JP3897278B2 - フレキシブル配線基板の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明はフレキシブル配線基板の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
例えば液晶表示装置には、一例として、図32に示すようなものがある。この液晶表示装置は、液晶表示パネル101がフレキシブル配線基板111を介して回路基板121に接続された構造となっている。このうち液晶表示パネル101は、2枚のガラス基板102、103がほぼ方形枠状のシール材(図示せず)を介して貼り合わされ、シール材の内側における両ガラス基板102、103間に液晶(図示せず)が封入された構造となっている。この場合、下側のガラス基板102の右辺部は上側のガラス基板103から突出され、この突出部の上面には接続端子104が設けられている。
【0003】
フレキシブル配線基板111はフィルム基板112を備えている。フィルム基板112の一の面のほぼ右半分には出力配線113が設けられ、その左側には上側の入力配線114が設けられている。フィルム基板111の他の面の左側には下側の入力配線115が設けられている。両入力配線114、115の相対応する所定の部分は、その間に介在されたフィルム基板112等にメッキ処理により形成されたスルーホール導通部116を介して導電接続されている。
【0004】
フレキシブル配線基板111の一の面のほぼ中央部にはLSI等からなる半導体チップ131が搭載されている。すなわち、半導体チップ131は、その下面右側に設けられた出力用の突起電極132が出力配線113の一端部に接合され、下面左側に設けられた入力用の突起電極133が上側の入力配線114の一端部に接合されていることにより、フレキシブル配線基板111の一の面のほぼ中央部に搭載されている。この場合、半導体チップ131の下面とフレキシブル配線基板111の上面との間には封止樹脂層134が設けられている。
【0005】
そして、フレキシブル配線基板111の出力配線113の設けられた部分がほぼU字状に折り曲げられ、出力配線113の他端部の部分が液晶表示パネル111の接続端子104の部分に異方性導電接着剤135を介して接合され、下側の入力配線115の一端部の部分が回路基板121の上面の所定の箇所に設けられた配線122の一端部に異方性導電接着剤136を介して接合されている。
【0006】
また、従来の技術として、BGA(ball grid array)と呼ばれる半導体装置では、一例として、図33に示すように、下面側に半田ボール145を有するフレキシブル配線基板141の上面にLSI等からなる半導体チップ151が搭載された構造となっている。このうちフレキシブル配線基板141はフィルム基板142を備えている。フィルム基板142の上面には配線143が設けられている。配線143の所定の部分に対応するフィルム基板142には貫通孔144が設けられている。貫通孔144内およびその下側には半田ボール145が設けられている。
【0007】
半導体チップ151は、フレキシブル配線基板141の上面の所定の箇所に異方性導電接着剤161を介して搭載されている。すなわち、半導体チップ151の下面周辺部に設けられた突起電極152はフレキシブル配線基板141の配線143の先端のパッド部上面に異方性導電接着剤161の導電性粒子162を介して導電接続されている。また、半導体チップ151の下面はフレキシブル配線基板141の上面の所定の箇所に異方性導電接着剤161の絶縁性接着剤162を介して接着されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、図32に示すフレキシブル配線基板111では、スルーホール導通部116をメッキ処理により形成しているので、メッキ処理に時間がかかり、またメッキ廃液の処理に伴う環境上の問題があり、ひいてはコスト高となってしまうという問題があった。
また、図32および図33に示す半導体チップ131、151では、突起電極132、133、152をメッキ処理により形成しているので、上記の場合と同様の問題がある上、突起電極132、133、152をフォトリソグラフィ法により形成しているので、工程が長くなり、より一層コスト高となってしまうという問題があった。
また、図32および図33に示す異方性導電接着剤135、136、161では、代表として図33に示すように、絶縁性接着剤163中に非常に微小な導電性粒子162を分散させたものであるので、所定の粒径の導電性粒子162が非常に高価であり、コスト高となってしまう上、導電性粒子162を介しての導電接続が基本的には点接触であるので、接続抵抗が高くなってしまうという問題があった。
さらに、図33に示すフレキシブル配線基板141では、半田ボール145を形成する場合、各貫通孔144内の配線143の下面(実際は、図33に示すものの上下面を反転させた状態で行うが、図33に示す状態で説明する。)にフラックスを塗布し、各貫通孔144内に所定の粒径の半田ボールを配置し、半田ボールの融点以上の温度にてリフローし、洗浄によりフラックスを除去しており、工程が長い上、所定の粒径の半田ボールが非常に高価であり、コスト高となってしまうという問題があった。
この発明の課題は、フレキシブル配線基板のスルーホール導通部を環境上の問題を伴うことなく短い工程で且つ低コストで形成することである。
この発明の他の課題は、半導体チップへの突起電極の形成を不要とするために、フレキシブル配線基板に柱状電極を環境上の問題を伴うことなく短い工程で且つ低コストで形成することである。
この発明のさらに他の課題は、フレキシブル配線基板と半導体チップ等の電子部品とを低コストで接合し且つその接続抵抗を低くすることである。
この発明のさらに他の課題は、フレキシブル配線基板に半田ボール等からなる低融点金属ボールを短い工程で且つ低コストで形成することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明に係るフレキシブル配線基板の製造方法は、少なくとも一方の面に導電層が形成されたフィルム基板の前記導電層を含む領域、前記フィルム基板の一の面に粘着剤層を介してまたは介さずに積層される剥離層および前記フィルム基板の他の面に積層される柱状電極形成用導電層の各複数の箇所に1回の打ち抜きにより複数の貫通孔を形成し、且つ、前記柱状電極形成用導電層からの打ち抜き片からなる柱状電極を前記導電層を含む前記フィルム基板および該フィルム基板の一の面に積層された前記剥離層の貫通孔内に埋め込む工程と、前記柱状電極形成用導電層を取り除く工程と、前記剥離層を剥離する工程とを有することを特徴とするものである。
請求項2に記載の発明に係るフレキシブル配線基板の製造方法は、請求項1に記載の発明において、前記柱状電極形成用導電層を取り除いた後に前記導電層を含む前記フィルム基板および前記剥離層の貫通孔内に埋め込まれた前記柱状電極の上下面を加圧して整面することを特徴とするものである。
請求項3に記載の発明に係るフレキシブル配線基板の製造方法は、請求項1または2に記載の発明において、前記柱状電極形成用導電層の厚さは、前記導電層を含む前記フィルム基板および前記剥離層の合計厚さと同じかそれよりも厚くなっていることを特徴とするものである。
請求項4に記載の発明に係るフレキシブル配線基板の製造方法は、請求項1に記載の発明において、前記柱状電極形成用導電層は低融点金属からなり、前記柱状電極形成用導電層を取り除いた後に、前記フィルム基板の一の面に形成された前記導電層からなる配線に電子部品の接続端子または該接続端子上に形成された突起電極を接合し、前記剥離層を剥離して前記柱状電極の一部を前記フィルム基板の他の面側に突出させ、前記柱状電極の前記フィルム基板の他の面側に突出された突出部を熱処理によりボール状部とすることを特徴とするものである。
請求項5に記載の発明に係るフレキシブル配線基板の製造方法は、請求項4に記載の発明において、前記柱状電極形成用導電層を取り除いた後であって前記電子部品を接合する前に、前記柱状電極の上下面を加圧して整面することを特徴とするものである。
請求項6に記載の発明に係るフレキシブル配線基板の製造方法は、請求項4または5に記載の発明において、前記接合工程は、前記導電層からなる配線を含む前記フィルム基板の一の面に熱硬化性樹脂層を形成し、その上に前記電子部品を載置し、所定の温度と圧力を加えて行うことを特徴とするものである。
請求項7に記載の発明に係るフレキシブル配線基板の製造方法は、請求項4〜6のいずれかに記載の発明において、前記電子部品は半導体チップであることを特徴とするものである。
請求項8に記載の発明に係るフレキシブル配線基板の製造方法は、少なくとも一方の面に導電層が形成されたフィルム基板の前記導電層を含む領域、前記フィルム基板の一の面に粘着剤層を介してまたは介さずに積層される第1の剥離層、前記フィルム基板の他の面に粘着剤層を介してまたは介さずに積層される第2の剥離層および該第2の剥離層上に積層される柱状電極形成用導電層の各複数の箇所に1回の打ち抜きにより複数の貫通孔を形成し、且つ、前記柱状電極形成用導電層からの打ち抜き片からなる柱状電極を前記第2の剥離層、前記導電層を含む前記フィルム基板および前記第1の剥離層の貫通孔内に埋め込む工程と、前記柱状電極形成用導電層を取り除いた後に前記第2の剥離層、前記導電層を含む前記フィルム基板および前記第1の剥離層の貫通孔内に埋め込まれた前記柱状電極の上下面を加圧して整面する工程と、前記両剥離層を剥離する工程とを有することを特徴とするものである。
請求項9に記載の発明に係るフレキシブル配線基板の製造方法は、請求項8に記載の発明において、前記柱状電極形成用導電層の厚さは、前記導電層を含む前記フィルム基板および前記両剥離層の合計厚さと同じかそれよりも厚くなっていることを特徴とするものである。
請求項10に記載の発明に係るフレキシブル配線基板の製造方法は、請求項8または9に記載の発明において、前記第1の剥離層の厚さと前記第2の剥離層の厚さとは同じであることを特徴とするものである。
請求項11に記載の発明に係るフレキシブル配線基板の製造方法は、請求項8または9に記載の発明において、前記第1の剥離層の厚さと前記第2の剥離層の厚さとは異なることを特徴とするものである。
請求項12に記載の発明に係るフレキシブル配線基板の製造方法は、請求項1〜11のいずれかに記載の発明において、前記フィルム基板をそのいずれか一方の面に形成された前記導電層と共に打ち抜くことを特徴とするものである。
請求項13に記載の発明に係るフレキシブル配線基板の製造方法は、請求項1〜3および8〜11のいずれかに記載の発明において、前記フィルム基板をその両面に形成された前記導電層と共に打ち抜くことを特徴とするものである。
請求項14に記載の発明に係るフレキシブル配線基板の製造方法は、請求項13に記載の発明において、前記両導電層の相対応する所定の部分およびその間の前記フィルム基板に前記1回の打ち抜きにより前記貫通孔とは別の貫通孔を形成するとともに、前記両導電層の前記別の貫通孔形成領域に対応する部分上に積層されたスルーホール導通部形成用導電層からの打ち抜き片からなる柱状のスルーホール導通部を前記別の貫通孔内に埋め込むことを特徴とするものである。
請求項15に記載の発明に係るフレキシブル配線基板の製造方法は、請求項14に記載の発明において、前記スルーホール導通部形成用導電層の厚さは、前記フィルム基板および前記両導電層の合計厚さとほぼ同じかそれよりも厚くなっていることを特徴とするものである。
そして、この発明によれば、柱状電極形成用導電層からの打ち抜き片からなる柱状電極をフィルム基板および該フィルム基板の両面に形成された両配線の貫通孔内に埋め込むと、両配線を柱状電極を介して導電接続することができ、すなわち、柱状電極形成用導電層からの打ち抜き片からなる柱状電極にスルーホール導通部を兼用させることができ、この結果、メッキ処理によりスルーホール導通部を形成する場合と比較して、スルーホール導通部を環境上の問題を伴うことなく短い工程で且つ低コストで形成することができる。
また、この発明によれば、柱状電極形成用導電層からの打ち抜き片からなる柱状電極を導電層を含むフィルム基板および剥離層の貫通孔内に埋め込み、剥離層を剥離して柱状電極の一部をフィルム基板から突出させると、半導体チップへの突起電極の形成を不要とすることができる上、メッキ処理により柱状電極を形成する場合と比較して、フレキシブル配線基板に柱状電極を環境上の問題を伴うことなく短い工程で且つ低コストで形成することができる。この場合、導電層を含むフィルム基板および剥離層の貫通孔内に埋め込まれた柱状電極の上下面を加圧して整面しているのは、柱状電極の上下面を平坦にするとともに、柱状電極のフィルム基板から突出された突出部の高さを均一にするためである。
また、この発明によれば、フレキシブル配線基板の柱状電極の突出端面に半導体チップ等の電子部品の接続端子または該接続端子上に形成された突起電極を接合すると、当該接合が面接触であるので、接続抵抗を低くすることができ、また高価な異方性導電接着剤を用いていないので、コストを低減することができる。
さらに、この発明によれば、低融点金属からなる柱状電極形成用導電層からの打ち抜き片からなる柱状電極のフィルム基板から突出された突出部を熱処理によりボール状部とすると、従来の半田ボールを用いる場合と比較して、フレキシブル配線基板に半田ボール等からなる低融点金属ボールを短い工程で且つ低コストで形成することができる。
【0010】
【発明の実施の形態】
(第1実施形態)
図1はこの発明の第1実施形態としてのフレキシブル配線基板の接合構造の要部の断面図を示したものである。このフレキシブル配線基板の接合構造では、両面配線構造のフレキシブル配線基板1の上面にLSI等からなる半導体チップ11が搭載された構造となっている。このうちフレキシブル配線基板1はフィルム基板2を備えている。フィルム基板2の上面および下面には配線3、4が設けられている。両配線3、4の相対応する所定の部分およびその間に介在されたフィルム基板2には貫通孔5が設けられている。貫通孔5内には柱状電極6の下部が埋め込まれ、柱状電極6の上部はフィルム基板2の上面側に突出されている(以下、この突出部を突出部6aという。)。柱状電極6の下部は両配線3、4の貫通孔5の内壁面に密接されて両配線3、4と導電接続されている。したがって、柱状電極6は両配線3、4を導電接続するためのスルーホール導通部を兼ねている。柱状電極6は、複数であって、後述する半導体チップ11の複数の接続パッド13にそれぞれ対応する位置に配置されている。
【0011】
半導体チップ11はシリコン基板等からなる半導体基板12を備えている。半導体基板12の下面周辺部には複数の接続パッド(接続端子)13が設けられている。接続パッド13の周辺部を含む半導体基板12の下面全体には絶縁膜14が設けられ、接続パッド13の中央部は絶縁膜14に形成された開口部15を介して露出されている。そして、半導体チップ11は、接続パッド13の露出面がフレキシブル配線基板1の柱状電極6の上面に接合された状態で、絶縁膜14の下面がフレキシブル配線基板1の上面の所定の箇所に熱硬化性樹脂層16を介して接着されていることにより、フレキシブル配線基板1の上面の所定の箇所に搭載されている。
【0012】
次に、このフレキシブル配線基板の接合構造の製造方法の一例について説明する。まず、図2に示すように、ポリイミド、アラミド、液晶ポリマー等からなるフィルム基板2の上面および下面に銅箔等からなる配線形成用導電層21、22が積層されたものを用意し、また半田、銅等からなる柱状電極形成用導電層23およびPET(ポリエチレンテレフタレート)等からなる剥離層24を用意する。このうち剥離層24は、作業性の向上を図るため、その上面に塗布されたアクリル系微粘着剤層(図示せず)を介して下側の配線形成用導電層22の下面に貼り付けられている。
【0013】
ここで、上記各材料の厚さの一例について説明する。フィルム基板2の厚さは25μm、配線形成用導電層21、22の厚さは12μm、剥離層24の厚さは50μm、アクリル系微粘着剤層の厚さは7μmである。柱状電極形成用導電層23の厚さは、フィルム基板2、配線形成用導電層21、22、剥離層24およびアクリル系微粘着剤層の合計厚さ106μmとほぼ同じかそれよりもやや例えば1〜10μm程度厚くなっている(以下、やや厚い場合について説明し、必要に応じてほぼ同じ場合について説明する。)。この場合、剥離層24の厚さは、図1に示す柱状電極6の突出部6aの高さに対応するものである。したがって、剥離層24の厚さを50μmよりもさらに厚くし、且つ、これに対応して柱状電極形成用導電層23の厚さもさらに厚くすると、図1に示す柱状電極6の突出部6aの高さをさらに高くすることができる。
【0014】
一方、この場合の製造方法では、図2に示すように、打ち抜き用の上金型25および下金型27を用いる。上金型25の下面および下金型27には、図1に示す柱状電極6に対応する位置に突起26および貫通孔28が設けられている。この場合、上金型25の突起26の高さは柱状電極形成用導電層23の厚さとほぼ同じであるが、それよりもやや高くなるようにしてもよい。したがって、図1に示す柱状電極6の突出部6aの高さをさらに高くする場合には、それに応じて柱状電極形成用導電層23の厚さもさらに厚くなるので、上金型25としてその突起26の高さがさらに高いものを用いることになる。
【0015】
さて、図1に示すフレキシブル配線基板の接合構造を製造する場合には、まず、図2に示すように、両配線形成用導電層21、22を有するフィルム基板2および剥離層24等を剥離層24を下側にして下金型27の上面に載置し、上側の配線形成用導電層21の上面に柱状電極形成用導電層23を載置する。次に、上金型25を下降させる。すると、図3に示すように、上金型25の突起26により柱状電極形成用導電層23が打ち抜かれ、その打ち抜き片からなる柱状電極6により上側の配線形成用導電層21、フィルム基板2、下側の配線形成用導電層22および剥離層24等が打ち抜かれ、それらの打ち抜き片29が下金型27の貫通孔28から排出される。これにより、上側の配線形成用導電層21、フィルム基板2、下側の配線形成用導電層22および剥離層24等に貫通孔5が形成され、且つ、当該貫通孔5内に柱状電極6が埋め込まれる。
【0016】
この状態では、上金型25の突起26の高さが柱状電極形成用導電層23の厚さとほぼ同じであるので、突起26の下面が上側の配線形成用導電層21の上面とほぼ同一面となり、柱状電極6の上面が上側の配線形成用導電層21の上面とほぼ同一面となる。また、柱状電極形成用導電層23の厚さが、フィルム基板2、配線形成用導電層21、22および剥離層24等の合計厚さよりもやや厚いので、柱状電極6の下部が剥離層24の下面側にやや突出される。一方、上金型25の突起26の高さが柱状電極形成用導電層23の厚さよりもやや高い場合には、突起26の下面が上側の配線形成用導電層21の貫通孔5内にやや入り込み、柱状電極6の上面が上側の配線形成用導電層21の上面よりもやや低くなり、柱状電極6の下部の剥離層24の下面側への突出量がやや大きくなる。
【0017】
また、この状態では、柱状電極形成用導電層23の打ち抜き片からなる柱状電極6により上側の配線形成用導電層21、フィルム基板2、下側の配線形成用導電層22および剥離層24等を打ち抜いているので、柱状電極6の下面は適宜に圧力を受け、当該下面の表面粗さにバラツキが生じ、また当該下面側がつぶれることにより柱状電極6の全体の高さにバラツキが生じる。
【0018】
次に、上金型25を上昇させ、柱状電極形成用導電層23を取り出し、また柱状電極6を含むフィルム基板2および剥離層24等を取り出す。柱状電極形成用導電層23は、ここで用済みとなる。次に、図4に示すように、柱状電極6を含むフィルム基板2および剥離層24等を剥離層24を下側にして下加圧板31の上面に載置し、上加圧板32を下降させて加圧する。すると、柱状電極6の剥離層24の下面から突出された部分が適宜につぶされ、その下面が整面化されて平坦となる。また、このとき、柱状電極6の上面が上側の配線形成用導電層21の上面とほぼ同一面であっても、上側の配線形成用導電層21の上面よりもやや低くなっていても、フィルム基板2および剥離層24等が適宜に且つ均等に押しつぶされることにより、柱状電極6の上面も整面化されて平坦となる。そして、柱状電極6の上下面が整面化されると、柱状電極6の全体の高さが均一になる。また、柱状電極6が高さ方向に対して直交する方向への膨出力を受けて膨出することにより、特に、柱状電極6の上部が両配線形成用導電層21、22の貫通孔5の内壁面により一層強く密接される。この場合、特に、剥離層24は、上下面を整面化される柱状電極6の座屈乃至曲がりを防止するように機能する。
【0019】
ここで、柱状電極形成用導電層23の厚さが、フィルム基板2、配線形成用導電層21、22および剥離層24等の合計厚さとほぼ同じである場合には、上加圧板32による加圧力をより強くすると、フィルム基板2および剥離層24等がより大きく且つ均等に押しつぶされることにより、柱状電極6の上下面が整面化されるとともに、柱状電極6の高さが均一化される。
【0020】
次に、上加圧板32を上昇させ、下加圧板31上に載置されたものの上下面を反転し、剥離層24をアクリル系微粘着剤層と共に剥離すると、図5に示すように、フィルム基板2および両配線形成用導電層21、22に形成された貫通孔5内に下部を埋め込まれた柱状電極6の上部がフィルム基板2の上面側に突出される。次に、両配線形成用導電層21、22をパターニングすると、図6に示すように、両配線3、4が形成される。この後、必要に応じて、図示していないが、柱状電極6および両配線3、4の表面に無電解メッキにより錫、銅、ニッケル、金等からなるメッキ層を形成する。かくして、柱状電極6を備えたフレキシブル配線基板1が得られる。
【0021】
次に、図7に示すように、柱状電極6を除くフィルム基板2の上面の所定の箇所にポッティング等によりエポキシ系樹脂やポリウレタン系樹脂等からなる熱硬化性樹脂層16を形成し、次いで熱硬化性樹脂層16の硬化温度よりも低い温度と圧力を加えて仮圧着する。この場合、エポキシ系樹脂やポリウレタン系樹脂等からなる熱硬化性樹脂シートを用いてもよい。そして、この状態では、柱状電極6の上面は熱硬化性樹脂層16の上面とほぼ同一面となっている。
【0022】
次に、図1に示すように、半導体チップ11の接続パッド13の露出面をフレキシブル配線基板1の柱状電極6の上面上に位置させた状態で、所定の温度と圧力を加えて本圧着を行うことにより、半導体チップ11の接続パッド13の露出面をフレキシブル配線基板1の柱状電極6の上面に接合するとともに、半導体チップ11の絶縁膜14の下面をフレキシブル配線基板1の上面の所定の箇所に熱硬化性樹脂層16を介して接着し、半導体チップ11をフレキシブル配線基板1の上面の所定の箇所に搭載する。かくして、図1に示すフレキシブル配線基板の接合構造が得られる。
【0023】
このようにして得られたフレキシブル配線基板の接合構造では、半田、銅等からなる柱状電極形成用導電層23からの打ち抜き片からなる柱状電極6をフィルム基板2および該フィルム基板2の両面に形成された両配線3、4の貫通孔5内に埋め込んでいるので、上述の如く、両配線3、4を柱状電極6を介して導電接続することができ、柱状電極形成用導電層23からの打ち抜き片からなる柱状電極6にスルーホール導通部を兼用させることができる。この結果、メッキ処理によりスルーホール導通部を形成する場合と比較して、フレキシブル配線基板1のスルーホール導通部を環境上の問題を伴うことなく短い工程で且つ低コストで形成することができる。
【0024】
また、図3に示すように、柱状電極形成用導電層23からの打ち抜き片からなる柱状電極6を上側の配線形成用導電層21、フィルム基板2、下側の配線形成用導電層22および剥離層24等の貫通孔6内に埋め込み、剥離層24を剥離して、図5に示すように、柱状電極6の上部をフィルム基板2の上面側に突出させているので、メッキ処理により柱状電極を形成する場合と比較して、フレキシブル配線基板1に柱状電極6を環境上の問題を伴うことなく短い工程で且つ低コストで形成することができる。そして、図1に示すように、半導体チップ11の接続パッド13の露出面をフレキシブル配線基板1の柱状電極6の上面に接合することにより、半導体チップ11への突起電極の形成を不要とすることができる。
【0025】
さらに、フレキシブル配線基板1の柱状電極6の上面に半導体チップ11の接続パッド13を接合しているので、当該接合が面接触となり、接続抵抗を低くすることができる。また、図33に示すような高価な異方性導電接着剤163を用いていないので、コストを低減することができる。さらに、この場合、フレキシブル配線基板1の上面の所定の箇所に熱硬化性樹脂層16を仮圧着し、その上に半導体チップ11を載置して本圧着しているので、図32に示す従来例の場合と比較して、作業時間を短縮することができる。すなわち、図32に示す従来例の場合には、半導体チップ131をフレキシブル配線基板111上に熱圧着により接合した後にポッティング等により封止樹脂層134を形成しているので、半導体チップ131とフレキシブル配線基板111との間への封止樹脂の毛細管現象による進入に時間がかかってしまう。
【0026】
(第2実施形態)
図8はこの発明の第2実施形態としてのフレキシブル配線基板の接合構造の要部の断面図を示したものである。このフレキシブル配線基板の接合構造では、両面配線構造のフレキシブル配線基板1の上面および下面にLSI等からなる半導体チップ11A、11Bが搭載された構造となっている。このうちフレキシブル配線基板1はフィルム基板2を備えている。フィルム基板2の上面および下面には配線3、4が設けられている。両配線3、4の相対応する所定の部分およびその間に介在されたフィルム基板2には貫通孔5が設けられている。貫通孔5内には柱状電極6の中央部が埋め込まれ、柱状電極6の上部および下部はフィルム基板2の上面側および下面側に突出されている(以下、これらの突出部を上側の突出部6a、下側の突出部6bという。)。柱状電極6は両配線3、4の貫通孔5の内壁面に密接されて両配線3、4と導電接続されている。したがって、柱状電極6の中央部は両配線3、4を導電接続するためのスルーホール導通部を兼ねている。柱状電極6は、複数であって、後述する半導体チップ11A、11Bの複数の接続パッド13A、13Bにそれぞれ対応する位置に配置されている。
【0027】
半導体チップ11A、11Bはシリコン基板等からなる半導体基板12A、12Bを備えている。半導体基板12A、12Bの下面および上面の周辺部には複数の接続パッド13A、13Bが設けられている。接続パッド13A、13Bの周辺部を含む半導体基板12A、12Bの下面全体および上面全体には絶縁膜14A、14Bが設けられ、接続パッド13A、13Bの中央部は絶縁膜14A、14Bに形成された開口部15A、15Bを介して露出されている。そして、半導体チップ11A、11Bは、接続パッド13A、13Bの露出面がフレキシブル配線基板1の柱状電極6の上面および下面に接合された状態で、絶縁膜14A、14Bの下面および上面がフレキシブル配線基板1の上面および下面の各所定の箇所に熱硬化性樹脂層16A、16Bを介して接着されていることにより、フレキシブル配線基板1の上面および下面の各所定の箇所に搭載されている。
【0028】
次に、このフレキシブル配線基板の接合構造の製造方法の一例について説明する。まず、図9に示すように、ポリイミド、アラミド、液晶ポリマー等からなるフィルム基板2の上面および下面に銅箔等からなる配線形成用導電層21、22が積層されたものを用意し、また、半田、銅等からなる柱状電極形成用導電層23およびPET等からなる剥離層24A、24Bを用意する。この場合、剥離層24A、24Bは、作業性の向上を図るため、その下面および上面に塗布されたアクリル系微粘着剤層(図示せず)を介して配線形成用導電層21、22の上面および下面に貼り付けられている。
【0029】
ここで、上記各材料の厚さの一例について説明する。フィルム基板2の厚さは25μm、配線形成用導電層21、22の厚さは12μm、剥離層24A、24Bの厚さは50μm、アクリル系微粘着剤層の厚さは7μmである。柱状電極形成用導電層23の厚さは、フィルム基板2、配線形成用導電層21、22、剥離層24A、24Bおよびアクリル系微粘着剤層の合計厚さ163μmとほぼ同じかそれよりもやや例えば1〜10μm程度厚くなっている(以下、やや厚い場合について説明する。)。この場合、剥離層24A、24Bの厚さは、図8に示す柱状電極6の上側の突出部6aおよび下側の突出部6bの高さに対応するものである。したがって、剥離層24A、24Bの厚さを50μmよりもさらに厚くし、且つ、これに対応して柱状電極形成用導電層23の厚さもさらに厚くすると、図8に示す柱状電極6の上側の突出部6aおよび下側の突出部6bの高さをさらに高くすることができる。
【0030】
一方、この場合の製造方法では、図9に示すように、打ち抜き用の上金型25および下金型27を用いる。上金型25の下面および下金型27には、図8に示す柱状電極6に対応する位置に突起26および貫通孔28が設けられている。この場合、上金型25の突起26の高さは柱状電極形成用導電層23の厚さとほぼ同じであるが、それよりもやや高くなるようにしてもよい。したがって、図8に示す柱状電極6の上側の突出部6aおよび下側の突出部6bの高さをさらに高くする場合には、それに応じて柱状電極形成用導電層23の厚さもさらに厚くなるので、上金型25としてその突起26の高さがさらに高いものを用いることになる。
【0031】
さて、図8に示すフレキシブル配線基板の接合構造を製造する場合には、まず、図9に示すように、両配線形成用導電層21、22を有するフィルム基板2および剥離層24A、24B等を剥離層24Bを下側にして下金型27の上面に載置し、上側の剥離層24Aの上面に柱状電極形成用導電層23を載置する。次に、上金型25を下降させる。すると、図10に示すように、上金型25の突起26により柱状電極形成用導電層23が打ち抜かれ、その打ち抜き片からなる柱状電極6により上側の剥離層24A、上側の配線形成用導電層21、フィルム基板2、下側の配線形成用導電層22および下側の剥離層24B等が打ち抜かれ、それらの打ち抜き片29が下金型27の貫通孔28から排出される。これにより、上側の剥離層24A、上側の配線形成用導電層21、フィルム基板2、下側の配線形成用導電層22および下側の剥離層24B等に貫通孔5が形成され、且つ、当該貫通孔5内には柱状電極6が埋め込まれる。
【0032】
この状態では、上金型25の突起26の高さが柱状電極形成用導電層23の厚さとほぼ同じであるので、突起26の下面が上側の剥離層24Aの上面とほぼ同一面となり、柱状電極6の上面が上側の剥離層24Aの上面とほぼ同一面となる。また、柱状電極形成用導電層23の厚さが、フィルム基板2、配線形成用導電層21、22および剥離層24A、24B等の合計厚さよりもやや厚いので、柱状電極6の下部が下側の剥離層24Bの下面側にやや突出される。
【0033】
また、この状態では、柱状電極形成用導電層23の打ち抜き片からなる柱状電極6により上側の剥離層24A、上側の配線形成用導電層21、フィルム基板2、下側の配線形成用導電層22および下側の剥離層24B等を打ち抜いているので、柱状電極6の下面は適宜に圧力を受け、当該下面の表面粗さにバラツキが生じ、また当該下面側がつぶれることにより柱状電極6の全体の高さにバラツキが生じる。
【0034】
次に、上金型25を上昇させ、柱状電極形成用導電層23を取り出し、また柱状電極6を含むフィルム基板2および剥離層24A、24B等を取り出す。柱状電極形成用導電層23は、ここで用済みとなる。次に、図11に示すように、柱状電極6を含むフィルム基板2および剥離層24A、24B等を剥離層24Bを下側にして下加圧板31の上面に載置し、上加圧板32を下降させて加圧する。すると、柱状電極6の下側の剥離層24Bの下面から突出された部分が適宜につぶされ、その下面が整面化されて平坦となる。また、このとき、フィルム基板2および剥離層24A、24B等が適宜に且つ均等に押しつぶされることにより、柱状電極6の上面も整面化されて平坦となる。そして、柱状電極6の上下面が整面化されると、柱状電極6の全体の高さが均一になる。また、柱状電極6が高さ方向に対して直交する方向への膨出力を受けて膨出することにより、特に、柱状電極6の中央部が両配線形成用導電層21、22の貫通孔5の内壁面により一層強く密接される。この場合、特に、剥離層24A、24Bは、上下面を整面化される柱状電極6の座屈乃至曲がりを防止するように機能する。
【0035】
次に、上加圧板32を上昇させ、下加圧板31上に載置されたものから剥離層24A、24Bをアクリル系微粘着剤層と共に剥離すると、図12に示すように、フィルム基板2および両配線形成用導電層21、22に形成された貫通孔5内に中央部を埋め込まれた柱状電極6の上部および下部がフィルム基板2の上面側および下面側に突出される。次に、両配線形成用導電層21、22をパターニングすると、図13に示すように、両配線3、4が形成される。この後、必要に応じて、図示していないが、柱状電極6および両配線3、4の表面に無電解メッキによりすず、銅、ニッケル、金等からなるメッキ層を形成する。かくして、柱状電極6を備えたフレキシブル配線基板1が得られる。
【0036】
次に、図14に示すように、柱状電極6を除くフィルム基板2の上面および下面の各所定の箇所にポッティング等によりエポキシ系樹脂やポリウレタン系樹脂等からなる熱硬化性樹脂層16A、16Bを形成し、次いで熱硬化性樹脂層16A、16Bの硬化温度よりも低い温度と圧力を加えて仮圧着する。この場合、エポキシ系樹脂やポリウレタン系樹脂等からなる熱硬化性樹脂シートを用いてもよい。そして、この状態では、柱状電極6の上面および下面は熱硬化性樹脂層16A、16Bの上面および下面とほぼ同一面となっている。
【0037】
次に、図8に示すように、半導体チップ11A、11Bの接続パッド13A、13Bの露出面をフレキシブル配線基板1の柱状電極6の上面上および下面上に位置させた状態で、所定の温度と圧力を加えて本圧着を行うことにより、半導体チップ11A、11Bの接続パッド13A、13Bの露出面をフレキシブル配線基板1の柱状電極6の上面および下面に接合するとともに、絶縁膜14A、14Bの下面および上面を熱硬化性樹脂層16A、16Bを介してフレキシブル配線基板1の上面および下面の各所定の箇所に接着し、半導体チップ11A、11Bをフレキシブル配線基板1の上面および下面の各所定の箇所に搭載する。かくして、図8に示すフレキシブル配線基板の接合構造が得られる。
【0038】
このようにして得られたフレキシブル配線基板の接合構造でも、上記第1実施形態の場合と同様に、フレキシブル配線基板1のスルーホール導通部を環境上の問題を伴うことなく短い工程で且つ低コストで形成することができ、またフレキシブル配線基板1に柱状電極6を環境上の問題を伴うことなく短い工程で且つ低コストで形成することができ、これにより、半導体チップ11A、11Bへの柱状電極の形成を不要とすることができ、さらにフレキシブル配線基板1の柱状電極6と半導体チップ11の接続パッド13とを低コストで接合することができるとともにその間の接続抵抗を低くすることができる。その上、この第2実施形態では、フレキシブル配線基板1の上下面に半導体チップ11A、11Bを搭載しているので、より一層の高密度化を図ることができる。
【0039】
なお、上記第2実施形態において、上側の剥離層24Aの厚さと下側の剥離層24Bの厚さとを異ならせ、柱状電極6の上側の突出部6aの高さと下側の突出部6bの高さとを異ならせるようにしてもよい。また、半導体チップ11Aの接続パッド13Aの数と半導体チップ11Bの接続パッド13Bの数とが異なる場合には、複数の柱状電極6のうち少なくとも一部をフレキシブル配線基板1の両側に突出させるようにしてもよい。
【0040】
(第3、第4実施形態)
上記第1および第2実施形態では、フレキシブル配線基板1として両面配線構造のものを用いた場合について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、図15および図16にそれぞれ示すこの発明の第3および第4実施形態のように、フレキシブル配線基板1として下面(または上面)に配線4を有する片面配線構造のものを用いるようにしてもよい。
【0041】
(第5実施形態)
例えば上記第1実施形態では、半導体チップ11として柱状電極を有しないものを用いた場合について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、図17に示すこの発明の第5実施形態のように、半導体チップ11として接続パッド13下に突起電極41を有するものを用い、半導体チップ11の突起電極41の下面をフレキシブル配線基板1の柱状電極6の上面に接合するようにしてもよい。
【0042】
(第6実施形態)
例えば上記第1実施形態では、柱状電極6にスルーホール導通部を兼ねさせた場合について説明したが、突起電極6を形成しない箇所においてスルーホール導通部を必要とする場合には、図18に示すこの発明の第6実施形態のようにしてもよい。すなわち、このフレキシブル配線基板1では、フィルム基板2の上面および下面に配線3、4が設けられ、両配線3、4の相対応する第1の所定の部分およびその間に介在されたフィルム基板2に第1の貫通孔5が設けられ、第1の貫通孔5内に柱状電極6の下部が埋め込まれ、柱状電極6の上部がフィルム基板2の上面側に突出され、両配線3、4の相対応する第2の所定の部分およびその間に介在されたフィルム基板2に第2の貫通孔42が設けられ、第2の貫通孔42内に柱状のスルーホール導通部43が埋め込まれた構造となっている。
【0043】
次に、このフレキシブル配線基板1の製造方法の一例について説明する。まず、図19に示すように、ポリイミド、アラミド、液晶ポリマー等からなるフィルム基板2の上面および下面に銅箔等からなる配線形成用導電層21、22が積層されたものを用意し、また半田、銅等からなる柱状電極形成用導電層23、スルーホール導通部形成用導電層44およびPET等からなる剥離層24を用意する。このうち剥離層24は、作業性の向上を図るため、その上面に塗布されたアクリル系微粘着剤層(図示せず)を介して下側の配線形成用導電層22の下面の柱状電極形成領域に貼り付けられている。
【0044】
ここで、上記各材料の厚さの一例について説明する。フィルム基板2の厚さは25μm、配線形成用導電層21、22の厚さは12μm、剥離層24の厚さは50μm、アクリル系微粘着剤層の厚さは7μmである。柱状電極形成用導電層23の厚さは、フィルム基板2、配線形成用導電層21、22、剥離層24およびアクリル系微粘着剤層の合計厚さ106μmとほぼ同じかそれよりもやや例えば1〜10μm程度厚くなっている(以下、やや厚い場合について説明する。)。スルーホール導通部形成用導電層44の厚さは、フィルム基板2および配線形成用導電層21、22の合計厚さ49μmとほぼ同じかそれよりもやや例えば1〜10μm程度厚くなっている(以下、やや厚い場合について説明する。)。
【0045】
一方、この場合の製造方法では、図19に示すように、打ち抜き用の上金型25および下金型27を用いる。上金型25の下面および下金型27には、図18に示す柱状電極6に対応する位置に第1の突起26および第1の貫通孔28が設けられ、図18に示すスルーホール導通部43に対応する位置に第2の突起45および第2の貫通孔46が設けられている。この場合、上金型25の第1の突起26の高さは柱状電極形成用導電層23の厚さとほぼ同じであるが、それよりもやや高くなるようにしてもよい。上金型25の第2の突起45の高さはスルーホール導通部形成用導電層44の厚さとほぼ同じであるが、それよりもやや高くなるようにしてもよい。第1の突起26の下面と第2の突起45の下面とは同一面となっている。下金型27の上面の柱状電極形成領域に対応する部分には凹部47が設けられている。凹部47の深さは、剥離層24およびアクリル系微粘着剤層の合計厚さとほぼ同じとなっている。
【0046】
さて、図18に示すフレキシブル配線基板1を製造する場合には、まず、図19に示すように、剥離層24を下金型27の凹部24内に配置して両配線形成用導電層21、22を有するフィルム基板2を下金型27の上面に載置し、上側の配線形成用導電層21の上面の柱状電極形成領域に対応する部分に柱状電極形成用導電層23を載置し、上側の配線形成用導電層21の上面のスルーホール導通部形成領域に対応する部分にスルーホール導通部形成用導電層44を載置する。
【0047】
次に、上金型25を下降させる。すると、図20に示すように、上金型25の第1の突起26により柱状電極形成用導電層23が打ち抜かれ、その打ち抜き片からなる柱状電極6により上側の配線形成用導電層21、フィルム基板2、下側の配線形成用導電層22および剥離層24等が打ち抜かれ、それらの打ち抜き片29が下金型27の貫通孔28から排出される。これにより、上側の配線形成用導電層21、フィルム基板2、下側の配線形成用導電層22および剥離層24等に第1の貫通孔5が形成され、且つ、当該貫通孔5内に柱状電極6が埋め込まれる。
【0048】
また、上金型25の第2の突起45によりスルーホール導通部形成用導電層44が打ち抜かれ、その打ち抜き片からなる柱状のスルーホール導通部43により上側の配線形成用導電層21、フィルム基板2および下側の配線形成用導電層22が打ち抜かれ、それらの打ち抜き片48が下金型27の貫通孔46から排出される。これにより、上側の配線形成用導電層21、フィルム基板2および下側の配線形成用導電層22に第2の貫通孔42が形成され、且つ、当該貫通孔42内にスルーホール導通部43が埋め込まれる。
【0049】
次に、上金型25を上昇させ、柱状電極形成用導電層23およびスルーホール導通部形成用導電層44を取り出し、また柱状電極6およびスルーホール導通部43を含むフィルム基板2および剥離層24等を取り出す。柱状電極形成用導電層23およびスルーホール導通部形成用導電層44は、ここで用済みとなる。次に、図21に示すように、剥離層24を下加圧板31の凹部49(図20に示す下金型27の凹部47と同じようなもの)内に配置して柱状電極6およびスルーホール導通部43を含むフィルム基板2を下加圧板31の上面に載置し、上加圧板32を下降させて加圧する。すると、柱状電極6の上下面が整面化されるとともに、柱状電極6の高さが均一化される。また、スルーホール導通部43の上下面が整面化されるとともに、スルーホール導通部43の高さが均一化される。
【0050】
次に、上加圧板32を上昇させ、下加圧板31上に載置されたものの上下面を反転し、剥離層24をアクリル系微粘着剤層と共に剥離すると、図22に示すように、フィルム基板2および両配線形成用導電層21、22に形成された第1の貫通孔5内に下部を埋め込まれた柱状電極6の上部がフィルム基板2の上面側に突出される。次に、両配線形成用導電層21、22をパターニングすると、図18に示すように、両配線3、4が形成される。この後、必要に応じて、図示していないが、柱状電極6、スルーホール導通部43および両配線3、4の表面に無電解メッキにより錫、銅、ニッケル、金等からなるメッキ層を形成する。かくして、柱状電極6およびスルーホール導通部43を備えたフレキシブル配線基板1が得られる。
【0051】
(第7実施形態)
図23はこの発明の第7実施形態としての半導体装置の要部の断面図を示したものである。この半導体装置はBGA(ball grid array)と呼ばれるもので、下面側に半田ボール55を有するフレキシブル配線基板51の上面にLSI等からなる半導体チップ61が搭載された構造となっている。このうちフレキシブル配線基板51はフィルム基板52を備えている。フィルム基板52の上面には配線53が設けられている。配線53の所定の部分およびそれに対応するフィルム基板52には貫通孔54が設けられている。貫通孔54内には半田ボール55の基部が埋め込まれ、半田ボール55のボール状部はフィルム基板52の下面側に突出されている。半田ボール55の基部は配線53の貫通孔54の内壁面に密接されて配線53と導電接続されている。
【0052】
半導体チップ61はシリコン基板等からなる半導体基板62を備えている。半導体基板62の下面周辺部には複数の突起電極63が設けられている。そして、半導体チップ61は、突起電極63の下面がフレキシブル配線基板61の配線53の先端パッド部の上面に接合された状態で、半導体基板62の下面がフレキシブル配線基板61の上面の所定の箇所に熱硬化性樹脂層64を介して接着されていることにより、フレキシブル配線基板51の上面の所定の箇所に搭載されている。
【0053】
次に、この半導体装置の製造方法の一例について説明する。まず、例えば図2〜図4に示す場合とほぼ同じような工程を経ることにより、図24に示すものを得る。この状態では、フィルム基板52の上面に配線形成用導電層71が設けられ、フィルム基板52の下面に剥離層72がアクリル系微粘着剤層(図示せず)を介して貼り付けられ、配線形成用導電層71、フィルム基板52および剥離層72の所定の箇所に貫通孔54が形成され、貫通孔54内に柱状電極55Aが埋め込まれている。この場合、柱状電極55Aは、図23に示す半田ボール55を形成するためのものであるので、半田からなる柱状電極形成用導電層から打ち抜かれたものである。また、柱状電極55Aの上下面は整面され、柱状電極55Aのフィルム基板52から突出された突出部の高さは均一となっている。
【0054】
次に、配線形成用導電層71をパターニングすると、図25に示すように、配線53が形成される。この時点で、一応、フレキシブル配線基板51が得られる。次に、図26に示すように、フレキシブル配線基板51の上面の所定の箇所に熱硬化性樹脂層64を仮圧着する。次に、半導体チップ61の突起電極63の下面をフレキシブル配線基板51の配線53の先端のパッド部上面上に位置させた状態で、所定の温度と圧力を加えて本圧着を行うことにより、半導体チップ61の突起電極63下面をフレキシブル配線基板51の配線53の先端のパッド部上面に接合するとともに、半導体チップ61の下面をフレキシブル配線基板51の上面の所定の箇所に熱硬化性樹脂層64を介して接着し、半導体チップ61をフレキシブル配線基板51の上面の所定の箇所に搭載する。
【0055】
次に、剥離層72をアクリル系微粘着剤層と共に剥離すると、図27に示すように、フィルム基板52および配線53に形成された貫通孔54内に上部を埋め込まれた柱状電極55Aの下部がフィルム基板52の下面側に突出される。次に、半田からなる柱状電極53Aの融点以上の温度下でリフロー(熱処理)すると、図23に示すように、半田ボール55が形成される。ここで、半田として、すず63%、鉛37%の組成からなる一般的な共晶半田(低融点金属)を用いた場合、その融点は約183℃であるので、リフロー温度は220〜230℃程度とする。かくして、図22に示す半導体装置が得られる。
【0056】
このようにして得られた半導体装置では、半田からなる柱状電極形成用導電層からの打ち抜き片からなる柱状電極55Aのフィルム基板52から突出された突出部をリフローによりボール状部としているので、従来の半田ボールを用いる場合と比較して、フレキシブル配線基板51に半田ボール66を短い工程で且つ低コストで形成することができる。また、柱状電極55Aの上下面を整面して柱状電極55Aのフィルム基板52から突出された突出部の高さを均一にしているので、半田ボール66の高さを均一にすることができる。
【0057】
(その他の実施形態)
例えば上記第1実施形態では、図3に示すように、上金型25の突起26により柱状電極形成用導電層23を打ち抜き、その打ち抜き片からなる柱状電極6により上側の配線形成用導電層21、フィルム基板2、下側の配線形成用導電層22および剥離層24等を打ち抜く場合について、つまり打ち抜きを1回行う場合について説明したが、これに限定されるものではない。
【0058】
例えば、図28に示すように、両配線形成用導電層21、22を有するフィルム基板2および下側の配線形成用導電層22の下面に貼り付けられた剥離層24を下金型27の上面に載置し、上金型25の突起26により上側の配線形成用導電層21、フィルム基板2、下側の配線形成用導電層22および剥離層24等を打ち抜き、それらに貫通孔6を形成するとともに、それらの打ち抜き片81を下金型27の貫通孔28から排出する。次に、図29に示すように、上側の配線形成用導電層21の上面に柱状電極形成用導電層23を載置し、上金型25の突起26により柱状電極形成用導電層23を打ち抜き、その打ち抜き片からなる柱状電極6を貫通孔6内に埋め込むようにしてもよい。
【0059】
また、図30に示すように、剥離層24のみを下金型27の上面に載置し、上金型25の突起26により剥離層24を打ち抜き、それに貫通孔6を形成するとともに、その打ち抜き片82を下金型27の貫通孔28から排出する。次に、図31に示すように、剥離層24の上面に両配線形成用導電層21、22を有するフィルム基板2を載置し、上金型25の突起26により上側の配線形成用導電層21、フィルム基板2および下側の配線形成用導電層22を打ち抜き、それらに貫通孔6を形成するとともに、それらの打ち抜き片83を下金型27の貫通孔28から排出する。次に、図29に示す場合と同様に、上側の配線形成用導電層21の上面に柱状電極形成用導電層23を載置し、上金型25の突起26により柱状電極形成用導電層23を打ち抜き、その打ち抜き片からなる柱状電極6を貫通孔6内に埋め込むようにしてもよい。
【0060】
さらに、上記説明では、フィルム基板に積層された配線形成用導電層を柱状電極の上下面を整面化した後にパターニングする場合について説明したが、これに限らず、フィルム基板に配線を形成したものを当初から用いるようにしてもよい。また、上記説明では、フレキシブル配線基板上に半導体チップを熱硬化性樹脂を介して接着する場合について説明したが、これに限らず、フレキシブル配線基板と半導体チップとの間を封止樹脂で封止するようにしてもよい。また、上記説明では、フレキシブル配線基板上に半導体チップを搭載する場合について説明したが、これに限らず、チップコンデンサ、チップ抵抗等のチップ部品を搭載してもよい。また、例えば図32を参照して説明すると、フレキシブル配線基板111と液晶表示パネル101との接合部あるいはフレキシブル配線基板111と回路基板121との接合部を、例えば図1に示すように、フレキシブル配線基板1に設けた柱状電極6および熱硬化性樹脂層16を含む接合部としてもよい。
【0061】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、柱状電極形成用導電層からの打ち抜き片からなる柱状電極をフィルム基板および該フィルム基板の両面に形成された両配線の貫通孔内に埋め込むと、両配線を柱状電極を介して導電接続することができ、すなわち、柱状電極形成用導電層からの打ち抜き片からなる柱状電極にスルーホール導通部を兼用させることができ、この結果、メッキ処理によりスルーホール導通部を形成する場合と比較して、スルーホール導通部を環境上の問題を伴うことなく短い工程で且つ低コストで形成することができる。
また、この発明によれば、柱状電極形成用導電層からの打ち抜き片からなる柱状電極を導電層を含むフィルム基板および剥離層の貫通孔内に埋め込み、剥離層を剥離して柱状電極の一部をフィルム基板から突出させると、半導体チップへの突起電極の形成を不要とすることができる上、メッキ処理により柱状電極を形成する場合と比較して、フレキシブル配線基板に柱状電極を環境上の問題を伴うことなく短い工程で且つ低コストで形成することができる。この場合、導電層を含むフィルム基板および剥離層の貫通孔内に埋め込まれた柱状電極の上下面を加圧して整面しているのは、柱状電極の上下面を平坦にするとともに、柱状電極のフィルム基板から突出された突出部の高さを均一にするためである。
また、この発明によれば、フレキシブル配線基板の柱状電極の突出端面に半導体チップ等の電子部品の接続端子または該接続端子上に形成された突起電極を接合すると、当該接合が面接触であるので、接続抵抗を低くすることができ、また高価な異方性導電接着剤を用いていないので、コストを低減することができる。
さらに、この発明によれば、低融点金属からなる柱状電極形成用導電層からの打ち抜き片からなる柱状電極のフィルム基板から突出された突出部を熱処理によりボール状部とすると、従来の半田ボールを用いる場合と比較して、フレキシブル配線基板に半田ボール等からなる低融点金属ボールを短い工程で且つ低コストで形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1実施形態としてのフレキシブル配線基板の接合構造の要部を示す断面図。
【図2】図1に示すフレキシブル配線基板の接合構造の製造に際し、当初の工程を示す断面図。
【図3】図2に続く工程を示す断面図。
【図4】図3に続く工程を示す断面図。
【図5】図4に続く工程を示す断面図。
【図6】図5に続く工程を示す断面図。
【図7】図6に続く工程を示す断面図。
【図8】この発明の第2実施形態としてのフレキシブル配線基板の接合構造の要部を示す断面図。
【図9】図8に示すフレキシブル配線基板の接合構造の製造に際し、当初の工程を示す断面図。
【図10】図9に続く工程を示す断面図。
【図11】図10に続く工程を示す断面図。
【図12】図11に続く工程を示す断面図。
【図13】図12に続く工程を示す断面図。
【図14】図13に続く工程を示す断面図。
【図15】この発明の第3実施形態としてのフレキシブル配線基板の接合構造の要部を示す断面図。
【図16】この発明の第4実施形態としてのフレキシブル配線基板の接合構造の要部を示す断面図。
【図17】この発明の第5実施形態としてのフレキシブル配線基板の接合構造の要部を示す断面図。
【図18】この発明の第5実施形態としてのフレキシブル配線基板の要部を示す断面図。
【図19】図18に示すフレキシブル配線基板の製造に際し、当初の工程を示す断面図。
【図20】図19に続く工程を示す断面図。
【図21】図20に続く工程を示す断面図。
【図22】図21に続く工程を示す断面図。
【図23】この発明の第6実施形態としての半導体装置の要部を示す断面図。
【図24】図23に示す半導体装置の製造に際し、所定の工程を示す断面図。
【図25】図24に続く工程を示す断面図。
【図26】図25に続く工程を示す断面図。
【図27】図26に続く工程を示す断面図。
【図28】図3に示す工程に相当する他の第1の例を説明するために示す断面図。
【図29】図28に続く工程を示す断面図。
【図30】図3に示す工程に相当する他の第2の例を説明するために示す断面図。
【図31】図30に続く工程を示す断面図。
【図32】従来の液晶表示装置の一例の一部の断面図。
【図33】従来の半導体装置の一例の一部の断面図。
【符号の説明】
1 フレキシブル配線基板
2 フィルム基板
3、4 配線
5 貫通孔
6 柱状電極
11 半導体チップ
12 半導体基板
13 接続パッド
16 熱硬化性樹脂層
21、22 配線形成用導電層
23 柱状電極形成用導電層
24 剥離層
25 上金型
27 下金型
31 下加圧板
32 上加圧板
Claims (15)
- 少なくとも一方の面に導電層が形成されたフィルム基板の前記導電層を含む領域、前記フィルム基板の一の面に粘着剤層を介してまたは介さずに積層される剥離層および前記フィルム基板の他の面に積層される柱状電極形成用導電層の各複数の箇所に1回の打ち抜きにより複数の貫通孔を形成し、且つ、前記柱状電極形成用導電層からの打ち抜き片からなる柱状電極を前記導電層を含む前記フィルム基板および該フィルム基板の一の面に積層された前記剥離層の貫通孔内に埋め込む工程と、前記柱状電極形成用導電層を取り除く工程と、前記剥離層を剥離する工程とを有することを特徴とするフレキシブル配線基板の製造方法。
- 請求項1に記載の発明において、前記柱状電極形成用導電層を取り除いた後に前記導電層を含む前記フィルム基板および前記剥離層の貫通孔内に埋め込まれた前記柱状電極の上下面を加圧して整面することを特徴とするフレキシブル配線基板の製造方法。
- 請求項1または2に記載の発明において、前記柱状電極形成用導電層の厚さは、前記導電層を含む前記フィルム基板および前記剥離層の合計厚さと同じかそれよりも厚くなっていることを特徴とするフレキシブル配線基板の製造方法。
- 請求項1に記載の発明において、前記柱状電極形成用導電層は低融点金属からなり、前記柱状電極形成用導電層を取り除いた後に、前記フィルム基板の一の面に形成された前記導電層からなる配線に電子部品の接続端子または該接続端子上に形成された突起電極を接合し、前記剥離層を剥離して前記柱状電極の一部を前記フィルム基板の他の面側に突出させ、前記柱状電極の前記フィルム基板の他の面側に突出された突出部を熱処理によりボール状部とすることを特徴とするフレキシブル配線基板の製造方法。
- 請求項4に記載の発明において、前記柱状電極形成用導電層を取り除いた後であって前記電子部品を接合する前に、前記柱状電極の上下面を加圧して整面することを特徴とするフレキシブル配線基板の製造方法。
- 請求項4または5に記載の発明において、前記接合工程は、前記導電層からなる配線を含む前記フィルム基板の一の面に熱硬化性樹脂層を形成し、その上に前記電子部品を載置し、所定の温度と圧力を加えて行うことを特徴とするフレキシブル配線基板の製造方法。
- 請求項4〜6のいずれかに記載の発明において、前記電子部品は半導体チップであることを特徴とするフレキシブル配線基板の製造方法。
- 少なくとも一方の面に導電層が形成されたフィルム基板の前記導電層を含む領域、前記フィルム基板の一の面に粘着剤層を介してまたは介さずに積層される第1の剥離層、前記フィルム基板の他の面に粘着剤層を介してまたは介さずに積層される第2の剥離層および該第2の剥離層上に積層される柱状電極形成用導電層の各複数の箇所に1回の打ち抜きにより複数の貫通孔を形成し、且つ、前記柱状電極形成用導電層からの打ち抜き片からなる柱状電極を前記第2の剥離層、前記導電層を含む前記フィルム基板および前記第1の剥離層の貫通孔内に埋め込む工程と、前記柱状電極形成用導電層を取り除いた後に前記第2の剥離層、前記導電層を含む前記フィルム基板および前記第1の剥離層の貫通孔内に埋め込まれた前記柱状電極の上下面を加圧して整面する工程と、前記両剥離層を剥離する工程とを有することを特徴とするフレキシブル配線基板の製造方法。
- 請求項8に記載の発明において、前記柱状電極形成用導電層の厚さは、前記導電層を含む前記フィルム基板および前記両剥離層の合計厚さと同じかそれよりも厚くなっていることを特徴とするフレキシブル配線基板の製造方法。
- 請求項8または9に記載の発明において、前記第1の剥離層の厚さと前記第2の剥離層の厚さとは同じであることを特徴とするフレキシブル配線基板の製造方法。
- 請求項8または9に記載の発明において、前記第1の剥離層の厚さと前記第2の剥離層の厚さとは異なることを特徴とするフレキシブル配線基板の製造方法。
- 請求項1〜11のいずれかに記載の発明において、前記フィルム基板をそのいずれか一方の面に形成された前記導電層と共に打ち抜くことを特徴とするフレキシブル配線基板の製造方法。
- 請求項1〜3および8〜11のいずれかに記載の発明において、前記フィルム基板をその両面に形成された前記導電層と共に打ち抜くことを特徴とするフレキシブル配線基板の製造方法。
- 請求項13に記載の発明において、前記両導電層の相対応する所定の部分およびその間の前記フィルム基板に前記1回の打ち抜きにより前記貫通孔とは別の貫通孔を形成するとともに、前記両導電層の前記別の貫通孔形成領域に対応する部分上に積層されたスルーホール導通部形成用導電層からの打ち抜き片からなる柱状のスルーホール導通部を前記別の貫通孔内に埋め込むことを特徴とするフレキシブル配線基板の製造方法。
- 請求項14に記載の発明において、前記スルーホール導通部形成用導電層の厚さは、前記フィルム基板および前記両導電層の合計厚さと同じかそれよりも厚くなっていることを特徴とするフレキシブル配線基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001106671A JP3897278B2 (ja) | 2001-04-05 | 2001-04-05 | フレキシブル配線基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001106671A JP3897278B2 (ja) | 2001-04-05 | 2001-04-05 | フレキシブル配線基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002305361A JP2002305361A (ja) | 2002-10-18 |
JP3897278B2 true JP3897278B2 (ja) | 2007-03-22 |
Family
ID=18959131
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001106671A Expired - Fee Related JP3897278B2 (ja) | 2001-04-05 | 2001-04-05 | フレキシブル配線基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3897278B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4217090B2 (ja) | 2003-03-20 | 2009-01-28 | 株式会社 日立ディスプレイズ | 表示装置 |
WO2008050448A1 (fr) * | 2006-10-27 | 2008-05-02 | Asahi Denka Kenkyusho Co., Ltd. | Structure de connexion électrique |
JP2008153359A (ja) * | 2006-12-15 | 2008-07-03 | Sharp Corp | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
JP4952365B2 (ja) * | 2007-05-07 | 2012-06-13 | 富士通株式会社 | 両面実装回路基板に対する電子部品の実装構造、半導体装置、及び両面実装半導体装置の製造方法 |
JP2009064908A (ja) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | Ibiden Co Ltd | 配線基板およびその製造方法 |
US11895776B2 (en) * | 2018-09-25 | 2024-02-06 | Hitachi Metals, Ltd. | Flexible printed wiring board, joined body, pressure sensor and mass flow controller |
CN113241352B (zh) * | 2021-05-19 | 2024-03-15 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 图像传感器封装用可打线的柔性电路板及其制备工艺 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3352705B2 (ja) * | 1991-06-07 | 2002-12-03 | 日東電工株式会社 | 異方導電性接着フィルムを用いた実装構造 |
JPH05109825A (ja) * | 1991-10-19 | 1993-04-30 | Nec Corp | 半導体装置 |
JPH07161866A (ja) * | 1993-12-09 | 1995-06-23 | Nec Corp | Lsiチップキャリア構造 |
JP3250988B2 (ja) * | 1998-10-23 | 2002-01-28 | 株式会社鈴木 | フィルド・ビアを有する樹脂シートの製造方法 |
JP2000332369A (ja) * | 1999-05-25 | 2000-11-30 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | プリント回路板及びその製造方法 |
JP2001035886A (ja) * | 1999-07-23 | 2001-02-09 | Nec Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2002028999A (ja) * | 2000-05-11 | 2002-01-29 | Mitsui Chemicals Inc | ガスバリアフィルム積層体 |
JP3851513B2 (ja) * | 2001-03-27 | 2006-11-29 | 株式会社鈴木 | 配線基板の製造方法 |
JP2002289744A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-04 | Suzuki Co Ltd | 半導体パッケージ及びその製造方法並びに半導体装置及びその製造方法 |
-
2001
- 2001-04-05 JP JP2001106671A patent/JP3897278B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002305361A (ja) | 2002-10-18 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100105 Year of fee payment: 3 |
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S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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