JP3813081B2 - 半導体ウェーハ抵抗率測定器 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体製造装置に用いる半導体ウェーハ抵抗率測定装置に関し、特に、４探針法による抵抗率測定器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウェーハの抵抗率測定装置は、シリコンウェーハの抵抗率、ウェーハ表面に形成したエピタキシャル成長膜の抵抗率、及び表面から不純物を拡散又は注入した場合の拡散層又は注入層のシート抵抗及び表面に生成した金属膜のシート抵抗などを測定する装置であり、測定結果は各半導体製造装置のプロセス条件へフィードバックされ、半導体デバイスの品質を均一に保つための重要な測定装置の１つである（特許第３１４９４００号参照）。
【０００３】
図１８は、特許第３１４９４００号により提案された半導体ウェーハ抵抗率測定装置の構造概要を示すブロック図である。測定ステージ１上に置かれた半導体ウェーハ２の上面に、操作部３からの制御情報に基づき制御された４探針プローブ４が接触し、計測部５からの電気信号により抵抗率の測定が行われる。
プローブ上下駆動部６は、操作部からの制御情報に基づき４探針プローブ４をウェーハ上に降下させ半導体ウェーハ２に接触させる役割をもつ。
プローブ水平駆動部７は、プローブ上下駆動部６と、４探針プローブ４を半導体ウェーハ２の直径方向に移動させ、また回転駆動部８は、半導体ウェーハ２を配置した測定ステージ１を回転させ、両者７，８の動作により、半導体ウェーハ２上の所望の位置における測定を可能にする機能を持つ。
電源部９は制御部１０に電力を供給し、表示部１１は測定位置情報，測定結果ほかのデータを表示する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
このような抵抗率測定器の測定対象には各種のものがある。しかし、これらのウェーハを測定するに当たっては、シリコン，金属などの測定対象の材質，及び抵抗率などに応じて先端部の材質，先端部曲率半径，針圧等が測定対象に適合するようにするために、４探針プローブの種類を変えなくてはならない。
【０００５】
さらに、ある種の測定対象を測定したときに、プローブ先端に付着した物質が異なる種類の測定対象を測定する際に、汚染源となり、測定誤差を生じたり、製品の品質を低下させることなどの悪影響を及ぼすことがある。
従来は、図１８に示すように、１台の測定器に１個のプローブを実装するようになっていたため、上記の悪影響を回避するべくプローブを取外し、異なった種類のプローブを取付けるという作業が必要であった。この交換作業は一般の作業者には難しく、通常は技術者が行っており、しかも交換に時間を要した。
【０００６】
本発明は、技術者によるプローブの交換作業を必要とせず、かつ、交換に要する時間を削減することができる半導体ウェーハ抵抗率測定器を提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
この目的を達成するために、請求項１に対応する本発明による半導体ウェーハ抵抗率測定器は、被測定の半導体ウェーハを該半導体ウェーハに有するノッチが所定の基準方向に一致するように載置する円盤状測定ステージと、
該円盤状測定ステージを回転させる回転駆動部と、
該円盤状測定ステージ上に載置された半導体ウェーハの上面に接触して前記半導体ウェーハの抵抗率を測定するための複数個の４探針プローブと、
前記複数個のプローブを互いに独立に上下方向に移動させる複数個のプローブ上下駆動部と、
該複数個のプローブ上下駆動部と複数個の４探針プローブとを前記円盤状測定ステージの半径方向に移動させるプローブ水平駆動部と、
測定点の位置と前記複数個のプロ−ブのうちの選択すべき一つのプローブを指定する制御情報を入力する操作部と、
該測定点の位置と前記選択すべき一つのプローブを表示する表示部と、
該制御情報に従って前記回転駆動部と前記プローブ水平駆動部と前記プローブ上下駆動部を駆動し、前記半導体ウェーハの上面の指定された位置に前記プローブを接触させる制御部と、
抵抗率を測定する計測部と
を備えた半導体ウェーハ抵抗率測定器であって、
前記複数個のプローブ上下駆動部と前記複数個の４探針プローブは、前記円盤状測定ステージの回転中心Ｏと所望の測定点の位置Ｐとの距離Ｒの移動量と前記複数個の４探針プローブの取り付け位置とにより決まる移動量とを水平移動し、
前記円盤状測定ステージは、線分ＯＰが前記基準方向となす角θにより決まる移動量を回転移動し、
該水平移動と回転移動との移動によって位置決め制御される前記複数個の４探針プローブであり、
前記複数個の４探針プローブのうちから前記指定された１個の４探針プローブが、前記半導体ウェーハの該測定点に位置決めされるような制御動作が行われて前記半導体ウェーハの抵抗率を測定するような構成を有している。
【０００８】
また、請求項２に対応する本発明による半導体ウェーハ抵抗率測定器は、被測定の半導体ウェーハを該半導体ウェーハに有するノッチが所定の基準方向に一致するように載置する円盤状測定ステージと、
該円盤状測定ステージを回転させる回転駆動部と、
該円盤状測定ステージ上に載置された半導体ウェーハの上面に接触して前記半導体ウェーハの抵抗率を測定するための複数個の４探針プローブと、
前記複数個のプローブを互いに独立に上下方向に移動させる複数個のプローブ上下駆動部と、
前記円盤状測定ステージと前記回転駆動部とを該円盤状測定ステージの半径方向に移動させる測定ステージ駆動部と、
測定点の位置と前記複数個のプロ−ブのうちの選択すべき一つのプローブを指定する制御情報を入力する操作部と、
該測定点の位置と前記選択すべき一つのプローブを表示する表示部と、
該制御情報に従って前記回転駆動部と前記測定ステージ駆動部と前記プローブ上下駆動部を駆動し、前記半導体上面の指定された位置に前記プローブを接触させる制御部と、
抵抗率を測定する計測部と
を備えた半導体ウェーハ抵抗率測定器であって、
前記円盤状測定ステージは、前記円盤状測定ステージの回転中心Ｏと所望の測定点の位置Ｐとの距離Ｒの移動量と前記複数個の４探針プローブの取り付け位置とにより決まる移動量とを水平移動し、線分ＯＰが前記基準方向となす角θにより決まる移動量を回転移動し、
該水平移動と回転移動の移動によって位置決め制御される前記複数個の４探針プローブであり、
前記複数個の４探針プローブのうちから前記指定された１個の４探針プローブが、前記半導体ウェーハの該測定点に位置決めされるような制御動作が行われて前記半導体ウェーハの抵抗率を測定するような構成を有している。
【０００９】
このような構成を有する本発明による半導体ウェーハ抵抗率測定は、技術者によるプローブの交換作業を必要とせず、交換作業のミスによるプローブ取付け不具合と、交換作業に必要な時間の浪費をなくして、測定作業の効率向上を実現し得るものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】
請求項１に対応する本発明による半導体ウェーハ抵抗率測定器は、図１に示すように、被測定の半導体ウェーハ２を載置する円盤状測定ステージ１と、
該測定ステージ１を回転させる回転駆動部８と、
該測定ステージ１上に載置された半導体ウェーハ２の上面に接触して前記半導体ウェーハ２の抵抗率を測定するための複数個の４探針プローブ４ａ，４ｂと、前記複数個のプローブ４ａ，４ｂを互いに独立に上下方向に移動させる複数個のプローブ上下駆動部６ａ，６ｂと、
該複数個のプローブ上下駆動部６ａ，６ｂと複数個の４探針プローブ４ａ，４ｂとを前記測定ステージ１の半径方向に移動するプローブ水平駆動部７と、
測定点の位置と前記複数個のプロ−ブ４ａ，４ｂのうちの選択すべき一つのプローブを指定する制御情報を入力する操作部３と、
該測定点の位置と前記選択すべき一つのプローブを表示する表示部１１と、
該制御情報に従って前記回転駆動部８と前記プローブ水平駆動部７と前記プローブ上下駆動部６ａ，６ｂを駆動し、前記半導体ウェーハ２の上面の指定された位置に前記プローブを接触させる制御部１０と、
抵抗率を測定する計測部５と
を備えた半導体ウェーハ抵抗率測定器であって、
前記半導体ウェーハ２の種類に対応して選択される前記複数個のプローブ上下駆動部６ａ，６ｂのうちの１つを動作させ、適切な４探針プローブ４ａ，４ｂを選択し、その選択されたプローブにより、前記半導体ウェーハ２の抵抗率を測定するように構成されている。
なお、図１は４探針プローブ及びプローブ上下駆動部がそれぞれ２個の場合を示しているが、それぞれ３個以上の場合でもその基本的な構成・動作は同じである。
【００１１】
図２はプローブ上下駆動部６の一例を示す図である。本発明では複数個の４探針プローブ４を取付けられるようになっており、それに伴い複数個の独立したブローブ上下駆動部６を備えている。これらはいずれもプローブ水平駆動部７に取付けられる。図２は、そのうちの１個のプローブ上下駆動部６を示している。このプローブ上下駆動部６は、プローブ取付金具６−１と、プローブ取付金具６−１に取付けられたカムフォロワ６−２と、直線状カム６−３と、直線状カム６−３と連結し直線状カム６−３を水平に動かすエアシリンダ６−４及び後述のアーム６−５（図５，図６を参照して説明する）により構成される。エアシリンダ６−４により駆動される直線状カム６−３が水平に移動することによりカムフォロワ６−２が上下し、カムフォロワ６−２と連結したプローブ取付金具６−１及び４探針プローブ４が上下制御される。
本例では、カムフォロワ６−２とプローブ取付金具６−１を上下に移動させる手段として直線状カム６−３を使用しているが、その代わりに、例えば、楕円形カム又は円形偏心カムを使用し、また、その楕円形カム又は円形偏心カムを回転させる手段として電動モータを用いることができる。
【００１２】
図３はプローブ水平駆動部７の平面図である。
図３を用いて、プローブ水平駆動部７の動作を説明する。
プローブ水平駆動部７には、プローブ上下駆動部取付金具７−１を介して、図２に示したプローブ上下駆動部６と４探針プローブ４が取付けられる。
プローブ水平駆動部７は、電動モータ７−２，ボールネジ７−３，ガイドレール７−４，プローブ上下駆動部取付金具７−１より構成される。電動モータ７−２を駆動し、ボールネジ７−３を回転させることにより、プローブ上下駆動部取付金具７−１及びそのプローブ上下駆動部取付金具７−１に取付けられたプローブ上下駆動部６と４探針プローブ４を水平に、この図３では左右に移動させる。
【００１３】
図４に回転駆動部８の平面図を示す。電動モータ８−１が回転すると、ベルト８−２を介して、プーリー８−３に回転動作が伝達され、プーリー８−３に固定された円盤状測定ステージ１を回転させる。
【００１４】
図５，図６に、円盤状測定ステージ１，プローブ水平駆動部７，プローブ上下駆動部６と４探針プローブ４の配置形式を示す。図５に示す配置形式Ｉは、プローブ上下駆動部６のアーム６−５が、プローブ上下駆動部取付金具７−１から、プローブ水平駆動部７の駆動方向（矢印Ａで示す）と平行に伸び、また、図６に示す配置形式IIは、プローブ上下駆動部６のアーム６−５がプローブ上下駆動部取付金具７ー１からプローブ水平駆動部７の駆動方向（矢印Ａで示す）と垂直の方向に伸びている。いずれの配置方法でも本発明による装置の基本的動作及び本発明の効果は変わらない。
【００１５】
図７（ａ）（ｂ）及び図８を参照して、本発明装置における円盤状測定ステージ１上に配置された半導体ウェーハ２の測定点に対する４探針プローブ４の位置決め方法を説明する。図７（ａ）は半導体ウェーハ２が円盤状測定ステージ１上に置かれた位置決め前の状態を示す。プローブ水平駆動部７によりプローブ４が移動する方向Ｌ−Ｌ’を基準方向とする。通常、半導体ウェーハ２のノッチ又はオリエンテーションフラット１−１は、基準方向Ｌ−Ｌ’に一致して置かれる。円盤状測定ステージ１の回転中心をＯとし、所望の測定点の位置をＰとする。円盤状測定ステージ１の回転中心Ｏと測定点Ｐとの距離をＲとし、線分ＯＰが基準方向Ｌ−Ｌ’となす角をθとする。
【００１６】
図７（ｂ）は位置決め後の状態を示す。測定点の位置決めは、次の二つの動作により行う。
（１）４探針プローブ４をプローブ水平駆動部７により、円盤状測定ステージ１の回転中心ＯよりＲだけ離れた位置に移動させる。
（２）円盤状回転ステージ１を回転駆動部８により基準方向Ｌ−Ｌ’よりθだけ回転させる。この二つの動作により半導体ウェーハ２上の所望の測定点の直上に４探針プローブ４が移動する。
【００１７】
なお、本発明においては、複数個の４探針プローブを有するから、各４探針プローブ４をプローブ水平駆動部７により円盤状測定ステージ１の回転中心ＯよりＲだけ離れた位置に移動させるに当たっては、プローブ水平駆動部７上における各４探針プローブ４の取付位置を勘案して移動量が制御される。
ここで、図８により各４探針プローブの移動量の制御について説明する。
すなわち、４探針プローブ（Ｉ）を選択・使用する場合（ａ）、４探針プローブ（Ｉ）４ａをプローブ水平駆動部７により円盤状回転ステージ１の回転中心ＯよりＲだけ離れた位置に移動させる。４探針プローブ（II）を選択・使用する場合（ｂ）、４探針プローブ（II）４ｂをプローブ水平駆動部７により円盤状回転ステージ１の回転中心ＯよりＲだけ離れた位置に移動させる。上記の動作により、複数の４探針プローブのいずれを選択・使用する場合でも、４探針プローブを半導体ウェーハ２上の所望の点の直上に移動させることができる。
【００１８】
図９は、図５の配置形式による構成例を示す側面図である。図８までに示したものと同一構造部分には、対応する同一の参照符号を付して示している。
【００１９】
図１０に複数個のプローブ４ａ，４ｂ…のうち使用するプローブを指定する構成の一例を示す。
制御部１０に接続された表示部１１にプローブ指定画面を表示し、同じく制御部１０に接続された操作部３によりプローブ No.を入力することにより使用するプローブを指定する。
図１０では、複数個のプローブ４のうち No.０１のプローブを指定した例を示している。
なお、プローブＮo.と測定対象のウェーハの種類、プローブ先端部の材質，先端部曲率半径，針圧などとの対応はあらかじめ表１のように取り決めておく。
【００２０】
【表１】

【００２１】
また、測定ステージ１上における半導体ウェーハ２の載置位置のずれをいわゆるオリフラ合わせ機により補正するか、又は特許第３１４９４００号により提案されているように、測定位置の基準位置からのずれの補正により補正する等の任意の補正手法を採用することができるので、この補正についての詳細な説明を省略する。
【００２２】
以下、他の実施例について説明する。
請求項２に対応する本発明による半導体ウェーハ抵抗率測定器は、図１１に示すように、被測定の半導体ウェーハ２を載置する円盤状測定ステージ１と、
該測定ステージ１を回転させる回転駆動部８と、
該測定ステージ１上に載置された半導体ウェーハ２の上面に接触して前記半導体ウェーハ２の抵抗率を測定するための複数個の４探針プローブ４ａ，４ｂと、前記複数個のプローブ４ａ，４ｂを互いに独立に上下方向に移動させる複数個のプローブ上下駆動部１２ａ，１２ｂと、
前記測定ステージ１と前記回転駆動部８とを測定ステージの半径方向に移動させる測定ステージ駆動部１３と、
測定点の位置と前記複数個のプロ−ブ４ａ，４ｂのうちの選択すべき一つのプローブを指定する制御情報を入力する操作部３と、
該測定点の位置と前記選択すべき一つのプローブを表示する表示部１１と、
該制御情報に従って前記回転駆動部８と前記測定ステージ駆動部１３と前記プローブ上下駆動部１２ａ，１２ｂを駆動し、前記半導体ウェーハ２の上面の指定された位置に前記プローブを接触させる制御部１０と、
抵抗率を測定する計測部５と
を備えた半導体ウェーハ抵抗率測定器であって、
前記半導体ウェーハ２の種類に対応して選択される前記複数個のプローブ上下駆動部１２ａ，１２ｂのうちの１つを動作させ、適切な４探針プローブ４ａ，４ｂを選択し、その選択されたプローブにより、前記半導体ウェーハ２の抵抗率を測定するように構成されている。
【００２３】
なお、図１１は４探針プローブ及びプローブ上下駆動部がそれぞれ２個の場合を示しているが、それぞれ３個以上の場合でもその基本的な構成・動作は同じである。
【００２４】
図１２はプローブ上下駆動部１２の一例を示す図である。本発明では複数個の４探針プローブ４を取付けられるようになっており、それに伴い複数個の独立したブローブ上下駆動部１２を備えている。図１２は、そのうちの１個のプローブ上下駆動部１２を示している。このプローブ上下駆動部１２は、プローブ取付金具１２−１と、プローブ取付金具１２−１に取付けられたカムフォロワ１２−２と、楕円形カム１２−３と、楕円形カム１２−３と連結されて楕円形カム１２−３を回転させる電動モータ１２−４により構成される。電動モータ１２−４により駆動される楕円形カム１２−３が回転することにより、カムフォロワ１２−２が上下し、カムフォロワ１２−２と連結したプローブ取付金具１２−１及び４探針プローブ４が上下制御される。
本例では、カムフォロワ１２−２とプローブ取付金具１２−１を上下に移動させる手段として楕円形カム１２−３を使用しているが、その代わりに、例えば、円形偏心カムを使用することができ、また、エアシリンダと直線カムの組合せを使用することができる。
【００２５】
図１３は測定ステージ駆動部の平面図である。
図１３を用いて、測定ステージ駆動部１３の動作を説明する。
測定ステージ駆動部１３には、測定ステージ取付金具１３−１を介して、回転駆動部８と測定ステージ１が取付けられる。
測定ステージ駆動部１３は、電動モータ１３−２，ボールネジ１３−３，ガイドレール１３−４，測定ステージ取付金具１３−１により構成される。電動モータ１３−２を駆動し、ボールネジ１３−３を回転させることにより、測定ステージ取付金具１３−１及びその測定ステージ取付金具１３−１に取付けられた回転駆動部８と測定ステージ１とを水平に、この図１３では左右に移動させる。
【００２６】
回転駆動部８は図４の平面図に示したものと同様である。電動モータ８−１が回転すると、ベルト８−２を介して、プーリー８−３に回転動作が伝達され、プーリー８−３に固定された円盤状測定ステージ１を回転させる。
【００２７】
図１４に、円盤状測定ステージ１，測定ステージ駆動部１３、プローブ上下駆動部１２と４探針プローブ４と回転駆動部８の配置形式を示す。
【００２８】
図１５（ａ）（ｂ）及び図１６を参照して、本発明装置における円盤状測定ステージ１上に配置された半導体ウェーハ２の測定点に対する４探針プローブ４の位置決め方法を説明する。図１５（ａ）は半導体ウェーハ２が円盤状測定ステージ１上に置かれた「位置決め前」の状態を示す。測定ステージ駆動部１３により円盤状測定ステージ１が移動する方向Ｌ−Ｌ’を基準方向とする。通常、半導体ウェーハ２のノッチ又はオリエンテーションフラット１−１は、基準方向Ｌ−Ｌ’に一致して置かれる。円盤状測定ステージ１の回転中心をＯとし、所望の測定点の位置をＰとする。円盤状測定ステージ１の回転中心Ｏと測定点Ｐとの距離をＲとし、線分ＯＡが基準方向Ｌ−Ｌ’となす角をθとする。
【００２９】
図１５（ｂ）は「位置決め後」の状態を示す。測定点の位置決めは、次の二つの動作により行う。
（１）円盤状測定ステージ１の回転中心Ｏを測定ステージ駆動部１３により、４探針プローブ４よりＲだけ離れた位置に移動させる。
（２）円盤状回転ステージ１を回転駆動部８により基準方向Ｌ−Ｌ’よりθだけ回転させる。この二つの動作により半導体ウェーハ２上の所望の測定点が４探針プローブ４の直下に移動する。
【００３０】
なお、本発明においては、複数個の４探針プローブを有するから、円盤状測定ステージ１の回転中心Ｏを測定ステージ駆動部１３により４探針プローブ４よりＲだけ離れた位置に移動させるに当たっては、各４探針プローブ４の取付位置を勘案して移動量を制御することは当然である。
【００３１】
ここで、図１６により円盤状測定ステージ１の移動量の制御について説明する。
すなわち、４探針プローブ（Ｉ）を選択・使用する場合（ａ）、円盤状測定ステージ１の回転中心Ｏを測定ステージ駆動部１３により４探針プローブ（Ｉ）４ａよりＲだけ離れた位置に移動させる。４探針プローブ（II）を選択・使用する場合（ｂ）、円盤状測定ステージ１の回転中心Ｏを測定ステージ駆動部１３により４探針プローブ（II）４ｂよりＲだけ離れた位置に移動させる。上記の動作により、複数の４探針プローブのいずれを選択・使用する場合でも、半導体ウェーハ２上の所望の点を４探針プローブの直下に移動させることができる。
【００３２】
図１７は、図１４の配置形式による構成例を示す側面図である。図１１から図１５までに示したものと同一構造部分には、対応する同一の参照符号を付して示している。
【００３３】
【発明の効果】
以上の詳細な説明から理解されるように、現在ＦＡ（ファクトリ・オートメーション）化が各半導体製造工場で進んでおり、各半導体ウェーハに対する測定条件が人手を介さず上位コンピュータから直接測定器に与えられるケースが多くなっているが、このような場合、４探針プローブの選択交換を人手によらず、上位コンピュータの指令で自動的に行うことができる本発明の意義は飛躍的に高まる。
また、従来は、人手によるプローブ交換の煩雑さを避けて、ウェーハの種類ごとに複数台の測定器を設置する場合もあった。本発明によれば、複数台の測定器を設置することなく、１台で済むケースも考えられ、その経済的効果は、極めて大きい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による半導体ウェーハ抵抗率測定器の第１の構成系統例を示すブロック図である。
【図２】本発明の第１の実施例におけるプローブ上下駆動部の構造概要を示す側面図である。
【図３】本発明の第１の実施例におけるプローブ水平駆動部の構造概要を示す平面図である。
【図４】本発明装置の第１及び第２の実施例における回転駆動部の構造例を示す平面図である。
【図５】本発明装置の第１の実施例における４探針プローブ，プローブ上下駆動部，プローブ水平駆動部及び円盤状測定ステージの配置構成例を示す平面図である。
【図６】本発明装置の第１の実施例における４探針プローブ，プローブ上下駆動部，プローブ水平駆動部及び円盤状測定ステージの他の配置構成例を示す平面図である。
【図７】本発明装置の第１の実施例における円盤状測定ステージ上に配置された半導体ウェーハに対する４探針プローブの位置決め前と位置決め後の状態を説明するための平面略図（ａ）（ｂ）である。
【図８】本発明装置の第１の実施例における円盤状測定ステージ上に配置された半導体ウェーハに対する４探針プローブの位置決めのための４探針プローブの移動量の制御を説明するための平面略図（ａ）（ｂ）である。
【図９】図５の配置形式による構成例を示す側面図である。
【図１０】本発明装置におけるプローブの指定機構を説明するためのブロック図である。
【図１１】本発明による半導体ウェーハ抵抗率測定器の第２の構成系統例を示すブロック図である。
【図１２】本発明の第２の実施例におけるプローブ上下駆動部の構造概要を示す斜視図である。
【図１３】本発明の第２の実施例における測定ステージ駆動部の構造概要を示す平面図である。
【図１４】本発明装置の第２の実施例における４探針プローブ，プローブ上下駆動部，測定ステージ駆動部及び円盤状測定ステージの配置構成例を示す平面図である。
【図１５】本発明装置の第２の実施例における円盤状測定ステージ上に配置された半導体ウェーハに対する４探針プローブの位置決め前と位置決め後の状態を説明するための平面略図（ａ）（ｂ）である。
【図１６】本発明装置の第２の実施例における円盤状測定ステージ上に配置された半導体ウェーハに対する４探針プローブの位置決めのための４探針プローブの移動量の制御を説明するための平面略図（ａ）（ｂ）である。
【図１７】図１４の配置形式による構成例を示す側面図である。
【図１８】従来の半導体ウェーハ抵抗率測定器の構成系統を示すブロック図である。
【符号の説明】
１ 測定ステージ
２ 半導体ウェーハ
３ 操作部
４ａ Ｉ系統の４探針プローブ
４ｂ II系統の４探針プローブ
５ 計測部
６ａ Ｉ系統の４探針プローブ上下駆動部
６ｂ II系統の４探針プローブ上下駆動部
６−１ プローブ取付金具
６−２ カムフォロワ
６−３ 直線状カム
６−４ エアシリンダ
６−５ アーム
７ プローブ水平駆動部
７−１ プローブ上下駆動部取付金具
７−２ 電動モータ
７−３ ボールネジ
７−４ ガイドレール
８ 回転駆動部
８−１ 電動モータ
８−２ ベルト
８−３ プーリー
９ 電源部
１０ 制御部
１１ 表示部
１２ プローブ上下駆動部
１２−１ プローブ取付金具
１２−２ カムフォロワ
１２−３ 楕円形カム
１２−４ 電動モータ
１３ 測定ステージ駆動部
１３−１ 測定ステージ取付金具
１３−２ 電動モータ
１３−３ ボールネジ
１３−４ ガイドレール

Claims (2)

1. 被測定の半導体ウェーハを該半導体ウェーハに有するノッチが所定の基準方向に一致するように載置する円盤状測定ステージと、
   該円盤状測定ステージを回転させる回転駆動部と、
   該円盤状測定ステージ上に載置された半導体ウェーハの上面に接触して前記半導体ウェーハの抵抗率を測定するための複数個の４探針プローブと、
   前記複数個のプローブを互いに独立に上下方向に移動させる複数個のプローブ上下駆動部と、
   該複数個のプローブ上下駆動部と複数個の４探針プローブとを前記円盤状測定ステージの半径方向に移動させるプローブ水平駆動部と、
   測定点の位置と前記複数個のプロ−ブのうちの選択すべき一つのプローブを指定する制御情報を入力する操作部と、
   該測定点の位置と前記選択すべき一つのプローブを表示する表示部と、
   該制御情報に従って前記回転駆動部と前記プローブ水平駆動部と前記プローブ上下駆動部を駆動し、前記半導体ウェーハの上面の指定された位置に前記プローブを接触させる制御部と、
   抵抗率を測定するために前記複数個の４探針プローブに接続される計測部と
   を備えた半導体ウェーハ抵抗率測定器であって、
   前記複数個のプローブ上下駆動部と前記複数個の４探針プローブは、前記円盤状測定ステージの回転中心Ｏと所望の測定点の位置Ｐとの距離Ｒの移動量と前記複数個の４探針プローブの取り付け位置とにより決まる移動量とを水平移動し、
   前記円盤状測定ステージは、線分ＯＰが前記基準方向となす角θにより決まる移動量を回転移動し、
   該水平移動と回転移動との移動によって位置決め制御される前記複数個の４探針プローブであり、
   前記複数個の４探針プローブのうちから前記指定された１個の４探針プローブが、前記半導体ウェーハの該測定点に位置決めされるような制御動作が行われて前記半導体ウェーハの抵抗率を測定するように構成されたことを特徴とする半導体ウェーハ抵抗率測定器。
2. 被測定の半導体ウェーハを該半導体ウェーハに有するノッチが所定の基準方向に一致するように載置する円盤状測定ステージと、
   該円盤状測定ステージを回転させる回転駆動部と、
   該円盤状測定ステージ上に載置された半導体ウェーハの上面に接触して前記半導体ウェーハの抵抗率を測定するための複数個の４探針プローブと、
   前記複数個のプローブを互いに独立に上下方向に移動させる複数個のプローブ上下駆動部と、
   前記円盤状測定ステージと前記回転駆動部とを該円盤状測定ステージの半径方向に移動させる測定ステージ駆動部と、
   測定点の位置と前記複数個のプロ−ブのうちの選択すべき一つのプローブを指定する制御情報を入力する操作部と、
   該測定点の位置と前記選択すべき一つのプローブを表示する表示部と、
   該制御情報に従って前記回転駆動部と前記測定ステージ駆動部と前記プローブ上下駆動部を駆動し、前記半導体ウェーハの上面の指定された位置に前記プローブを接触させる制御部と、
   抵抗率を測定するために前記複数個の４探針プローブに接続される計測部と
   を備えた半導体ウェーハ抵抗率測定器であって、
   前記円盤状測定ステージは、前記円盤状測定ステージの回転中心Ｏと所望の測定点の位置Ｐとの距離Ｒの移動量と前記複数個の４探針プローブの取り付け位置とにより決まる移動量とを水平移動し、線分ＯＰが前記基準方向となす角θにより決まる移動量を回転移動し、
   該水平移動と回転移動の移動によって位置決め制御される前記複数個の４探針プローブ であり、
   前記複数個の４探針プローブのうちから前記指定された１個の４探針プローブが、前記半導体ウェーハの該測定点に位置決めされるような制御動作が行われて前記半導体ウェーハの抵抗率を測定するように構成されたことを特徴とする半導体ウェーハ抵抗率測定器。

Images