JP3874031B2 - 無鉛はんだ合金 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はプリント回路基板に電子部品を実装する場合に使用する無鉛はんだに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ブリント回路基板への電子部品の実装には、フロ−法またはリフロ−法が使用されている。すなわち、電子部品をプリント回路基板に仮固定し、フラックスを塗布し、次いで、はんだ浴に浸漬させて溶融はんだを付着させ、この付着はんだを冷却・凝固させる方法（フロ−法）、または電子部品をプリント回路基板にクリ−ムはんだで仮固定し、加熱炉に通してクリ−ムはんだを溶融・凝固させる方法（リフロ−法）が使用されている。
従来、上記フロ−法及びリフロ−法でのはんだには、Ｐｂ−Ｓｎ系のはんだが主に使用されてきたが、Ｐｂは毒性の強い重金属である。
近来、環境問題が地球規模で取り上げられ、鉛についても生態系への悪影響や汚染が問題視されつつあり、はんだの無鉛化が検討されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
上記電子部品の実装に使用する無鉛はんだとして、「少なくとも５０重量％のＢｉと、最大約５０重量％のＳｎ並びに有効量のＣｕ、Ｉｎ、Ａｇ等からなる無鉛すず−ビスマスはんだ合金」が提案されている（特開平７−１１７９号公報）。
【０００４】
しかしながら、この無鉛はんだ合金においては、Ｂｉを多量に含有しているために伸び特性の点で制約があり、厳しいヒ−トサイクルにより過酷な熱歪を受けたり、過酷な振動を受ける用途、例えば、自動車電装用回路板への適用には問題がある。また、Ｂｉのために濡れ性の低下も避け難く、はんだ付け工程における生産速度の低下も懸念される。
【０００５】
上記電子部品の実装においては、電子部品の保護のために、はんだ付け温度を２３０℃〜２４０℃の範囲内に抑制することが必要である。
この温度範囲より高温の融点のはんだに対しては、鉛を含まないはんだが多種類存在する。例えば、特開平２−１７９３８７号公報には、「Ａｇを重量比で１０〜３０％、Ｓｎを重量比で７０〜９０％、さらにＣｕ、Ｉｎ、Ｇａの一種以上を重量比で０．０５〜５％からなる低融点Ａｇはんだ」が開示されており、このはんだの液相線温度は３３０℃〜４１０℃の範囲であり、上記した電子部品の実装には使用できない。
【０００６】
しかしながら、本発明者においては、上記低融点Ａｇはんだの合金系であっても、Ａｇを３．５重量％以下にすると液相線温度を２２０℃〜２３０℃の範囲に抑え得るばかりか、ＡｇとＳｎとの金属間化合物であるＡｇ_３Ｓｎを緻密に分散させることにより引張り強度を有効に向上できることを知った。
特に、はんだ粉末の場合、Ａｇが多量になると上記Ａｇ_３Ｓｎがウイスカとして、粉末表面から突き出すために平滑な球状化が得られないが、Ａｇを３．５重量％以下とすれば、表面が充分に平滑なほぼ球形の粉末はんだが得られることを知った。
本発明の目的は、電子部品を実装する場合でのフロ−法またはリフロ−法はんだ付けに使用できる優れた機械的強度を有する無鉛はんだ合金を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る無鉛はんだ合金は、Ａｇ０．５〜３．５重量％、Ｃｕ２．０重量％、Ｉｎ４．０重量％、残部Ｓｎからなることを特徴とする構成であり、酸化防止を図るためにＰまたはＧａを０．５重量％以下添加することが好ましい。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明に係る無鉛はんだ合金において、Ｓｎを基材とする理由は、毒性が極めて少なく、母材に対する優れた濡れ性を付与でき、産出量も安定であり、安価であることによる。
本発明において、Ａｇを添加する理由は、はんだの融点をＳｎの融点である２３２℃以下とすると共に、生成する金属間化合物であるＡｇ_３Ｓｎを緻密に分散させることによる機械的強度、特に引張り強度の向上を得るためである。その添加量を０．５〜３．５重量％とした理由は０．５重量％未満では融点を２３２℃以下にし難く、機械的強度の向上も満足に達成し得ず、３．５重量％を超えると、液相線温度が高くなり過ぎるばかりかＡｇ_３Ｓｎが過剰となり
、機械的特性、特に伸び特性が低下し脆くなり、はんだ粉末の場合、表面からＡｇ_３Ｓｎがウイスカとなって突き出すために表面平滑な球形の粉末を得ることができないからである。
【０００９】
本発明において、Ｃｕを添加する理由は、はんだの融点を低下させるばかりでなくＡｇとの相乗効果により機械的特性を更に向上させるためである。
【００１０】
本発明において、Ｉｎを添加する理由は、はんだの融点を低下させるばかりでなくＳｎ−Ａｇ−Ｉｎの金属間化合物の生成によりはんだの機械的強度を向上させるためである。
本発明において、Ａｇを０．５〜３．５重量％、Ｃｕを２．０重量％、Ｉｎを４．０重量％、残部Ｓｎとした理由は、後述の表２に記載されているような液相線温度、固相線温度、引張り強度及び伸びを得るためである。
【００１１】
本発明において、ＰまたはＧａを添加する理由は、はんだ溶融時にこれらの元素が優先的に酸化して他の元素の酸化を防止し、溶融はんだ表面に浮いて巻き込まれることがなく、酸化による機械的強度の低下を排除するためであり、その添加料を０．５重量％以下とした理由は、これ以上では高価となるばかりか、はんだの脆弱化が招来されるからである。
【００１２】
本発明においては、上記以外の元素を、ＪＩＳ Ｚ−３２８２に規定されているＡ級の範囲内で不純物として含んでいてもよい。（但し、Ｐｂは０．１０重量％以下）
本発明に係る無鉛はんだ合金は、フロ−法でのはんだ浴やリフロ−法でのクリ−ムはんだの粉末はんだとして好適に使用される。この粉末はんだの粒直径は６５〜２０μｍ、クリ−ムはんだの組成は、通常、粉末はんだ８５〜９３重量部、残部フラックスであり、フラックスの組成は、ロジン２０〜６０重量部、活性剤０．２〜５重量部、分離防止剤（チクソ剤）３〜２０重量部、溶剤残部である。
【００１３】
粉末はんだの製造には、高速回転するディスク面に溶融はんだを吹き当てて飛散させ、さらに不活性ガスを吹き付けて急冷凝固させる方法（遠心噴霧法）、溶融はんだをノズルから滴下させ、そこに不活性ガスを吹き付けて飛散させつつ急冷凝固させる方法（アトマイズ法）等を使用できる。
このようにして製造した粉末はんだの粒内にはＡｇ_３Ｓｎが生成しているが、それがウイスカとなって粒表面から突出するようなことはなく、表面が滑らかなほぼ球形の粒となる。
本発明に係る無鉛はんだ合金は、上記したはんだ浴、クリ−ムはんだ以外に、棒状、線状、プリフォ−ム状、やに入りはんだの形態で使用することもできる。
【００１４】
【実施例】
〔参考例１〜３〕
表１に示す組成の無鉛はんだを調整した。
各参考例品について、固相線温度、液相線温度及び機械的特性（引張り強度、伸び）を測定したところ、表１の通りであった。なお、機械的特性は、ＪＩＳ Ｚ−２２０１の４号に規定されている試験片を調整し、ロ−ドセル式万能試験機を使用し、引張り速度５ｍｍ／ｍｉｎ、試験温度２５℃にて測定した。
〔比較例１及び２〕
表１に示す組成の無鉛はんだを調整した。固相線温度、液相線温度及び機械的特性（引張り強度、伸び）を測定したところ、表１の通りであった。
【００１５】
【表１】

【００１６】
〔実施例１〜３〕
表２に示す組成の無鉛はんだを調整した。
各実施例品について、上記と同様に固相線温度、液相線温度及び機械的特性（引張り強度、伸び）を測定したところ、表２の通りであった。
〔比較例３〕
表２に示す組成の無鉛はんだを調整した。固相線温度、液相線温度及び機械的特性（引張り強度、伸び）を測定したところ、表２の通りであった。
なお、上記実施例及び比較例の何れにおいても、組成の元素以外の不純物をＪＩＳ Ｚ−３２８２に規定されたＡ級の範囲内で含んでいる。
【００１７】
【表２】

【００１８】
また、上記各実施例１〜３及び参考例１〜３並びに比較例２，３のそれぞれにつき、遠心噴霧法で粒径６５μｍ〜４５μｍの粉末はんだを製造したところ、比較例粉末はんだでは粒表面でのウイスカの突出が観察されたが、実施例粉末はんだでは粒表面でのウイスカの突出はなく、平滑表面のほぼ球形であった。
また、各実施例のそれぞれに対し、Ｐ、Ｇａのそれぞれにつき０．３重量％添加して耐引張り強度を測定したところ、約１％〜５％の増加が認められ、Ｐ、Ｇａ添加による酸化抑制効果を確認できた。
【００１９】
【発明の効果】
本発明に係る無鉛はんだは液相線温度が２２１℃〜２２５℃の範囲内にあるから、電子部品を熱的に安全にはんだ付けでき、引張りに優れ（Ｓｎ−Ｐｂの共晶はんだに較べ相当優れている）、伸びも充分である（Ｓｎ−Ｐｂの共晶はんだに近い伸びを有する）から、ヒ−トサイクルに基づく熱膨張収縮によく耐える耐熱疲労性に優れたはんだ付けが可能となる。
従って、本発明によれば、電子部品をフロ−法やリフロ−法により優れた接合信頼性並びに安全性で実装できる。

Claims (2)

1. Ａｇ０．５〜３．５重量％、Ｃｕ２．０重量％、Ｉｎ４．０重量％、残部Ｓｎからなることを特徴とする無鉛はんだ合金。
2. 請求項１記載の無鉛はんだ合金にＰまたはＧａが０．５重量％以下添加されていることを特徴とする無鉛はんだ合金。