としての支持ローラ52とを備えている。押圧ローラ51は、ヒータにより所要温度に加熱制御されると共に、駆動源により実装基板母材40をラミネート方向へ送るように回転駆動される。そして、支持ローラ52は、矢印方向へ連れ回り、或いは回転駆動される。この熱ローララミネート工程では、以下の条件を満たすことが求められる。
(a)押圧ローラ51の加熱温度を樹脂シート30の軟化(又は溶融)温度以上、且つ硬化温度未満に設定すること。
(b)押圧ローラ51によって樹脂シート30を押圧ローラ51にて加熱しながら加圧することにより軟化(又は溶融)させること。
(c)軟化(又は溶融)した樹脂シート30を押圧ローラ51にて加熱しながら加圧することによって、樹脂シート本体31をSAWチップの谷間に充填、浸透させて、気密空間Sを保持しながらSAWチップ15を樹脂にて被覆すること。
複数のSAWチップ15上に跨って載置された樹脂シート30を、SAWチップ15外面から実装基板40上面にかけて充填されることによりラミネートが行われる。なお、熱ローララミネート法では、SAWチップ15と実装基板母材40との間の気密空間Sが必要以上に拡張されないよう、樹脂シートの一端側から他端側へ向けて順次加圧してエアーを抜きながらラミネートすることができる。
【0029】
ラミネート工程後のSAWデバイスの断面図を図3(b)に示す。本発明においては気密空間Sの外周に沿って枠体20を設けたので、ラミネート工程時に樹脂シート30がSAWチップ15の外面から実装基板母材40の上面にかけて充填される際に、樹脂が気密空間Sに入り込むのを防止でき、また、枠体20の厚みは実装基板母材40上面から圧電基板18底面までの間隙よりも小さいので、各SAWチップ15を個片毎にエアーを抜きながら容易にラミネートすることができるのでボイドの発生を抑圧することができる。
【0030】
ラミネート工程後、図4に示すようにプレス成形工程を行う。このプレス成形工程は、プレス成形装置60によって実施される。前記プレス成形装置60は、実装基板母材40の底面を支持する金属型61と、金属型61上に支持された実装基板母材40の外径方向に位置するスペーサ62と、実装基板母材40上にラミネートされた樹脂シート30の上面外縁に沿って添設される押えフレーム63と、該押えフレーム63の上面を加圧する金属板(加圧部材)64と、プレス機70とを備えている。まず、ラミネート工程を終えた樹脂ラミネート済み実装基板母材(ラミネート済みユニットUと称す)を、図4(a)のように金属型61の上面に載置し、ラミネート済みユニットUに過剰な圧力がかからぬように、ラミネート済みユニットUの外径方向に離間してスペーサ62を設ける。このスペーサ62は、金属型61の上面に固定する。そして、ラミネート済みユニットUの樹脂シート30上に、SAWチップ15が実装されている領域よりも大きく開口した環状の押えフレーム63を載せ、その上に金属板64を載置する。ラミネート済みユニットUを図4(a)のようにセットした後、プレス機70を用いて図4(b)に示すようにプレス成形を行う。このプレス機70は、上型(加圧部材)71と下型72とからなり、上型71と下型72はそれぞれ樹脂の硬化温度に設定されている。下型72上に金属型61を載置すると共に、金属板64の上面に上型71を当接させてプレスを行う。プレスによって気密空間S内のエアーの膨張を強制的に抑えながら、樹脂を硬化させるのでエアーの膨張による気密空間Sの不要な拡大は発生しない。また、押えフレーム63の下部に位置する樹脂を潰した状態でプレス成形することにより、実装基板母材40上に搭載されたSAWチップ群の外周縁に位置するSAWチップの裾部(図4(b)中のB部)に特に発生しやすいボイドが抑圧される。
【0031】
プレス成形工程後、後硬化工程に入る。後硬化工程では、雰囲気温度を樹脂硬化温度に設定した恒温槽(後硬化装置)中にラミネート済みユニットUを図5(a)のような状態で配置し加熱する。加熱時間は選択した樹脂シートの材質等の条件の違いによって適宜硬化条件を選択する必要がある。そして、樹脂が完全に硬化した後、図5(a)に示されているダイシング切り代に沿って幅Dのダイシングブレードにてダイシングし、図5(b)のような個片のSAWデバイス1が完成する。
【0032】
以上説明したように、本発明においては、気密空間Sの外周に沿って枠体を設けたので、実装基板母材上に実装されたSAWチップの箇所に関わらず、ラミネート工程時において樹脂が気密空間に入りこむのを防ぎ、また、ラミネートする際にエアーが抜きやすいように枠体の厚みを実装基板母材の上面とSAWチップの下面との間隙より小さくしたので、ボイド発生を防止できるという効果を奏する。
【0033】
なお、本実施例では、ラミネート工程は熱ローララミネート法を例に説明してきたが、本発明はこれのみに限るものではなく、順次エアーを抜きながらラミネートできる方法であれば熱ローラ以外の手段でもよく、図6に示すように所要温度に加熱されたブレード55を用いて、ブレード55のエッジ部を樹脂シート30に圧接させながら矢印方向へ移動させることによって加熱と同時に加圧を行う方式も有効である。この場合には、ガイド部材としてステージ53を使用する。なお、ラミネート工程を真空オーブンなどの減圧雰囲気中で行えば、更に効率よくエアーを抜くことができ、樹脂の密着性を高め、且つ適切な気密空間Sを形成することができる。また、ラミネート工程を窒素等の不活性ガス雰囲気中にて行えば、SAWデバイスの経年変化を防止し、特性を経時的に向上することができる。
【0034】
次に、本発明に係る第二の実施例について説明する。図7は第二の実施例に係るSAWデバイスのSAWチップ15を実装基板母材40にフリップチップ実装し、樹脂をラミネート、プレス成形、後硬化した後の断面図である。本実施例の特徴は、第一の実施例で説明したSAWチップ15と実装基板母材40との間の気密空間Sの外周に設けた枠体20上に、積層するように第二の枠体21を形成したことである。ここで、前記第二の枠体21は以下の全ての条件を満たすように設置する。
(a)第一の枠体20と第二の枠体21の高さの和をSAWチップ15の上面の高さよりも低く設定すること。
(b)第二の枠体21の各辺の幅はダイシング切り代Dの幅よりも大きくすること。
(c) 第二の枠体21はダイシング切り代Dを覆うように実装基板母材40上面に設けること。
(d)第二の枠体21の各辺の幅は第一の枠体20の各辺の幅よりも小さくすること。
このように、第一の枠体上に第二の枠体を設けることにより、第一の実施例と比較して、ラミネート工程時にボイドが発生してもダイシング切り代に到達しにくくなり、また、樹脂も気密空間Sに浸入しにくくなるので、より確実に気密空間を保持した高品質なSAWデバイスを提供できる。
【0035】
【発明の効果】
以上、説明したように本発明によれば、実装基板母材上にSAWチップをフリップチップ実装して、樹脂をラミネートしたSAWデバイス及びその製造方法において、気密空間の外周に沿って枠体を設けたので、実装基板母材上に実装されたSAWチップの箇所に関わらず、ラミネート工程時におけるボイド発生を防止でき、また、気密空間内に樹脂が入り込むのを防止できるので、確実に気密空間を形成することができ、高品質なSAWデバイスを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一の実施例に係るSAWデバイスの実装基板母材上にSAWチップをフリップチップ実装する工程を示す図であり、(a)は平面図、(b)は断面図である。
【図2】本発明の第一の実施例に係るSAWデバイスのSAWチップ上に樹脂シートを載置した状態を示す図である。
【図3】本発明の第一の実施例に係るSAWデバイスの樹脂シートをSAWチップ上にラミネートする工程を示す図であり、(a)はラミネート工程時の状態、(b)はラミネート後の状態を示す。
【図4】本発明の第一の実施例に係るSAWデバイスのプレス成形する工程を示す図であり、(a)はプレス装置にSAWデバイスを設置した状態、(b)はプレスした時の状態を示す。
【図5】本発明の第一の実施例に係るSAWデバイスの(a)は後硬化工程の状態、(b)はダイシング後の状態を示す。
【図6】本発明に係るブレードを用いたラミネート工程を示す。
【図7】本発明の第二の実施例に係るSAWデバイスの樹脂封止後の断面図を示す。
【図8】従来のSAWデバイスの実装基板母材上にSAWチップをフリップチップ実装する工程を示す断面図である。
【図9】従来のSAWデバイスのSAWチップ上に樹脂シートを載置した状態を示す図である。
【図10】従来のSAWデバイスの樹脂シートをSAWチップ上にラミネートする工程を示す図である。
【図11】従来のSAWデバイスの後硬化工程後の状態を示す。
【図12】従来のSAWデバイスの完成品の状態を示す。
【図13】従来のSAWデバイスの欠陥品の状態を示す。
【図14】第一の先行技術であるSAWデバイスの断面図を示す。
【図15】第二の先行技術であるSAWデバイスの断面図を示す。
【符号の説明】
1:SAWデバイス、2:実装基板、3:絶縁基板、4:外部電極、5:配線パターン、6:内部導体、10:導体バンプ、15:SAWチップ、16:接続パッド、17:IDT、18:圧電基板、20:枠体(第一の枠体)、21、第二の枠体、30:樹脂シート、31:樹脂シート本体、32:保護フィルム、40:実装基板母材、51:押圧ローラ、52:支持ローラ、55:ブレード、60:プレス成形装置、61:金属型、62:スペーサ、63:押えフレーム、64:金属板(加圧部材)、70:プレス機、71:上型、72:下型、
Claims (8)
- 複数の実装基板を複数個シート状に連結した実装基板母材のダイシング切り代に沿って該ダイシング切り代を覆うように枠体を形成する枠形成工程と、
弾性表面波チップを前記実装基板母材に導体バンプを用いてフリップチップ実装する工程と、
前記実装基板母材に実装した弾性表面波チップの上面に樹脂シートを載置する工程と、
実装基板の一端から他端に向けて前記樹脂シートを軟化又は溶融させながら加圧することにより前記弾性表面波チップの外面を樹脂にて覆うラミネート工程と、
ラミネートした前記樹脂を加圧しながら加熱硬化させるプレス成形工程と、
前記ダイシング切り代に沿って前記弾性表面波チップを個片に切り分ける切断工程とを備え、
前記枠体形成工程において、前記枠体が弾性表面波チップの周縁部と重複し、且つ、フリップチップ実装した弾性表面波チップと実装基板母材との間隙よりも薄い厚みを有するように形成することを特徴とする弾性表面波デバイスの製造方法。 - 前記枠体形成工程において、前記枠体(第一の枠体)の上面に第二の枠体を積層し、該第二の枠体は各辺の幅は第一の枠体よりも小さく、且つ、第一の枠体と第二の枠体とを合わせた厚みが前記弾性表面波チップの上面よりも低くなるように形成することを特徴とする請求項1に記載の弾性表面波デバイスの製造方法。
- 前記ラミネート工程は、前記樹脂シートに圧接しながら回転する所定温度に加熱した押圧ローラと前記実装基板母材下面に添設したガイド部材との間で実装基板母材及び弾性表面波チップを加圧する熱ローララミネート工程からなり、前記熱ローララミネート工程は、押圧ローラの加熱温度を樹脂シートの軟化温度又は溶融温度以上、且つ硬化温度未満に設定し、前記押圧ローラによって前記樹脂シート上面を加熱しながら加圧することにより軟化又は溶融させ、軟化又は溶融した樹脂シートを押圧ローラにて加熱しながら加圧することによって気密空間を確保しながら弾性表面波チップを樹脂にて被覆することを特徴とする請求項1又は2に記載の弾性表面波デバイスの製造方法。
- 前記ラミネート工程は、前記樹脂シート上面に先端で圧接しながら一方向へ移動する所定温度に加熱したブレードと、前記実装基板母材下面に添設したガイド部材との間で実装基板母材及び弾性表面波チップを加圧するブレードラミネート工程からなり、前記ブレードラミネート工程は、ブレードの加熱温度を樹脂シートの軟化温度又は溶融温度以上、且つ硬化温度未満に設定し、ブレードによって樹脂シートの上面を加熱しながら加圧することにより軟化又は溶融させ、軟化又は溶融した樹脂シートをブレードにて加熱しながら加圧することによって気密空間を確保しながら弾性表面波チップを樹脂にて被覆することを特徴とする請求項1又は2に記載の弾性表面波デバイスの製造方法。
- 前記ラミネート工程は、減圧雰囲気にて実施することを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の弾性表面波デバイスの製造方法。
- 前記ラミネート工程は、不活性ガス雰囲気中にて実施することを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の弾性表面波デバイスの製造方法。
- 前記プレス成形工程は、前記実装基板母材の下面側に接する第一のプレート治具と前記実装基板母材上面の樹脂シートに接する第二のプレート治具との間に前記実装基板母材を挟んだ状態で加圧しながら加熱硬化するものであって、
前記第二のプレート治具の下面には、前記樹脂シート周縁部を前記実装基板母材上面に押さえつけるための押さえフレームが形成されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の弾性表面波デバイスの製造方法。 - 前記プレス成形工程は、前記第一のプレート治具の上面には、前記第二のプレート治具の下面と当接して両者の間隙を制限するためのスペーサ部材が形成されていることを特徴とする請求項7に記載の弾性表面波デバイスの製造方法。
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