JP3874553B2 - パラジウムの精製方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば銅電解精製工程より産出するアノードスライムから回収されるパラジウムの精製方法に係り、特に、パラジウムの酸素濃度を大幅に低減する技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
パラジウムは、主に触媒や貴金属合金の原料として利用されており、銅やニッケルの電解精製で産出されるアノードスライムから回収精製されている。パラジウムはスライム中に多量に含まれる銀と同様に挙動するため、アノードスライムの粗銀中に濃縮されることが知られている。このアノードスライムから銀を電解精製する際に、パラジウムを含むアノードスライムが産出され、これに種々の湿式処理を施してジクロロジアミンパラジウム（Ｐｄ（ＮＨ_３）_２Ｃｌ_２）やジクロロテトラアミンパラジウム（Ｐｄ（ＮＨ_３）_４Ｃｌ_２）等の錯塩の形で採取される。
【０００３】
上記のようなパラジウム錯塩を処理することにより、金属パラジウムを得ることができる。その処理の方法としては、従来、様々な技術が提案されている。湿式処理法としてパラジウム錯塩水溶液から金属パラジウムを回収する方法があり、例えば特開平１０−１３０７０３、特開平４−１６５０３０および特開平３−２７７７０６等には、還元剤（蟻酸、ヒドラジン、ヒドラジン化合物等）を用いてパラジウム錯塩を還元する方法が開示され、この場合、得られる金属パラジウムの形態は粉末であることが多い。
【０００４】
また、ジクロロジアミンパラジウム等の錯塩を乾式処理する方法としては、この錯塩を水素雰囲気下、窒素雰囲気下または大気下で焼成する方法が挙げられる。これらの方法の場合、得られる金属パラジウム表面に酸化物を生じることが多く、その場合には、特開平１−２６３２２８に開示されているように、最終的に水素炎で金属パラジウムの表面を処理することにより、酸素を還元除去する工程が必要となる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、湿式処理法及び乾式処理法のいずれの方法を採用しても、金属パラジウム中の不純物、特に酸素濃度が高いため、金属パラジウムの色が銀白色とならず、貴金属材料としての商品価値が低下していた。また、エンジンのイグゾーストパイプ内に設けられる触媒等にパラジウムが使用される場合には、酸素濃度が高いと触媒としての機能が低下するため、高純度のパラジウムが要望されていた。なお、水素炎で処理することである程度は酸素濃度を低減することができるが、この方法は大量処理に向かず実用性に乏しかった。
よって、本発明は上記実情に鑑みてなされたもので、酸素濃度を大幅に低減することができるパラジウムの精製方法を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、銅電解精製工程で産出するアノードスライムからのパラジウムの回収方法について種々の検討を重ねた結果、パラジウム錯塩を加熱して金属パラジウムを生成する焼成工程に着目した。従来、この焼成は、７００〜１０００℃で行われていたが、加熱に対するパラジウム錯塩の挙動を詳細に調べたところ、３００℃付近から錯塩の分解により塩素ガスまたはアンモニアガスもしくは塩化アンモニウムガスの放出が始まり、６００〜８５０℃に加熱すると酸化物の生成が活発化し、８５０℃以上に加熱すると酸化物の分解が活発化することを見い出した。このことから、本発明者等は、錯塩を分解する工程と脱酸の工程とを分離して、後者を放出されるガスの影響を受けない環境で行うことに思い至った。
【０００７】
本発明のパラジウムの精製方法は上記知見に基づいてなされたもので、パラジウム錯塩を７００〜１０００℃で加熱分解して金属パラジウムを生成し、この金属パラジウムを０．０２ｔｏｒｒ以下の真空中で１０００℃以上でかつパラジウムの融点以下で１時間以上熱処理することにより酸素濃度４０ｐｐｍ以下にすることを特徴としている。ここで、上記酸素濃度の上限は、エンジン用触媒としてパラジウムに要求される純度である。
【０００８】
上記パラジウムの精製方法では、錯塩を分解する工程とは別に金属パラジウムに対して真空中で熱処理する工程を設けているから、放出されたガスの影響を受けずに錯塩の分解工程で生成した酸化物を熱処理工程で分解することができる。よって、金属パラジウムの酸素濃度を大幅に低減することができる。以下、本発明の好適な実施の形態について説明する。
【０００９】
【発明の実施の形態】
アノードスライムは銅電解工程から産出するものを用いることができ、その組成は、一般にＣｕ２６ｗｔ％、Ｐｂｗｔ６％、Ａｕ１３ｋｇ／ｔ、Ａｇ１７６ｋｇ／ｔである。一般に、パラジウムのような白金族元素は銀と共に天然に存在しており、このアノードスライム中にも銀に随伴して存在する。銅電解アノードスライムから粗銀を電解精製により回収すると、パラジウムを含む銀電解アノードスライムが生成される。そして、この銀電解アノードスライムに湿式処理または還元処理を施すことにより、ジクロロジアミンパラジウム等の錯塩が採取される。
【００１０】
上記湿式処理は例えば以下のように行われる。まず、銀電解アノードスライムを硝酸で溶解し、この硝酸溶液中に溶解した銀を塩化銀として回収する。次いで、硝酸を除去し、アンモニア水を加えてパラジウム以外の不純物を水酸化物として沈殿させる。この沈殿した水酸化物を除去した後に塩酸を加え、粗ジクロロジアミンパラジウム錯体としてパラジウムを沈殿させる。そして、このようにして得られた粗ジクロロジアミンパラジウム錯体をアンモニア水により溶解し、塩酸を加える沈殿処理を繰り返すことにより純度を高める。
【００１１】
上記ジクロロジアミンパラジウムを脱水、乾燥することにより、多孔質のスポンジパラジウム錯塩（中間物）が得られる。このスポンジパラジウム錯塩を７００〜１０００℃程度で焼成することにより、錯塩が分解して塩素ガスやアンモニアガスが放出され、スポンジパラジウムが得られる。焼成によって得られるスポンジパラジウムの酸素濃度は０．２〜２％程度であり、このように酸素濃度が高い場合には、パラジウム表面に形成された酸化皮膜によって外観が銀白色を呈さず、例えば赤灰色、青灰色、黒色等を呈する。一方、還元剤を用いて有られた金属パラジウムの外観は銀白色を呈しているが、酸素濃度は数百ｐｐｍと比較的高い値を示している。
【００１２】
そして、上記のようにして得られた金属（スポンジ）パラジウムを真空中で熱処理することにより、酸素濃度を４０ｐｐｍ以下にするのが上記した本発明の特徴である。この熱処理には例えば一般的な真空誘導炉などの加熱炉を用いることができる。また、加熱炉の温度は１０００℃以上でかつパラジウムの融点（１５５４℃）以下とする。さらに、真空中の焼成時間は１時間以上とし、また、真空度は０．０２ｔｏｒｒ以下とする。
【００１３】
【実施例】
以下、具体的な実施例を参照して本発明をさらに詳細に説明する。
実施例１−熱処理時間の影響
銅電解工程で発生したアノードスライムを湿式処理して得られたパラジウム錯塩（Ｐｄ（ＮＨ_３）_２Ｃｌ_２）を１００ｋｇづつ複数の磁性坩堝に装人後蓋をし、マッフル炉にて温度を１０００℃、保持時間を１時間として焼成後、それぞれ３５ｋｇの粗スポンジパラジウムを得た。各粗スポンジパラジウムの外観は緑灰色であり、酸素濃度の分析結果は３９００ｐｐｍであった。
【００１４】
各粗スポンジパラジウム３５ｋｇを真空誘導炉の黒鉛坩堝に装入し、温度を１０００℃、真空度を０．０２ｔｏｒｒとし、表１に示す保持時間で熱処理を行った。得られた精製スポンジパラジウムの外観は全て銀白色であった。また、各試料の酸素濃度を表１に示した。表１から明らかなように、実施例の酸素濃度は全て低く充分な純度を有することが確認された。特に、Ｎｏ．２，３の酸素濃度が低いことから、熱処理時間は１時間で充分であることが判った。
【００１５】
【表１】

【００１６】
実施例２−熱処理温度の影響
実施例１で用いたものと同じ粗スポンジパラジウム３５ｋｇを真空誘導炉の黒鉛坩堝に装入し、保持時間を１時間、真空度を０．０２ｔｏｒｒとし、表２に示す温度で熱処理を行った。得られた精製スポンジパラジウムの外観は全て銀白色であった。また、各試料の酸素濃度を表２に示した。表２から明らかなように、この実施例においても酸素濃度は全て低く充分な純度を有することが確認された。
【００１７】
【表２】

【００１８】
実施例３−熱処理前酸素濃度の影響
実施例１，２で用いたのと同じ粗スポンジパラジウムおよび粗粉末パラジウムを真空誘導炉の黒鉛坩堝に装入し、真空度を０．０２ｔｏｒｒとし、保持時間を１時間として熱処理を行った。得られた精製パラジウムの外観は全て銀白色であった。また、各試料の熱処理前後の酸素濃度を表３に示した。表３から明らかなように、この実施例においても酸素濃度は全て低く充分な純度を有することが確認された。特に、熱処理前の酸素濃度がかなり高くても熱処理によって充分な純度になることが判った。
【００１９】
【表３】

【００２０】
比較例
（比較例１）パラジウム錯塩を窒素雰囲気、アルゴン雰囲気下で１０００℃に加熱して得たスポンジパラジウムの酸素濃度はそれぞれ２３０ｐｐｍ、２８０ｐｐｍであった。また、スポンジパラジウムの外観は赤色を呈していた。
（比較例２）パラジウム錯塩を水素雰囲気下で７００℃に加熱して得たスポンジパラジウムの酸素濃度は２１０ｐｐｍであった。
（比較例３）パラジウム錯塩のアンモニア溶液にヒドラジンを加えて得たパラジウム粉末の酸素濃度は２５０ｐｐｍであった。
（比較例４）パラジウム錯塩を蓋付き磁性坩堝に充填し、大気圧下で１０００℃に加熱して得たスポンジパラジウムの酸素濃度は３９００ｐｐｍであった。
【００２１】
以上の比較例に示すとおり、パラジウム錯塩の焼成を不活性ガスや還元性ガス雰囲気で行った場合（比較例１，２）では、パラジウムの酸素濃度は１００ｐｐｍを上回っていた。また、パラジウム錯塩を還元剤で反応させる方法（比較例３）でも酸素濃度は１００ｐｐｍを上回った。このように、従来のパラジウムの精製方法と本発明との差が明らかとなった。
【００２２】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、金属パラジウムに対して真空中で熱処理を施すから、酸素濃度が大幅に低減されたパラジウムを得ることができ、貴金属材料や触媒材料の精製方法として極めて有用である。

Claims (1)

1. パラジウム錯塩を７００〜１０００℃で加熱分解して金属パラジウムを生成し、この金属パラジウムを０．０２ｔｏｒｒ以下の真空中で１０００℃以上でかつパラジウムの融点以下で１時間以上熱処理することにより酸素濃度４０ｐｐｍ以下にすることを特徴とするパラジウムの精製方法。