JP3909292B2 - 磁気抵抗メモリセルに書き込む方法および本方法によって書き込まれ売る磁器抵抗性メモリ - Google Patents
磁気抵抗メモリセルに書き込む方法および本方法によって書き込まれ売る磁器抵抗性メモリ Download PDFInfo
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Description
本発明の目的は、老化現象を回避し、従って、MRAMメモリの耐用寿命を延長し、従来の半選択法と比較して、より確実にスイッチングするMRAMメモリの磁気抵抗メモリセルに書き込む方法を可能にし、かつ、さらに、本発明による方法によって書き込まれ得るMRAMメモリを規定することである。
WL ワード線
ML−free 自由磁性層(軟磁性層)
ML−fixed 固定磁性層(硬磁性層)
TL トンネル層(トンネル酸化物)
MTJ 磁気トンネル接続(磁気抵抗メモリセル)
IBL ビット線BLを流れる電流
IWL ワード線WLを流れる電流
Hx x方向の磁界成分
Hy y方向の磁界成分
a−h 磁化方向の回転中の連続的ステップ
a’−h’ 磁化方向の回転中の連続的ステップ
Claims (5)
- MRAMメモリの複数の磁気抵抗メモリセル(MTJ)に書き込む方法であって、
該複数の磁気抵抗メモリセルのそれぞれは、硬磁性層(MLfixed)、トンネル酸化物(TL)および軟磁性層(MLfree)のスタックを含み、書き込み電流(I WL 、I BL )のそれぞれは、公知の「半選択」方法でワード線(WL)およびビット線(BL)に印加され、
対応するワード線およびビット線(WL、BL)によって選択された各磁気抵抗メモリセル(MTJ)における書き込み電流(I WL 、I BL )のそれぞれによって生成された磁界成分(H x (I BL )、H y (I WL ))の重ね合わせが、硬磁性層(MLfixed)の磁化方向に対して軟磁性層(MLfree)の磁化方向を切り替えるほどに十分に大きいが、隣接するセルおよび該選択された線上に位置するセルが切り替えられないほどに十分に小さいように、磁界が正確に選択され、
該「半選択」方法において生じる該選択された磁気抵抗メモリセル(MTJ)の軟磁性層(MLfree)の切り替えが、論理値「0」または「1」を書き込むために所望される方向に、複数の連続的ステップで180度回転するように、磁界成分(H x (I BL )、H y (I WL ))、または、該ワード線および該ビット線に電流を印加する時間が、互いに時間的にオフセットされる、方法。 - 第1の回転ステップにおいて、書き込み電流(I WL )のみがワード線(WL)に流れる限り、軟磁性層(MLfree)の磁化方向は、元の磁化方向に対して0度〜90度の角度で回転され、
第2の回転ステップにおいて、書き込み電流(I WL )および書き込み電流(I BL )が、ワード線(WL)およびビット線(BL)に同時に流れる場合には、軟磁性層(MLfree)の磁化方向は、元の磁化方向に対して90度〜180度の角度で回転され、
第3の回転ステップにおいて、書き込み電流(I BL )のみがビット線(BL)に流れる場合には、軟磁性層(MLfree)の磁化方向は、軟磁性層(MLfree)の磁化方向が元の磁化方向に対して180度の角度だけ異なる所望の最終状態にさらに回転される、請求項1に記載の方法。 - 前記選択された磁気抵抗メモリセル(MTJ)に対する書き込み電流(I WL 、I BL )のそれぞれは、ほぼ同じパルス持続時間で、該パルス持続時間の半分だけ互いに時間的にオフセットされた態様で印加される、請求項1または2に記載の方法。
- アレイを有するMRAMメモリ構成であって、
該アレイは、複数の磁気抵抗メモリセル(MTJ)と、複数のワード線(WL)と、複数のビット線(BL)とを含み、該複数の磁気抵抗メモリセルのそれぞれは、硬磁性層(MLfixed)、トンネル酸化物(TL)および軟磁性層(MLfree)のスタックを含み、公知の「半選択」方法において書き込みのために選択された磁気抵抗メモリセル(MTJ)のワード線(WL)およびビット線(BL)に書き込み電流(I WL およびI BL )をそれぞれ印加するように、書き込み制御回路が設けられており、
該書き込み制御回路は、対応するワード線およびビット線(WL、BL)によって選択された各磁気抵抗メモリセル(MTJ)における書き込み電流(I WL 、I BL )によって生成された磁界成分(H x (I BL )、H y (I WL ))の重ね合わせが、硬磁性層(MLfixed)の磁化方向に対して軟磁性層(MLfree)の磁化方向を切り替えるには十分であるが、隣接するセルおよび該選択された線上に位置するセルを切り替えるには至らないように、該書き込み電流を正確に生成し、
該書き込み制御回路は、回路手段を有し、該回路手段により、該「半選択」方法において生じる該選択された磁気抵抗メモリセル(MTJ)の軟磁性層(MLfree)の磁化の切り替えが、論理値「0」または「1」を書き込むために所望される方向に、複数の連続的ステップで180度回転するように、磁界成分(H x (I BL )、H y (I WL ))、または、該ワード線および該ビット線に電流(I WL 、I BL )を印加する時間が、互いに時間的にオフセットされる、MRAMメモリ構成。 - 前記書き込み制御回路の回路手段は、
第1のステップにおいて、元の磁化方向に対して0度〜90度の角度で軟磁性層(MLfree)の磁化方向を回転させるように、書き込み電流(I WL )のみをワード線(WL)に印加し、
第2のステップにおいて、元の磁化方向に対して90度〜180度の角度で軟磁性層(MLfree)の磁化方向を回転させるように、書き込み電流(I WL )および書き込み電流(I BL )の両方をワード線(WL)およびビット線(BL)に同時に印加し、
第3の回転ステップにおいて、論理値「0」または「1」に対応し、かつ、軟磁性層(MLfree)の磁化方向が元の磁化方向に対して180度の角度だけ異なる所望の最終状態に、軟磁性層(MLFree)の磁化方向さらに回転させるように、ワード線(WL)の書き込み電流(I WL )をスイッチオフし、書き込み電流(I BL )をビット線(BL)に流させるのみである、請求項4に記載のMRAMメモリ構成。
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