JP3853130B2 - 基板洗浄装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板洗浄装置に係り、特に、半導体ウエハ、ガラス基板、液晶パネル等の高度の清浄度が要求される基板を洗浄するのに好適な基板洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、半導体デバイスの高集積化が進むにつれて回路の配線が微細化し、配線間距離もより狭くなりつつある。特に、配線間距離が０．５μｍ以下の光リソグラフィの場合は、焦点深度が浅くなるためにステッパの結像面の高い平坦度を必要とする。また、基板上に配線間距離より大きなパーティクルが存在すると、配線がショートするなどの不具合が生じるので、基板の処理においては、平坦化とともに清浄化を図ることが重要となる。このような事情は、マスク等に用いるガラス基板、或いは液晶パネル等の基板のプロセス処理においても同様である。このような要求に伴い、より微細なサブミクロンレベルのパーティクルを半導体基板等から落とす洗浄技術が必要とされている。
【０００３】
例えば、ポリッシングを終了した半導体基板を高い洗浄度で洗浄する方法として、基板の洗浄面にブラシやスポンジからなる洗浄部材を擦り付けて行うスクラブ洗浄（１次洗浄）を行った後に、基板に向けて高圧水（高速ジェット流）を噴射し、キャビテーションによる気泡を発生させて仕上げ洗浄（２次洗浄）を行うことが知られている。
【０００４】
図９（ａ）は、スクラブ洗浄に使用される基板洗浄装置の従来の一般的な構成を示すもので、これには基板保持用の複数の直立したローラ１００が基板Ｗの周囲に開閉自在に設けられ、ローラ１００の頂部には、基板Ｗの縁部を保持し、ローラ１００の回転によって基板Ｗを回転させる保持溝１０２が形成されている。また、図９（ｂ）に示すように、基板Ｗを挟んで、一対の洗浄具１０８が各々の軸心周りを回転しつつ基板Ｗに接触及び待避可能に設けられている。この洗浄具１０８は、中実の軸体１０４の表面に、筒状のスポンジやブラシ等からなる洗浄部材１０６が取り付けられて構成されている。更に、図９（ｃ）に示すように、基板Ｗの表裏面に洗浄液や純水等を供給するノズル１１０が設けられている。
【０００５】
これにより、ローラ１００によって基板Ｗを保持し、回転させながら、基板Ｗの表裏面にノズル１１０から洗浄液を供給しつつ洗浄部材１０６を擦り付けてスクラブ洗浄（１次洗浄）を行なって、基板Ｗの表面及び裏面に付着した砥液や研磨かす等の付着物を基板Ｗの全面から除去する。
【０００６】
スクラブ洗浄は、洗浄部材１０６を基板Ｗに接触させて行なうため、洗浄部材１０６自体の汚染が洗浄効果を左右する要因となる。洗浄部材１０６自体の汚染が進むと、洗浄部材１０６に付着した汚染物質が基板Ｗを逆汚染してしまう。このため、図９（ｃ）に示すように、洗浄具１０８の待避位置に、内部に洗浄液１１２を満たした洗浄槽１１４を配置し、洗浄具１０８をこの洗浄槽１１４内で洗浄液１１２に浸漬させつつ回転させることで、洗浄具１０８自体を洗浄している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような従来の技術においては、基板面を均一に洗浄するために、基板の全面に向けて洗浄液を供給する必要があり、このため、多量の洗浄液が必要となる。特に、基板を高速で回転させると、洗浄液も迅速に基板面上から排除されるため、洗浄液の利用効率がより低くなり、この結果、より多くの洗浄液が必要となるという問題があった。
【０００８】
更に、洗浄具１０８を洗浄槽１１４内の洗浄液１１２に浸漬させて洗浄部材１０６自体の洗浄を行なうので、洗浄液に含まれる汚染物や洗浄液に溶出したイオン等によって洗浄具１０８が逆汚染されてしまうことがあった。
【０００９】
また、洗浄具１０８の軸体１０４は、モータ等の駆動機構に接続された駆動側とは反対側（軸端保持部材側）において軸受等を介して回転自在に支持されている。このため、軸受自体や軸受を腐食流体から保護するためのシール材、洗浄具を軸方向に付勢するために設けられているスプリング等からパーティクルが発生したり、金属やグリス等が溶出する。更に、非動作状態において、洗浄液が乾燥して洗浄剤が固化し、洗浄具が円滑に動作しなくなる、等の問題があった。しかも、軸端保持部材側に複雑な機構を持たせているため、洗浄具の径が大きくなり、洗浄具の洗浄部材全体に洗浄液をいきわたらせるのに時間がかかり、かつ洗浄液量が多く必要となっていた。
【００１０】
本発明は、上記事情に鑑みて為されたもので、洗浄液の洗浄効率を向上させつつ充分な洗浄性能を維持することができ、しかも簡単な構成で耐久性のある軸受を構成して安定にかつ低コストで稼動することができる基板洗浄装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、基板をほぼ水平面内で回転させつつ保持する基板保持部と、前記基板の被洗浄面をスクラブ洗浄する洗浄具と、該洗浄具をその軸線まわりに回転可能に保持する洗浄具保持部とを備え、前記洗浄具は、軸体と、その周囲に取り付けられた洗浄液流通性を有する洗浄部材とを有し、前記軸体には、軸方向に延びる軸孔と該軸孔より径方向に貫通する洗浄液噴出口とが形成され、前記軸体の一端は、該軸体の前記軸孔内に供給されて外部に流出する洗浄液の一部を潤滑流体とした流体潤滑軸受で支持されていることを特徴とする基板洗浄装置である。洗浄液流通性を有する洗浄部材としては、通常、それ自体が通液性を有するスポンジのようなもの、ブラシのように隙間を有するもの、又は疎水性の筒状のものに適当な間隔で孔を形成したもの等が考えられる。
【００１２】
これにより、洗浄液は軸体の軸孔を介して洗浄液噴出口より噴出し、洗浄部材を経由して基板の洗浄面に供給されるので、洗浄液が基板の被洗浄箇所に集中的に供給される。従って、無駄な洗浄液が基板に供給されることなく、基板が効率的に洗浄される。しかも、洗浄部材の内部を通過する洗浄液によって、洗浄部材自体の洗浄が定常的に行われるので、洗浄部材の汚染による基板の逆汚染が防止される。さらに、洗浄具が洗浄液を潤滑流体として用いた流体潤滑軸受によって支持されているので、簡単な構成で汚染の無い安定した支持構造が構成される。
【００１３】
請求項２に記載の発明は、前記洗浄具保持部には、前記軸体の端部に向けて付勢された軸端保持部材が設けられ、該軸端保持部材と前記軸体の間に互いに相補的形状の突き合わせ摺動面が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置である。このような突き合わせ摺動面に洗浄液を導くことにより、洗浄液を潤滑液として用いる流体潤滑軸受が構成される。突き合わせ摺動面の形状は、通常はテーパ面として形成されるが、２次曲線面等の任意の回転面形状を用いることができる。軸端保持部材を付勢するばね等の付勢力を調整することにより、突き合わせ摺動面間の面圧力が調整される。
【００１４】
請求項３に記載の発明は、前記突き合わせ摺動面が前記軸孔の開口端部に形成されていることを特徴とする請求項２に記載の基板洗浄装置である。これにより、洗浄液が特別の流路を設けずに直に突き合わせ摺動面に供給される。
【００１５】
請求項４に記載の発明は、前記流体潤滑軸受は、前記洗浄液に対して金属イオンを溶出させず、かつ摺動性の良い素材で構成されていることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置である。これにより、良好な摺動性を維持しかつ金属汚染のない摺動部が構成される。
【００１６】
なお、洗浄具を、基板洗浄位置と待機位置との間に移動自在に構成してもよい。これにより、洗浄具が基板の搬送等の場合に邪魔にならない。洗浄具の待機位置に洗浄液噴射ノズルを有する洗浄槽を配置して、洗浄具自体の洗浄を適宜に行うようにしてもよい。
【００１７】
請求項５に記載の発明は、前記洗浄具保持部には、前記軸体の端部に向けて付勢された軸端保持部材が設けられ、該軸端保持部材の内部には、前記洗浄具と一体に回転する芯押し体が転がり軸受を介して回転自在に支承されて配置されていることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置である。これにより、軸端保持部材の内部に配置された転がり軸受の内部に洗浄液を導くことで、洗浄液を潤滑液として用いる流体潤滑軸受が構成される。しかも、芯押し体を転がり軸受で回転自在に支承することで、芯押し体と洗浄具との間の摺動によるパーティクルの発生が防止される。
【００１８】
請求項６に記載の発明は、前記転がり軸受は、前記洗浄液及び／またはエッチング液に対して金属イオンを溶出せず、かつパーティクルの発生のない素材で構成されていることを特徴とする請求項５に記載の基板洗浄装置である。このような転がり軸受としては、例えばセラミックス軸受があり、また素材としては、セラミックス材、テフロン材等が挙げられる。これにより、転がり軸受からの金属汚染やパーティクルの発生が防止される。
【００１９】
請求項７に記載の発明は、基板収容部と、基板研磨部と、請求項１乃至６のいずれかに記載の基板洗浄装置と、これらの装置機器間で基板を搬送する基板搬送機構とを有することを特徴とする基板の研磨装置である。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下に、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。図１は、本発明の実施の形態の研磨装置を示す図で、この研磨装置には、１基の研磨機を持つ研磨部１０、ロード・アンロード部１２、２基の搬送機１４ａ，１４ｂ、１次洗浄用の基板洗浄装置１６、２次洗浄用の２基の基板洗浄装置１８ａ，１８ｂ及び必要に応じて反転機２０が設けられている。なお、研磨部１０及び洗浄装置１６，１８ａ，１８ｂは、隔壁で仕切られたユニットとなっており、各々独立して排気され、互いの雰囲気が干渉しないようになっている。
【００２１】
１次洗浄用の基板洗浄装置１６は、図２（ａ）に示すように、基板保持用の複数の直立したローラ３０が基板Ｗの周囲に開閉自在に設けられ、ローラ３０の頂部には保持溝３２が形成されており、この保持溝３２で基板Ｗの縁部を保持してローラ３０を回転させることによって基板Ｗを回転させるようになっている。さらに、図２（ｂ）に示すように、基板Ｗを挟んで、一対の洗浄具３８が基板Ｗに接触及び待避可能に設けられている。この洗浄具３８は、中空の軸体３４の外表面にスポンジやブラシ等からなる洗浄部材３６を取り付けて構成され、この洗浄具３８の待避位置には、図２（ｃ）に示すように、内部に洗浄液４０を満たした洗浄槽４２が配置されている。この洗浄槽４２の上方には、洗浄液ノズル４４が設けられている。
【００２２】
軸体３４は、図３に示すように、軸方向に該軸体３４のほぼ全長に亘って延びる軸孔４６が形成され、この軸体３４の駆動部に連結される側は閉鎖され、これと反対側（開放端）が外広がりのテーパを持って開口している。この軸孔４６には、径方向に延びて先端を軸体３４外面に開口させた複数の洗浄液噴出口４８が、軸方向に沿って分散して設けられている。この軸体３４は、所定の柔軟性、摺動性及び耐腐食性を有するような素材、例えばテフロンによって構成されている。
【００２３】
この洗浄具３８は、これと並列して配置されたフレーム５０によって両端を支持されており、このフレーム５０が図示しない支持機構によって上下動することにより、洗浄具３８を基板Ｗに対して接触又は退避させるようにしている。このフレーム５０の一端側には、モータ５２と、このモータ５２の回転出力を水平方向に変換する一対の傘歯車５４ａ，５４ｂとが設けられ、従動側の傘歯車５４ｂは、軸受５６に支持された伝達軸５８に固着されている。伝達軸５８は、接続部材６８を介して洗浄具３８の軸体３４の閉鎖端部に連結されており、モータ５２の回転に伴って洗浄具３８を回転させる。
【００２４】
フレーム５０の他端側には、箱状の軸端保持部６０が取り付けられ、この軸端保持部６０の内部には、軸端保持部材６２が伝達軸５８の方向に摺動自在かつ回転を規制されて収納されている。軸端保持部材６２には、軸部先端に先細りのテーパ部を有する芯押し体６６が設けられ、この芯押し体６６の軸部は軸端保持部６０の内側に形成された穴より突出している。そして、軸端保持部材６２と軸端保持部６０の後壁の間には、該軸端保持部材６２を伝達軸５８の方向に付勢する圧縮コイルばね６４が配置されている。これにより、軸端保持部材６２は圧縮コイルばね６４によって伝達軸５８の方向に押圧され、芯押し体６６のテーパ部の軸部先端を軸体３４の軸孔４６内に挿入してその芯出しを行いつつ洗浄具３８を支持している。
【００２５】
軸端保持部材６２の芯押し体６６は、硬度が高く、金属イオンを溶出させないような素材、例えばセラッミクスによって構成され、一方、軸体３４は、前述のように、例えばテフロンで構成されている。これによって、両者の間の良好な摺動性を保持しつつ、耐薬品性に優れ、金属汚染のないの摺動部が構成される。
【００２６】
軸端保持部材６２の内部には、芯押し体６６の軸部先端で開口する洗浄液通路７０が設けられ、軸端保持部材６２の上端側には、図４に示すように、該洗浄液通路７０に連通する洗浄液供給用継手７２が取り付けられている。これによって、この洗浄液供給用継手７２に接続されたパイプ等から供給される洗浄液が、洗浄液通路７０から洗浄具３８の軸体３４の軸孔４６内に流入し、洗浄液噴出口４８から噴出するようになっている。なお、洗浄液供給用継手７２はフレキシブルになっていて、軸端保持部材６２の軸方向の移動が阻害されないようになっている。また、洗浄具３８を軸端保持部材６２の方向に移動させて接続部材６８から取り外し、容易に交換することができる。
【００２７】
研磨部１０は、図５に示すように、上面にクロス（研磨布）８０を貼り付けた研磨テーブル８２と、半導体ウエハ（基板）Ｗを保持しつつ研磨テーブル８２に押しつけるトップリング８４と、クロス８０と基板Ｗの間に砥液Ｑを供給する砥液ノズル８６とを具備している。
【００２８】
２次洗浄用の基板洗浄装置１８ａ，１８ｂは、図６に示すように、回転軸の上端に基板Ｗを把持するアーム９０が放射状に延びて形成された回転テーブル９２を有し、１５００〜５０００ min^-1 程度の高速で回転可能な高速回転型の洗浄機である。この基板洗浄装置１８ａ，１８ｂには、超音波で加振された洗浄液を基板Ｗの上面に供給する洗浄液ノズル９４を具備した揺動アーム９６が設置されている。更に、プロセス性能向上やタクトタイム短縮のため、不活性ガスを供給するノズル９８が設けられている。
【００２９】
次に、図１のように構成された研磨装置の動作を説明する。ロード・アンロード部１２から反転機２０を経て研磨部１０に供給された基板Ｗに対し、研磨部１０において、砥液ノズル８６から所定の砥液Ｑを供給しつつ、研磨テーブル８２とトップリング８４をそれぞれ回転させながら基板Ｗをクロス８０面に押圧して通常研磨を行い、その後に研磨液として純水を用い、研磨圧力及び／又は研磨速度を通常研磨よりも小さくして水ポリッシュ工程を行なう。これにより、通常研磨工程でできた基板Ｗの被研磨面の微細な傷（スクラッチ）を減少させ、同時に被研磨面に残留する研磨屑や砥粒等のパーティクルを除去する。なお、水ポリッシュの代わりに、または通常ポリッシュと水ポリッシュの間で通常ポリッシュよりも小径の砥粒を含む研磨液を用いて仕上げ研磨を行っても良い。
【００３０】
研磨工程の終了した基板Ｗは、基板受渡台２２を経由して搬送機１４ａ,１４ｂにより１次洗浄用の基板洗浄装置１６に搬送され、この基板洗浄装置１６のローラ３０で保持される。そして、ローラ３０を回転させて基板Ｗを回転させながら、待機位置にあった洗浄具３８を洗浄位置まで移動させ、洗浄液を供給しつつモータ５２を駆動して回転させ、洗浄部材３６を基板Ｗの表裏面に擦り付けてスクラブ洗浄（１次洗浄）を行なう。
【００３１】
洗浄液は、所定圧力の洗浄液源から洗浄液供給用継手７２を介して軸端保持部材６２の洗浄液通路７０に供給され、芯押し体６６の軸部先端から軸体３４の軸孔４６内に流入し、さらに軸体３４に設けられた多数の洗浄液噴出口４８から噴出して洗浄部材３６に浸み込み、その表面から浸み出して基板Ｗの洗浄面に供給される。従って、基板Ｗの面上の洗浄液が必要でかつ有効に使用される領域のみに洗浄液が供給されるので、基板Ｗを効率的に洗浄することができる。例えば、洗浄液の使用量を従来の場合より３〜５割程度減少させても同じ洗浄効果が得られる。また、この洗浄部材３６から滲み出す洗浄液によって、洗浄部材３６自体に付着した汚染物質も定常的に除去されるので、洗浄部材３６からの逆汚染が防止される。
【００３２】
洗浄具３８に供給された洗浄液の一部は、軸端保持部材６２の芯押し体６６と軸体３４のそれぞれのテーパ部の間の隙間から流出する。これによって、洗浄液によって潤滑される流体潤滑軸受が構成され、簡単な構成で、汚染物質を発生させずに洗浄具３８を安定に支持することができる。軸孔４６内部の洗浄液圧力が外部より高い限り、洗浄液中にパーティクルが混入することはなく、従って、洗浄液が汚染されることもない。さらに、軸体３４をテフロンで、軸端保持部材６２側の芯押し体６６をセラッミクスでそれぞれ構成することにより、良好な摺動性を保持したまま、耐薬品性に優れ、金属汚染のない摺動部が構成される。
【００３３】
基板Ｗのスクラブ洗浄（１次洗浄）が終了した後、洗浄具３８を退避位置に退かせ、ここで、定期的、或いは必要に応じて、洗浄液ノズル４４から洗浄液を洗浄具３８に向けて噴射し、同時に洗浄具３８を回転させて洗浄部材３６の洗浄を行う。洗浄具３８が洗浄液に浸漬されていないので、汚染された洗浄液に触れて洗浄部材３６が逆汚染することが防止される。この時、洗浄液を軸端保持部材６２から軸体３４の軸孔４６内に流入させて洗浄液噴出口４８から噴出させて、洗浄効率を上げるようにしてもよい。
【００３４】
一方、１次洗浄後の基板Ｗは、純水等を供給してから２次洗浄用の基板洗浄装置１８ａまたは１８ｂに移送される。ここでは、基板Ｗを回転テーブル９２のアーム９０で把持した状態で、１００〜５００ min^-1 程度の低速で回転させながら、揺動アーム９６を基板Ｗの全面に渡って揺動させて先端の洗浄液ノズル９４より超音波で加振された純水を供給して、基板Ｗの表面の仕上げ洗浄（２次洗浄）を行う。そして、純水の供給を止め、揺動アーム９６を待機位置に移した後、基板Ｗの回転速度を１５００〜５０００ min^-1 程度の高速回転に移し、必要に応じて清浄な不活性ガスを供給しながら基板Ｗの乾燥工程を行なう。洗浄・乾燥工程を終えた基板Ｗは搬送機１４ａ，１４ｂの清浄なハンドによってロード・アンロード部１２に戻される。
【００３５】
図７及び図８は、本発明の他の実施の形態の基板洗浄装置を示すもので、前記実施の形態における基板洗浄装置と異なる点は以下の通りである。
【００３６】
即ち、フレーム５０の他端側には、一方に開口した箱状の軸端保持部１６０が取り付けられ、この軸端保持部１６０の内部には、軸端保持部材１６２が伝達軸５８の方向に摺動自在かつ回転を規制されて収納されている。そして、軸端保持部材１６２と軸端保持部１６０の後壁の間には、該軸端保持部材１６２を伝達軸５８の方向に付勢する圧縮コイルばね１６４が配置されている。軸端保持部材１６２の内部には、洗浄液供給用継手７２から延び、直角に屈曲するチューブ１７２を保持するチューブホルダ１７４がその端部を固着して配置され、このチューブホルダ１７４の軸部に一対の転がり軸受１７６を介して芯押し体１６６が軸端保持部材１６２の内部に位置して回転自在に支承されている。この芯押し体１６６には、軸体３４の軸孔４６の端部の大径穴部に嵌合する軸部が突出して設けられている。これにより、芯押し体１６６は軸端保持部材１６２と共に圧縮コイルばね１６４によって伝達軸５８の方向に押圧され、芯押し体１６６の軸部を軸体３４の軸孔４６の端部の大径穴部に嵌合して洗浄具３８が支持される。そして、モータ５２の駆動に伴って洗浄具３８が回転すると、芯押し体１６６が転がり軸受１７６で支承されて軸体３４と一体となって回転するようになっている。
【００３７】
軸端保持部材１６２の内部には、芯押し体１６６の軸部先端で開口する洗浄液通路７０が設けられ、チューブホルダ１７４の内部を延びるチューブ１７２は、この洗浄液通路７０の開口端部まで達している。
【００３８】
この実施の形態の基板洗浄装置において、洗浄液は、所定圧力の洗浄液源から洗浄液供給用継手７２及びチューブ１７２を介して軸体３４の軸孔４６内に流入する。すると、洗浄具３８に供給された洗浄液の一部は、芯押し体１６６の洗浄液通路７０とチューブ１７２との隙間１７０から転がり軸受１７６の内部に流入する。これによって、洗浄液によって潤滑される流体潤滑軸受が構成され、簡単な構成で、汚染物質を発生させずに洗浄具３８を安定に支持することができる。
【００３９】
この実施の形態の基板洗浄装置によれば、軸端保持部材１６２の内部に配置した転がり軸受１７６の内部に洗浄液を導くことで、洗浄液を潤滑液として用いる流体潤滑軸受を構成し、しかも、芯押し体１６６を転がり軸受１７６で回転自在に支承することで、芯押し体１６６と洗浄具３８との間の摺動によるパーティクルの発生が防止される。
【００４０】
ここで、転がり軸受１７６を洗浄液やエッチング液に対して金属イオンを溶出せず、かつパーティクルの発生のない素材で構成することが好ましい。このような転がり軸受としては、例えばセラミックス軸受があり、また素材としては、セラミックス材、テフロン材等が挙げられる。これにより、転がり軸受１７６からの金属汚染やパーティクルの発生が防止される。
【００４１】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明によれば、洗浄液は洗浄部材から浸み出して基板の洗浄面に供給され、基板の被洗浄箇所に集中的に供給されるので、洗浄液を無駄にせずに基板が洗浄される。しかも、洗浄部材の内部を通過する洗浄液によって、洗浄部材自体の洗浄が定常的に行われるので、洗浄部材の汚染による基板の逆汚染が防止される。さらに、洗浄具が洗浄液を潤滑流体として用いた流体潤滑軸受によって支持されているので、洗浄具の経を小さくすることができ、これによって、薬液から純水、純水から薬液に切換える時の置換スペードを速くでき、例えば純水で洗浄具の乾燥を防止しながら薬液に切換えて、基板のエッチングやゴミ取りを行う時に、洗浄部材内が速く薬液に切り換わって性能が安定する。しかも、簡単な構成で汚染の無い安定した支持構造が構成され、安定にかつ低コストで稼動できる基板洗浄装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態の研磨装置の全体の構成を示す図である。
【図２】（ａ）は、本発明の実施の形態の基板洗浄装置の概略構成を示す斜視図、（ｂ）及び（ｃ）は、その作用の説明に付する図である。
【図３】図２の基板洗浄装置の一部を破断して示す正面図である。
【図４】図３の要部を拡大して示す図である。
【図５】研磨部の構成を示す断面図である。
【図６】（ａ）は、２次洗浄用の基板洗浄装置の構成を示す斜視図、（ｂ）及び（ｃ）は、その作用の説明に付する図であり、
【図７】本発明の他の実施の形態の基板洗浄装置の一部を破断して示す正面図である。
【図８】図７の要部を拡大して示す図である。
【図９】（ａ）は、従来の基板洗浄装置の概略構成を示す斜視図、（ｂ）及び（ｃ）は、その作用の説明に付する図である。
【符号の説明】
１０ 研磨部
１２ ロード・アンロード部
１４ａ，１４ａ，１４ｂ 搬送機
１６，１８ａ，１８ｂ 基板洗浄装置
３０ ローラ
３２ 保持溝
３４ 軸体
３６ 洗浄部材
３８ 洗浄具
４０ 洗浄液
４２ 洗浄槽
４６ 軸孔
４８ 洗浄液噴出口
５８ 伝達軸
６０，１６０ 軸端保持部
６４，１６４ 圧縮コイルばね
６２，１６２ 軸端保持部材
６６，１６６ 芯押し体
７０，１７０ 洗浄液通路
１７２ チューブ
１７４ チューブホルダ
１７６ 転がり軸受
Ｗ 基板

Claims (7)

1. 基板をほぼ水平面内で回転させつつ保持する基板保持部と、
   前記基板の被洗浄面をスクラブ洗浄する洗浄具と、
   該洗浄具をその軸線まわりに回転可能に保持する洗浄具保持部とを備え、
   前記洗浄具は、軸体と、その周囲に取り付けられた洗浄液流通性を有する洗浄部材とを有し、
   前記軸体には、軸方向に延びる軸孔と該軸孔より径方向に貫通する洗浄液噴出口とが形成され、
   前記軸体の一端は、該軸体の前記軸孔内に供給されて外部に流出する洗浄液の一部を潤滑流体とした流体潤滑軸受で支持されていることを特徴とする基板洗浄装置。
2. 前記洗浄具保持部には、前記軸体の端部に向けて付勢された軸端保持部材が設けられ、該軸端保持部材と前記軸体の間に互いに相補的形状の突き合わせ摺動面が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
3. 前記突き合わせ摺動面が前記軸孔の開口端部に形成されていることを特徴とする請求項２に記載の基板洗浄装置。
4. 前記流体潤滑軸受は、前記洗浄液に対して金属イオンを溶出させず、かつ摺動性の良い素材で構成されていることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
5. 前記洗浄具保持部には、前記軸体の端部に向けて付勢された軸端保持部材が設けられ、該軸端保持部材の内部には、前記洗浄具と一体に回転する芯押し体が転がり軸受を介して回転自在に支承されて配置されていることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
6. 前記転がり軸受は、前記洗浄液及び／またはエッチング液に対して金属イオンを溶出せず、かつパーティクルの発生のない素材で構成されていることを特徴とする請求項５に記載の基板洗浄装置。
7. 基板収容部と、基板研磨部と、請求項１乃至６のいずれかに記載の基板洗浄装置と、これらの装置機器間で基板を搬送する基板搬送機構とを有することを特徴とする基板の研磨装置。

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