JP3825523B2 - 洗浄処理装置 - Google Patents
洗浄処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3825523B2 JP3825523B2 JP04896097A JP4896097A JP3825523B2 JP 3825523 B2 JP3825523 B2 JP 3825523B2 JP 04896097 A JP04896097 A JP 04896097A JP 4896097 A JP4896097 A JP 4896097A JP 3825523 B2 JP3825523 B2 JP 3825523B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotating body
- cleaning
- rotating
- shaft
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体ウエハなどの基板を処理する装置に係わり、特に基板の洗浄処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウエハや液晶基板などの基板を製造する製造工程においては、これらの基板に対して薬液などの処理液にて基板上に回路パターンを形成するための基板処理を行い、そしてこの処理後に基板に残留する処理液を除去する洗浄処理が繰り返し行われる。
【０００３】
このような処理液による基板処理やこの基板の洗浄を良好に繰り返し行うために、これらの製造工程においては洗浄処理装置が用いられている。この洗浄処理装置は基板に対して処理液による処理を行った後に基板の上面側に設けられたノズルなどから洗浄液を供給しながら高速回転させることで洗浄処理を行う。ついで、洗浄液の供給を止めてこの基板を高速回転させることで、この基板に残留する洗浄液を遠心力にて除去する乾燥処理が行われる。
【０００４】
図４に示すように、この洗浄処理装置１は、上面側に上記基板２を載戴する回転体３を有し、この回転体３に載戴された基板２に対してこの回転体３の上方に位置するノズル４から洗浄処理のための洗浄液が供給され、洗浄処理が行われるようになっている。
【０００５】
上記回転体３は、上記基板２を単にこの上面側に載戴する構成であり、この回転体３への上記基板２の載戴時には上記基板２の下面側を汚染させないため、この回転体３の上面は凹状曲面に形成され、それによって上記基板２の下面と回転体３の上面とが面接触しないようにしている。つまり、上記基板２はこの基板２の外周端部のみで支持されて下面が上記回転体３と接触しないようになっている。
【０００６】
この回転体３の下面中心部には被駆動軸３ａが垂設され、この被駆動軸３ａの下端部はモータ５の駆動軸６とカップリング６ａによって連結されて回転自在に設けられている。上記駆動軸６と回転軸３ａとはカップリング６ｂによって結合されている。そのため、このモータ５が回転駆動を行えば上記回転体３が連動して回転駆動されるように設けられている。
【０００７】
上記回転軸３ａはベアリングなどの一対の軸受７を介して筒状の固定軸８によって回転自在に支持されている。この固定軸８は、例えばモータ５の本体などの固定物に取り付けられており、そのため自らは回転せず上記回転軸３ａの回転駆動を良好に行えるように支持されている。この固定軸８の内部には上記回転体３に載戴される基板２の裏面に対してＮ2 などの気体を供給する供給路９が形成されている。またベアリングなどの軸受７の機械的な回転摺動により発生するパーティクルなどが上記基板２の裏面側に回り込まないように吸引する吸引路１０が上記供給路９と同様にこの固定軸８内部に形成されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところで上記のような構成の洗浄処理装置では、Ｎ2 などの気体を上記基板の裏面に供給し、この気体の供給圧力によって上記基板の裏面側への洗浄処理液の回り込みを防止する構成となっている。
【０００９】
このような構成では、上記洗浄処理液の基板の裏面側への回り込みを防止するために大量のＮ2 の供給が必要となる。しかしながら、大量のＮ2 を上記基板の裏面側に供給すると、上述の構成では上記基板は単に上記回転体に載戴されてなんら保持手段が設けられていない構成のため、この大量のＮ2 の供給によって上記基板が浮き上がり、よって安定的に洗浄処理が行えないという問題が生じる。
【００１０】
このような上記基板の浮き上がりを防止するために、Ｎ2 の供給を上記基板が浮き上がらない程度に制限すると、今度は上記基板の裏面側に上記洗浄液の回り込みが発生し、このため上記基板の裏面側に洗浄液が付着してしまう。この洗浄液は通常基板の表面側の洗浄処理を行ったものであり、この液中に大量のパーティクルを含んでいるから、上記基板の裏面側に洗浄液とともにパーティクルが付着することとなる。上記基板の裏面側にパーティクルが付着すると、この基板の裏面側を洗浄処理しなければならなく、また表面に付着した洗浄液が乾燥してしまうと、パーティクルが固着してしまうから、容易に洗浄除去できないということもある。
【００１１】
さらに、上記基板の裏面側に洗浄液が回り込んだ場合、この基板の裏面側にこの洗浄液が付着するのみならず、上記回転軸３ａと固定軸８との隙間へ洗浄液が侵入し、この場合には洗浄液がモータやベアリングなどの軸受に到達して、これらを破損してしまうといった不具合も生じている。
【００１２】
本発明は上記の事情にもとづきなされたもので、その目的とするところは、
固定軸と回転軸の間に洗浄液が侵入せず、かつこの基板の裏面に洗浄液が回り込まない洗浄処理装置を提供しようとするものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項１記載の発明は、被洗浄物を回転させながら洗浄処理する洗浄処理装置において、上部に被洗浄物が保持され、中心部側に通孔が設けられる回転体と、内部を中空とする筒状に形成されて上記回転体の下面側に一体的に設けられた回転軸と、上記筒状の回転軸の内部に挿通され、上記回転軸を回転自在に支持するとともに、上端が上記回転体の通孔から突出して設けられた固定軸と、上記回転軸を回転駆動させる駆動手段と、上記固定軸に設けられ、かつ上記回転体の下方側に位置するとともに上記筒状回転軸の内部に納められ、回転体の上記通孔を介して固定軸外周面と回転軸内周面との間へ侵入する洗浄液を受け止める液受部と、を具備したことを特徴としている。
【００１４】
請求項２記載の発明は、上記液受部には、この液受部に上記洗浄液の侵入を検出する検出手段が設けられたことを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装置である。
【００１５】
請求項３記載の発明は、被洗浄物を回転させながら洗浄処理する洗浄処理装置において、上部に被洗浄物が保持される回転体と、上記回転体の上面周辺部に設けられ、この回転体に保持された被洗浄物の外周部下面に離間対向する第１の突起体と、内部を中空とする筒状に形成されて上記回転体の下面側に一体的に設けられた筒状の回転軸と、上記回転軸の内部に挿通され、上記回転軸を回転自在に支持するとともに、上端が上記回転体の中心部側に形成された通孔から突出して設けられた固定軸と、上記回転軸を回転駆動させる駆動手段と、を具備したことを特徴としている。
【００１６】
請求項４の発明は、被洗浄物を回転させながら洗浄処理する洗浄処理装置において、上部に被洗浄物が保持される回転体と、内部を中空とする筒状に形成されて上記回転体の下面側に一体的に設けられた回転軸と、上記回転軸の内部に挿通され、上記回転軸を回転自在に支持するとともに、上端が上記回転体の中心部に形成された通孔から突出して設けられた固定軸と、上記回転軸を回転駆動させる駆動手段と、上記固定軸の上記回転体の下方側に位置する部分に設けられ、この固定軸と回転体との隙間へ侵入する洗浄液を受け止める液受部とを具備し、上記回転体には、この回転体に保持された被洗浄物の外周部下面に離間対向する突起体が設けられたことを特徴とする洗浄処理装置である。
【００１７】
請求項５記載の発明は、上記回転体の上面には、上記第１の突起体よりも径方向内方に第２の突起体が設けられたことを特徴とする請求項３記載の洗浄処理装置である。
請求項６の発明は、被洗浄物を回転させながら洗浄処理する洗浄処理装置において、上部に被洗浄物が保持され、中心部側に通孔が設けられる回転体と、この回転体に設けられ、回転体に保持された被洗浄物の外周部下面に離間対向する突起体と、内部を中空とする筒状に形成されて上記回転体の下面側に一体的に設けられた回転軸と、上記筒状の回転軸の内部に挿通され、上記回転軸を回転自在に支持するとともに、上端が上記回転体の通孔から突出して設けられた固定軸と、上記回転軸を回転駆動させる駆動手段と、上記固定軸に設けられ、かつ上記回転体の下方側に位置するとともに上記筒状回転軸の内部に納められ、回転体の上記通孔を介して固定軸外周面と回転軸内周面との間へ侵入する洗浄液を受け止める液受部とを具備したことを特徴としている。
【００１８】
請求項１の発明によると、上記固定軸の回転体の下方側には、回転体の通孔を介して固定軸周面と回転軸内周面との間に侵入する洗浄液を受け止める液受部を、筒状の回転軸内部に納めた状態で設けた構成のため、上記隙間から侵入した洗浄液をこの液受部で確実に受け止めて、この液受部よりも下方側の内部構造に上記洗浄液を侵入させることがなくなる。よってこの内部構造が上記洗浄液の侵入によって破損されるといった不具合の発生を防止することが可能となる。
【００１９】
請求項２の発明によると、上記液受部にはこの液受部に上記洗浄液の侵入を検出する検出手段が設けられた構成のため、上記洗浄液の内部への侵入をこの検出手段にて直ちに検出可能となっている。そのためこの検出を認識すれば、上記洗浄液の供給や洗浄処理自体の駆動もこれに応じて調整可能である。
【００２０】
請求項３の発明によると、上記回転体の上面周辺部にはこの回転体に保持された被洗浄物の外周部の下面と近接に対向する第１の突起体が設けられた構成のため、この第１の突起体によって上記洗浄液の上記基板の裏面側への回り込みが防止され上記洗浄液がこの裏面側に付着しにくくなる。
【００２１】
請求項４の発明によると、上記回転体の下方側の固定軸に液受部が設けられたのに加えて、さらに上記回転体の上面周辺部にはこの回転体に保持された被洗浄物の外周部下面と近接に対向する第１の突起体が設けられた構成のため、上記洗浄液の上記基板の裏面側への回り込みを防止するとともに、この回転体の下方側に上記洗浄液が侵入した場合でも液受部によってこの洗浄液を受け止めて、この液受部よりも下方側の内部構造に上記洗浄液の侵入を防止することが可能となる。そのためより一層洗浄液の侵入を防止可能な構成となっている。
【００２２】
請求項５の発明によると、上記回転体の上面には、上記第１の突起体よりも径方向内方に第２の突起体が設けられた構成のため、上記第１の突起体によっても表面張力などにより洗浄液の侵入が防止できなかった場合でも、この第２の突起体により上記洗浄液を内部構造に侵入させるのを防止可能となる。
請求項６の発明によると、回転体の上面に設けられた突起体が洗浄液の基板の裏面側への回り込みを防止し、かつ回転体の下方側に上記洗浄液が侵入した場合でも液受部が洗浄液を受け止めて、液受部よりも下方側の内部構造への洗浄液の侵入を防止する、一層洗浄液の侵入を防止可能な構成となっている。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下本発明の一実施の形態について、図１ないし図３を参照しながら説明する。
図１に示すように、洗浄処理装置２０の上部側には、半導体ウエハや液晶基板などの基板２１を載戴する回転体２２が設けられており、この回転体２２はこの下面中心部に内部を中空とした筒体の内筒回転軸２３が連結されている。この内筒回転軸２３の内部には固定軸２４が挿通され、この固定軸２４によって上記内筒回転軸２３およびこの内筒回転軸２３に連結されている回転体２２が回転自在に支持される構成となっている。
【００２４】
上記回転体２２は中心部側に通孔２５が形成されており、この通孔２５から上記回転体２２の上方側に上記固定軸２４の上端部が突出する構成となっている。したがって、通孔２５と固定軸２４上部周面とは隙間が形成されている。上記回転体２２の上面には、上方に上記基板２１を載戴した場合、この載戴した基板２１の外周部と対向する位置に、形状を環状とする第１の突起体２６が形成されている。この第１の突起体２６が形成されたために、上記基板２１の裏面側に上記基板２１の表面側を洗浄処理するための洗浄液が回り込み難い構成となっている。
【００２５】
さらに、この回転体２２に上記第１の突起体２６よりも径方向の内方に第２の突起体２７が設けられている。この第２の突起体２７は、上記第１の突起体２６と同様に上記基板２１の裏面側に近接対向するように設けられているが、この第２の突起体２７は上記第１の突起体２６と比較して突出高さが低く形成されていても構わない。すなわち、上記回転体２２に形成された通孔２５側に洗浄液の侵入を防止するような高さであれば上記第１の突起体２６よりも低く形成されていても構わない。
【００２６】
このような第１の突起体２６および第２の突起体２７が設けられた構成のため、この回転体２２の第１の突起体２６および第２の突起体２７の間の部分はあたかも溝が形成された状態となっており、そのため上記第１の突起体２６を越えて洗浄液が侵入しても、この溝の部分に洗浄液が蓄えられて、この第２の突起体２７よりも径方向の内方の通孔２５を通じて上記内筒回転軸２３内部に上記洗浄液が侵入するのを防止する構成となっている。この回転体２２はこのような第１の突起体２６および第２の突起体２７などの凹凸が形成された略円板形状となっており、この中央部に上記固定軸２４を連通させる通孔２５が設けられた構成となっている。
【００２７】
上端部が上記通孔２５から突出して設けられている固定軸２４は、下端部が洗浄処理装置２０の固定部２０ａに連結されて回転しない構成となっている。この通孔２５と近接して突出した固定軸２４の上端部は、本実施の形態では形状が他の部分よりも大径で上記通孔２５を覆う円板形状の遮へい板２４ａに形成されており、この遮へい板２４ａの下方側と上記回転体２２の通孔２５の周辺部とは非接触で僅かな隙間を有して近接している。
【００２８】
また上記通孔２５の外周部には、上記固定軸２４と対向する円筒形状のガイド体２８がこの固定軸２４に沿って所定寸法だけ下方へ突出して形成されており、このガイド体２８に沿って上記第２の突起体２７をも越えて通孔２５へ侵入してきた洗浄液をガイドしてこのガイド体２８と固定軸２４との間に導入するようになっている。
【００２９】
このガイド体２８は、固定軸２４の中途部に形成された円筒形状の液受部２９の内部側に非接触で挿入されている。すなわち、この液受部２９は上記固定軸２４の中途部から外方側に向かって広がるように底面が形成され、この底面から円筒形状を形成する側面部が上方に向かって形成され、かつこの液受部２９の上面は開放して形成されており、この液受部２９の上面側から上記ガイド体２８がこの液受部２９の内部に向かい所定寸法だけ挿入されている。換言すれば、上記液受部２９は通孔２５とガイド体２８との隙間を完全に覆うスペースを備えていて、洗浄液が上記通孔２５を介して侵入してきても、この洗浄液を上記液受部２９で確実に受け止めてこの下方側に洗浄液を侵入させない構成となっている。
【００３０】
このような液受部２９には、底面に上記洗浄液の侵入を検出する検出手段としての検出センサ３０が設けられている。この検出センサ３０は、本実施の形態では図示しない制御装置に接続されており、この検出センサ３０が洗浄液の侵入を検出すれば、例えば警報を出したり上記回転軸２３を回転駆動する後述するモータ３６の作動を直ちに止めて上記基板２１の回転を停止するとともに、後述するノズル５５からの洗浄液の供給も停止するように作動する。
【００３１】
本実施の形態では、上記固定軸２４は、上記液受部２９よりも下方側の部分が上方側の部分より大径に形成されており、この大径となった部分で上記内筒回転軸２３を一対の軸受３１により回転自在に支持する構成となっている。
【００３２】
このような固定軸２４の内部側には、上記回転体２２に基板２１が載戴された場合に、例えばＮ2 などの気体をこの基板２１の裏面側に供給するための気体供給路３２が形成されている。この気体供給路３２は、本実施の形態ではこの固定軸２４の下端から上端に向かい上下方向に垂直に連通して形成されており、また、この下端側から上記気体供給路３２は、例えばＮ2 などの気体の図示されない供給源に連結されている。また、上記軸受３１は機械的な摺動を行いながら回転駆動するものであるため、この回転駆動に伴ってパーティクルが発生したりするが、このパーティクルを吸引するために、上記固定軸２４内部には吸引路３３が形成されて、この軸受３１付近を真空吸引して上記パーティクルを除去するようになっている。
【００３３】
上記固定軸２４に回転自在に支持されている内筒回転軸２３の下端部には、従動プーリ３４が形成されている。この従動プーリ３４と駆動源であるモータ３６に取り付けられた駆動プーリ３７とにはベルト３５が張設されている。そのためこのモータ３６が回転駆動を行えば、従動プーリ３４が回転駆動され、この回転駆動に伴って上記内筒回転軸２３およびこの内筒回転軸２３の上方に取り付けられている回転体２２も回転駆動されるようになっている。また、上記モータ３６および駆動プーリ３７は上記内筒回転軸２３の径方向外方に設けられている。そのため、この内筒回転軸２３内部に上記洗浄液が侵入して下方側に伝達してきても、上記モータ３６にこの洗浄液が直接到達しない構成となっている。
【００３４】
上記内筒回転軸２３の外周には外筒回転体３８がこの内筒回転軸２３に接触しながら回転自在に設けられている。
この外筒回転体３８の上端には、鍔部３８ａが形成されており、この鍔部３８ａは、上記外筒回転体３８から所定寸法だけ外方に向かい水平に形成されている。この鍔部３８ａには、上記基板２１を保持するための保持部３９が設けられており、この鍔部３８ａから外方側に、かつ上記回転体２２へと向かって設けられている。
【００３５】
図２、図３に示す保持部３９の構成について、以下に述べる。この鍔部３８ａには支持ピン４０を支点として第１のレバー４１の一端側が回転自在に取り付けられており、さらにこの第１のレバー４１の他端側に、支持ピン４２を支点として第２のレバー４３が回転自在に取り付けられている。この第２のレバー４３の他端側には保持板４４の下面に垂設された支軸４４ａに取り付けられており、この支軸４４ａが上記回転体２２に形成された挿通孔４５に回転自在に支持されている。
【００３６】
上記保持板４４は円板形状に形成されており、この上面の偏心位置には偏心回転することで基板２１の外周部に接触する基板支持ピン４６が設けられた構成となっている。本実施の形態では、このような保持部３９が上記外筒回転体３８に３個程設けられた構成となっている。
【００３７】
また上記回転体２２の周辺部で、上記保持部３９の間には上記基板２１の下面周辺部を支持する基板支持機構４７が３個設けられている。この基板支持機構４７は円板４７ａよりも内周側に爪部４７ｂが形成されており、この爪部４７ｂに上記基板２１を載戴する構成となっている。この基板支持機構４７は上下動自在となっており、そのため上記基板２１をこの上に載戴して、自在の高さに調整可能となっている。すなわち、外部のロボットなどから上記基板２１の供給が容易となる位置から、上記保持部３９での基板２１の保持が良好に行える位置まで、この基板支持機構４７は自在に高さを調整可能となっている。
【００３８】
本実施の形態では、この保持部３９と基板支持機構４７とが上記回転体２２の周方向に沿って所定間隔で交互に設けられている。
また図３に示すように、この外筒回転体３８の外周面には、外方に向かって突出する第１の係止片４８が形成されており、さらに上記内筒回転軸２３にも外方に向かって突出する第２の係止片４９が形成されている。この場合、上記外筒回転体３８の一部が、例えば所定の長さだけ周方向に切欠されて上記第２の係止片４９を外方側へ突出可能な構成となっている。
【００３９】
この第１の係止片４８と第２の係止片４９との間には、バネ５０が張設されており、上記第１の係止片４８と第２の係止片４９とがこのバネ５０の付勢力によって接近方向に付勢されていると、上記基板支持ピン４６が偏心回転して上記基板２１の外周面に当接し、この基板２１を保持するようになっている。
【００４０】
このバネ５０の付勢力により保持された上記基板２１の保持を解除するには、シリンダ５１によって行われる。すなわち図３に示すように、このシリンダ５１にはピストンロッド５２がスライド自在に設けられており、このピストンロッド５２の先端にはローラ体５３が取り付けられている。このピストンロッド５２が上記シリンダ５１から突出する方向に付勢されると、上記ローラ体５３が上記第１の係止片４８を押圧し、上記外筒回転体３８を矢印方向に回転させる。
【００４１】
この場合、上記モータ３６には、例えばロック機構などが備えられており、このロック機構によりこのモータ３６と連動する内筒回転軸２３に設けられた上記第２の係止片４９はロックされて上記第１の係止片４８を介して外筒回転体３８だけが上記ローラ体５３によって矢印方向に回転させられる。それによって、上記保持板４４が第１、第２のレバー４１，４３を介して矢印方向に回転するから、基板保持ピン４６が基板２１の外周面から離れる方向に偏心回転する。つまり、上記基板２１の保持が解除されるようになっている。
【００４２】
またこの回転体２２の外部側には、上記基板２１を高速回転させた場合にこの基板２１からの洗浄液などの外部への飛散を防止するための液受カップ５４が形成されている。
【００４３】
このような洗浄処理装置２０の上方側には、上記回転体２２上に載戴された基板２１に洗浄液を供給するためのノズル５５が上記回転体２２と所定距離を有して設けられている。
【００４４】
以上のような構成を有する洗浄処理装置２０の作用について、以下に説明する。
洗浄処理装置２０の回転体２２上に供給された基板２１は、基板支持機構４７によって下面周辺部が支持される。この上記基板支持機構４７を上下動させることで、基板２１を適宜の高さとなるように調整する。この場合、上記保持部３９は基板２１の保持を解除する状態となっており、そのため容易に上記基板２１を載戴可能となっている。
【００４５】
そして上記第１の係止片４８を押圧しているシリンダ５１のロックの解除を行うと、バネ５０の復元力によって上記保持部３９が上記基板２１の保持を行う。この場合、上記ピストンロッド５２が伸長した状態からスライドして収縮すると、上記第２の係止片４９を押圧しているローラ体５３が、上記第２の係止片４９の押圧を解除しつつ移動し、そのため上記バネ５０の復元力により、上記第１の係止片４８が上記第２の係止片４９に向かって回転移動することとなる。
【００４６】
ここで、上記バネ５０の復元力を解除すると、上記保持板４４に形成された基板支持ピン４６が基板２１の径の内方に向かって作動し、このバネ５０の復元力が残留する所定位置で上記基板２１に当接して保持を行う。
【００４７】
このようにして基板２１の保持を行った後、モータ３６を回転駆動させ上記内筒回転軸２３およびこれに連結されている回転体２２を回転駆動させる。このように基板２１を回転駆動させた後、上記基板２１の裏面側に例えばＮ2 などの気体を上記気体供給路３２を介して供給する。次に上記基板２１の上方側の上記ノズル５５から上記基板２１の上面側に洗浄液を供給する。
【００４８】
この場合、上記基板２１の裏面側にＮ2 などの気体が供給されるものであるため、上記洗浄液のこの裏面への回り込みをこの気体の供給圧によってある程度防止できるようになっている。
【００４９】
ここで、このような気体の供給によっても上記基板２１の裏面側に洗浄液が回り込もうとした場合、上記回転体２２に形成された第１の突起体２６と基板２１の下面周辺部との間に洗浄液が環状膜を形成するから、洗浄液がそれ以上基板２１の裏面側へ回り込むことがほとんどない。
【００５０】
このような第１の突起体２６を乗り越えて洗浄液が上記基板２１の裏面側へ回り込んだ場合、上記回転体２２の上記第１の突起体２６よりも径の内方側に形成された第２の突起体２７によって上記洗浄液がこの第２の突起体２７よりも内方側に侵入するのが防止される。すなわちこの場合には、上記第１の突起体２６および第２の突起体２７の間が回転体２２に形成された溝状となっており、このため上記洗浄液が侵入してきた場合でも、この溝状の部分に洗浄液を蓄えてそれ以上内部に侵入するのを防止する。
【００５１】
洗浄液が上記第２の突起体２７を乗り越えてさらに径方向内方側へ侵入してきた場合、回転体２２の通孔２５へ流入することになる。しかしながらこの通孔２５の下方で、固定軸２４の外周面には液受部２９が形成されている。そのため通孔２５へ流入した洗浄液は、液受部２９にて受け止められる。この液受部２９には検出センサ３０がこの底面部に設けられており、この液受部２９に上記洗浄液が侵入してきた場合に直ちにこの検出センサ３０にて検出するように設けられている。
【００５２】
ここで本実施の形態では、この検出センサ３０で上記洗浄液の侵入を検出すると、この検出センサ３０に連結されている図示しない制御装置にこの洗浄液の侵入が伝達され、この洗浄液の侵入情報の伝達によってこの制御装置が警報を出したり、上記モータ３６の回転駆動を停止し、かつ上記ノズル５５からの洗浄液の供給を停止する。
【００５３】
そのため、液受部２９への洗浄液の侵入を確実に検知できるから、洗浄液が液受部２９からオーバーフローして軸受３１の部分へ侵入するのを確実に防止することができる。よってこの内部に洗浄液が侵入し、内部の軸受３１がこの洗浄液などで腐食されたりするなどの不具合が発生しなくなり、上記洗浄処理装置２０の回転駆動を長期に亘って良好とすることが可能となる。
【００５４】
上記ノズル５５によって上記洗浄液の供給をしばらく行った後に上記洗浄液の供給を停止し、そして上記モータ３６を高速で回転駆動させ、基板２１に存する洗浄液などの水分の除去を行う。この場合、上記基板２１上に存する水分はこの基板２１の高速回転に伴う遠心力によって飛散され、この洗浄処理装置２０の最外部側に設けられた液受カップ５４にて集収されて、この洗浄処理装置２０の外部に排出されるようになっている。
【００５５】
このようにして上記基板２１の洗浄処理および基板２１の乾燥を行った後、上記モータ３６の回転駆動を停止させ、この基板２１の回転による洗浄処理を停止させる。そしてこの基板２１の回転を停止させた後に、上記基板２１の保持部３９による保持を解除する。
【００５６】
すなわち保持状態では、上記バネ５０の付勢力によって上記第１の係止片４８と第２の係止片４９とが弾性的に拘束されており、この第１の係止片４８と第２の係止片４９の間隔に連動する保持部３９の保持ピン４６が上記基板２１の外周面を押圧して保持している。この場合、シリンダ５１の押圧により、第１の係止片４８と第２の係止片４９の間隔を広げれば、上記第２の係止片４９が押圧されて外筒回転体３８に設けられた支持ピン４０が移動し、このため第１のレバー４１が図３の矢印に示すように内方へ向かって閉じるように作動する。また、これに伴って上記第２のレバー４３は外方に向かって開くように作動し、そのためこの第２のレバー４３と連動して保持板４４および基板支持ピン４６も図３の矢印に示すように外方側へ向かって開放するように作動する。
【００５７】
このような作動により、上記保持部３９に保持されている基板２１の保持が解除され、洗浄処理および乾燥を行った基板２１を外方へ取り出すことが可能となっている。
【００５８】
以上、本発明の一実施の形態についてのべたが、本発明はこれ以外にも種々変形可能となっている。以下それについて述べる。
上記実施の形態では基板支持機構４７が３個、保持部３９が３個設けられた構成となっているが、この基板支持機構４７および保持部３９の個数はこれに限定されるものではない。また、この基板支持機構４７と保持部３９とは上記実施の形態の構成に限定されずに、例えば上記基板支持機構４７と保持部３９との機能を併せ持つ機構によって上記基板２１を支持する構成であっても構わない。
【００５９】
さらに、上記実施の形態では第１の突起体２６および第２の突起体２７を回転体２２に設けた構成となっているが、この回転体２２には第１の突起体２６あるいは第２の突起体２７のみが設けられる構成であっても構わなく、また回転体２２に複数の突起体が設けられている構成であっても構わない。
【００６０】
また、上記実施の形態では上記第１の突起体２６、第２の突起体２７および液受部２９、検出センサ３０の全てが設けられた構成となっているが、これらのうちいずれか一つのみを設けた構成（ただし検出センサ３０は液受部２９が形成された場合に限られる）やこれらを組み合わせた構成でもよい。
その他、要旨を変更しない範囲において種々変形可能となっている。
【００６１】
【発明の効果】
以上述べたように、請求項１記載の発明によれば、上記固定軸の回転体の下方側には、回転体の通孔を介して侵入する洗浄液を受け止める液受部が、筒状の回転軸内部に納められた状態で設けられたため、上記隙間から侵入した洗浄液はこの液受部で確実に受け止められて、この液受部よりも下方側の内部構造に上記洗浄液を侵入させることがなくなる。よって、この内部構造が上記洗浄液の侵入により損傷されることを防止できる。
【００６２】
請求項２記載の発明によれば、上記液受部にはこの液受部に上記洗浄液の侵入を検出する検出手段が設けられたため、上記洗浄液が内部に侵入しても、この侵入をこの検出手段にて直ちに検出できる。そのためこの検出によって、上記洗浄液が液受部からオーバーフローするのを防止できる。
【００６３】
請求項３記載の発明によれば、上記回転体の上面周辺部にはこの回転体に保持された被洗浄物の外周部の下面に対向する第１の突起体が設けられたため、この第１の突起体によって上記洗浄液が上記基板の裏面へ回り込んで上記洗浄液が付着しにくくなる。
【００６４】
請求項４記載の発明によれば、上記回転体の下方側の固定軸に液受部を設けたのに加えて、さらに上記回転体の上面周辺部にはこの回転体に保持された被洗浄物の外周部下面を近接に対向する第１の突起体が設けられたため、上記洗浄液の上記基板の裏面側への回り込みを防止するとともに、この回転体の下方側に上記洗浄液が侵入した場合でも液受部によってこの洗浄液の内面側への侵入を防止できる。そのためこの内部構造の破損をより一層防止可能となる。
【００６５】
請求項５記載の発明によれば、上記回転体の上面には、上記第１の突起体よりも径方向内方に第２の突起体が設けられたため、上記第１の突起体によっても洗浄液の侵入が防止できなかった場合にも、この第２の突起体により上記洗浄液を内部構造に侵入させるのを防止することが可能となる。
請求項６の発明によれば、回転体の上面に設けられた突起体が洗浄液の基板の裏面側への回り込みを防止し、かつ回転体の下方側に上記洗浄液が侵入した場合でも液受部が洗浄液を受け止めて、液受部よりも下方側の内部構造への洗浄液の侵入を防止する、一層洗浄液の侵入を防止可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係わる洗浄処理装置の構成を示す正面断面図。
【図２】同実施の形態に係わる洗浄処理装置の構成を示す平面図。
【図３】同実施の形態に係わる洗浄処理装置の基板の保持状態の調節構造を示す部分断面図。
【図４】本発明の従来例に係わる洗浄処理装置の構成を示す正面断面図。
【符号の説明】
２０…洗浄処理装置
２１…基板
２２…回転体
２３…内筒回転軸
２４…固定軸
２６…第１の突起体
２７…第２の突起体
２９…液受部
３０…検出センサ
３６…モータ
３８…外筒回転体
３９…保持部
４４…保持ピン
４６…基板支持ピン
４７…基板支持機構
５１…シリンダ
５５…ノズル
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体ウエハなどの基板を処理する装置に係わり、特に基板の洗浄処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウエハや液晶基板などの基板を製造する製造工程においては、これらの基板に対して薬液などの処理液にて基板上に回路パターンを形成するための基板処理を行い、そしてこの処理後に基板に残留する処理液を除去する洗浄処理が繰り返し行われる。
【０００３】
このような処理液による基板処理やこの基板の洗浄を良好に繰り返し行うために、これらの製造工程においては洗浄処理装置が用いられている。この洗浄処理装置は基板に対して処理液による処理を行った後に基板の上面側に設けられたノズルなどから洗浄液を供給しながら高速回転させることで洗浄処理を行う。ついで、洗浄液の供給を止めてこの基板を高速回転させることで、この基板に残留する洗浄液を遠心力にて除去する乾燥処理が行われる。
【０００４】
図４に示すように、この洗浄処理装置１は、上面側に上記基板２を載戴する回転体３を有し、この回転体３に載戴された基板２に対してこの回転体３の上方に位置するノズル４から洗浄処理のための洗浄液が供給され、洗浄処理が行われるようになっている。
【０００５】
上記回転体３は、上記基板２を単にこの上面側に載戴する構成であり、この回転体３への上記基板２の載戴時には上記基板２の下面側を汚染させないため、この回転体３の上面は凹状曲面に形成され、それによって上記基板２の下面と回転体３の上面とが面接触しないようにしている。つまり、上記基板２はこの基板２の外周端部のみで支持されて下面が上記回転体３と接触しないようになっている。
【０００６】
この回転体３の下面中心部には被駆動軸３ａが垂設され、この被駆動軸３ａの下端部はモータ５の駆動軸６とカップリング６ａによって連結されて回転自在に設けられている。上記駆動軸６と回転軸３ａとはカップリング６ｂによって結合されている。そのため、このモータ５が回転駆動を行えば上記回転体３が連動して回転駆動されるように設けられている。
【０００７】
上記回転軸３ａはベアリングなどの一対の軸受７を介して筒状の固定軸８によって回転自在に支持されている。この固定軸８は、例えばモータ５の本体などの固定物に取り付けられており、そのため自らは回転せず上記回転軸３ａの回転駆動を良好に行えるように支持されている。この固定軸８の内部には上記回転体３に載戴される基板２の裏面に対してＮ2 などの気体を供給する供給路９が形成されている。またベアリングなどの軸受７の機械的な回転摺動により発生するパーティクルなどが上記基板２の裏面側に回り込まないように吸引する吸引路１０が上記供給路９と同様にこの固定軸８内部に形成されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
ところで上記のような構成の洗浄処理装置では、Ｎ2 などの気体を上記基板の裏面に供給し、この気体の供給圧力によって上記基板の裏面側への洗浄処理液の回り込みを防止する構成となっている。
【０００９】
このような構成では、上記洗浄処理液の基板の裏面側への回り込みを防止するために大量のＮ2 の供給が必要となる。しかしながら、大量のＮ2 を上記基板の裏面側に供給すると、上述の構成では上記基板は単に上記回転体に載戴されてなんら保持手段が設けられていない構成のため、この大量のＮ2 の供給によって上記基板が浮き上がり、よって安定的に洗浄処理が行えないという問題が生じる。
【００１０】
このような上記基板の浮き上がりを防止するために、Ｎ2 の供給を上記基板が浮き上がらない程度に制限すると、今度は上記基板の裏面側に上記洗浄液の回り込みが発生し、このため上記基板の裏面側に洗浄液が付着してしまう。この洗浄液は通常基板の表面側の洗浄処理を行ったものであり、この液中に大量のパーティクルを含んでいるから、上記基板の裏面側に洗浄液とともにパーティクルが付着することとなる。上記基板の裏面側にパーティクルが付着すると、この基板の裏面側を洗浄処理しなければならなく、また表面に付着した洗浄液が乾燥してしまうと、パーティクルが固着してしまうから、容易に洗浄除去できないということもある。
【００１１】
さらに、上記基板の裏面側に洗浄液が回り込んだ場合、この基板の裏面側にこの洗浄液が付着するのみならず、上記回転軸３ａと固定軸８との隙間へ洗浄液が侵入し、この場合には洗浄液がモータやベアリングなどの軸受に到達して、これらを破損してしまうといった不具合も生じている。
【００１２】
本発明は上記の事情にもとづきなされたもので、その目的とするところは、
固定軸と回転軸の間に洗浄液が侵入せず、かつこの基板の裏面に洗浄液が回り込まない洗浄処理装置を提供しようとするものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項１記載の発明は、被洗浄物を回転させながら洗浄処理する洗浄処理装置において、上部に被洗浄物が保持され、中心部側に通孔が設けられる回転体と、内部を中空とする筒状に形成されて上記回転体の下面側に一体的に設けられた回転軸と、上記筒状の回転軸の内部に挿通され、上記回転軸を回転自在に支持するとともに、上端が上記回転体の通孔から突出して設けられた固定軸と、上記回転軸を回転駆動させる駆動手段と、上記固定軸に設けられ、かつ上記回転体の下方側に位置するとともに上記筒状回転軸の内部に納められ、回転体の上記通孔を介して固定軸外周面と回転軸内周面との間へ侵入する洗浄液を受け止める液受部と、を具備したことを特徴としている。
【００１４】
請求項２記載の発明は、上記液受部には、この液受部に上記洗浄液の侵入を検出する検出手段が設けられたことを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装置である。
【００１５】
請求項３記載の発明は、被洗浄物を回転させながら洗浄処理する洗浄処理装置において、上部に被洗浄物が保持される回転体と、上記回転体の上面周辺部に設けられ、この回転体に保持された被洗浄物の外周部下面に離間対向する第１の突起体と、内部を中空とする筒状に形成されて上記回転体の下面側に一体的に設けられた筒状の回転軸と、上記回転軸の内部に挿通され、上記回転軸を回転自在に支持するとともに、上端が上記回転体の中心部側に形成された通孔から突出して設けられた固定軸と、上記回転軸を回転駆動させる駆動手段と、を具備したことを特徴としている。
【００１６】
請求項４の発明は、被洗浄物を回転させながら洗浄処理する洗浄処理装置において、上部に被洗浄物が保持される回転体と、内部を中空とする筒状に形成されて上記回転体の下面側に一体的に設けられた回転軸と、上記回転軸の内部に挿通され、上記回転軸を回転自在に支持するとともに、上端が上記回転体の中心部に形成された通孔から突出して設けられた固定軸と、上記回転軸を回転駆動させる駆動手段と、上記固定軸の上記回転体の下方側に位置する部分に設けられ、この固定軸と回転体との隙間へ侵入する洗浄液を受け止める液受部とを具備し、上記回転体には、この回転体に保持された被洗浄物の外周部下面に離間対向する突起体が設けられたことを特徴とする洗浄処理装置である。
【００１７】
請求項５記載の発明は、上記回転体の上面には、上記第１の突起体よりも径方向内方に第２の突起体が設けられたことを特徴とする請求項３記載の洗浄処理装置である。
請求項６の発明は、被洗浄物を回転させながら洗浄処理する洗浄処理装置において、上部に被洗浄物が保持され、中心部側に通孔が設けられる回転体と、この回転体に設けられ、回転体に保持された被洗浄物の外周部下面に離間対向する突起体と、内部を中空とする筒状に形成されて上記回転体の下面側に一体的に設けられた回転軸と、上記筒状の回転軸の内部に挿通され、上記回転軸を回転自在に支持するとともに、上端が上記回転体の通孔から突出して設けられた固定軸と、上記回転軸を回転駆動させる駆動手段と、上記固定軸に設けられ、かつ上記回転体の下方側に位置するとともに上記筒状回転軸の内部に納められ、回転体の上記通孔を介して固定軸外周面と回転軸内周面との間へ侵入する洗浄液を受け止める液受部とを具備したことを特徴としている。
【００１８】
請求項１の発明によると、上記固定軸の回転体の下方側には、回転体の通孔を介して固定軸周面と回転軸内周面との間に侵入する洗浄液を受け止める液受部を、筒状の回転軸内部に納めた状態で設けた構成のため、上記隙間から侵入した洗浄液をこの液受部で確実に受け止めて、この液受部よりも下方側の内部構造に上記洗浄液を侵入させることがなくなる。よってこの内部構造が上記洗浄液の侵入によって破損されるといった不具合の発生を防止することが可能となる。
【００１９】
請求項２の発明によると、上記液受部にはこの液受部に上記洗浄液の侵入を検出する検出手段が設けられた構成のため、上記洗浄液の内部への侵入をこの検出手段にて直ちに検出可能となっている。そのためこの検出を認識すれば、上記洗浄液の供給や洗浄処理自体の駆動もこれに応じて調整可能である。
【００２０】
請求項３の発明によると、上記回転体の上面周辺部にはこの回転体に保持された被洗浄物の外周部の下面と近接に対向する第１の突起体が設けられた構成のため、この第１の突起体によって上記洗浄液の上記基板の裏面側への回り込みが防止され上記洗浄液がこの裏面側に付着しにくくなる。
【００２１】
請求項４の発明によると、上記回転体の下方側の固定軸に液受部が設けられたのに加えて、さらに上記回転体の上面周辺部にはこの回転体に保持された被洗浄物の外周部下面と近接に対向する第１の突起体が設けられた構成のため、上記洗浄液の上記基板の裏面側への回り込みを防止するとともに、この回転体の下方側に上記洗浄液が侵入した場合でも液受部によってこの洗浄液を受け止めて、この液受部よりも下方側の内部構造に上記洗浄液の侵入を防止することが可能となる。そのためより一層洗浄液の侵入を防止可能な構成となっている。
【００２２】
請求項５の発明によると、上記回転体の上面には、上記第１の突起体よりも径方向内方に第２の突起体が設けられた構成のため、上記第１の突起体によっても表面張力などにより洗浄液の侵入が防止できなかった場合でも、この第２の突起体により上記洗浄液を内部構造に侵入させるのを防止可能となる。
請求項６の発明によると、回転体の上面に設けられた突起体が洗浄液の基板の裏面側への回り込みを防止し、かつ回転体の下方側に上記洗浄液が侵入した場合でも液受部が洗浄液を受け止めて、液受部よりも下方側の内部構造への洗浄液の侵入を防止する、一層洗浄液の侵入を防止可能な構成となっている。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下本発明の一実施の形態について、図１ないし図３を参照しながら説明する。
図１に示すように、洗浄処理装置２０の上部側には、半導体ウエハや液晶基板などの基板２１を載戴する回転体２２が設けられており、この回転体２２はこの下面中心部に内部を中空とした筒体の内筒回転軸２３が連結されている。この内筒回転軸２３の内部には固定軸２４が挿通され、この固定軸２４によって上記内筒回転軸２３およびこの内筒回転軸２３に連結されている回転体２２が回転自在に支持される構成となっている。
【００２４】
上記回転体２２は中心部側に通孔２５が形成されており、この通孔２５から上記回転体２２の上方側に上記固定軸２４の上端部が突出する構成となっている。したがって、通孔２５と固定軸２４上部周面とは隙間が形成されている。上記回転体２２の上面には、上方に上記基板２１を載戴した場合、この載戴した基板２１の外周部と対向する位置に、形状を環状とする第１の突起体２６が形成されている。この第１の突起体２６が形成されたために、上記基板２１の裏面側に上記基板２１の表面側を洗浄処理するための洗浄液が回り込み難い構成となっている。
【００２５】
さらに、この回転体２２に上記第１の突起体２６よりも径方向の内方に第２の突起体２７が設けられている。この第２の突起体２７は、上記第１の突起体２６と同様に上記基板２１の裏面側に近接対向するように設けられているが、この第２の突起体２７は上記第１の突起体２６と比較して突出高さが低く形成されていても構わない。すなわち、上記回転体２２に形成された通孔２５側に洗浄液の侵入を防止するような高さであれば上記第１の突起体２６よりも低く形成されていても構わない。
【００２６】
このような第１の突起体２６および第２の突起体２７が設けられた構成のため、この回転体２２の第１の突起体２６および第２の突起体２７の間の部分はあたかも溝が形成された状態となっており、そのため上記第１の突起体２６を越えて洗浄液が侵入しても、この溝の部分に洗浄液が蓄えられて、この第２の突起体２７よりも径方向の内方の通孔２５を通じて上記内筒回転軸２３内部に上記洗浄液が侵入するのを防止する構成となっている。この回転体２２はこのような第１の突起体２６および第２の突起体２７などの凹凸が形成された略円板形状となっており、この中央部に上記固定軸２４を連通させる通孔２５が設けられた構成となっている。
【００２７】
上端部が上記通孔２５から突出して設けられている固定軸２４は、下端部が洗浄処理装置２０の固定部２０ａに連結されて回転しない構成となっている。この通孔２５と近接して突出した固定軸２４の上端部は、本実施の形態では形状が他の部分よりも大径で上記通孔２５を覆う円板形状の遮へい板２４ａに形成されており、この遮へい板２４ａの下方側と上記回転体２２の通孔２５の周辺部とは非接触で僅かな隙間を有して近接している。
【００２８】
また上記通孔２５の外周部には、上記固定軸２４と対向する円筒形状のガイド体２８がこの固定軸２４に沿って所定寸法だけ下方へ突出して形成されており、このガイド体２８に沿って上記第２の突起体２７をも越えて通孔２５へ侵入してきた洗浄液をガイドしてこのガイド体２８と固定軸２４との間に導入するようになっている。
【００２９】
このガイド体２８は、固定軸２４の中途部に形成された円筒形状の液受部２９の内部側に非接触で挿入されている。すなわち、この液受部２９は上記固定軸２４の中途部から外方側に向かって広がるように底面が形成され、この底面から円筒形状を形成する側面部が上方に向かって形成され、かつこの液受部２９の上面は開放して形成されており、この液受部２９の上面側から上記ガイド体２８がこの液受部２９の内部に向かい所定寸法だけ挿入されている。換言すれば、上記液受部２９は通孔２５とガイド体２８との隙間を完全に覆うスペースを備えていて、洗浄液が上記通孔２５を介して侵入してきても、この洗浄液を上記液受部２９で確実に受け止めてこの下方側に洗浄液を侵入させない構成となっている。
【００３０】
このような液受部２９には、底面に上記洗浄液の侵入を検出する検出手段としての検出センサ３０が設けられている。この検出センサ３０は、本実施の形態では図示しない制御装置に接続されており、この検出センサ３０が洗浄液の侵入を検出すれば、例えば警報を出したり上記回転軸２３を回転駆動する後述するモータ３６の作動を直ちに止めて上記基板２１の回転を停止するとともに、後述するノズル５５からの洗浄液の供給も停止するように作動する。
【００３１】
本実施の形態では、上記固定軸２４は、上記液受部２９よりも下方側の部分が上方側の部分より大径に形成されており、この大径となった部分で上記内筒回転軸２３を一対の軸受３１により回転自在に支持する構成となっている。
【００３２】
このような固定軸２４の内部側には、上記回転体２２に基板２１が載戴された場合に、例えばＮ2 などの気体をこの基板２１の裏面側に供給するための気体供給路３２が形成されている。この気体供給路３２は、本実施の形態ではこの固定軸２４の下端から上端に向かい上下方向に垂直に連通して形成されており、また、この下端側から上記気体供給路３２は、例えばＮ2 などの気体の図示されない供給源に連結されている。また、上記軸受３１は機械的な摺動を行いながら回転駆動するものであるため、この回転駆動に伴ってパーティクルが発生したりするが、このパーティクルを吸引するために、上記固定軸２４内部には吸引路３３が形成されて、この軸受３１付近を真空吸引して上記パーティクルを除去するようになっている。
【００３３】
上記固定軸２４に回転自在に支持されている内筒回転軸２３の下端部には、従動プーリ３４が形成されている。この従動プーリ３４と駆動源であるモータ３６に取り付けられた駆動プーリ３７とにはベルト３５が張設されている。そのためこのモータ３６が回転駆動を行えば、従動プーリ３４が回転駆動され、この回転駆動に伴って上記内筒回転軸２３およびこの内筒回転軸２３の上方に取り付けられている回転体２２も回転駆動されるようになっている。また、上記モータ３６および駆動プーリ３７は上記内筒回転軸２３の径方向外方に設けられている。そのため、この内筒回転軸２３内部に上記洗浄液が侵入して下方側に伝達してきても、上記モータ３６にこの洗浄液が直接到達しない構成となっている。
【００３４】
上記内筒回転軸２３の外周には外筒回転体３８がこの内筒回転軸２３に接触しながら回転自在に設けられている。
この外筒回転体３８の上端には、鍔部３８ａが形成されており、この鍔部３８ａは、上記外筒回転体３８から所定寸法だけ外方に向かい水平に形成されている。この鍔部３８ａには、上記基板２１を保持するための保持部３９が設けられており、この鍔部３８ａから外方側に、かつ上記回転体２２へと向かって設けられている。
【００３５】
図２、図３に示す保持部３９の構成について、以下に述べる。この鍔部３８ａには支持ピン４０を支点として第１のレバー４１の一端側が回転自在に取り付けられており、さらにこの第１のレバー４１の他端側に、支持ピン４２を支点として第２のレバー４３が回転自在に取り付けられている。この第２のレバー４３の他端側には保持板４４の下面に垂設された支軸４４ａに取り付けられており、この支軸４４ａが上記回転体２２に形成された挿通孔４５に回転自在に支持されている。
【００３６】
上記保持板４４は円板形状に形成されており、この上面の偏心位置には偏心回転することで基板２１の外周部に接触する基板支持ピン４６が設けられた構成となっている。本実施の形態では、このような保持部３９が上記外筒回転体３８に３個程設けられた構成となっている。
【００３７】
また上記回転体２２の周辺部で、上記保持部３９の間には上記基板２１の下面周辺部を支持する基板支持機構４７が３個設けられている。この基板支持機構４７は円板４７ａよりも内周側に爪部４７ｂが形成されており、この爪部４７ｂに上記基板２１を載戴する構成となっている。この基板支持機構４７は上下動自在となっており、そのため上記基板２１をこの上に載戴して、自在の高さに調整可能となっている。すなわち、外部のロボットなどから上記基板２１の供給が容易となる位置から、上記保持部３９での基板２１の保持が良好に行える位置まで、この基板支持機構４７は自在に高さを調整可能となっている。
【００３８】
本実施の形態では、この保持部３９と基板支持機構４７とが上記回転体２２の周方向に沿って所定間隔で交互に設けられている。
また図３に示すように、この外筒回転体３８の外周面には、外方に向かって突出する第１の係止片４８が形成されており、さらに上記内筒回転軸２３にも外方に向かって突出する第２の係止片４９が形成されている。この場合、上記外筒回転体３８の一部が、例えば所定の長さだけ周方向に切欠されて上記第２の係止片４９を外方側へ突出可能な構成となっている。
【００３９】
この第１の係止片４８と第２の係止片４９との間には、バネ５０が張設されており、上記第１の係止片４８と第２の係止片４９とがこのバネ５０の付勢力によって接近方向に付勢されていると、上記基板支持ピン４６が偏心回転して上記基板２１の外周面に当接し、この基板２１を保持するようになっている。
【００４０】
このバネ５０の付勢力により保持された上記基板２１の保持を解除するには、シリンダ５１によって行われる。すなわち図３に示すように、このシリンダ５１にはピストンロッド５２がスライド自在に設けられており、このピストンロッド５２の先端にはローラ体５３が取り付けられている。このピストンロッド５２が上記シリンダ５１から突出する方向に付勢されると、上記ローラ体５３が上記第１の係止片４８を押圧し、上記外筒回転体３８を矢印方向に回転させる。
【００４１】
この場合、上記モータ３６には、例えばロック機構などが備えられており、このロック機構によりこのモータ３６と連動する内筒回転軸２３に設けられた上記第２の係止片４９はロックされて上記第１の係止片４８を介して外筒回転体３８だけが上記ローラ体５３によって矢印方向に回転させられる。それによって、上記保持板４４が第１、第２のレバー４１，４３を介して矢印方向に回転するから、基板保持ピン４６が基板２１の外周面から離れる方向に偏心回転する。つまり、上記基板２１の保持が解除されるようになっている。
【００４２】
またこの回転体２２の外部側には、上記基板２１を高速回転させた場合にこの基板２１からの洗浄液などの外部への飛散を防止するための液受カップ５４が形成されている。
【００４３】
このような洗浄処理装置２０の上方側には、上記回転体２２上に載戴された基板２１に洗浄液を供給するためのノズル５５が上記回転体２２と所定距離を有して設けられている。
【００４４】
以上のような構成を有する洗浄処理装置２０の作用について、以下に説明する。
洗浄処理装置２０の回転体２２上に供給された基板２１は、基板支持機構４７によって下面周辺部が支持される。この上記基板支持機構４７を上下動させることで、基板２１を適宜の高さとなるように調整する。この場合、上記保持部３９は基板２１の保持を解除する状態となっており、そのため容易に上記基板２１を載戴可能となっている。
【００４５】
そして上記第１の係止片４８を押圧しているシリンダ５１のロックの解除を行うと、バネ５０の復元力によって上記保持部３９が上記基板２１の保持を行う。この場合、上記ピストンロッド５２が伸長した状態からスライドして収縮すると、上記第２の係止片４９を押圧しているローラ体５３が、上記第２の係止片４９の押圧を解除しつつ移動し、そのため上記バネ５０の復元力により、上記第１の係止片４８が上記第２の係止片４９に向かって回転移動することとなる。
【００４６】
ここで、上記バネ５０の復元力を解除すると、上記保持板４４に形成された基板支持ピン４６が基板２１の径の内方に向かって作動し、このバネ５０の復元力が残留する所定位置で上記基板２１に当接して保持を行う。
【００４７】
このようにして基板２１の保持を行った後、モータ３６を回転駆動させ上記内筒回転軸２３およびこれに連結されている回転体２２を回転駆動させる。このように基板２１を回転駆動させた後、上記基板２１の裏面側に例えばＮ2 などの気体を上記気体供給路３２を介して供給する。次に上記基板２１の上方側の上記ノズル５５から上記基板２１の上面側に洗浄液を供給する。
【００４８】
この場合、上記基板２１の裏面側にＮ2 などの気体が供給されるものであるため、上記洗浄液のこの裏面への回り込みをこの気体の供給圧によってある程度防止できるようになっている。
【００４９】
ここで、このような気体の供給によっても上記基板２１の裏面側に洗浄液が回り込もうとした場合、上記回転体２２に形成された第１の突起体２６と基板２１の下面周辺部との間に洗浄液が環状膜を形成するから、洗浄液がそれ以上基板２１の裏面側へ回り込むことがほとんどない。
【００５０】
このような第１の突起体２６を乗り越えて洗浄液が上記基板２１の裏面側へ回り込んだ場合、上記回転体２２の上記第１の突起体２６よりも径の内方側に形成された第２の突起体２７によって上記洗浄液がこの第２の突起体２７よりも内方側に侵入するのが防止される。すなわちこの場合には、上記第１の突起体２６および第２の突起体２７の間が回転体２２に形成された溝状となっており、このため上記洗浄液が侵入してきた場合でも、この溝状の部分に洗浄液を蓄えてそれ以上内部に侵入するのを防止する。
【００５１】
洗浄液が上記第２の突起体２７を乗り越えてさらに径方向内方側へ侵入してきた場合、回転体２２の通孔２５へ流入することになる。しかしながらこの通孔２５の下方で、固定軸２４の外周面には液受部２９が形成されている。そのため通孔２５へ流入した洗浄液は、液受部２９にて受け止められる。この液受部２９には検出センサ３０がこの底面部に設けられており、この液受部２９に上記洗浄液が侵入してきた場合に直ちにこの検出センサ３０にて検出するように設けられている。
【００５２】
ここで本実施の形態では、この検出センサ３０で上記洗浄液の侵入を検出すると、この検出センサ３０に連結されている図示しない制御装置にこの洗浄液の侵入が伝達され、この洗浄液の侵入情報の伝達によってこの制御装置が警報を出したり、上記モータ３６の回転駆動を停止し、かつ上記ノズル５５からの洗浄液の供給を停止する。
【００５３】
そのため、液受部２９への洗浄液の侵入を確実に検知できるから、洗浄液が液受部２９からオーバーフローして軸受３１の部分へ侵入するのを確実に防止することができる。よってこの内部に洗浄液が侵入し、内部の軸受３１がこの洗浄液などで腐食されたりするなどの不具合が発生しなくなり、上記洗浄処理装置２０の回転駆動を長期に亘って良好とすることが可能となる。
【００５４】
上記ノズル５５によって上記洗浄液の供給をしばらく行った後に上記洗浄液の供給を停止し、そして上記モータ３６を高速で回転駆動させ、基板２１に存する洗浄液などの水分の除去を行う。この場合、上記基板２１上に存する水分はこの基板２１の高速回転に伴う遠心力によって飛散され、この洗浄処理装置２０の最外部側に設けられた液受カップ５４にて集収されて、この洗浄処理装置２０の外部に排出されるようになっている。
【００５５】
このようにして上記基板２１の洗浄処理および基板２１の乾燥を行った後、上記モータ３６の回転駆動を停止させ、この基板２１の回転による洗浄処理を停止させる。そしてこの基板２１の回転を停止させた後に、上記基板２１の保持部３９による保持を解除する。
【００５６】
すなわち保持状態では、上記バネ５０の付勢力によって上記第１の係止片４８と第２の係止片４９とが弾性的に拘束されており、この第１の係止片４８と第２の係止片４９の間隔に連動する保持部３９の保持ピン４６が上記基板２１の外周面を押圧して保持している。この場合、シリンダ５１の押圧により、第１の係止片４８と第２の係止片４９の間隔を広げれば、上記第２の係止片４９が押圧されて外筒回転体３８に設けられた支持ピン４０が移動し、このため第１のレバー４１が図３の矢印に示すように内方へ向かって閉じるように作動する。また、これに伴って上記第２のレバー４３は外方に向かって開くように作動し、そのためこの第２のレバー４３と連動して保持板４４および基板支持ピン４６も図３の矢印に示すように外方側へ向かって開放するように作動する。
【００５７】
このような作動により、上記保持部３９に保持されている基板２１の保持が解除され、洗浄処理および乾燥を行った基板２１を外方へ取り出すことが可能となっている。
【００５８】
以上、本発明の一実施の形態についてのべたが、本発明はこれ以外にも種々変形可能となっている。以下それについて述べる。
上記実施の形態では基板支持機構４７が３個、保持部３９が３個設けられた構成となっているが、この基板支持機構４７および保持部３９の個数はこれに限定されるものではない。また、この基板支持機構４７と保持部３９とは上記実施の形態の構成に限定されずに、例えば上記基板支持機構４７と保持部３９との機能を併せ持つ機構によって上記基板２１を支持する構成であっても構わない。
【００５９】
さらに、上記実施の形態では第１の突起体２６および第２の突起体２７を回転体２２に設けた構成となっているが、この回転体２２には第１の突起体２６あるいは第２の突起体２７のみが設けられる構成であっても構わなく、また回転体２２に複数の突起体が設けられている構成であっても構わない。
【００６０】
また、上記実施の形態では上記第１の突起体２６、第２の突起体２７および液受部２９、検出センサ３０の全てが設けられた構成となっているが、これらのうちいずれか一つのみを設けた構成（ただし検出センサ３０は液受部２９が形成された場合に限られる）やこれらを組み合わせた構成でもよい。
その他、要旨を変更しない範囲において種々変形可能となっている。
【００６１】
【発明の効果】
以上述べたように、請求項１記載の発明によれば、上記固定軸の回転体の下方側には、回転体の通孔を介して侵入する洗浄液を受け止める液受部が、筒状の回転軸内部に納められた状態で設けられたため、上記隙間から侵入した洗浄液はこの液受部で確実に受け止められて、この液受部よりも下方側の内部構造に上記洗浄液を侵入させることがなくなる。よって、この内部構造が上記洗浄液の侵入により損傷されることを防止できる。
【００６２】
請求項２記載の発明によれば、上記液受部にはこの液受部に上記洗浄液の侵入を検出する検出手段が設けられたため、上記洗浄液が内部に侵入しても、この侵入をこの検出手段にて直ちに検出できる。そのためこの検出によって、上記洗浄液が液受部からオーバーフローするのを防止できる。
【００６３】
請求項３記載の発明によれば、上記回転体の上面周辺部にはこの回転体に保持された被洗浄物の外周部の下面に対向する第１の突起体が設けられたため、この第１の突起体によって上記洗浄液が上記基板の裏面へ回り込んで上記洗浄液が付着しにくくなる。
【００６４】
請求項４記載の発明によれば、上記回転体の下方側の固定軸に液受部を設けたのに加えて、さらに上記回転体の上面周辺部にはこの回転体に保持された被洗浄物の外周部下面を近接に対向する第１の突起体が設けられたため、上記洗浄液の上記基板の裏面側への回り込みを防止するとともに、この回転体の下方側に上記洗浄液が侵入した場合でも液受部によってこの洗浄液の内面側への侵入を防止できる。そのためこの内部構造の破損をより一層防止可能となる。
【００６５】
請求項５記載の発明によれば、上記回転体の上面には、上記第１の突起体よりも径方向内方に第２の突起体が設けられたため、上記第１の突起体によっても洗浄液の侵入が防止できなかった場合にも、この第２の突起体により上記洗浄液を内部構造に侵入させるのを防止することが可能となる。
請求項６の発明によれば、回転体の上面に設けられた突起体が洗浄液の基板の裏面側への回り込みを防止し、かつ回転体の下方側に上記洗浄液が侵入した場合でも液受部が洗浄液を受け止めて、液受部よりも下方側の内部構造への洗浄液の侵入を防止する、一層洗浄液の侵入を防止可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態に係わる洗浄処理装置の構成を示す正面断面図。
【図２】同実施の形態に係わる洗浄処理装置の構成を示す平面図。
【図３】同実施の形態に係わる洗浄処理装置の基板の保持状態の調節構造を示す部分断面図。
【図４】本発明の従来例に係わる洗浄処理装置の構成を示す正面断面図。
【符号の説明】
２０…洗浄処理装置
２１…基板
２２…回転体
２３…内筒回転軸
２４…固定軸
２６…第１の突起体
２７…第２の突起体
２９…液受部
３０…検出センサ
３６…モータ
３８…外筒回転体
３９…保持部
４４…保持ピン
４６…基板支持ピン
４７…基板支持機構
５１…シリンダ
５５…ノズル
Claims (6)
- 被洗浄物を回転させながら洗浄処理する洗浄処理装置において、
上部に被洗浄物が保持され、中心部側に通孔が設けられる回転体と、
内部を中空とする筒状に形成されて上記回転体の下面側に一体的に設けられた回転軸と、
上記筒状の回転軸の内部に挿通され、上記回転軸を回転自在に支持するとともに、上端が上記回転体の通孔から突出して設けられた固定軸と、
上記回転軸を回転駆動させる駆動手段と、
上記固定軸に設けられ、かつ上記回転体の下方側に位置するとともに上記筒状回転軸の内部に納められ、回転体の上記通孔を介して固定軸外周面と回転軸内周面との間へ侵入する洗浄液を受け止める液受部と、
を具備したことを特徴とする洗浄処理装置。 - 上記液受部には、この液受部に上記洗浄液の侵入を検出する検出手段が設けられたことを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装置。
- 被洗浄物を回転させながら洗浄処理する洗浄処理装置において、
上部に被洗浄物が保持される回転体と、
上記回転体の上面周辺部に設けられ、この回転体に保持された被洗浄物の外周部下面に離間対向する第１の突起体と、
内部を中空とする筒状に形成されて上記回転体の下面側に一体的に設けられた筒状の回転軸と、
上記回転軸の内部に挿通され、上記回転軸を回転自在に支持するとともに、上端が上記回転体の中心部側に形成された通孔から突出して設けられた固定軸と、上記回転軸を回転駆動させる駆動手段と、
を具備したことを特徴とする洗浄処理装置。 - 被洗浄物を回転させながら洗浄処理する洗浄処理装置において、
上部に被洗浄物が保持される回転体と、
内部を中空とする筒状に形成されて上記回転体の下面側に一体的に設けられた回転軸と、
上記回転軸の内部に挿通され、上記回転軸を回転自在に支持するとともに、上端が上記回転体の中心部に形成された通孔から突出して設けられた固定軸と、
上記回転軸を回転駆動させる駆動手段と、
上記固定軸の上記回転体の下方側に位置する部分に設けられ、この固定軸と回転体との隙間へ侵入する洗浄液を受け止める液受部とを具備し、
上記回転体には、この回転体に保持された被洗浄物の外周部下面に離間対向する突起体が設けられたことを特徴とする洗浄処理装置。 - 上記回転体の上面には、上記第１の突起体よりも径方向内方に第２の突起体が設けられたことを特徴とする請求項３記載の洗浄処理装置。
- 被洗浄物を回転させながら洗浄処理する洗浄処理装置において、
上部に被洗浄物が保持され、中心部側に通孔が設けられる回転体と、
上記回転体に設けられ、この回転体に保持された上記被洗浄物の外周部下面に離間対向する突起体と、
内部を中空とする筒状に形成されて上記回転体の下面側に一体的に設けられた回転軸と、
上記筒状の回転軸の内部に挿通され、上記回転軸を回転自在に支持するとともに、上端 が上記回転体の通孔から突出して設けられた固定軸と、
上記回転軸を回転駆動させる駆動手段と、
上記固定軸に設けられ、かつ上記回転体の下方側に位置するとともに上記筒状回転軸の内部に納められ、回転体の上記通孔を介して固定軸外周面と回転軸内周面との間へ侵入する洗浄液を受け止める液受部と、
を具備したことを特徴とする洗浄処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04896097A JP3825523B2 (ja) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | 洗浄処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04896097A JP3825523B2 (ja) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | 洗浄処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10247632A JPH10247632A (ja) | 1998-09-14 |
| JP3825523B2 true JP3825523B2 (ja) | 2006-09-27 |
Family
ID=12817857
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04896097A Expired - Fee Related JP3825523B2 (ja) | 1997-03-04 | 1997-03-04 | 洗浄処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3825523B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4532014B2 (ja) * | 2001-04-27 | 2010-08-25 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | スピン処理装置 |
| JP4816229B2 (ja) * | 2006-05-09 | 2011-11-16 | 株式会社Ｓｕｍｃｏ | ウェーハの枚葉式エッチング装置 |
| JP2012064800A (ja) * | 2010-09-16 | 2012-03-29 | Sumco Corp | ウェーハ洗浄装置 |
| JP7438015B2 (ja) * | 2020-05-01 | 2024-02-26 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
| CN114454089B (zh) * | 2022-01-13 | 2022-12-23 | 浙江森永光电设备有限公司 | 一种单面研磨抛光装置 |
-
1997
- 1997-03-04 JP JP04896097A patent/JP3825523B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10247632A (ja) | 1998-09-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101118655B1 (ko) | 폴리싱장치 및 기판처리장치 | |
| US9566616B2 (en) | Substrate processing apparatus | |
| US6363623B1 (en) | Apparatus and method for spinning a work piece | |
| KR100253976B1 (ko) | 기판의 회전처리 방법 및 그 장치 | |
| US6857838B2 (en) | Substrate processing system with positioning device and substrate positioning method | |
| US5626675A (en) | Resist processing apparatus, substrate processing apparatus and method of transferring a processed article | |
| KR19980070712A (ko) | 회전처리장치 | |
| JP3825523B2 (ja) | 洗浄処理装置 | |
| KR100958364B1 (ko) | 원판상 물체를 액체처리하기 위한 장치 | |
| JPH0929189A (ja) | 洗浄装置 | |
| KR100509800B1 (ko) | 스핀 처리 장치 및 스핀 처리 방법 | |
| JP3616725B2 (ja) | 基板の処理方法及び処理装置 | |
| TWI649831B (zh) | Substrate processing device, substrate processing method, and memory medium | |
| JP6418790B2 (ja) | 洗浄装置 | |
| JP4579354B2 (ja) | スピン処理装置 | |
| JP2726809B2 (ja) | スピン乾燥処理装置 | |
| TW391893B (en) | Method and apparatus for spin-coating chemicals | |
| JP2875213B2 (ja) | 洗浄用スポンジブラシ | |
| JP4440354B2 (ja) | スピン処理装置 | |
| JP4095236B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
| JPH09314023A (ja) | シ−ル構造およびこのシ−ル構造が用いられたスピン処理装置 | |
| KR20210128067A (ko) | 기판 처리용 배기장치 | |
| JP2635476B2 (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
| JPH11274124A (ja) | スピン処理装置 | |
| JP7190550B2 (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040304 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060228 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060404 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060605 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060627 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060630 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |