JP3835634B2 - 合成石英ガラス製造装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光リソグラフィ技術において400nm以下、好ましくは300nm以下の特定波長帯域でレンズやミラー等の光学系に使用される光リソグラフィー用石英ガラス光学部材として用いるのに適した石英ガラスを合成するための合成石英ガラス製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、シリコン等のウエハ上に集積回路の微細パターンを露光・転写する光リソグラフィ技術においては、ステッパと呼ばれる露光装置が用いられる。このステッパの光源は、近年のLSIの高集積化に伴ってg線(436nm)からi線(365nm)、さらにはKrF(248nm)やArF(193nm)エキシマレーザへと短波長化が進められている。
【0003】
LSIの一種であるVLSI(超LSI)のうちでDRAMを例に挙げれば、LSIからVLSIへと展開されていくにつれ、1K→256K→1M→4M→16M→64M→256M→1Gと容量が増大していく。このような容量の増大に伴い、パターンの加工線幅がそれぞれ10μm→2μm→1μm→0.8μm→0.5μm→0.35μm→0.25μm→0.18μmと微細な線幅の露光が可能なステッパが要求されるようになってきた。
【0004】
このため、ステッパの投影レンズには、高い解像度と深い焦点深度とが必要とされる。一般に、ステッパの照明あるいは投影光学系に用いられるレンズ素材は、i線では主に高透過率化した多成分の光学ガラスが用いられ、KrF及びArFエキシマレーザでは従来の光学ガラスにかえて合成石英ガラスやCaF2(蛍石)等のフッ化物単結晶が用いられている。
【0005】
特に16M以上の大容量のVRAMとして用いられるマクロプロセッサ等の量産ラインには、0.25μmの線幅の露光が可能なエキシマレーザを用いたステッパが導入されている。このような微細な線幅の露光が可能なステッパに用いられる紫外線リソグラフィー用光学素子(照明あるいは投影光学系に用いられるレンズ素材)としては、紫外域での高透過率を達成するために高純度な合成石英ガラスが用いられる。
【0006】
この合成石英ガラスの有用な製法の一つとして、火炎加水分解法が知られている。火炎加水分解法は、合成石英ガラスの原料となるケイ素化合物を燃焼用バーナーからの火炎内へ酸水素炎と共に供給し、加水分解反応させシリカ微粒子を合成、堆積させると同時に溶融ガラス化する合成方法である。
【0007】
この合成方法を実現する合成石英ガラス製造装置は、いわゆるベルヌーイ炉に類似した構造であり、熱を逃さないように外壁を二重壁にして排気を通し、炉内温度を1000℃以上の高温に保ちながら合成を行うものである。この製造装置は、炉本体(炉枠)と、この炉本体を載置保持する板(以下、「炉床板」と称する)と、炉本体内に設置されたインゴット形成用のターゲットと、このターゲットに先端を向けて設置された石英ガラス合成用のバーナとを備えている。
【0008】
このように構成された合成石英ガラス製造装置を用いて合成(形成)される石英ガラスは、種々の原因により屈折率均質性が悪化することがある。屈折率均質性を悪化させる主な原因としては、石英ガラスを合成する際に生じるさまざまな条件のゆらぎ(合成条件の変化)がある。
【0009】
例えば、耐火物の劣化による製造装置の構造変形、火炎による合成面の温度分布の変化、火炎加水分解反応あるいは熱分解・熱酸化反応、ガラスへの不純物の拡散状態の変化等である。これらの条件の変化は、結果的に石英ガラス内に脈理と呼ばれる成長縞や径方向の屈折率均質性に影響をもたらす。
【0010】
ここで、上記のような合成を使用した時、石英ガラスの合成面温度は1900°C以上で、炉内温度は1000〜1500°Cと高温状態を維持する必要がある。このため、一般的な金属を用いて炉床板を形成した場合、炉床板が変形することがあり、このように変形したときには炉床板の交換を行う必要が生じる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
このように炉床板の交換が必要となった場合、炉床板を交換するには当然その上に積載(載置保持)された炉本体の交換にも発展するため、炉床板の寿命は合成石英ガラス製造装置の寿命を左右すると言える。従って、炉床板の交換はなるべく行わないようにすることが好ましい。また、炉本体は複数の耐火煉瓦を積み上げて形成された耐火部材を内側に有して構成されているが、これらの耐火部材は常温で炉床板上にセッティングされる。
【0012】
このため、バーナによって炉内が昇温されることにより炉床板が熱変形を起こすと、炉床板の上に積載された耐火部材の構造変化が生じる。このことにより、同条件下で安定した品質の合成石英ガラスのインゴットを得る条件を維持することができないことがあるという問題があった。
【0013】
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、安定した品質の合成石英ガラスのインゴットを形成することができる合成石英ガラス製造装置を提供することを目的としている。
【0014】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明に係る合成石英ガラスの製造装置においては、炉本体と、合成石英ガラス製造用のターゲットと、石英ガラス合成用のバーナと、炉本体を載置保持する炉床板と、冷媒給排手段とを備えている。ターゲットは炉本体の内側空間内に位置し、バーナはその噴出口がターゲットに向けて設置されている。また、炉床板には流体冷媒が流通可能な冷媒流路が設けられており、この冷媒流路へは冷媒給排手段によって流体冷媒の給排がなされる。そして、バーナを用いてターゲット上に合成石英ガラスを製造する時には、冷媒流路への流体冷媒の給排を行うことにより炉床板を冷却する。
【0015】
このように構成された合成石英ガラス製造装置によれば、石英ガラスの原料となるSi化合物ガスと加熱のための燃焼ガスとをバーナの噴出口から噴出させることにより火炎内でターゲット上に石英ガラスを堆積させることができる。このとき、バーナから噴出される火炎によって炉本体内が加熱されて炉床板の温度も上昇するが、炉床板に設けられた冷媒流路内には冷媒が流れているため炉床板を冷却することができる。
【0016】
なお、炉床板を冷却するための流体冷媒としては空気を用いることが好ましい。このように流体冷媒に空気を用いた場合には、製作される石英ガラスに悪影響を与えることなく、冷媒給排手段も簡単な構成とすることができるため、合成石英ガラス製造装置を簡単に且つ安価に製作することができる。
【0017】
また、この合成石英ガラス製造装置において、炉床板は、上面に炉本体を載置保持する板状の炉本体載置部材と、冷却部材とを備えていることが好ましい。この場合、冷却部材は流体冷媒が流れる流路が形成されて炉本体載置部材の下面に取り付けるように構成するとともに、流路における流体冷媒の入口から出口への経路を形成する経路形成手段を設けることが好ましい。このような構成とすることにより、簡単な構成で炉床板をむらなく冷却することができる。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の合成石英ガラス製造装置の好ましい実施形態について図1および図2を参照して説明する。この合成石英ガラス製造装置10は、炉本体11と、この炉本体11を載置保持する炉床板12と、炉本体11内に設置されたインゴットIG形成用のターゲット13と、このターゲット13に噴出口14aを向けて設置された石英ガラス合成用のバーナ14とを有して構成されている。
【0019】
炉本体11は、耐火部材111および炉枠112とから構成されている。耐火部材111は、いわゆる耐火煉瓦によって形成され、複数の耐火煉瓦を炉床板12上に積み重ねることにより形成されている。また、炉枠112は金属製の板材によって、下方が開口した箱状に形成され、耐火部材111の外周を覆うように炉床板12上に載置される。
【0020】
炉枠112には、石英ガラスの合成時に炉本体11の内周空間15において発生する排ガスを外部に排出させるための排気口16が形成され、この排気口16には排気管17が接続されている。この合成石英ガラス製造装置10における排気システムは、排気管17の先にスクラバー等の除害装置、排気ファン(共に図示せず)等を有して構成されている。そして、この排気システムによって排ガスとともに排気される二次空気は、その大半が炉床板12に形成された炉底開口12a(インゴットIGが炉床板12の下方にまで成長した状態においては、炉底開口12aとインゴットIGとの間隙)から導入される。
【0021】
耐火部材111および炉枠112には、外部から内周空間15内を観察するための炉内監視用窓111a,112aが形成されている。なお、この炉内監視用窓112aの外側には炉内の冷却を防止して正確な内周空間15の観察を行うために耐熱ガラス113が取り付けられている。
【0022】
この耐熱ガラス113の外方にはCCDカメラ等の炉内監視用カメラ18が設けられており、内周空間15の撮影、特にターゲット13部分の撮影が可能に構成されている。なお、ターゲット13は、内周空間15における昇降が自在であり、さらには回転、X−Y方向の水平移動もしくは揺動が自在に構成されている。また、炉本体11には、内周空間15の温度の検出を行うための熱電対19が設けられている。
【0023】
このように構成された炉本体11は、炉床板12上に載置保持される。炉床板12は、載置部121と、この載置部121の下面に形成された冷却部122とからなる。載置部121は金属の板材を用いて矩形状に形成され、中央部には貫通孔121aが形成されている。
【0024】
冷却部122は載置部121よりも薄い金属板を用いて有底箱状に形成され、上部が載置部121の下面に当接した状態で固定されている。冷却部122の中央部にも載置部121に形成された貫通孔121aに対応した位置に貫通孔122aが形成され、これら両貫通孔121a,122aによって炉底開口12aが形成されることとなる。貫通孔122aには上方に伸びる内周パイプ122bが配設されているため、冷却部122には空洞の流路(冷媒流路)122cが形成されることとなる。
【0025】
冷却部122の側面には流路122cに連通する流入パイプ(入口)122dおよび流出パイプ(出口)122eが設けられている。流入パイプ122dと流出パイプ122eとの間における冷却部122の側面内側には、流出パイプ122eに繋がる仕切板(経路形成手段)122fが設けられている。これにより、流路122c内には図示しないコンプレッサー(冷媒給排手段)から供給される圧縮空気(冷却用のエアー(冷媒))の入口から出口への経路が形成されることとなる。
【0026】
このように構成された冷却部122によれば、コンプレッサーから供給された圧縮空気は矢印Aで示すように流入パイプ122dから流路122c内に流入する。流路122c内に流入した圧縮空気は、仕切板122fの作用によって矢印B,CおよびDに示すように、内周パイプ122bの外周を回るようにして流出パイプ122eから冷却部122外に流出する。これにより、載置部121の下面には冷却用のエアーが溜ることなく一定方向に流れるため、載置部121との熱交換を効率よく行うことができる。
【0027】
また、上記のように構成された炉床板12には、石英ガラス合成用のバーナ14が取り付けられている。バーナ14は、ターゲット13に噴出口14aを向けて炉本体11の上面を貫通した状態で設置されている。バーナ14は、石英ガラスの原料となるSi化合物ガスと、このSi化合物ガスを送り出すためのキャリアガスの噴出が可能に構成されている。
【0028】
次いで、上記のように構成された合成石英ガラス製造装置10を用いてインゴットIGを形成する場合について説明する。合成石英ガラスのインゴットIGを形成するには、まず炉床板12の下方から炉底開口12a内を通って内周空間15内に位置させたターゲット13を十分な温度に加熱した後、バーナ14から原料ガスをキャリアガスとともに噴出させて合成を開始する。そして、徐々にSiO2粉(シリカ微粒子)をターゲット13に堆積させると共に溶解しガラス化させ、これを数週間続けることでインゴットIGを得る。
【0029】
このようにしてインゴットIGを形成する場合には、炉内監視用窓111aから炉内監視用カメラ18によってインゴットIGの合成面の位置を観察し、合成面の位置をバーナ14に対して一定に保持させるように、供給ガス量を制御するとともにターゲット13を回転させたりX−Y方向に移動もしくは揺動させたりする。なお、このようなターゲット13の移動は、熱電対19によって検出された内周空間15の温度分布をも参酌して制御される。そして、ターゲット13はインゴットIGの成長速度と等速度で引き下げられる。
【0030】
これにより、インゴットIGの形状を保持して定常状態を維持することができ、均質性の向上した石英ガラスを得ることができる。なお、このような合成を行う場合、内周空間15内にHCl等の排ガスが発生するが、発生した排ガスは炉底開口12aから供給される二次空気とともに、耐火部材111に形成された排気孔111bを通り、排気システムによって合成石英ガラス製造装置10外に排気される。
【0031】
従って、炉床板12は流路122c内を流れる冷却用のエアーによって冷却される他、炉底開口12aから供給される二次空気によっても冷却されるため、より炉床板12の熱膨張を抑えることができ、新たに耐火部材111を製作(築炉)するまでのスパンを長くできる。
【0032】
このように構成された合成石英ガラス製造装置10によれば、一旦石英ガラスの合成条件出し(各ガスの噴出量の設定や、炉内温度の設定、さらにはターゲットの作動条件の設定等)を行った場合、再度の築炉によりかなり条件をリセットせざるを得ない状態に陥る。しかしながら、再度の築炉のスパンを長くできることにより、安定した高品質な光リソグラフィー用投影レンズに使用可能な合成石英ガラスを長期にわたって生成することがより容易なこととなる。
【0033】
すなわち、石英ガラスを合成する上で築炉を行うことは、非常に条件的に変動の大きなファクターである。よって、築炉のスパンを可能な限り長くすることが安定した高品質な合成石英ガラスを生成することにおいて重要なテーマとなる。従って、炉床板を冷却して変形を抑えることにより、その上部に組み上げている耐火部材の構造が常温時と合成時で変化が無いため、炉床板の変形により耐火部材が崩れたり割れを生じることもない。これにより耐火部材の寿命も長くなり、安定した合成石英ガラスを生成することができる。
【0034】
さらに、前記のようにバーナ14を炉床板12に取り付けた場合には、炉床板12の変形に伴ってバーナ14の取付位置(各ガスの噴出方向)にも変動が生じて安定した合成石英ガラスを生成することができなくなるが、炉床板12の変形を防止することによりバーナ14の取付位置の変動も防止することができる。
【0035】
なお、上記の合成石英ガラス製造装置10においては、仕切板122fを設けることにより冷媒の入口から出口への経路を形成することとしたが、本発明においては、この仕切板122fは必ずしも必要ではない。例えば、冷却部122全体の形状を変更したり、冷却用エアーの供給圧力の調整を行ったり、さらには冷却用エアー以外の冷媒を用いることにより炉床板12に変形を生じないような冷却ができればよい。従って、冷媒としては空気に限られるものではなく、フロンガス等の他の気体や、水等の液体でもよい。
【0036】
さらに、冷媒流路の形状は上記の流路122cのような形状に限られるものではなく、載置部121全体に空気が流れるように空気の流れを変えるための板を複数設けるようにしてもよい。また、冷却部122の形状も必ずしも箱状である必要はなく、冷媒が流れるパイプを載置部121の下面に当接させるようにしてもよい。
【0037】
炉床板も上記のように載置部121と冷却部122とから構成する必要はなく、載置部に相当する板材のみによって構成し、この板材の内部に直接冷媒流路を形成するようにしてもよい。
【0038】
【実施例】
以下、本発明に係る合成石英ガラス製造装置10の好ましい実施例について説明する。この合成石英ガラス製造装置10においては、炉床板12はSS41の板材を用いて平面視において1600mm角の正方形に形成されている。また、炉枠112は平面視において1200mm角の正方形に形成されている。炉床板12の冷却部122はこの炉枠112の寸法と同じく平面視における寸法が1200mm角に形成されている。なお、炉底開口12aは、耐火部材111の内法と同一の直径で形成されている。
【0039】
冷却部122に供給される空冷用のエアーはレギュレータ(図示せず)により1〜4kg/cm2に減圧されて供給される。なお、石英ガラスの原料となるSi化合物ガスとしてはSiCl4のガスが用いられ、このSi化合物ガスを送り出すためのキャリアガスとしてはO2ガスおよびH2ガスが用いられている。そして、ターゲット13を2000℃以上に加熱した後、バーナ14からSiCl4ガスをキャリアガスとともに噴出させ、インゴットIGの形成を行う。
【0040】
ここで、炉床板を空冷していない合成石英ガラス製造装置で同様の合成を行ったときは、約8000hの合成時間を経た状態で炉床板のたわみが発生し、炉枠等の荷重によって最大約10mmのたわみが確認され、引き続き合成を継続したところ、約14000hの合成時間で炉床板の上部に組み上げられている耐火物に割れや組み合わせ部分のずれを生じ築炉を要する状態となった。しかしながら、本発明に係る合成石英ガラス製造装置10によれば、約20000hの合成時間を経た状態でも炉床板12、耐火部材111等に変形を生じることなく、問題なく合成を持続することができる。
【0041】
【発明の効果】
以上詳細に説明したように、本発明の合成石英ガラス製造装置は、炉本体を載置保持する炉床板に流体冷媒が流通可能な冷媒流路が設けられ、バーナを用いたターゲットにおける合成石英ガラス製造時には、冷媒流路への流体冷媒の給排を行って炉床板の冷却を行う。これにより、炉床板を冷却しない場合に比較して炉床板の熱膨張及び炉枠他の荷重による変形を抑えることが可能となり、合成石英ガラス製造装置の耐久性が向上するため、築炉等の品質に影響を与える部品交換作業の頻度を著しく低下させて大幅なコストダウンを図ることができる。
【0042】
なお、炉床板を冷却するための流体冷媒としては空気を用いることが好ましく、流体冷媒に空気を用いた場合には、冷媒給排手段も簡単な構成とすることができるため、合成石英ガラス製造装置を簡単に且つ安価に製作することができる。また、炉床板は炉本体載置部材と流体冷媒が流れる流路が形成された冷却部材とを備えて構成することが好ましく、さらには、流路における流体冷媒の入口から出口への経路を形成する経路形成手段を設けることが好ましい。これにより、簡単な構成で炉床板をむらなく冷却することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る合成石英ガラス製造装置の一例を示す模式図である。
【図2】この合成石英ガラス製造装置の図1におけるII矢視図である。
【符号の説明】
10 合成石英ガラス製造装置
11 炉本体
12 炉床板
13 ターゲット
14 バーナ
16 排気口
17 排気管
18 炉内監視用カメラ
19 熱電対
122c 流路
IG インゴット

Claims (3)

  1. 炉本体と、
    この炉本体の内側空間内に位置する合成石英ガラス製造用のターゲットと、
    噴出口が前記ターゲットに向けて設置された石英ガラス合成用のバーナと、
    流体冷媒が流通可能な冷媒流路が設けられて前記炉本体を載置保持する炉床板と、
    前記冷媒流路への前記流体冷媒の給排を行う冷媒給排手段とを備え、
    前記バーナを用いた前記ターゲットにおける前記合成石英ガラス製造時に前記冷媒流路への前記流体冷媒の給排を行って前記炉床板を冷却することを特徴とする直接法合成石英ガラス製造装置。
  2. 前記流体冷媒が空気であることを特徴とする請求項1に記載の直接法合成石英ガラス製造装置。
  3. 前記炉床板が、
    上面に前記炉本体を載置保持する板状の炉本体載置部材と、
    前記冷媒流路が形成されて前記炉本体載置部材の下面に取り付けられ、前記冷媒流路における前記冷媒の入口から出口への経路を形成する経路形成手段が設けられた冷却部材とを備えたことを特徴とする請求項1もしくは請求項2に記載の直接法合成石英ガラス製造装置。
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